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KR900010959A - 검사대상 패턴용 결함 검출방법 및 그 장치 - Google Patents

검사대상 패턴용 결함 검출방법 및 그 장치 Download PDF

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KR900010959A
KR900010959A KR1019890019232A KR890019232A KR900010959A KR 900010959 A KR900010959 A KR 900010959A KR 1019890019232 A KR1019890019232 A KR 1019890019232A KR 890019232 A KR890019232 A KR 890019232A KR 900010959 A KR900010959 A KR 900010959A
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Abstract

내용 없음

Description

검사대상 패턴용 결함 검출방법 및 그 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 검사 대상 패턴과 Z초점맞춤위치 사이의 관계를 나타낸 도면, 제4도는 본 발명에 따른 검사대상 패턴용 결함 검출장치의 1실시예를 도시한 도면, 제5도는 제4도에 도시한 장치에서 인접하는 웨이퍼상의 칩내부의 위치에서 회로 패턴을 비교하는 상태를 나타낸 도면, 제6도 (a)~(e)는 제4도의 장치에서 얻어진 각각의 검출화상, 기억화상, 위치맞춤화상, 차화상 및 2진화상을 나타낸 도면, 제7도는 (a)~(d)는 제4도의 장치에서 얻어진 각각의 Z=Z1에서의 결함부 및 비결함부화상, 이들 2개의 화상을 위치맞춤해서 얻어진 차화상 및 차화상의 파형의 농담값을 나타낸 도면.

Claims (30)

  1. 검사대상패턴의 다중초점화상을 얻는 공정과 상기 다중초점화상을 이용해서 검사대상 패턴상의 결함을 검출하는 공정을 포함하는 검사대상용 결함검출방법.
  2. 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 상기 검사대상 패턴의 다중초점화상을 얻은 공정은 다른 초점맞춤위치에서 검사대상 패턴의 여러개의 화상을 동시에 얻는 공정과 다른 초점맞춤 위치에서 검사대상 패턴의 여러개의 화상을 순차적으로 얻는 공정중의 하나를 포함하는 검사대상용 결함검출방법.
  3. 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 상기 결함을 검출하는 공정은 상기 검사대상 패턴의 적어도 하나의 다중초점 화상을 기준패턴의 다중초점화상의 대응하는 적어도 하나의 비교하는 공정을 포함하는 검사대상용 결함검출방법.
  4. 특허청구의 범위 제3항에 있어서, 상기 검출된 결함은 이물결함, 변색결함 및 변형결함중의 적어도 하나인 검사대상 패턴용 결함검출방법.
  5. 특허청구의 범위 제3항에 있어서, 상기 결함을 검출하는 공정은 이물결함, 변색결함 및 변형결함중의 적어도 2개를 검출하는 공정을 포함하는 검사대상용 결함검출방법.
  6. 특허청구의 범위 제3항에 있어서, 상기 대응하는 기준패턴은 결함이 없는 다중초점화상을 가지며, 상기 결함을 검출하는 공정은 불일치된 점을 판정하도록 상기 다중초점화상의 신호를 서로 비교하는 공정, 상기 다중초점화상 신호 상호간의 비교결과에서 얻어진 차화상 신호에 따라서 이물결함에 대해서 결함을 판정하는 공정, 상기 화상신호의 미분처리에서 얻어진 미분신호 상호간의 비교결과에서 얻어진 차화상 신호에 따라서 변색결함에 대해서 결함을 판정하는 공정을 포함하는 검사대상용 결함검출 방법.
  7. 특허청구의 범위 제3항에 있어서, 이물결함 및 변색결함중의 하나로 판정되지 않는 결함이 변경결함으로써 판정되는 검사대상용 결함검출 방법.
  8. 이물결함, 변색결함 및 변형결함중의 적어도 하나에 대해서 검사하는 것에 의해 각각의 처리장치에서 패턴을 처리하기 전후에 검사대상 패턴상에 검사를 실행하는 공정, 상기 처리장치의 처리전후에 결함이 검사대상 패턴상의 같은 위치에서 발생하는 가를 판정하는 공정, 상기 처리장치의 처리전의 검사에서 이물결함으로써 판정된 결함이 상기 처리장치의 처리후의 검사에서 변형결함과 변색결함중의 하나로 판정된 것을 검출하는 것에 의해 검사대상 패턴의 결함을 치명적인 결함으로써 분류하는 공정을 포함하고, 패턴을 각각의 처리장치에서 여러 단계로 처리하는 검사대상패턴용 결함검출 방법.
  9. 검사대상패턴의 화상신호를 얻는 공정, 결함이 없는 대응하는 기준패턴의 화상신호를 얻는 공정, 상기 화상신호를 비교하는 것에 의해 검사대상 패턴의 변색결함을 검출하는 공정을 포함하고, 상기 변색결함의 검출은 상기 얻어진 화상신호에서 이용된 광파장과는 관계없이 실행되는 검사대상 패턴용 결함검출 방법.
  10. 특허청구의 범위 제9항에 있어서, 상기 변색결함을 검출하는 공정은 검사대상 패턴의 미분된 화상신호의 비교결과에서의 차화상신호와 상기 화상신호의 미분처리에 의해 대응하는 기준패턴을 얻는 공정을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 방법.
  11. 검사대상 패턴용 암필드 화상과 결함이 없는 대응하는 기준패턴을 얻는 공정, 검사대상 패턴의 명필드 화상과 대응하는 기준패턴을 얻는 공정, 상기 얻어진 암필드 화상 상호간을 비교하고, 상기 얻어진 명필드화상 상호간을 비교하는 공정, 상기 암필드 화상의 비교결과와 상기 명필드 화상의 비교결과에 따라서 적어도 변색 결함을 판정하는 공정을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 방법.
  12. 검사대상 패턴의 다중초점화상을 얻는 수단, 상기 다중초점화상을 나타내는 출력을 공급하는 수단, 상기 다중 초점화상을 얻는 수단의 출력에 응답해서 상기 얻어진 다중 초점화상에 따라 검사대상 패턴상의 결함을 검출하는 수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  13. 특허청구의 범위 제12항에 있어서, 상기 검사대상 패턴의 다중초점화상을 얻는 수단은 검사대상 패턴의 여러개의 화상을 다른 초점맞춤위치에서 동시에 얻는 수단과 검사대상 패턴의 여러개의 화상을 다른 초점맞춤위치에서 순차적으로 얻는 수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  14. 특허청구의 범위 제13항에 있어서, 상기 여러개의 화상을 다른 초점맞춤위치에서 동시에 얻는 수단은 상기 검사대상패턴의 화상을 동시에 픽업하기 위해 다른 초점맞춤위치를 갖는 다수의 화상픽업 수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  15. 특허청구의 범위 제 13항에 있어서, 상기 검사대상 패턴의 여러개의 화상을 다른 초점맞춤 위치에서 순차적으로 얻는 수단은 상기 픽업수단에 대해서 상기 패턴을 다른 초점맞춤 위치에 배치시키도록 검사대상 패턴을 이동시키는 수단, 상기 이동수단에 의해 상기 다른 초점맞춤 위치로 패턴이 이동한후에 다수의 다른 초점맞춤 위치에서 검사대상 패턴의 화상을 얻는 픽업수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  16. 특허청구의 범위 제12항에 있어서, 또 상기 검사대상 패턴에 대응하는 결함이 없는 기준패턴의 다중초점화상을 얻는 수단, 상기 검사 대상패턴의 다중초점 화상중의 적어도 하나를 상기 대응하는 기준패턴의 다중초점 화상중의 대응하는 하나와 비교하는 수단을 갖는 상기 검사 대상패턴상의 결함을 검출하는 수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  17. 특허청구의 범위 제16항에 있어서, 상기 결함검출용 수단은 이물결함, 변색결함 및 변형결함중의 적어도 하나를 검출하는 수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  18. 특허청구의 범위 제16항에 있어서, 상기 결함검출용 수단은 이물결함, 변색결함 및 변형결함중의 적어도 2개를 검출하는 수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  19. 특허청구의 범위 제16항에 있어서, 상기 결함검출용 수단은 상기 검사대상 패턴의 다중초점 화상중의 적어도 하나를 상기 대응하는 기준패턴의 자동초점 화상중의 대응하는 적어도 하나와 비교하는 수단, 상기 검사대상 패턴의 다중초점 화상과 대응하는 기준패턴 상호간을 비교하는 것에 의해 얻어진 차화상 신호에 따라서 이물결함으로써 결함을 판정하는 이물결함 판정수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  20. 특허청구의 범위 제16항에 있어서, 상기 결함검출용 수단은 상기 검사대상 패턴 및 상기 대응하는 기준패턴의 다중초점 화상을 미분하는 미분수단, 상기 미분화상을 비교해서 상기 비교된 미분화상의 차화상 신호를 공급하는 수단 및 상기 차화상 신호에 따라서 변색결함을 판정하는 수단을 갖고 변색결함으로써 결함을 판정하는 변색결함 판수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  21. 특허청구의 범위 제19항에 있어서, 상기 결함 검출용 수단은 또 상기 검사대상 패턴과 상기 대응하는 기준패턴의 다중초점화상을 미분하는 미분수단, 상기 미분화상을 비교해서 상기 비교된 미분화상의 차화상 신호를 공급하는 수단 및 상기 차화상 신호에 따라서 변색결함을 판정하는 수단을 갖고 변색결함으로써 결함을 판정하는 변색결함 판정수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  22. 특허청구의 범위 제21항에 있어서, 또 상기 결함이 이물결함 및 변색결함중의 하나로 판정되지않는 경우에는 변형결함으로써 결함을 판정하는 변형결함 판정수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  23. 특허청구의 범위 제21항에 있어서, 또 상기 얻어진 화상을 기억하는 기억수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  24. 특허청구의 범위 제21항에 있어서, 상기 이물 결함 판정수단은 상기 검사대상 패턴 및 상기 대응하는 기준패턴의 다중초점화상의 차화상 신호의 값에 따라서 결함을 이물결함으로써 판정하는 수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  25. 특허청구의 범위 제21항에 있어서, 상기 변색결함 검출수단은 상기 검사대상 패턴 및 상기 대응하는 기준패턴의 다중초점 화상의 차화상 신호의 값에 따라서 결함을 변색결함으로써 판정하는 수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  26. 특허청구의 범위 제17항에 있어서, 또 상기 결함검출 수단에 의해 검출된 결함의 위치를 기억하는 기억수단, 이물결함 및 변색결함으로써 결함을 판정하는 기억수단에 의해 기억된 바와 같이 결함의 위치에 응답하는 이물결함 판정수단과 변색결함 판정수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  27. 이물결함, 변색결함 및 변형결함중의 적어도 하나에 대해서 검사하는 것에 의해 각각의 처리장치에서 패턴을 처리하기 전후에 검사대상 패턴상에 검사를 실행하는 수단, 상기 처리장치의 처리전후에 결합이 검사대상 패턴상의 같은 위치에서 발생하는 가를 판정하는 수단, 상기 판정수단에 의해 상기 처리장치의 처리전의 검사에서 이물결함으로써 판정된 결함이 상기 판정수단에 의해 상기 처리장치의 처리후의 검사에서 변형결함과 변색결함중의 하나로 판정된 것을 검출하는 것에 의해 검사대상 패턴의 결함을 상기 판정수단에 응답해서 치명적인 결함으로써 분류하는 수단을 포함하고, 패턴을 각각의 처리장치에서 여러단계로 처리하는 검사대상 패턴용 결함검출 장치.
  28. 검사대상 패턴의 화상신호를 얻는 수단, 결함이 없는 대응하는 기준패턴의 화상신호를 얻는 수단, 상기 화상신호를 비교하는 것에 의해 검사대상 패턴의 변색결함을 검출하는 수단을 포함하고, 상기 검출수단은 상기 화상신호를 얻는 수단에 의해 얻어진 화상신호에서 이용된 광파장과는 관계없이 변색결함의 검출을 할 수 있는 검사대상 패턴용 결함 검출 장치.
  29. 특허청구의 범위 제28항에 있어서, 상기 변색결함 검출수단은 상기 검사대상 패턴과 상기 대응하는 기준패턴의 화상신호를 미분하는 미분수단, 상기 미분화상신호를 비교해서 차신호를 공급하는 수단 및 상기 차신호에 따라서 변색결함을 판정하는 수단을 포함하는 검사대상 패턴용 결함 검출 장치.
  30. 검사대상 패턴용 암필드화상과 결함이 없는 대응하는 기준패턴을 얻는 수단, 검사대상 패턴의 명필드 화상과 대응하는 기준패턴을 얻는 수단, 상기 얻어진 암필드 화상 상호간을 비교하고, 상기 얻어진 명필드 화상 상호간을 비교하는 수단, 상기 암필드 화상의 비교결과와 상기 명필드 화상의 비교결과에 따라서 적어도 변색결함을 판정하는 수단을 포함하는 검사 대상패턴용 결함검출 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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