KR920021511A - 신규의 n-알킬렌피페리디노 화합물 및 이의 거울상 이성질체 이의 제조방법 및 이를 함유하는 약제학적 조성물 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

신규의 N-알킬렌피페리디노 화합물 및 이의 거울상 이성질체 이의 제조방법 및 이를 함유하는 약제학적 조성물.

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (12)

1. 하기식(Ⅰ)의 화합물, 무기 또는 유기산과의 그의 염중의 하나 또는 그의 4차 암모늄 염중의 하나:

   [상기식에서, -m은 2 또는 3이고, -Ar은 이치환되거나 할로겐원자, 바람직하게는 염소 또는 불소원자 C₁∼C₃알킬, 트리플루오로메틸, 알킬이 C₁∼C₃기인 알콕시, 히드록실, 또는 메틸렌디옥시로 한번 이상 치환된 페닐, C₁∼C₃알킬로 치환되거나 비치환된 티에닐, 피리딜 또는 이미다졸릴기를 나타내고, -Ar'은 비치환되거나 할로겐원자, 바람직하게는 염소 또는 불소원자, C₁∼C₃알킬, 트리플루오로메틸, 알킬이 C₁∼C₃기인 알콕시, 히드록실, 또는 메틸렌디옥시로 단일 -또는 이-치환된 페닐기, 티에닐기, 각각 비치환되거나 할로겐, 바람직하게는 염소 또는 불소원자로 치환된 이미다졸릴기 또는 벤조티에닐기, 비치환되거나 할로겐, 바람직하게는 불소원자로 치환된 나프틸기, 비페닐기, 비치환되거나 질소상에서 벤질기로 치환된 인돌릴기를 나타내고, -X은 산소원자 황원자, 술폰 또는 술폭시드;기 또는(식중, Alk은 C₁∼C₃알킬기임);(식중, Alk은 C₁∼C₃알킬렌이고, X₁및 X₂는 독립적으로 수소, C₁∼C₃알킬을 나타내거나 이들이 결합된 질소원자와 함께 피롤리딘, 피페리딘 또는 모르폴린중에서 선택되는 헤테로고리를 형성한다)기를 나타내고; -Q은 수소, C₁∼C₄알킬기 또는 식 -(CH₂)_q-Am'(식중, q는 2 또는 3이고, Am'은 피페리디노, 4-벤질피레리디노 또는 디알킬아미노기이며, 여기에서 각각의 알킬은 1∼4개의 탄소원자를 가질수 있다)의 아미노알킬기를 나타내고, -R은 수소, 메틸기 또는 기(CH₂)_n-L(식중, n은 2∼6의 정수이고, L은 수소 또는 아미노기임)을 나타내며; -T는(식중, W은 산소 또는 황원자임)으로부터 선택되는 기를 나타내고, -Z은 T가기인 경우 M 또는 OM을 나타내고, 또는 T가기인 경우 M을 나타내며, 여기서 M은 수소 또는 직쇄 또는 측쇄의 C₁∼C₆알킬, 비치환되거나 방향족 고리상에서 할로겐, 히드록실, C₁∼C₄의 알콕시, C₁∼C₄의 알킬로 단일-또는 다중-치환된 α-히드록시벤질, α-알킬 벤질 또는 알킬이 탄소수 C₁∼C₃인 페닐 알킬, 알킬기가 탄소수 1∼3인 피리딜알킬, 알킬기가 탄소수 1∼3인 나프틸알킬, 알킬기가 탄소수 1∼3인 피리딜티오알킬, 스티릴, 알킬기가 탄소수 1∼3인 1-메틸-2-이미다졸릴티오알킬, 1-옥소페닐-3-인단-2-일, 비치환되거나 단일-또는 다중-치환된 방향족 또는 헤테로 방향족기를 나타낸다.]
2. 하기식 (Ⅰ^*)의 광학적 순수 화합물을 또는 무기 또는 유기산과의 그의 염중의 하나 또는 그의 4차 암모늄 염중의 하나;

   [상기식에서 -"*"은 이 표시된 탄소원자가 결정된 (+) 또는 (-)절대 배열을 가짐을 의하며, -m Ar 및 Ar', X, Q, R, T 및 Z은 제1항에서 정의한 바와 같다.]
3. 제1항 또는 2항에 있어서, 식

   의 기가

   기 [식중 Q'는 C₁∼C₆알킬기 또는 벤질기를 나타내고, A은 클로라이드, 브로마이드, 요오다이드, 아세테이트, 메탄술포네이트 또는 파라톨루엔술포네이트 중에서 선택되는 음이온을 나타낸다.]로 표시되며 화합물이 4차 암모늄 염의 형태로 존재함을 특징으로 하는 화합물.
4. N-[2-(3,4-디클로로페닐)-4-(4-(2-피리딜티오)-1-피페리디닐)부틸]-2,4-디클로로벤즈아미드 또는 그의 약제학적으로 허용가능한 염중의 하나.
5. N-[4-(4-(4-N'-아세틸아닐리노-1-피페리디릴)-2-(3,4-디클로로페닐)부틸]-N-메틸벤즈아미드 또는 그의 약제학적으로 허용가능한 염중의 하나.
6. N-[4-(1-메틸-2-아미다졸릴)-4-티오-피페리디닐)-2-나프틸부틸]-2,4N-디메톡시벤즈아미드 또는 그의 약제학적으로 허용가능한 염중의 하나.
7. a) 하기식(Ⅱ)의 유리 아민을, -T가 -CO-인 식(Ⅰ)의 화합물을 제조하려는 경우, 하기식(Ⅲ)의 산의 작용 유도체로 처리하거나, -또는 T가 -C(W)-NH-인 식(Ⅰ)의 화합물을 제조하려는 경우, 하기식(Ⅲ')의 이소(티오)시아네이트로 처리하여 하기식(Ⅳ)의 화합물을 형성한 다음, b) E가 테트라히드로피라닐옥시를 나타내는 경우에는 테트라히드로피라닐 기를 산 가수분해에 의해 제거하고, 대안적으로는 단계(a)에서 식(Ⅱ)의 출발 아민에 대해 가수분해를 수행할수 있으며, c) 이렇게 수득된 하기식(Ⅴ)의 N-치환된 알칸올아민을 메탄술포닐 클로라이드로 처리하고, d) 이렇게 수득된 하기식(Ⅵ)의 메실레이트를 하기식(Ⅶ)의 2차 아민과 반응시키고, e) 적절한 경우, N-보호기를 제거하고 이렇게 수득된 생성물을 임의로 그의 염중의 하나로 전환시킴을 특징으로 하는 제1항에 따른 식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법:

   [상기식에서, m, Ar, Ar', Q, W, X 및 Z은 상기 제1항에서 정의된 바와 같고, R°은 수소, 메틸기 또는 기(CH₂)_m-L°(식중 n은 제1항에서 정의한 바와 같고, L°은 수소 또는 산성 매질에서 가수분해 가능한 N-보호기에 의해 보호된 아미노기이다)를 나타내며, E은 테트라히드로-2-피라닐옥시기 또는 기

   (식중 Ar 및 X은 제1항에서 정의한 바와 같다)를 나타낸다]
8. 하기식(XVII^*)의 화합물을 산성 매질내에서 용매중에 처리하여 하기식(XVIII^*)의 아미노산을 수득하고, 이를 산성 매질내에서 알코올 AlkOH(여기에서, Alk은 C₁∼C₄알킬임)로 에스테르화시킨 다음, 하기식(XIX^*)의 상응하는 에스테르를 -하기식(Ⅲ)의 산소 작용 유도체로 처리하거나, 또는 -하기식(Ⅲ')의 이소(티오)시아네이트로 처리하고, 이렇게 수득된 하기식(XX^*)의 에스테르에 환원제를 작용시키고, 하기식(Ⅴ^*)의 상응하는 알코올을 하기식(Ⅵ^*)의 메탄술포네이트 에스테르 전환시킨 다음, 하기식(Ⅶ)의 아민으로 처리함으로써, 식(Ⅰ^*)의 화합물을 수득함을 특징으로 하는 제2장에 따른 식(Ⅰ^*)의 광학적 순수 화합물을 입체 선택적 제조방법:

   [상기식에서, Alk은 C₁∼C₄의 알킬이고, m, Ar. Ar', Q, W, X 및 Z은 제1항에서 정의한 바와 같고, R°은 제7항에서 정의한 바와 같다.]
9. 하기식(Ⅱ) 의 화합물

   [상기식에서, E은 식

   기를 나타내고, m, Q, Ar', Ar 및 X은 제1항에서 정의한 바와 같고, R°은 수소, 메틸기 또는 (CH₂)n L°기(식중, n은 제1항에서 정의한 바와 같고, L°은 수소 또는 보호된 아미노기이다)를 나타낸다.]
10. 활성 성분으로서 제1항 또는 2항에 따른 식(Ⅰ) 또는 식(Ⅰ^*)의 화합물을 함유하는 약제학적 조성물.
11. 제10항에 있어서, 활성 성분을 적어도 1종의 약제학적 부형제와 혼합한 투여 단위 형태의 약제학적 조성물.
12. 제11항에 있어서, 2.5∼1000mg의 활성 성분을 함유하는 조성물.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.