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KR880008058A - 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법 및 이를 이용한 회절격자 제조방법 - Google Patents

투과율 변조형 포토 마스크 제조방법 및 이를 이용한 회절격자 제조방법 Download PDF

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KR880008058A
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가쯔야 후지사와
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마사오 우에쯔기
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가부시끼가이샤 구라레
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Abstract

내용 없음.

Description

투과율 변조형 포토 마스크 제조방법 및 이를 이용한 회절격자 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 사용된 브레이즈(blaze)형 회절격자의 중요부분을 도시하는 확대된 단면도,
제2도는 본 발명의 제1실시예에서 브레이즈형 회절격자의 포토 마스크(photo mask)의 중요부분을 도시하는 확대된 횡단면도,
제6도는 본 발명의 포토 마스크를 이용하여 회절격자를 제조하는 공정을 도시하는 횡단면도.

Claims (26)

  1. 투명한 물질로 제조된 제1브레이즈형 회절격자와 광흡수제를 포함하는 물질로 제조된 제2브레이즈형 회절격자를 구비하고, 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자는 이들 각각의 격자 표면에서 서로 결합되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1회절격자를 구성하는 물질의 굴절율은 적어도 상기 제2회절격자를 구성하는 물질의 굴절율과 거의 동등한 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1회절격자를 구성하는 물질의 굴절율과 상기 제2회절격자를 구성하는 물질의 굴절율과의 차는 0.01보다 더 작은 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크.
  4. 제3항에 있어서, 상기 굴절율간의 차가 0.001보다 더 작은 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토마스크.
  5. 제1항에 있어서, 포토 마스크의 상·하표면은 적어도 서로 거의 평행한 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2회절격자의 격자 표면은 횡단면이 톱니형인 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크.
  7. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2회절격자의 격가 표면은 횡단면이 곡선인 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크.
  8. 투과율 변조형 포토 마스크를 제조하는 방법에 있어서, 투명한 물질로 제조된 제1회절격자를 형성하는 단계와, 상기 1회절격자가 광 흡수제를 포함하여 제조된 물질과 적어도 거의 동일한 굴절율을 갖고 있는 물질로 제조된 제2회절격자를 형성하는 단계를 구비하고, 상기 제1및 제2회절격자는 각각의 회절 표면에서 결합되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토마스트 제조방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제1회절격자를 구성하는 물질의 굴절율과 상기 제2회절격자를 구성하는 물질의 굴절율과의 차는 0.01보다 작은 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 굴절율간의 차는 0.001보다 더 작은 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토마스크 제조방법.
  11. 제8항에 있어서, 상기 제1회절격자의 격자 표면은 절단하여 형성되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법.
  12. 제8항에 있어서, 상기 제1회 절격자의 격자 표면은 사진 석판술로 형성되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토마스크 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제1회절격자의 격자 표면은 도우즈를 변화시키므로써 기판위 감광성 내식막위에 곧바로 제도하여 형성되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 제1회절격자의 격자표면은 비대칭 이중빔간섭 노출방법에 의해 곧바로 형성되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법.
  15. 제8항에 있어서, 상기 제1회절격자는, 기판위에 감광성 수지층을 형성하는 단계와, 노출 및 사진 석판술 현상에 의해 상기 감광성 수지위에 격자 표면을 형성하는 단계, 및 포토마스크처럼 상기 격자 표면을 이용하여 건조 부식하여 격자 표면을 기판위에 전사하는 단계에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 기판은 투명한 물질로 유리판을 피복하므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토마스크 제조방법.
  17. 제15항에 있어서, 상기 기판은 광 흡수제를 포함하는 투명한 물질로 유리판을 피복하므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법.
  18. 제15항에 있어서, 상기 전사는 산소플라즈마부식에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 광 흡수제는 자외선 흡수제인 것을 특징으로 하는 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법.
  20. 투과율 변조형 포토 마스크를 이용한 회절격자 제조방법에 있어서, 기판위에 감광성 수지층을 형성하는 단계, 투명한 물질로 제조된 제1브레이즈형 회절 격자와 광 흡수제를 포함하는 물질로 제조된 제2브레이즈형 회절격자로 구성된 투과율 변조형 포토 마스크를 단단하게 배치하는 단계, 및 감광성 수지층을 노출 및 현상이 되게 하는 단계를 구비하고, 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자는 각각의 표면에서 서로 결합되는 것을 특징으로 하는 회절격자 제조방법.
  21. 제20항에 있어서, 광 흡수제의 두께와 포토 마스크로써 이용된 상기 브레이즈형 회절단의 광 흡수제에 의해 제어되는 광 투과율과의 관계에 적어도 거의 동일한 노출 및 현상후에, 감광성 수지는 도우스(노출의 양)와 잔류 피막비와의 사이에 관계가 있는 동일한 것을 특징으로 하는 회절 격자 제조방법.
  22. 제20항에 있어서, 상기 제1회절격자로서 구성되는 물질의 굴절율이 상기 제2회절격자로 구성되는 물질의 굴절율과 적어도 거의 동일한 것을 특징으로 하는 회절격자 제조방법.
  23. 제22항에 있어서, 상기 굴절율의 차는 0.01보다 더 작은 것을 특징으로 하는 회절격자 제조방법.
  24. 제23항에 있어서, 상기 굴절율의 차가 0.001보다 더 작은 것을 특징으로 하는 회절격자 제조방법.
  25. 제20항에 있어서, 상기 포토 마스크는 서로 거의 평행한 상·하부 표면이 평탄한 것을 특징으로 하는 회절격자 제조방법.
  26. 제20항에 있어서, 상기 광 흡수제는 자외선 흡수제인 것을 특징으로 하는 회절격자 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019870013883A 1986-12-06 1987-12-05 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법 및 이를 이용한 회절격자 제조방법 Expired KR910005879B1 (ko)

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