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KR910000359A - 방사 감지장치를 만드는 방법 - Google Patents

방사 감지장치를 만드는 방법 Download PDF

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Publication number
KR910000359A
KR910000359A KR1019890007628A KR890007628A KR910000359A KR 910000359 A KR910000359 A KR 910000359A KR 1019890007628 A KR1019890007628 A KR 1019890007628A KR 890007628 A KR890007628 A KR 890007628A KR 910000359 A KR910000359 A KR 910000359A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
liquid
radiation sensing
layer
voltage
sensing layer
Prior art date
Application number
KR1019890007628A
Other languages
English (en)
Inventor
필립 쿠퍼 그레함
토마스 존스 리자이날드
Original Assignee
원본미기재
빅커스 피엘씨
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 원본미기재, 빅커스 피엘씨 filed Critical 원본미기재
Publication of KR910000359A publication Critical patent/KR910000359A/ko

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    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/02—Engraving; Heads therefor
    • B41C1/04—Engraving; Heads therefor using heads controlled by an electric information signal
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/115—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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    • B05B5/0255—Discharge apparatus, e.g. electrostatic spray guns spraying and depositing by electrostatic forces only
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Abstract

내용 없음

Description

방사 감지장치를 만드는 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명의 방법을 수행하는데 사용하기 적당한 제1장치의 개략적 단면도,
제5도는 본 발명의 방법을 수행하는데 사용하기 적당한 제2장치의 개략적 단면도,
제6도는 본 발명의 방법을 수행하는데 사용하기 적당한 제3장치의 개략적 단면도.

Claims (11)

  1. 기판에 방사 감지 층을 형성하게 하고 방사 감지 층의 표면에 단속보호층을 가하므로써 방사 감지 장치를 만드는 방법에 있어서, 용매내에 단속층을 형성하는 물질을 용해하여 전도성이 10~10 pSm인 진도성을 갖는 액체를 생산하고, 상기 액체가 상기 방사 감지층을 향하며, 한편 상기 기판에 대이하여 5KV의 전압을 상기액체에 인가하거나 유도하여 유도하여 상기 전압이 액체에 독자적인 분쇄력으로 작용하고 액체가 방사 감지 층상에 고착되는 방울로 분쇄되는 하나이상의 띠를 형성하도록 하여서 단속보호층을 만들도록 구성된 것을 특징으로 하는 방사 감지 장치를 만드는 방법.
  2. 제1항에의 방법에 있어서, 상기 액체의 전도성이 10 pSm보다 크지 않은 것을 특징으로 하는 방사 감지 장치를 만드는 방법.
  3. 제1항과 제2항의 방법에 있어서, 전압이 5~35KV에 있는 것을 특징으로 하는 방사 감지 장치를 만드는 방법.
  4. 제3항의 방법에 있어서, 전압이 10KV보다 작지 않은 것을 특징으로 하는 방사 감지 장치를 만드는 방법.
  5. 제1항~제4항의 방법에 있어서, 액체가 날위로지나므로서 액체가 방사 감지 층으로 이끌려지는 것을 특징으로 하는 방사 감지 장치를 만드는 방법.
  6. 제1항~제5항의 방법에 있어서, 액체가 하나 또는 더 많은 튜브를 통과해서 방사 감지 층으로 이끌려지는 것을 특징으로 하는 방사 감지 장치를 만드는 방법.
  7. 제1항~제6항의 방법에 있어서, 유속이 띠당 0.05~2.00CC/분 인 것을 특징으로 하는 방사 감지 장치를 만드는 방법.
  8. 제1항~제7항 중의 방법에 따라 액체가 수지의 용액인 것이 특징인 반사 감지 장치를 만드는 방법.
  9. 제1항~제7항의 방법에 있어서, 액체가 방사 가마지 물질의 용액인 것을 특징으로 하는 방사 감지 장치를 만드는 방법.
  10. 제8항에 있어서, 방사 감지 물질이 퀴논디아자이드인 것이 특징으로 하는 방사 감지 장치를 만드는 방법.
  11. ※ 참고사항: 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890007628A 1988-06-03 1989-06-02 방사 감지장치를 만드는 방법 KR910000359A (ko)

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GB88-13154.5 1988-06-03
GB888813154A GB8813154D0 (en) 1988-06-03 1988-06-03 Improvements in/relating to radiation sensitive devices

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EP (1) EP0344985B1 (ko)
JP (1) JP2761241B2 (ko)
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AR (1) AR245830A1 (ko)
AT (1) ATE110176T1 (ko)
AU (1) AU620404B2 (ko)
BR (1) BR8902562A (ko)
CA (1) CA1332214C (ko)
DE (1) DE68917528T2 (ko)
DK (1) DK272489A (ko)
ES (1) ES2057122T3 (ko)
FI (1) FI892676A (ko)
GB (1) GB8813154D0 (ko)
HU (1) HUH3517A (ko)
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NZ (1) NZ229371A (ko)
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Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 19890602

PG1501 Laying open of application
PC1203 Withdrawal of no request for examination
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid