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KR870007450A - 감광성 레진 조성물 - Google Patents

감광성 레진 조성물 Download PDF

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KR870007450A
KR870007450A KR870000070A KR870000070A KR870007450A KR 870007450 A KR870007450 A KR 870007450A KR 870000070 A KR870000070 A KR 870000070A KR 870000070 A KR870000070 A KR 870000070A KR 870007450 A KR870007450 A KR 870007450A
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KR
South Korea
Prior art keywords
polymer
resin composition
photosensitive resin
alkali
soluble
Prior art date
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Ceased
Application number
KR870000070A
Other languages
English (en)
Inventor
히사시 스기야마
가즈오 나데
다아시 이노우에
아기고 미즈시마
Original Assignee
미쓰다 가쓰시게
가부시기 가이샤 히다찌 세이사꾸쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쓰다 가쓰시게, 가부시기 가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 filed Critical 미쓰다 가쓰시게
Publication of KR870007450A publication Critical patent/KR870007450A/ko
Ceased legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
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Abstract

내용 없음

Description

감광성 레진 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (18)

  1. 알칼리 용해성의 유기 금속 중합체와 감광성 용해 억제 요소를 포함하는 감광성 레진 조성물.
  2. 특허청구의 범위 제1항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 유기금속 중합체는 그 내부에 포함되는 금속 원소의 일부 또는 전부가 주쇄내에 존재하는 중합체이다.
  3. 청구 범위 제2항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 유기금속 중합체는 금속원소로서 Si,Ge,Sn,Ti 중의 적어도 하나의 원소를 포함하는 중합체이다.
  4. 특허청구의 범위 제3항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 유기금속 중합체는 알칼리 용해성의 유기실리콘 중합체이다.
  5. 특허청구의 번위 제4항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 유기실리콘 중합체는 측쇄의 일부 또는 전부가 페놀릭 하이드록실 그룹의 유기그룹인 중합체이다.
  6. 특허청구의 범위 제5항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 유기실리콘 중합체는 알칼리 용해성의 실메틸렌 중합체이다.
  7. 특허청구의 범위 제6항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 실메틸렌 중합체는 다음의 화학식(1)로 표시되는 유니트가 중합체 뼈대내에서 40% 이상 차지하는 중합체이다.
    (여기서 R1, R2, R3그리고 R4는 1가의 유기그룹이며, 4개의 측쇄중 적어도 하나는 페놀릭 하이드록실그룹의 유기그룹이다).
  8. 특허청구의 범위 제7항의 레진 조성물에 있어서, 화학식(1)에서 R1과 R2는 메틸그룹이며, R4는 수소, 그리고 R3은 p-하이드록시 페닐그룹이다.
  9. 특허청구의 범위 제5항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 유기실리콘 중합체는 알칼리 용해성의 실록산 중합체이다.
  10. 특허청구의 범위 제9항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 실록산 중합체는 다음의 화학식(2)로 표시되는 유니트가 중합체 뼈대내에서 40% 이상을 차지한다.
    (여기서, R5와 R6은 1가의 유기그룹이며, R5와 R6중에 적어도 하나는 페놀릭 하이드록실그룹의 유기그룹이다).
  11. 특허청구의 범위 제10항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 화학식(6)에서 R5은는 메틸그룹이며, R6은 p-하이드록시 벤질그룹이다.
  12. 특허청구의 범위 제5항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 유기실리콘 중합체는 알칼리 용해성의 폴리오르 가노실세스키옥산 중합체이다.
  13. 특허청구의 범위 제12항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 알칼리 용해성의 폴리오르 가노실세스키옥산은 다음의 화학식(3)에 의해 표시되는 유니트가 중합체 뼈대내에서 40% 이상 차지하는 중합체이다.
    [R7-SiO3/2] (3)
    (여기서, R7은 페놀릭 하이드록실그룹의 유기그룹이다).
  14. 특허청구의 제13항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 화학식(3)에서 R7은 p-하이드록시 벤질그룹이다.
  15. 특허청구의 범위 제8항, 제11항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 상기의 감광성 용해 억제요소가 0-키논디아지드이다.
  16. 특허청구의 범위 제15항의 감광성 레진 조성물에 있어서, 0-키논디아지드는 다음의 화학식(4)로 표시되는 1,2-납사키논아지드이다.
    (여기서, R8은 1가의 유기그룹이다).
  17. 특허청구의 범위 제1항의 감광성 레진 조성물을 이용하여 기판 위에 미세한 패턴을 만들기 위한 프로세스.
  18. 기판 위에 미세한 패턴을 만들기 위한 특허청구의 범위 제17항의 프로세스에 있어서, 상기의 기판은 실리콘 웨이퍼이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR870000070A 1986-01-08 1987-01-08 감광성 레진 조성물 Ceased KR870007450A (ko)

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JP61000501A JP2619358B2 (ja) 1986-01-08 1986-01-08 感光性樹脂組成物

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