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KR960015693A - 기판처리장치 - Google Patents

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KR960015693A
KR960015693A KR1019950028384A KR19950028384A KR960015693A KR 960015693 A KR960015693 A KR 960015693A KR 1019950028384 A KR1019950028384 A KR 1019950028384A KR 19950028384 A KR19950028384 A KR 19950028384A KR 960015693 A KR960015693 A KR 960015693A
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KR
South Korea
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carrier
substrate
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conveying
unit
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KR1019950028384A
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Inventor
시게루 고하라
Original Assignee
이시다 아키라
다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이시다 아키라, 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 filed Critical 이시다 아키라
Publication of KR960015693A publication Critical patent/KR960015693A/ko
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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Abstract

간단한 구성으로 바닥의 점유면적이 작고 생산성이 좋은 기판처리장치를 제공한다. 4층 구조의 1층에 반입부(1), 미기판처리이송부(2), 처리부(3), 처리용로보트(31), 처리완료기판이송부(4), 반출부(5), 세정부(10)를, 1∼4층에 캐리어대기부(6)를, 4층에 캐리어 반송기구(9)를 설치하고, 1층∼4층 사이에서 캐리어를 반송하는 제1, 제2의 캐리어반송로보트를 1∼4층에 걸쳐 설치하고 있다.
제1, 제2의 캐리어 반송로보트 부근에는 반입부(1), 미처리기판이송부(2), 처리완료기판이송부(4), 반출부(5), 캐리어대기부(6), 세정부(10)등이 설치되어 있다. 장치내에서의 캐리어 반송은 제1, 제2의 캐리어 반송로보트(7,8), 캐리어반송기구(9)에 의해 행하여진다.

Description

기판처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 관계되는 기판처리장치의 개략구성을 나타내는 정면도,
제2도는 제1실시예 장치의 각층의 구성을 개별로 나타내는 평면도,
제3도는 제1의 캐리어반송로보트의 구성을 나타내는 도면,
제4도는 제1의 캐리어반송로보트의 동작을 설명하기 위한 도면,
제5도는 미처리기판 이송부의 구성을 나타내는도면,
제6도는 처리로보트의 구성을 나타내는 도면,
제7도는 캐리어 반송기구의 구성을 나타내는 도면,
제8도는 제1의 캐리어 반송로보트와 캐리어 반송기구사이의 캐리어의 교환을 설명하기 위한 도면,
제9도는 제1, 제2의 캐리어 반송로보트의 변형예를 설명하기 위한 도면.

Claims (7)

  1. 복수장의 미처리기판이 수납된 반송용 캐리어를 장치내에 반입하는 반입부와, 상기 복수장의 미처리 기판에 소정의 기판처리를 행하는 처리부와, 상기 처리부에 있어서 상기 각 미처리기판을 지지하는 기판지지수단과, 상기 기판지지수단에 지지된 각미처리기판을 상기 처리부내에서 반송함과 동시에, 상기 처리부에서의 기판처리를 상기 각 미처리 기판에 행하게 하는 처리로보트와, 상기 미처리기판을 반입된 반송용 캐리어에서 상기 기판지지수단에 이송하는 미처리기판 이송부와, 상기 처리부에서의 기판처리가 종료된 각 처리완료 기판을 상기 기판지지수단에서 비어 있는 반송용 캐리어로 이송하는 처리완료기판 이송부와, 상기 각 처리완료기판이 수납된 반송용 캐리어를 장치밖으로 반출하는 반출부와, 장치내에서 적어도 반송용 캐리어를 반송하는 캐리어 반송수단과, 장치내에서 적어도 반송용 캐리어를 대기시키는 캐리어 대기부를 구비한 기판처리장치에 있어서, 장치를 N층(N은 2이상의 자연수)의 다층구조로 구성하여, 상기 다층구조의 1층 부분에, 상기 반입부와 상기 미처리기판 이송부와 상기 처리부와 상기 처리완료기판 이송부와 상기 반출부를 설치하며 상기 미처리기판 이송부를 상기 처리부의 한쪽끝에, 상기 처리완료 기판 이송부를 상기 처리부의 다른한끝에 배치하고, 상기 미처리기판 이송부의 부근 및 그 상방이며, 상기 다층구조의 1∼N층 사이에서 적어도 반송용 캐리어를 반송하는 제1의 캐리어 반송로보트와, 상기 처리완료기판이송부의 부근 및 그 상방이며 상기 다층구조의 1∼N층 사이에서, 적어도 반송용 캐리어를 반송하는 제2의 캐리어 반송로보트와, 상기 다용구조의 2∼N층 중 어느 하나의 층에 설치되며, 상기 제1의 캐리어 반송로보트와 상기 제2의 캐리어 반송로보트 사이에서 적어도 반송용 캐리어를 반송하는 캐리어 반송기구로 상기 캐리어 반송수단을 구성하고, 상기 제1의 캐리어 반송로브트 또는/및 상기 제2의 캐리어반송로보트의 부근이며, 상기 다층구조 l∼N층의 모든층 또는 임의의 어느 하나의 층에 상기 캐리어 대기부를 설치하고, 상기 반입부와 상기 반출부를 상기 제1의 캐리어 반송로보트 또는/및 상기 제2의 캐리어 반송로보트의 부근이며, 동시에 상기 미처리기판이송부 또는/및 상기 처리완료기판 이송부의 부근에 배치하고, 상기 제1, 제2의 캐리어반송로보트는 각각의 부근에 배치된 상기 반입부, 상기 반출부, 상기 미처리기판이송부, 상기 처리완료기판 이송부, 상기 캐리어대기부, 상기 캐리어반송기구 사이에서 적어도 반송용 캐리어를 교환하도록 구성한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 캐리어 반송기구를 상기 다층구조의 N층(최상층)에 설치한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 제1항 또는 제2항 중 어느 하나의 항에 있어서, 비어 있는 반송용 캐리어를 세정하는 세정부를, 상기 제1의 캐리어 반송용로브트 또는 상기 제2의 캐리어 반송로보트의 부근에 설치하고 상기 재1의 캐리어 반송로보트 또는 상기 제2의 캐리어반송로보트 또한 반송함 비어 있는 반송용 캐리어를 상기 세정부와의 사이에서 교환하도록 구성한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 반입부를 상기 미처리기판이송부(또는 처리완료기판이송부)의 부근에 상기 반출부를 상기 처리완료 기판이송부(또는 미처리기판 이송부)의 부근에 각각 분리하여 배치한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 반입부와 상기 반출부를 상기 미처리기판 이송부 또는 처리완료기판 이송부의 어느 한곳의 부근에 모아서 배치한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 제4항 또는 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 기판지지수단은 복수장의 기판을 그대로 지지하고 캐리어리스로 상기 처리부에서의 기판처리를 행하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 제4항 또는 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 기판지지수단은 복수자의 기판을 수납하는 처리용 캐리어로 구성하여 처리용캐리어에 기판을 수납한 상태에서 상기 처리부에서의 기판처리를 행하고 상기 캐리어 대기부에는 비어있는 처리용 캐리어도 대기시키며, 상기 제1, 제2의 캐리어리어 반송로보트와 상기 캐리어 반송기구는 비어 있는 처리용 캐리어의 반송도 행함과 동시에 상기 제1, 제2의 캐리어 반송로보트는 각각이 부근에 배치된 상기 미처리기판 이송부, 상기 처리완료기판이송부, 상기 캐리어 대기부, 상기 캐리어 반송기구의 사이에서, 비어 있는 처리용 캐리어의 교환도 행하도록 구성한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950028384A 1994-10-11 1995-08-31 기판처리장치 KR100197958B1 (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030048872A (ko) * 2001-12-13 2003-06-25 기아자동차주식회사 자동차 도난방지 장치
KR20220020909A (ko) * 2019-06-14 2022-02-21 실트로닉 아게 반도체 웨이퍼 폴리싱 장치 및 방법

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016066689A (ja) * 2014-09-24 2016-04-28 東京エレクトロン株式会社 容器清掃装置及び容器清掃方法
JP6356727B2 (ja) * 2016-05-27 2018-07-11 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
JP7190900B2 (ja) * 2018-12-28 2022-12-16 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置、キャリア搬送方法およびキャリアバッファ装置
JPWO2023181454A1 (ko) * 2022-03-25 2023-09-28

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030048872A (ko) * 2001-12-13 2003-06-25 기아자동차주식회사 자동차 도난방지 장치
KR20220020909A (ko) * 2019-06-14 2022-02-21 실트로닉 아게 반도체 웨이퍼 폴리싱 장치 및 방법

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