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KR930021034A - 플라즈마발생방법 및 그 발생장치 - Google Patents

플라즈마발생방법 및 그 발생장치 Download PDF

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KR930021034A
KR930021034A KR1019930004767A KR930004767A KR930021034A KR 930021034 A KR930021034 A KR 930021034A KR 1019930004767 A KR1019930004767 A KR 1019930004767A KR 930004767 A KR930004767 A KR 930004767A KR 930021034 A KR930021034 A KR 930021034A
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plasma
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켄지 하라후지
미쯔히로 오오쿠니
토쿠히코 타마키
마사후미 쿠보타
노보루 노무라
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다니이 아끼오
마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤
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Abstract

본 발명은, 고진공하에서 고밀도이고 또한 균일성에 뛰어난 플라즈마를 발생시킬 수 있는 플라즈마발생방법과 그 장치를 제공하는 것을 목적으로 한것으로서, 그 구성에 있어서, 진공실내의 플라즈마발생부의 측방에 복수의 측방전극을 배치하는 제1의 공저과, 상기 측방전극에 주파수가 동일하고 위상이 다른 고주파전력을 인가하므로서 상기 플라즈마발생부에 이 플라즈마발생부내를 병진하는 전자에 진폭운동 도는 회전운동을 시키는 회전전장을 여기하는 제2의 공정과, 상기 플라즈마발생부에 상기 회전전장의 면에 대해서 거의 수직이니 방향의 자장을 인가하므로서 상기 플라즈마발생부내의 전자의 병진운동을 상기 플라즈마발생부내를 선회하는 선회운동으로 변화시키는 제3의 공정을 포함한다. 상기 회전전장 및 상기 지장은 상기 플라즈마발생부내의 전자를 이 플라즈마발생부내에 가두어두는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생방법 및 그 장치를 실현한 것이다.

Description

플라즈마발생방법 및 그 발생장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 관한 플라즈마 발생방법이 적용된 드라이에칭장치의 구조를 표시한 모식도.
제2도는 상기 드라이에칭장치의 쳄버내의 전자의 운동경로의 궤적을 표시한 모식도.
제3도는 상기 드라이에칭장치의 쳄버내의 전자의 운동경로의 궤적을 표시한 모식도.
제4도는 상기 드라이에칭장치의 쳄버내의 전자의 운동 경로의 궤적을 표시한 모식도.
제5도는 상기 드라이에칭장치에 있어서의 축방전극에 인가되는 고주파전력의 주파수와, 이 고주파전력의 1주기중에 전자의 진행거리와의 관계를 표시한 특성도.
제6도는 상기 드라이에칭장치의 쳄버내의 전자의 사이클로이드운동의 궤적을 표시한 모식도.
제7도는 상기 드라이에칭장치의 쳄버내의 전자의 사이클로이드운동에 대한, 인자자장의 강도 및 방향의 의존성을 표시한 모식도.
제8도는 상기 드라이에칭장치의 쳄버내의 전자의 사이클로이드운동에 대한, 인자자장의 강도 및 방향의 의존성을 표시한 모식도.
제9도는 상기 드라이에칭장치의 쳄버내의 전자의 사이클로이드운동에 대한 인자전장의 강도의 의존성을 표시한 모식도.
제10도는 상기 드라이에칭장치의 쳄버내의 전자의 사이클로이드운동에 대한 인가주파수의 의존성을 표시한 모식도.

Claims (21)

  1. 진공실내의 플라즈마 발생부의 측방에 복수의 측방전극을 배치하는 제1의 공정과, 상기 측방전극에 주파수가 동일하고 위상이 다른 고주파전력을 인가하므로서 상기 플라즈마발생부에 이 플라즈마발생부내를 병진하는 전자에 진폭운동을 시키는 고주파전장 또는 상기 전자에 회전운동을 시키는 회전전장을 여기하는 제2의 공정과, 상기 플라즈마발생부에 상기 고주파전장 또는 회전전장의 작용면에 대해서 거의 수직인 방향의 자장을 인가하므로서 상기 플라즈마발생부내의 전자의 병진운동을 상기 플라즈마발생부내를 선회하는 선회운동을 변환시키는 제3의 공정을 포함하고, 이에 의해, 상기 플라즈마발생부내의 전자를 그 플라즈마발생부내에 가두어두는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제2의 공정은, 상기 측방전극에 주파수가 동일하고 위상이 다른 고주파 전력을 인가하므로서 상기 플라즈마발생부에 이 플라즈마발생부내를 병진하는 전자에 회전운동을 시키는 회전전장을 여기하는 공정이며, 상기 제3의 공정은, 상기 플라즈마발생부에 상기 회전전장의 작용면에 대해서 거의 수직인 방향의 자장을 인가하므로서 상기 플라즈마발생부내에서 회전운동하는 전자의 병진운동을 상기 플라즈마발생부를 상기 회전운동과 동일방향 또는 반대방향으로 선회하는 선회운동을 변환시키는 공정인 것을 특징으로 하는 플라즈마발생방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제3의 공정에 있어서의 자장은 시간적으로 정상적인 정자장인것을 특징으로 하는 플라즈마발생방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제3의 공정에 있어서의 자장은 시간적으로 비정상적인 자장인 것을 특징으로 하는 플라즈마발생방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제2의 공정에 있어서의 고주파전력은 IMHz보다도 큰 고주파전력이며, 상기 제3의 공정에 있어서의 자장은 자장강도에 절대치가 26보다도 큰 자장인것을 특징을 하는 플라즈마발생방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제2의 공정에 있어서의 고주파전력의 주파수 : f(MHz)와 고주파전력에 의해 여기되는 회전전장의 전장강도 : E(V/㎝)와, 상기 제3의 공정에 있어서의 자장의 자장강도의 절대치 : B(G)와의 사이에, 1E/Bf50의 관계가 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 제3의 공정에 있어서의 자장은, 상기 플라즈마발생부내에 있어서의 중심부의 자장강도보다도 주변부의 자장강도쪽이 강한것을 특징으로 하는 플라즈마발생방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 진공실의 벽은 비자성재료에 의해 형성되어 있는 것을 특직으로 하는 플라즈마발생방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 진공실의 벽에는 자기시일드가 실시되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생방법.
  10. 진공실내의 플라즈마발생부의 측방에 배치된 복수의 측방전극과, 상기 플라즈마발생부에 이 플라즈마발생부내를 병진하는 전지에 진폭운동을 시키는 고주파전장 또는 상기 전자에 회전운동을 시키는 회전전장을 여기하게 하는 주파수가 동일하고 위상이 다른 고주파전력을 상기 측방전극에 인가하는 고주파전력인가수단과, 상기 플라즈마발생부내의 전자의 병진운동을 상기 플라즈마발생부내를 선회하는 선회운동으로 변환시키므로서 상기 플라즈마발생부내의 전자를 그 플라즈마발생부내에 가두어두게하는, 상기 고주파전장 또는 상기 회전전장의 작용면에 대해서 거의 수직인 방향의 자장을 인가하는 자장인가수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 진공실의 내부에 있어서의 상기 플라즈마발생부의 하부에 설치된 시료대와, 상기 진공실의 내부에 있어서의 상기 플라즈마발생부의 상부에 배치된 대향전극을 또 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 시료대에는 이 시료대에 얹어놓게되는 시료에 플라즈마를 조사하기 위한 바이어스 전압이 인가되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 시료대에 얹어놓게되는 시료에 플라즈마가 조사되도록 그 시료대의 온도를 제어하는 온도제어수단을 또 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  14. 제10항에 있어서, 상기 자장인가수단은, 상하에 서로 대향해서 배치된, 코일쌍과, 이 코일쌍의 각각에 전류를 인가하는 전원을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 전원은 상기 코일쌍에 시간적으로 비정상적인 전류를 인가하는 수단을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  16. 제14항에 있어서, 상기전원은 상기 코일쌍에 시간적으로 정상적인 전류를 인가하는 수단을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  17. 제10항에 있어서, 상기 복수의 측방전극 및 상기 자장인가수단은, 상기 진공실의 외부에 각각 배설되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  18. 제10항에 있어서, 상기 플라즈마발생부의 상기 측방전극의 각각과의 사이, 및 상기 플라즈마발생부와 상기 자장인가수단과의 사이의 사이에는, 석영 또는 세라믹으로 이루어진 부재가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  19. 제10항에 있어서, 상기 고주파전력인가수단은, 상기 측방전극의 각각에 인가되는 고주파전력의 위상차를 일정하게 하는 위상록수단을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  20. 제10항에 있어서, 상기 고주파전력인가수단은, 상기 동일한 전원으로부터 공급된 위상이 다른 복수의 고주파전력을 상기 측방전극의 각각에 인가하는 수단을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
  21. 제10항에 있어서, 상기 진공실의 벽은 비자성재료에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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