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KR20220110026A - Touch sensor and touch display module - Google Patents

Touch sensor and touch display module Download PDF

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KR20220110026A
KR20220110026A KR1020210062094A KR20210062094A KR20220110026A KR 20220110026 A KR20220110026 A KR 20220110026A KR 1020210062094 A KR1020210062094 A KR 1020210062094A KR 20210062094 A KR20210062094 A KR 20210062094A KR 20220110026 A KR20220110026 A KR 20220110026A
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KR
South Korea
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electrode line
touch
touch sensor
hole
electrode
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KR1020210062094A
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Korean (ko)
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KR102584055B1 (en
Inventor
치아-주이 린
웨이-추안 차오
사오-지에 리우
시-퀴앙 수
Original Assignee
티피케이 어드밴스트 솔루션스 인코포레이티드
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Publication date
Application filed by 티피케이 어드밴스트 솔루션스 인코포레이티드 filed Critical 티피케이 어드밴스트 솔루션스 인코포레이티드
Publication of KR20220110026A publication Critical patent/KR20220110026A/en
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Publication of KR102584055B1 publication Critical patent/KR102584055B1/en
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Abstract

A touch sensor having a visible area and a peripheral area on at least one side surface of the visible area comprises a substrate and a first touch electrode layer. The substrate has a hole area corresponding to the visible area, and the hole area has a first edge. The first touch electrode layer is disposed on the substrate to correspond to the visible area. The first touch electrode layer comprises a first electrode line extending along a first direction, and the first electrode line has a first part close to the hole area and a second part far from the hole area along the first direction. The first part of the first electrode line is connected to the second part of the first electrode line, and the first part of the first electrode line is disposed adjacent to the first edge along a contour of the hole area.

Description

터치 센서 및 터치 디스플레이 모듈{TOUCH SENSOR AND TOUCH DISPLAY MODULE}TOUCH SENSOR AND TOUCH DISPLAY MODULE

본 개시는 터치 센서 및 터치 센서를 포함하는 터치 디스플레이 모듈에 관한 것이다.The present disclosure relates to a touch sensor and a touch display module including the touch sensor.

기술의 급속한 발전으로, 다양한 전자 디바이스(예를 들면, 모바일 폰, 태블릿 컴퓨터 등)에 터치 디스플레이 기능이 통합되었다. 전자 디바이스의 디스플레이 표면은 가시 영역과 주변 영역을 포함하는데, 여기서 주변 영역은 일반적으로 가시 영역 주위에 배치되고 주변 영역의 범위는, 차폐 층이 전자 디바이스의 주변 영역에 대응하는 일부 주변 배선 및 컴포넌트를 차폐하도록, 차폐 층의 위치에 의해 정의된다.With the rapid development of technology, touch display functions have been integrated into various electronic devices (eg, mobile phones, tablet computers, etc.). A display surface of the electronic device includes a visible region and a peripheral region, wherein the peripheral region is generally disposed around the visible region and the extent of the peripheral region is such that the shielding layer encloses some peripheral wiring and components corresponding to the peripheral region of the electronic device. To shield, it is defined by the location of the shielding layer.

예를 들어, 전자 디바이스의 터치 패널의 주변 배선은, 보이게 되어 시각 효과에 영향을 미치는 것을 방지하기 위해, 주변 영역에 대응하게 배치된다. 추가적으로, 전자 디바이스는 일반적으로, 역시 주변 영역에 배치되고 주변 영역의 훨씬 더 많은 공간을 차지하는, 전면 렌즈, 광 센서 등과 같은, 광학 컴포넌트를 포함한다. 따라서, 주변 영역의 크기가 감소될 가능성이 없으며, 따라서 전자 디바이스는 좁은 베젤의 설계 요구사항을 충족시킬 수 없다. 게다가, 광학 컴포넌트의 배치가 메커니즘 간섭의 문제를 야기할 것이기 때문에, 터치 패널의 회로 레이아웃이 영향을 받을 것이다. 따라서, 전자 디바이스에 대한 좁은 베젤의 요구사항을 충족시키면서 터치 감지 기능을 유지할 수 있는 터치 패널을 어떻게 제공할지는 현재 개발 방향들 중 하나이다.For example, peripheral wiring of a touch panel of an electronic device is arranged corresponding to the peripheral area in order to prevent it from becoming visible and affecting a visual effect. Additionally, electronic devices generally include optical components, such as front lenses, optical sensors, etc., which are also disposed in the peripheral area and occupy much more space of the peripheral area. Therefore, the size of the peripheral area is not likely to be reduced, and thus the electronic device cannot meet the design requirement of a narrow bezel. Moreover, since the arrangement of the optical component will cause the problem of mechanism interference, the circuit layout of the touch panel will be affected. Accordingly, how to provide a touch panel capable of maintaining a touch sensing function while meeting the requirement of a narrow bezel for an electronic device is one of the current development directions.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 가시 영역 및 가시 영역의 적어도 하나의 측면에 주변 영역을 갖는 터치 센서는 기판 및 제1 터치 전극 층을 포함한다. 기판은 가시 영역에 대응하게 홀 영역을 갖고, 홀 영역은 제1 에지를 갖는다. 제1 터치 전극 층은 기판 상에 가시 영역에 대응하게 배치된다. 제1 터치 전극 층은 제1 방향을 따라 연장되는 제1 전극 라인을 포함하고, 제1 전극 라인은 제1 방향을 따라 홀 영역에 가까운 제1 부분과 홀 영역으로부터 멀리 떨어진 제2 부분을 갖는다. 제1 전극 라인의 제1 부분은 제1 전극 라인의 제2 부분에 연결되고, 제1 전극 라인의 제1 부분은 홀 영역의 윤곽을 따라 제1 에지에 인접하게 배치된다.According to some embodiments of the present disclosure, a touch sensor having a visible area and a peripheral area on at least one side of the visible area includes a substrate and a first touch electrode layer. The substrate has a hole region corresponding to the visible region, and the hole region has a first edge. The first touch electrode layer is disposed on the substrate to correspond to the visible region. The first touch electrode layer includes a first electrode line extending along a first direction, the first electrode line having a first portion close to the hole region and a second portion remote from the hole region along the first direction. A first portion of the first electrode line is connected to a second portion of the first electrode line, and the first portion of the first electrode line is disposed adjacent to the first edge along the contour of the hole region.

본 개시의 일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층은 매트릭스 및 매트릭스 내에 분포된 복수의 금속 나노구조체들을 포함한다.In some embodiments of the present disclosure, the first touch electrode layer includes a matrix and a plurality of metal nanostructures distributed within the matrix.

본 개시의 일부 실시예에서, 홀 영역은 제2 에지를 추가로 가지며, 제2 에지의 일 부분과 제1 에지의 일 부분은 홀 영역의 대향 측면에 위치한다.In some embodiments of the present disclosure, the hole area further has a second edge, and a portion of the second edge and a portion of the first edge are located on opposite sides of the hole area.

본 개시의 일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층은 제1 방향을 따라 연장되는 제2 전극 라인을 더 포함하고, 제2 전극 라인은 제1 전극 라인에 인접하여 제1 전극 라인으로부터 이격되게 배치되며, 제2 전극 라인은 제1 방향을 따라 홀 영역에 가까운 제1 부분과 홀 영역으로부터 멀리 떨어진 제2 부분을 갖고, 제2 전극 라인의 제1 부분은 제2 전극 라인의 제2 부분에 연결되고, 제2 전극 라인의 제1 부분은 홀 영역의 윤곽을 따라 제2 에지에 인접하게 배치된다.In some embodiments of the present disclosure, the first touch electrode layer further includes a second electrode line extending along the first direction, and the second electrode line is disposed adjacent to the first electrode line and spaced apart from the first electrode line and the second electrode line has a first portion close to the hole region and a second portion far away from the hole region along the first direction, the first portion of the second electrode line being connected to the second portion of the second electrode line and a first portion of the second electrode line is disposed adjacent to the second edge along the contour of the hole region.

본 개시의 일부 실시예에서, 제1 전극 라인의 제1 부분과 제2 전극 라인의 제1 부분 사이의 거리는 제1 전극 라인의 제2 부분과 제2 전극 라인의 제2 부분 사이의 거리보다 크다.In some embodiments of the present disclosure, the distance between the first portion of the first electrode line and the first portion of the second electrode line is greater than the distance between the second portion of the first electrode line and the second portion of the second electrode line .

본 개시의 일부 실시예에서, 제1 전극 라인의 제1 부분의 적어도 일 부분은 홀 영역에 의해 제2 전극 라인의 제1 부분의 적어도 일 부분으로부터 이격된다.In some embodiments of the present disclosure, at least a portion of the first portion of the first electrode line is spaced apart from at least a portion of the first portion of the second electrode line by a hole region.

본 개시의 일부 실시예에서, 제1 전극 라인의 제2 부분과 제2 전극 라인의 제2 부분은 실질적으로 평행하다.In some embodiments of the present disclosure, the second portion of the first electrode line and the second portion of the second electrode line are substantially parallel.

본 개시의 일부 실시예에서, 제1 전극 라인의 제1 부분과 홀 영역의 제1 에지 사이의 거리는 100 μm 내지 400 μm이고, 제2 전극 라인의 제1 부분과 홀 영역의 제2 에지 사이의 거리는 100 μm 내지 400 μm이다.In some embodiments of the present disclosure, the distance between the first portion of the first electrode line and the first edge of the hole region is 100 μm to 400 μm, and the distance between the first portion of the second electrode line and the second edge of the hole region is The distance is between 100 μm and 400 μm.

본 개시의 일부 실시예에서, 제1 전극 라인의 제1 부분과 제1 전극 라인의 제2 부분의 연결부는 둥근 모서리를 갖고, 제2 전극 라인의 제1 부분과 제2 전극 라인의 제2 부분의 연결부는 둥근 모서리를 갖는다.In some embodiments of the present disclosure, the connecting portion of the first portion of the first electrode line and the second portion of the first electrode line has a rounded corner, and the first portion of the second electrode line and the second portion of the second electrode line of the joint has rounded corners.

본 개시의 일부 실시예에서, 제1 전극 라인은 일정 간격으로 배치되는 복수의 분기 라인들을 포함하고, 분기 라인들은 평행하게 연결된다.In some embodiments of the present disclosure, the first electrode line includes a plurality of branch lines disposed at regular intervals, and the branch lines are connected in parallel.

본 개시의 일부 실시예에서, 분기 라인들이 동시에 제1 방향을 따라 홀 영역과 만날 때, 분기 라인들은 홀 영역의 윤곽을 따라 홀 영역의 제1 에지에 인접하도록 함께 결합된다.In some embodiments of the present disclosure, when the branch lines meet the hole area along the first direction at the same time, the branch lines are joined together to be adjacent to the first edge of the hole area along the contour of the hole area.

본 개시의 일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층의 제1 전극 라인은 제3 부분을 추가로 갖고, 제1 전극 라인의 제2 부분과 제1 전극 라인의 제3 부분은 제1 전극 라인의 분기 라인들 중 2개를 구성하며, 제1 전극 라인의 제1 부분이 분기 라인들이 함께 결합되는 부분을 구성하도록, 제3 부분이 제1 전극 라인의 제1 부분에 연결된다.In some embodiments of the present disclosure, the first electrode line of the first touch electrode layer further has a third portion, and the second portion of the first electrode line and the third portion of the first electrode line are of the first electrode line. A third portion is connected to the first portion of the first electrode line, constituting two of the branch lines, such that the first portion of the first electrode line constitutes a portion to which the branch lines are coupled together.

본 개시의 일부 실시예에서, 터치 센서는 제2 터치 전극 층을 더 포함하고, 기판은 제1 표면 및 제1 표면으로부터 멀어지는 쪽을 향해 있는 제2 표면을 가지며, 제1 터치 전극 층과 제2 터치 전극 층은 제각기 기판의 제1 표면과 제2 표면 상에 배치되고; 또는 제1 터치 전극 층과 제2 터치 전극 층은 기판의 제1 표면 또는 제2 표면의 측면 상에 배치되며, 절연 층에 의해 전기적으로 절연된다.In some embodiments of the present disclosure, the touch sensor further comprises a second touch electrode layer, the substrate having a first surface and a second surface facing away from the first surface, the first touch electrode layer and the second the touch electrode layer is disposed on the first surface and the second surface of the substrate, respectively; Alternatively, the first touch electrode layer and the second touch electrode layer are disposed on a side surface of the first surface or the second surface of the substrate, and are electrically insulated by the insulating layer.

본 개시의 일부 실시예에서, 제2 터치 전극 층은 제2 방향을 따라 연장되는 제5 전극 라인을 포함하고, 제2 방향은 제1 방향에 수직이며, 제5 전극 라인은 제2 방향을 따라 홀 영역에 가까운 제1 부분과 홀 영역으로부터 멀리 떨어진 제2 부분을 갖고, 제5 전극 라인의 제1 부분은 제5 전극 라인의 제2 부분에 연결되며, 제5 전극 라인의 제1 부분은 홀 영역의 윤곽을 따라 홀 영역의 에지에 인접하게 배치된다.In some embodiments of the present disclosure, the second touch electrode layer includes a fifth electrode line extending along a second direction, the second direction being perpendicular to the first direction, and the fifth electrode line extending along the second direction having a first portion close to the hole region and a second portion remote from the hole region, wherein the first portion of the fifth electrode line is connected to the second portion of the fifth electrode line, and the first portion of the fifth electrode line is the hole disposed adjacent to the edge of the hole area along the contour of the area.

본 개시의 전술한 실시예에 따르면, 터치 디스플레이 모듈은 디스플레이 패널 및 디스플레이 패널 상의 전술한 터치 센서를 포함한다.According to the above-described embodiment of the present disclosure, the touch display module includes a display panel and the above-described touch sensor on the display panel.

본 개시의 일부 실시예에서, 터치 디스플레이 모듈은 터치 센서 상에 배치되는 커버를 더 포함한다.In some embodiments of the present disclosure, the touch display module further includes a cover disposed on the touch sensor.

본 개시의 일부 실시예에서, 터치 디스플레이 모듈은 디스플레이 패널과 터치 센서 사이 또는 터치 센서와 커버 사이에 배치되는 편광 층을 더 포함한다.In some embodiments of the present disclosure, the touch display module further includes a polarization layer disposed between the display panel and the touch sensor or between the touch sensor and the cover.

본 개시의 일부 실시예에서, 디스플레이 패널은 홀 영역에 대응하는 홀(hole)을 갖는다.In some embodiments of the present disclosure, the display panel has a hole corresponding to the hole area.

본 개시의 일부 실시예에서, 터치 디스플레이 모듈은 홀에 수용되는 광학 컴포넌트를 더 포함한다.In some embodiments of the present disclosure, the touch display module further includes an optical component accommodated in the hall.

본 개시의 전술한 실시예에 따르면, 본 개시의 터치 센서가 가시 영역에 대응하게 배치되는 홀 영역을 갖기 때문에, 터치 센서가 광학 기능을 갖는 터치 디스플레이 모듈에 통합될 때, 터치 디스플레이 모듈의 광학 컴포넌트(예를 들면, 렌즈)가 홀 영역에 대응하게 배치될 수 있다. 그 결과, 광학 컴포넌트를 배치하기 위한 주변 영역에서의 공간이 절감될 수 있고, 터치 디스플레이 모듈에 대한 좁은 베젤의 설계 요구사항이 추가로 달성된다. 추가적으로, 터치 디스플레이 모듈의 광학 컴포넌트가 홀 영역에 대응하게 배치되기 때문에, 터치 센서의 주변 영역에 주변 배선을 배열하는 것이 광학 컴포넌트의 위치를 피할 필요가 없으며, 주변 영역의 굴곡이 광학 컴포넌트에 의해 제한되지 않는다. 따라서, 터치 센서는 다양한 굴곡 설계를 달성할 수 있다. 한편, 터치 전극의 배열과 터치 전극 층에서의 전극 패턴의 설계를 통해, 터치 전극은 홀 영역을 우회하면서 양호한 터치 기능을 유지할 수 있다.According to the above-described embodiment of the present disclosure, since the touch sensor of the present disclosure has a hall area disposed corresponding to the visible area, when the touch sensor is integrated into a touch display module having an optical function, the optical component of the touch display module (For example, a lens) may be disposed to correspond to the hole area. As a result, the space in the peripheral area for arranging the optical component can be saved, and the design requirement of a narrow bezel for the touch display module is further achieved. Additionally, since the optical component of the touch display module is disposed to correspond to the hall region, arranging the peripheral wiring in the peripheral region of the touch sensor does not need to avoid the position of the optical component, and the curvature of the peripheral region is limited by the optical component doesn't happen Thus, the touch sensor can achieve various curvature designs. On the other hand, through the arrangement of the touch electrodes and the design of the electrode pattern in the touch electrode layer, the touch electrode can maintain a good touch function while bypassing the hole area.

다음과 같은 첨부 도면을 참조하면서, 실시예에 대한 이하의 상세한 설명을 읽는 것에 의해 본 개시가 더 완전히 이해될 수 있다.
도 1은 본 개시의 일부 실시예에 따른 터치 센서를 예시한 평면도이다;
도 2a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 1에서의 터치 센서의 영역(R1)을 예시한 부분 확대도이다;
도 2b 및 도 2c는 본 개시의 일부 다른 실시예에 따른 도 1에서의 터치 센서의 영역(R1)을 예시한 부분 확대도이다;
도 3은 본 개시의 일부 다른 실시예에 따른 터치 센서를 예시한 평면도이다;
도 4는 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 3에서의 터치 센서의 영역(R2)을 예시한 부분 확대도이다;
도 5a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 터치 디스플레이 모듈을 예시한 단면도이다;
도 5b는 본 개시의 일부 다른 실시예에 따른 터치 디스플레이 모듈을 예시한 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present disclosure may be more fully understood by reading the following detailed description of embodiments, with reference to the accompanying drawings as follows.
1 is a plan view illustrating a touch sensor in accordance with some embodiments of the present disclosure;
2A is a partially enlarged view illustrating a region R1 of the touch sensor in FIG. 1 according to some embodiments of the present disclosure;
2B and 2C are partially enlarged views illustrating a region R1 of the touch sensor in FIG. 1 according to some other embodiments of the present disclosure;
3 is a plan view illustrating a touch sensor according to some other embodiments of the present disclosure;
4 is a partially enlarged view illustrating a region R2 of the touch sensor in FIG. 3 in accordance with some embodiments of the present disclosure;
5A is a cross-sectional view illustrating a touch display module according to some embodiments of the present disclosure;
5B is a cross-sectional view illustrating a touch display module according to some other embodiments of the present disclosure.

그 예가 첨부 도면에 예시된 본 개시의 실시예에 대해 이제 상세하게 언급될 것이다. 가능한 한, 도면 및 설명에서 동일하거나 유사한 부분을 지칭하기 위해 동일한 참조 번호가 사용된다.Reference will now be made in detail to embodiments of the present disclosure, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. Wherever possible, the same reference numbers are used in the drawings and description to refer to the same or like parts.

"제1", "제2" 및 "제3"이라는 용어가 본 명세서에서 다양한 요소, 컴포넌트, 영역, 층 및/또는 부분을 설명하기 위해 사용될 수 있지만, 이러한 요소, 컴포넌트, 영역, 층 및/또는 부분이 이러한 용어에 의해 제한되어서는 안된다는 것을 이해해야 한다. 이러한 용어는 하나의 요소, 컴포넌트, 영역, 층 또는 부분을 다른 요소, 컴포넌트, 영역, 층 또는 부분과 구별하는 데만 사용된다. 따라서, 본 명세서에서의 교시를 벗어나지 않으면서, 아래에서 기술되는 "제1 요소", "제1 컴포넌트", "제1 영역", "제1 층" 또는 "제1 부분"은 제2 요소, 제2 컴포넌트, 제2 영역, 제2 층, 또는 제2 부분이라고도 지칭될 수 있다.Although the terms “first,” “second,” and “third” may be used herein to describe various elements, components, regions, layers and/or portions, such elements, components, regions, layers, and/or or parts should not be limited by these terms. These terms are only used to distinguish one element, component, region, layer or portion from another element, component, region, layer or portion. Thus, without departing from the teachings herein, a “first element”, “first component”, “first region”, “first layer” or “first portion” described below means a second element, It may also be referred to as a second component, a second region, a second layer, or a second portion.

추가로, 도면에 도시된 바와 같이, 하나의 요소와 다른 요소 사이의 관계를 기술하기 위해 "하부(lower)" 또는 "하단(bottom)" 및 "상부(upper)" 또는 "상단(top)"과 같은 상대적 용어가 본 명세서에서 사용될 수 있다. 상대적 용어가 도면에 도시된 것 이외의 디바이스의 상이한 배향을 포함하도록 의도되어 있음을 이해해야 한다. 예를 들어, 하나의 도면에서의 디바이스가 뒤집힌 경우, 다른 요소의 "하부" 측면 상에 있는 것으로 기술된 요소가 다른 요소의 "상부" 측면 상에 배향될 것이다. 따라서, 예시적인 용어 "하부"는, 도면의 특정 배향에 따라, "하부"와 "상부"의 배향을 포함할 수 있다. 유사하게, 하나의 도면에서의 디바이스가 뒤집힌 경우, 다른 요소 "아래에"로 기술된 요소가 다른 요소 "위에" 배향될 것이다. 따라서, 예시적인 용어 "아래에"는 "위에"와 "아래에"의 배향을 포함할 수 있다.Additionally, as shown in the figures, “lower” or “bottom” and “upper” or “top” to describe the relationship between one element and another. Relative terms such as may be used herein. It should be understood that the relative terms are intended to encompass different orientations of devices other than those shown in the figures. For example, if the device in one figure is turned over, elements described as being on the "lower" side of the other element will be oriented on the "upper" side of the other element. Accordingly, the exemplary term “lower” may include orientations of “lower” and “top”, depending on the particular orientation of the figure. Similarly, if the device in one figure is turned over, elements described as "below" the other element will be oriented "above" the other element. Thus, the exemplary term “below” may include orientations of “above” and “below”.

본 개시는 가시 영역에 대응하게 배치되는 홀 영역을 갖는 터치 센서 및 터치 센서와 통합된 터치 디스플레이 모듈을 제공한다. 터치 센서가 터치 디스플레이 모듈에 통합될 때, 터치 디스플레이 모듈의 광학 컴포넌트는 홀 영역에 대응하게 배치될 수 있다. 따라서, 터치 디스플레이 모듈에 대한 좁은 베젤의 설계 요구사항이 추가로 달성되도록, 광학 컴포넌트를 배치하기 위한 주변 영역에서의 공간이 절감될 수 있다. 추가적으로, 터치 전극의 배열과 터치 전극 층에서의 전극 패턴의 설계를 통해, 터치 전극은 홀 영역을 우회하면서 양호한 터치 기능을 유지할 수 있다.The present disclosure provides a touch sensor having a hall area disposed to correspond to a visible area, and a touch display module integrated with the touch sensor. When the touch sensor is integrated into the touch display module, the optical component of the touch display module may be disposed to correspond to the hall area. Accordingly, the space in the peripheral area for arranging the optical component can be saved so that the design requirement of the narrow bezel for the touch display module is further achieved. Additionally, through the arrangement of the touch electrodes and the design of the electrode pattern in the touch electrode layer, the touch electrode can bypass the hole area while maintaining a good touch function.

도 1은 본 개시의 일부 실시예에 따른 터치 센서(100)를 예시한 평면도이다. 터치 센서(100)는 기판(110), 제1 터치 전극 층(120) 및 주변 회로 층(130)을 포함한다. 터치 센서(100)는 가시 영역(VA) 및 주변 영역(PA)을 가지며, 주변 영역(PA)은 가시 영역(VA)의 측면 상에 배치된다. 예를 들어, 주변 영역(PA)은 가시 영역(VA) 주위(즉, 우측, 좌측, 상부, 및 하부 측면을 포함함)에 배치되는 프레임 형상의 영역일 수 있다. 다른 예로서, 주변 영역(PA)은 가시 영역(VA)의 좌측 및 하부 측면 상에 배치되는 L자 형상의 영역일 수 있다. 일부 실시예에서, 기판(110)은 제1 터치 전극 층(120) 및 주변 회로 층(130)을 지지하도록 구성되며, 예를 들어, 강성 투명 기판 또는 가요성 투명 기판일 수 있다. 구체적으로, 기판(110)의 재료는 유리, 아크릴, 폴리염화비닐, 시클로올레핀 중합체, 시클로올레핀 공중합체, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 무색 폴리이미드 또는 이들의 조합과 같은 투명한 재료를 포함하지만 이에 제한되지 않는다.1 is a plan view illustrating a touch sensor 100 according to some embodiments of the present disclosure. The touch sensor 100 includes a substrate 110 , a first touch electrode layer 120 , and a peripheral circuit layer 130 . The touch sensor 100 has a visible area VA and a peripheral area PA, and the peripheral area PA is disposed on a side surface of the visible area VA. For example, the peripheral area PA may be a frame-shaped area disposed around the visible area VA (ie, including right, left, upper, and lower sides). As another example, the peripheral area PA may be an L-shaped area disposed on left and lower side surfaces of the visible area VA. In some embodiments, the substrate 110 is configured to support the first touch electrode layer 120 and the peripheral circuit layer 130 , and may be, for example, a rigid transparent substrate or a flexible transparent substrate. Specifically, the material of the substrate 110 is glass, acrylic, polyvinyl chloride, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, colorless polyimide, or a combination thereof. transparent materials such as, but not limited to.

일부 실시예에서, 기판(110)에는 가시 영역(VA)에 대응하게 홀 영역(H)이 제공되어 있다. 본 개시의 터치 센서(100)가 광학 기능을 갖는 디바이스(예를 들면, 디스플레이, 휴대폰, 또는 태블릿 컴퓨터)에 통합될 때, 디바이스의 광학 컴포넌트는 홀 영역(H)에 대응하는 위치에 설치될 수 있다. 즉, 광학 컴포넌트를 설치하기 위한 디바이스의 주변 영역(PA)에 대응하는 공간을 확보할 필요가 없어, 이에 의해 디바이스에 대한 좁은 베젤의 설계 요구사항을 충족시킨다. 광학 컴포넌트가 주변 영역(PA)에 대응하게 배치되는 종래의 디바이스와 비교하여, 본 개시의 디바이스의 베젤 크기가 약 150% 이상만큼 감소될 수 있다(예를 들면, 주변 영역(PA)의 폭이 감소될 수 있다). 상세하게는, 본 개시의 터치 센서(100)가 광학 기능을 갖는 디바이스에 통합될 때, 디바이스의 주변 영역(PA)의 폭이 약 1 mm 내지 3 mm이도록 설계될 수 있다. 본 개시의 기판(110)의 홀 영역(H)이 광학 컴포넌트에 대응하는 중실 영역(solid area)일 수 있거나, 또는 광학 컴포넌트에 대응하는 관통 홀일 수 있음을 이해해야 한다. 홀 영역(H)의 특정 세부사항 및 특징은 이하의 설명에서 더 상세히 기술될 것이다.In some embodiments, a hole area H is provided in the substrate 110 to correspond to the visible area VA. When the touch sensor 100 of the present disclosure is integrated into a device having an optical function (eg, a display, a mobile phone, or a tablet computer), the optical component of the device may be installed at a position corresponding to the hall area H. have. That is, there is no need to secure a space corresponding to the peripheral area PA of the device for installing the optical component, thereby satisfying the design requirement of a narrow bezel for the device. Compared to a conventional device in which the optical component is disposed to correspond to the peripheral area PA, the bezel size of the device of the present disclosure can be reduced by about 150% or more (eg, the width of the peripheral area PA is may be reduced). In detail, when the touch sensor 100 of the present disclosure is integrated into a device having an optical function, the width of the peripheral area PA of the device may be designed to be about 1 mm to 3 mm. It should be understood that the hole area H of the substrate 110 of the present disclosure may be a solid area corresponding to an optical component, or may be a through hole corresponding to an optical component. Specific details and characteristics of the hole region H will be described in more detail in the description below.

일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층(120)은 기판(110) 상에 가시 영역(VA)에 대응하게 배치되고, 주변 회로 층(130)은 기판(110) 상에 주변 영역(PA)에 대응하게 배치된다. 일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층(120)은 패터닝된 후에 제1 방향(D1)을 따라 연장되는 복수의 스트립 형상의 전극 라인(L)을 포함할 수 있고, 스트립 형상의 전극 라인(L)은 제2 방향(D2)을 따라 일정 간격으로 배치될 수 있으며, 여기서 제1 방향(D1)은 제2 방향(D2)에 수직이다. 추가적으로, 제1 터치 전극 층(120)은 주변 영역(PA) 내로 더 연장되고 주변 회로 층(130)과 접촉하여 전기적 연결을 형성할 수 있다.In some embodiments, the first touch electrode layer 120 is disposed to correspond to the visible area VA on the substrate 110 , and the peripheral circuit layer 130 is disposed in the peripheral area PA on the substrate 110 . placed correspondingly. In some embodiments, the first touch electrode layer 120 may include a plurality of strip-shaped electrode lines L extending along the first direction D1 after being patterned, and the strip-shaped electrode lines L ) may be arranged at regular intervals along the second direction D2 , wherein the first direction D1 is perpendicular to the second direction D2 . Additionally, the first touch electrode layer 120 may further extend into the peripheral area PA and contact the peripheral circuit layer 130 to form an electrical connection.

일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층(120)은 매트릭스 및 매트릭스 내에 분포된 복수의 금속 나노와이어(금속 나노구조체라고도 함)를 포함할 수 있다. 매트릭스는 금속 나노와이어에 특정 화학적, 기계적 및 광학적 속성을 부여하기 위해 중합체 또는 그 혼합물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 매트릭스는 금속 나노와이어와 기판(110) 사이의 양호한 접착을 제공할 수 있다. 다른 예로서, 매트릭스는 또한 금속 나노와이어에 대한 양호한 기계적 강도를 제공할 수 있다. 일부 실시예에서, 금속 나노와이어가 추가적인 내스크래치성/내마모성 표면 보호물을 가져, 이에 의해 제1 터치 전극 층(120)의 표면 강도를 개선시키도록, 매트릭스가 특정 중합체를 포함할 수 있다. 전술한 특정 중합체는, 예를 들어, 폴리아크릴레이트, 에폭시 수지, 폴리우레탄, 폴리실록산, 폴리실란, 폴리(실리콘-아크릴산) 또는 이들의 조합일 수 있다. 일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층(120)의 자외선 내성을 개선시켜 그의 서비스 수명을 연장시키기 위해, 매트릭스는 계면활성제, 가교제, 안정제(예를 들어, 산화방지제 또는 자외선 안정제를 포함하지만 이에 제한되지 않음), 중합 억제제, 또는 전술한 성분들 중 임의의 것의 조합을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the first touch electrode layer 120 may include a matrix and a plurality of metal nanowires (also referred to as metal nanostructures) distributed within the matrix. The matrix may include polymers or mixtures thereof to impart specific chemical, mechanical and optical properties to the metal nanowires. For example, the matrix can provide good adhesion between the metal nanowires and the substrate 110 . As another example, the matrix can also provide good mechanical strength for the metal nanowires. In some embodiments, the matrix may include certain polymers such that the metal nanowires have an additional scratch-resistant/abrasion-resistant surface protection, thereby improving the surface strength of the first touch electrode layer 120 . The specific polymers described above may be, for example, polyacrylates, epoxy resins, polyurethanes, polysiloxanes, polysilanes, poly(silicone-acrylic acid), or combinations thereof. In some embodiments, in order to improve the UV resistance of the first touch electrode layer 120 to extend its service life, the matrix includes, but is not limited to, surfactants, crosslinking agents, stabilizers (eg, antioxidants or UV stabilizers). not included), a polymerization inhibitor, or a combination of any of the foregoing.

본 명세서에서 사용되는 용어 "금속 나노와이어"가 다수의 금속 원소, 금속 합금 또는 금속 화합물(금속 산화물을 포함함)을 포함하는 금속 와이어의 집합체를 지칭하는 집합 명사이고, 그 안에 포함된 금속 나노와이어의 수가 본 개시의 범위에 영향을 미치지 않는다는 것을 이해해야 한다. 일부 실시예에서, 단일 금속 나노와이어의 단면 크기(예를 들어, 단면의 직경)는 500 nm 미만, 바람직하게는 100 nm 미만, 더욱 바람직하게는 50 nm 미만일 수 있다. 일부 실시예에서, 금속 나노와이어는 큰 종횡비(즉, 단면의 길이:직경)를 갖는다. 구체적으로, 금속 나노와이어의 종횡비는 10 내지 100,000일 수 있다. 더 상세하게는, 금속 나노와이어의 종횡비는 10 초과, 바람직하게는 50 초과, 더욱 바람직하게는 100 초과일 수 있다. 더욱이, 실크, 섬유 또는 튜브와 같은 다른 용어가 또한 전술한 단면 치수 및 종횡비를 가지며, 이것도 또한 본 개시의 범위 내에 속한다.As used herein, the term "metal nanowire" is a collective noun that refers to an aggregate of metal wires including a plurality of metal elements, metal alloys or metal compounds (including metal oxides), and metal nanowires contained therein. It should be understood that the number of does not affect the scope of the present disclosure. In some embodiments, the cross-sectional size (eg, the diameter of the cross-section) of a single metal nanowire may be less than 500 nm, preferably less than 100 nm, more preferably less than 50 nm. In some embodiments, the metal nanowires have a large aspect ratio (ie, length of cross-section: diameter). Specifically, the aspect ratio of the metal nanowires may be 10 to 100,000. More specifically, the aspect ratio of the metal nanowires may be greater than 10, preferably greater than 50, more preferably greater than 100. Moreover, other terms such as silk, fiber, or tube also have the cross-sectional dimensions and aspect ratios described above, which are also within the scope of this disclosure.

도 2a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 1에서의 터치 센서(100)의 영역(R1)을 예시한 부분 확대도이다. 도 1 및 도 2a를 참조한다. 일부 실시예에서, 전극 라인(L)은 제1 방향(D1)을 따라 가시 영역(VA)의 상부 경계로부터 가시 영역(VA)의 하부 경계까지 연장될 수 있으며, 제2 방향(D2)을 따라 가시 영역(VA)에 대응하게 일정 간격으로 배치된다. 일부 실시예에서, 더 낮은 라인 저항과 더 높은 광 투과율을 제공하기 위해, 각각의 전극 라인(L)의 라인 폭은 1 μm 내지 200 μm일 수 있고, 인접한 전극 라인(L) 사이의 거리(즉, 라인 피치)는 10 μm 내지 400 μm일 수 있다. 위에서 언급된 바와 같이, 터치 센서(100)의 기판(110)이 가시 영역(VA)에 대응하게 홀 영역(H)을 갖기 때문에, 홀 영역(H)에 인접해 있는 전극 라인(L)은 홀 영역(H)과 양호한 호환성을 갖도록 구성될 수 있다. 더 상세하게는, 홀 영역(H)에 인접해 있는 전극 라인(L)은 특히 홀 영역(H)을 차단하는 것을 방지하도록 구성될 수 있고, 또한 특히 설계에 의해 요구되는 라인 저항을 유지하도록 구성될 수 있다. 각각의 전극 라인(L)의 특정 구성 및 그러한 구성과 전술한 효과 간의 상관관계는 이하의 설명에서 더 상세히 기술될 것이다.FIG. 2A is a partially enlarged view illustrating a region R1 of the touch sensor 100 in FIG. 1 according to some embodiments of the present disclosure. See Figures 1 and 2a. In some embodiments, the electrode line L may extend from an upper boundary of the visible area VA to a lower boundary of the visible area VA in the first direction D1 and in the second direction D2. They are arranged at regular intervals to correspond to the visible area VA. In some embodiments, to provide lower line resistance and higher light transmittance, the line width of each electrode line L may be between 1 μm and 200 μm, and the distance between adjacent electrode lines L (i.e., , line pitch) may be 10 μm to 400 μm. As mentioned above, since the substrate 110 of the touch sensor 100 has the hole area H corresponding to the visible area VA, the electrode line L adjacent to the hole area H is a hole. It may be configured to have good compatibility with the region H. More specifically, the electrode line L adjacent to the hole region H may be particularly configured to prevent blocking the hole region H, and also particularly configured to maintain the line resistance required by the design. can be The specific configuration of each electrode line L and the correlation between such configuration and the aforementioned effects will be described in more detail in the following description.

일부 실시예에서, 도 2a의 구성에서와 같이, 제1 터치 전극 층(120)은 홀 영역(H)에 인접해 있는 제1 전극 라인(L1)을 포함한다. 일부 실시예에서, 제1 전극 라인(L1)은 홀 영역(H)에 더 가까운 제1 부분(L11) 및 제1 방향(D1)을 따라 홀 영역(H)으로부터 더 멀리 떨어진 제2 부분(L12)을 가지며, 제1 부분(L11)은 제2 부분(L12)에 연결된다. 더 상세하게는, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)은 홀 영역(H)의 제1 에지(S1)에 바로 인접해 있고 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 제1 에지(S1)에 인접해 있는 반면, 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12)은 홀 영역(H)의 제1 에지(S1)에 바로 인접해 있지 않고 실질적으로 직선이다. 이후부터 사용되는 "서로 바로 인접하는 2개의 요소(또는 2개의 부분)"이 2개의 요소(또는 2개의 부분) 사이에 다른 요소(또는 다른 부분)가 없음을 지칭한다는 점에 유의해야 한다. 일부 실시예에서, 제1 전극 라인(L1)은 제1 방향(D1)을 따라 제1 부분(L11)의 2개의 단부에 제각기 연결되는 2개의 제2 부분(L12)을 가질 수 있고, 2개의 제2 부분(L12)은 제1 방향(D1)을 따라 서로 실질적으로 정렬된다.In some embodiments, as in the configuration of FIG. 2A , the first touch electrode layer 120 includes the first electrode line L1 adjacent to the hole region H. In some embodiments, the first electrode line L1 includes a first portion L11 closer to the hole region H and a second portion L12 further away from the hole region H along the first direction D1. ), and the first part L11 is connected to the second part L12. In more detail, the first portion L11 of the first electrode line L1 is immediately adjacent to the first edge S1 of the hole region H and follows the contour of the hole region H. ), while the second portion L12 of the first electrode line L1 is not directly adjacent to the first edge S1 of the hole region H and is substantially straight to be. It should be noted that the hereinafter used "two elements (or two parts) immediately adjacent to each other" refers to no other element (or other part) between the two elements (or two parts). In some embodiments, the first electrode line L1 may have two second portions L12 respectively connected to two ends of the first portion L11 along the first direction D1, and the two The second portions L12 are substantially aligned with each other in the first direction D1 .

일부 실시예에서, 제1 전극 라인(L1)은 일정 간격으로 배치되는 복수의 분기 라인을 포함하고, 분기 라인은 평행하게 연결된다. 구체적으로, 제1 전극 라인(L1)은 제3 부분(L13)을 추가로 갖고, 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12) 및 제3 부분(L13)은 제1 전극 라인(L1)의 분기 라인들 중 2개를 구성한다. 즉, 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12)과 제3 부분(L13)은 서로 평행하게 배치되고 서로 이격되어 있으며, 평행하게 연결된다(즉, 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12) 및 제3 부분(L13))은 동일한 주변 라인에 연결된다). 한편, 분기 라인들이 제1 방향(D1)을 따라 홀 영역(H)과 동시에 만날 때, 분기 라인들은 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 제1 에지(S1)에 인접하도록 함께 결합된다. 구체적으로, 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12)과 제3 부분(L13)이 홀 영역(H)과 동시에 만날 때, 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12)과 제3 부분(L13)이 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 제1 에지(S1)에 인접하도록 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)에 함께 결합될 수 있도록, 제1 전극 라인(L1)의 제3 부분(L13)이 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)에 연결된다. 환언하면, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)은 분기 라인들이 함께 결합되는 부분을 구성한다. 일부 실시예에서, 제1 전극 라인(L1)은 제1 방향(D1)을 따라 제1 부분(L11)의 2개의 단부에 제각기 연결되는 2개의 제3 부분(L13)을 가질 수 있고, 2개의 제3 부분(L13)은 제1 방향(D1)을 따라 서로 실질적으로 정렬된다.In some embodiments, the first electrode line L1 includes a plurality of branch lines disposed at regular intervals, and the branch lines are connected in parallel. Specifically, the first electrode line L1 further has a third portion L13 , and the second portion L12 and the third portion L13 of the first electrode line L1 are connected to the first electrode line L1 . ) constitutes two of the branch lines. That is, the second portion L12 and the third portion L13 of the first electrode line L1 are disposed parallel to each other, spaced apart from each other, and connected in parallel (ie, the second portion L12 of the first electrode line L1 ). The second part L12 and the third part L13) are connected to the same peripheral line). Meanwhile, when the branch lines meet the hole region H along the first direction D1 at the same time, the branch lines are adjacent to the first edge S1 of the hole region H along the contour of the hole region H. are joined together Specifically, when the second portion L12 and the third portion L13 of the first electrode line L1 meet the hole region H at the same time, the second portion L12 of the first electrode line L1 and The third portion L13 may be coupled together to the first portion L11 of the first electrode line L1 so that the third portion L13 is adjacent to the first edge S1 of the hole area H along the contour of the hole area H. Thus, the third portion L13 of the first electrode line L1 is connected to the first portion L11 of the first electrode line L1. In other words, the first portion L11 of the first electrode line L1 constitutes a portion in which the branch lines are coupled together. In some embodiments, the first electrode line L1 may have two third portions L13 respectively connected to two ends of the first portion L11 along the first direction D1, and the two The third portions L13 are substantially aligned with each other in the first direction D1 .

일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층(120)은 홀 영역(H)에 인접해 있는 제2 전극 라인(L2)을 더 포함한다. 제2 전극 라인(L2)은 또한 홀 영역(H)에 더 가까운 제1 부분(L21) 및 제1 방향(D1)을 따라 홀 영역(H)으로부터 더 멀리 떨어진 제2 부분(L22)을 가지며, 제1 부분(L21)은 제2 부분(L22)에 연결된다. 일부 실시예에서, 홀 영역(H)은 제2 에지(S2)를 추가로 가지며, 제2 에지(S2)의 일 부분과 제1 에지(S1)의 일 부분은 홀 영역(H)의 대향 측면에 위치하며, 여기서 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)은 홀 영역(H)의 제2 에지(S2)에 바로 인접해 있고 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 제2 에지(S2)에 인접해 있는 반면, 제2 전극 라인(L2)의 제2 부분(L22)은 홀 영역(H)의 제2 에지(S2)에 바로 인접해 있지 않고 실질적으로 직선이다. 환언하면, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)의 적어도 일 부분은 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)의 적어도 일 부분으로부터 홀 영역(H)만큼 이격된다. 일부 실시예에서, 제2 전극 라인(L2)의 제2 부분(L22)은 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12)과 실질적으로 평행하다(예를 들면, 제2 전극 라인(L2)의 제2 부분(L22)과 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12)은 제1 방향(D1)을 따라 서로 평행하다). 이상에 기초하여, 제2 전극 라인(L2)과 제1 전극 라인(L1)은 홀 영역(H) 및 홀 영역(H)에 대응하게 배치되는 광학 컴포넌트를 차단하는 것을 방지하기 위해 홀 영역(H)을 우회할 수 있다.In some embodiments, the first touch electrode layer 120 further includes a second electrode line L2 adjacent to the hole region H. The second electrode line L2 also has a first portion L21 closer to the hole region H and a second portion L22 further away from the hole region H along the first direction D1, The first part L21 is connected to the second part L22. In some embodiments, the hole region H further has a second edge S2, and a portion of the second edge S2 and a portion of the first edge S1 are opposite sides of the hole region H. where the first portion L21 of the second electrode line L2 is immediately adjacent to the second edge S2 of the hole region H and follows the contour of the hole region H ), while the second portion L22 of the second electrode line L2 is not directly adjacent to the second edge S2 of the hole region H and is substantially straight to be. In other words, at least a portion of the first portion L11 of the first electrode line L1 is spaced apart from at least a portion of the first portion L21 of the second electrode line L2 by the hole region H. In some embodiments, the second portion L22 of the second electrode line L2 is substantially parallel to the second portion L12 of the first electrode line L1 (eg, the second electrode line L2). ) and the second portion L12 of the first electrode line L1 are parallel to each other along the first direction D1). Based on the above, the second electrode line L2 and the first electrode line L1 are formed in the hole region H and the hole region H in order to prevent blocking the optical component disposed corresponding to the hole region H. ) can be bypassed.

일부 실시예에서, 제2 전극 라인(L2)은 일정 간격으로 배치되는 복수의 분기 라인을 포함하고, 분기 라인은 평행하게 연결된다. 구체적으로, 제2 전극 라인(L2)은 제3 부분(L23)을 추가로 가지며, 제1 부분(L21)은 제2 전극 라인(L2)의 제2 부분(L22)에 연결되어 제2 전극 라인(L2)의 분기 라인들 중 하나를 구성하고, 제3 부분(L23)은 제2 전극 라인(L2)의 분기 라인들 중 다른 하나를 구성하며, 여기서 2개의 분기 라인은 일정 간격으로 배치된다. 제2 전극 라인(L2)의 2개의 분기 라인이 제1 방향(D1)을 따라 연장되는 동안 홀 영역(H)과 동시에 만나지 않기 때문에, 제2 전극 라인(L2)의 2개의 분기 라인이 함께 하나로 결합될 필요가 없음에 유의해야 한다.In some embodiments, the second electrode line L2 includes a plurality of branch lines disposed at regular intervals, and the branch lines are connected in parallel. Specifically, the second electrode line L2 further has a third portion L23, and the first portion L21 is connected to the second portion L22 of the second electrode line L2 to form a second electrode line. One of the branch lines of L2 is constituted, and the third part L23 constitutes the other one of the branch lines of the second electrode line L2, where the two branch lines are arranged at regular intervals. Since the two branch lines of the second electrode line L2 do not meet simultaneously with the hole region H while extending along the first direction D1, the two branch lines of the second electrode line L2 become one together. It should be noted that they do not need to be combined.

일부 실시예에서, 제2 방향(D2)을 따른 홀 영역(H)의 최대 폭(W)은 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12)과 제2 전극 라인(L2)의 제2 부분(L22) 사이의 거리(A2)보다 크다. 따라서, 제1 전극 라인(L1)과 제2 전극 라인(L2)이 홀 영역(H)을 우회할 때, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)과 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21) 사이의 거리(A1)가 제1 전극 라인(L1)의 제2 부분(L12)과 제2 전극 라인(L2)의 제2 부분(L22) 사이의 거리(A2)보다 크다. 도 2a의 실시예에서, 홀 영역(H)이 원형 형상을 가지기 때문에, 홀 영역(H)의 최대 폭(W)은 원형 형상의 직경을 지칭한다.In some embodiments, the maximum width W of the hole region H along the second direction D2 is the second portion L12 of the first electrode line L1 and the second portion of the second electrode line L2. greater than the distance A2 between the portions L22. Accordingly, when the first electrode line L1 and the second electrode line L2 bypass the hole region H, the first portion L11 and the second electrode line L2 of the first electrode line L1 The distance A1 between the first part L21 of Big. In the embodiment of FIG. 2A , since the hole region H has a circular shape, the maximum width W of the hole region H refers to the diameter of the circular shape.

일부 실시예에서, 제3 에지(S3)는 홀 영역(H)의 제1 에지(S1)와 제2 에지(S2) 사이에 있고, 제1 에지(S1), 제2 에지(S2) 및 제3 에지(S3)는 서로 연결되어 함께 닫힌 홀 영역(H)을 형성할 수 있다. 일부 실시예에서, 홀 영역(H)의 제3 에지(S3)는 제1 전극 라인(L1)과 제2 전극 라인(L2) 사이의 공간에 의해 노출될 수 있다. 더 상세하게는, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)과 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)이 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 제3 에지(S3)에 인접해 있지 않다. 환언하면, 제1 전극 라인(L1)과 제2 전극 라인(L2)이 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 에지의 일 부분에만 인접해 있다. 일부 실시예에서, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)과 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)이 상이한 라인 길이를 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)의 라인 길이(X1)가 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)의 라인 길이(X2)보다 클 수 있으며, 이 경우에, (도 2a의 실시예에서와 같이) 제1 에지(S1)의 길이가 제2 에지(S2)의 길이보다 크다.In some embodiments, the third edge S3 is between the first edge S1 and the second edge S2 of the hole region H, the first edge S1, the second edge S2 and the second edge S2 The three edges S3 may be connected to each other to form a closed hole region H together. In some embodiments, the third edge S3 of the hole region H may be exposed by a space between the first electrode line L1 and the second electrode line L2 . In more detail, the first portion L11 of the first electrode line L1 and the first portion L21 of the second electrode line L2 are formed along the contour of the hole region H. It is not adjacent to the third edge S3. In other words, the first electrode line L1 and the second electrode line L2 are adjacent to only a portion of the edge of the hole region H along the contour of the hole region H. In some embodiments, the first portion L11 of the first electrode line L1 and the first portion L21 of the second electrode line L2 may have different line lengths. For example, the line length X1 of the first portion L11 of the first electrode line L1 may be greater than the line length X2 of the first portion L21 of the second electrode line L2, In this case, the length of the first edge S1 is greater than the length of the second edge S2 (as in the embodiment of FIG. 2A ).

일부 실시예에서, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)과 제2 부분(L12) 사이의 연결부는 둥근 모서리를 가질 수 있고, 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)과 제2 부분(L22) 사이의 연결부도 둥근 모서리를 가질 수 있다. 둥근 모서리의 설계는 연결부(즉, 홀 영역(H) 근처의 위치)에서의 전류 축적으로 인해 제1 전극 라인(L1)과 제2 전극 라인(L2)이 과도하게 열을 방출하는 것을 방지하여, 이에 의해 열 효과의 발생을 감소시키고 정상적인 터치 감지 기능을 유지할 수 있다. 일부 실시예에서, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)과 홀 영역(H)의 제1 에지(S1) 사이의 거리(A3)는 100 μm 내지 400 μm이고, 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)과 홀 영역(H)의 제2 에지(S2) 사이의 거리(A4)는 100 μm 내지 400 μm이다. 상기 거리는 터치 센서(100)에 터치 분해능, 신뢰성 및 생산 수율을 제공할 수 있게 한다. 상세하게는, 상기 거리가 100 μm 미만일 때, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)과 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)의 패터닝의 어려움으로 인해 생산 수율이 감소되고; 상기 거리가 400 μm 초과일 때, 홀 영역(H) 근처에서의 전극 라인(L)의 배열이 터치 기능을 제공하기에 너무 희박할 수 있으며, 이는 터치 분해능의 저하를 가져올 수 있다.In some embodiments, the connection portion between the first portion L11 and the second portion L12 of the first electrode line L1 may have a rounded corner, and the first portion L21 of the second electrode line L2 ) and the connection portion between the second portion L22 may also have a rounded corner. The rounded corner design prevents the first electrode line (L1) and the second electrode line (L2) from excessively dissipating heat due to current accumulation at the connection (ie, the location near the hole area (H)), Thereby, it is possible to reduce the occurrence of thermal effects and maintain a normal touch sensing function. In some embodiments, the distance A3 between the first portion L11 of the first electrode line L1 and the first edge S1 of the hole region H is 100 μm to 400 μm, and the second electrode line A distance A4 between the first portion L21 of the L2 and the second edge S2 of the hole region H is 100 μm to 400 μm. The distance makes it possible to provide touch resolution, reliability, and production yield to the touch sensor 100 . Specifically, when the distance is less than 100 μm, the production yield is reduced due to the difficulty of patterning the first portion L11 of the first electrode line L1 and the first portion L21 of the second electrode line L2. reduced; When the distance is more than 400 μm, the arrangement of the electrode lines L near the hole region H may be too sparse to provide a touch function, which may result in a decrease in touch resolution.

일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층(120)은 제2 전극 라인(L2)으로부터 멀어지는 쪽을 향해 있는 제1 전극 라인(L1)의 측면에 제1 전극 라인(L1)에 바로 인접해 있는 제3 전극 라인(L3)을 더 포함할 수 있다. 제3 전극 라인(L3)은 서로 연결된 제1 부분(L31)과 제2 부분(L32)을 가지며, 여기서 제3 전극 라인(L3)의 제1 부분(L31)은 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)에 인접해 있고, 제3 전극 라인(L3)의 제2 부분(L32)은 제1 전극 라인(L1)의 제3 부분(L13)에 인접해 있다. 일부 실시예에서, 제3 전극 라인(L3)의 제1 부분(L31)은 실질적으로 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)을 따라 연장되고, 제3 전극 라인(L3)의 제2 부분(L32)은 제1 전극 라인(L1)의 제3 부분(L13)과 실질적으로 평행할 수 있다. 제1 전극 라인(L1)에 비해, 제3 전극 라인(L3)은 홀 영역(H)으로부터 더 멀리 있고, 제1 방향(D1)을 따라 연장될 때 홀 영역(H)과 만나지 않을 것이다. 따라서, 제3 전극 라인(L3)은 제1 전극 라인(L1)으로부터 터치 감지를 위해 요구되는 거리를 유지한다는 전제 하에 연장되도록 설계된다. 제3 전극 라인(L3)의 제1 부분(L31)의 굴곡 정도는 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)의 굴곡 정도보다 작다(즉, 제3 전극 라인(L3)의 제1 부분(L31)의 형상이 직선에 더 가깝다). 한편, 연결부에서의 전류 축적으로 인해 제3 전극 라인(L3)이 과도하게 열을 방출하는 것을 방지하여, 이에 의해 열 효과의 발생을 감소시키기 위해, 제3 전극 라인(L3)의 제1 부분(L31)과 제2 부분(L32) 사이의 연결부는 둥근 모서리를 가질 수 있다.In some embodiments, the first touch electrode layer 120 is formed on the side of the first electrode line L1 facing away from the second electrode line L2 , and the first touch electrode layer 120 is directly adjacent to the first electrode line L1 . A three-electrode line L3 may be further included. The third electrode line L3 has a first portion L31 and a second portion L32 connected to each other, wherein the first portion L31 of the third electrode line L3 is connected to the first electrode line L1. It is adjacent to the first part L11 , and the second part L32 of the third electrode line L3 is adjacent to the third part L13 of the first electrode line L1 . In some embodiments, the first portion L31 of the third electrode line L3 extends substantially along the first portion L11 of the first electrode line L1, and the first portion L31 of the third electrode line L3 The second portion L32 may be substantially parallel to the third portion L13 of the first electrode line L1 . Compared to the first electrode line L1 , the third electrode line L3 is farther from the hole region H and will not meet the hole region H when it extends along the first direction D1 . Accordingly, the third electrode line L3 is designed to extend on the premise that a distance required for touch sensing is maintained from the first electrode line L1 . The degree of bending of the first portion L31 of the third electrode line L3 is smaller than the degree of bending of the first portion L11 of the first electrode line L1 (that is, the degree of bending of the first portion L31 of the third electrode line L3). The shape of the portion L31 is closer to a straight line). On the other hand, in order to prevent the third electrode line L3 from excessively dissipating heat due to current accumulation in the connection portion, thereby reducing the occurrence of a thermal effect, the first portion ( The connection portion between the L31 and the second portion L32 may have a rounded corner.

일부 실시예에서, 제1 터치 전극 층(120)은 제1 전극 라인(L1)으로부터 멀어지는 쪽을 향해 있는 제2 전극 라인(L2)의 측면에 제2 전극 라인(L2)에 바로 인접해 있는 제4 전극 라인(L4)을 더 포함한다. 제4 전극 라인(L4)이 제1 방향(D1)을 따라 연장될 때 홀 영역(H)을 만나지 않고 제4 전극 라인(L4)이 또한 제2 전극 라인(L2)(제2 전극 라인(L2)의 제3 부분(L23))으로부터 터치 감지를 위해 요구되는 거리를 유지하기 때문에, 제4 전극 라인(L4)은 제1 방향(D1)을 따라 연장되는 직선일 수 있다.In some embodiments, the first touch electrode layer 120 is a second electrode line (L2) directly adjacent to the side of the second electrode line (L2) facing away from the first electrode line (L1). It further includes a 4 electrode line (L4). When the fourth electrode line L4 extends along the first direction D1, it does not meet the hole region H and the fourth electrode line L4 is also connected to the second electrode line L2 (the second electrode line L2). ) to maintain a distance required for touch sensing from the third portion L23), the fourth electrode line L4 may be a straight line extending in the first direction D1.

홀 영역(H)에 인접해 있는 전극 라인(L)(즉, 제1 전극 라인(L1) 내지 제4 전극 라인(L4)) 외에도, 홀 영역(H)으로부터 더 멀리 떨어진 제1 터치 전극 층(120)에서의 다른 전극 라인(L)이 홀 영역(H)으로부터 멀어지는 쪽을 향해 있는 제3 전극 라인(L3)의 측면과 홀 영역(H)으로부터 멀어지는 쪽을 향해 있는 제4 전극 라인(L4)의 측면에 제2 방향(D2)을 따라 일정 간격으로 배치될 수 있으며, 각각의 전극 라인(L)의 형상은 실질적으로 직선이라는 것을 이해해야 한다.In addition to the electrode line L adjacent to the hole region H (that is, the first electrode line L1 to the fourth electrode line L4), the first touch electrode layer further away from the hole region H ( The other electrode line L in 120 is the side of the third electrode line L3 facing away from the hole region H and the fourth electrode line L4 facing away from the hole region H. It may be arranged at regular intervals along the second direction D2 on the side of the , and it should be understood that the shape of each electrode line L is substantially a straight line.

이 실시예에서 제1 전극 라인(L1)이 2개의 분기 라인이 하나로 결합되는 설계를 채택하기 때문에, 제1 전극 라인(L1)의 라인 저항이 2개의 분기 라인이 하나로 결합되지 않는 다른 전극 라인(예를 들면, 제2 전극 라인(L2))의 라인 저항보다 높다는 것이 보완된다. 그렇지만, 제1 터치 전극 층(120)의 각각의 전극 라인(L)의 라인 저항을 제어기의 감지 범위의 하한 근처로 유지하기 위해, 제1 터치 전극 층(120)은 더 낮은 표면 저항 사양을 갖는 금속 나노와이어 층인 전도성 층을 채택할 수 있다. 이에 따라, 2개의 분기 라인이 하나로 결합되는 설계로 인해 제1 전극 라인(L1)이 더 높은 라인 저항을 갖더라도, 그러한 라인 저항이 여전히 제어기에 의해 감지될 수 있는 범위 내에서 유지될 수 있다.Since the first electrode line L1 in this embodiment adopts a design in which two branch lines are coupled into one, the line resistance of the first electrode line L1 is different from that of the other electrode line ( For example, it is compensated for being higher than the line resistance of the second electrode line L2). However, in order to keep the line resistance of each electrode line L of the first touch electrode layer 120 near the lower limit of the sensing range of the controller, the first touch electrode layer 120 has a lower surface resistance specification. A conductive layer, which is a layer of metal nanowires, may be employed. Accordingly, even if the first electrode line L1 has a higher line resistance due to the design in which the two branch lines are combined into one, such line resistance can still be maintained within a range that can be sensed by the controller.

도 2b 및 도 2c는 본 개시의 일부 다른 실시예에 따른 도 1에서의 터치 센서(100)의 영역(R1)을 예시한 부분 확대도이다. 도 2b 및 도 2c의 터치 센서(100)와 도 2a의 터치 센서(100)가 실질적으로 동일한 컴포넌트 구성과 연결 관계, 재료 및 장점을 가지며, 이에 대해서는 이후에 반복되지 않을 것이고 차이점만이 이하의 설명에서 논의될 것임을 이해해야 한다. 추가적으로, 도면을 단순화하기 위해, 전극 라인들(L) 중 일부가 도 2b 및 도 2c에서 생략되어 있고, 홀 영역(H)에 가장 가까운 제1 전극 라인(L1)의 일 부분과 제2 전극 라인(L2)의 일 부분만이 도시되어 있다.2B and 2C are partially enlarged views illustrating a region R1 of the touch sensor 100 in FIG. 1 according to some other embodiments of the present disclosure. The touch sensor 100 of FIGS. 2B and 2C and the touch sensor 100 of FIG. 2A have substantially the same component configuration, connection relationships, materials, and advantages, which will not be repeated hereafter and only differences will be described below. It should be understood that this will be discussed in Additionally, to simplify the drawing, some of the electrode lines L are omitted from FIGS. 2B and 2C , and a portion of the first electrode line L1 closest to the hole region H and the second electrode line are omitted. Only a portion of (L2) is shown.

도 2b를 참조한다. 도 2b에 도시된 터치 센서(100)와 도 2a에 도시된 터치 센서(100) 사이의 적어도 하나의 차이점은 홀 영역(H)의 형상에 있다. 구체적으로, 도 2b의 터치 센서(100)에서의 홀 영역(H)은 직사각형(정사각형) 형상을 갖는다. 이 실시예에서, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)과 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)은 제각기 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 제1 에지(S1)와 제2 에지(S2)에 인접하게 배치되어 직사각형 모양의 형상을 형성한다. 이 실시예에서 홀 영역(H)이 직사각형 형상을 갖기 때문에, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)과 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21) 각각은 둘 이상의 굴곡 부분(B)을 갖는다. 일부 실시예에서, 굴곡 부분(B)은 굴곡 부분(B)에서의 전류 축적으로 인해 제1 전극 라인(L1)과 제2 전극 라인(L2)이 과도하게 열을 방출하는 것을 방지하여, 이에 의해 열 효과의 발생을 감소시키고 정상적인 터치 감지 기능을 유지하도록 둥근 모서리를 가질 수 있다.See Figure 2b. At least one difference between the touch sensor 100 shown in FIG. 2B and the touch sensor 100 shown in FIG. 2A is in the shape of the hall area H. Specifically, the hall region H in the touch sensor 100 of FIG. 2B has a rectangular (square) shape. In this embodiment, the first portion L11 of the first electrode line L1 and the first portion L21 of the second electrode line L2 are formed along the contour of the hole region H, respectively. The first edge S1 and the second edge S2 are disposed adjacent to each other to form a rectangular shape. Since the hole region H has a rectangular shape in this embodiment, each of the first portion L11 of the first electrode line L1 and the first portion L21 of the second electrode line L2 has at least two curved lines. It has a part (B). In some embodiments, the bent portion B prevents the first electrode line L1 and the second electrode line L2 from excessively dissipating heat due to current accumulation in the bent portion B, thereby It can have rounded corners to reduce the occurrence of thermal effects and maintain normal touch-sensing functionality.

도 2c를 참조한다. 도 2c에 도시된 터치 센서(100)와 도 2a에 도시된 터치 센서(100) 사이의 적어도 하나의 차이점도 홀 영역(H)의 형상에 있다. 구체적으로, 도 2c의 터치 센서(100)에서의 홀 영역(H)은 알약(pill) 형상을 갖는다. 더 상세하게는, 알약 형상은 하나의 직사각형과 2개의 반원을 포함하며, 직사각형이 2개의 반원 사이에 끼여 있다. 이 실시예에서, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)과 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)은 제각기 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 제1 에지(S1)와 제2 에지(S2)에 인접하게 배치되어 알약 모양의 형상을 형성한다. 이 실시예에서 홀 영역(H)이 알약 모양의 형상을 갖기 때문에, 제1 전극 라인(L1)의 제1 부분(L11)의 형상과 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L21)의 형상은 제각기 매끄러운 곡선(즉, 에지각(edge angle)이 없음)이다. 이에 따라, 전류 축적으로 인해 제1 전극 라인(L1)과 제2 전극 라인(L2)이 과도하게 열을 방출하는 것이 방지되어, 이에 의해 열 효과의 발생을 감소시키고 정상적인 터치 감지 기능을 유지할 수 있다.See Figure 2c. At least one difference between the touch sensor 100 illustrated in FIG. 2C and the touch sensor 100 illustrated in FIG. 2A is also in the shape of the hall area H. Specifically, the hall region H in the touch sensor 100 of FIG. 2C has a pill shape. More specifically, the pill shape includes one rectangle and two semicircles, with the rectangle sandwiched between the two semicircles. In this embodiment, the first portion L11 of the first electrode line L1 and the first portion L21 of the second electrode line L2 are formed along the contour of the hole region H, respectively. It is disposed adjacent to the first edge (S1) and the second edge (S2) of forming a pill-shaped shape. Since the hole region H has a pill-shaped shape in this embodiment, the shape of the first portion L11 of the first electrode line L1 and the first portion L21 of the second electrode line L2 are The shapes are each a smooth curve (ie no edge angle). Accordingly, it is possible to prevent the first electrode line L1 and the second electrode line L2 from excessively dissipating heat due to current accumulation, thereby reducing the occurrence of a thermal effect and maintaining a normal touch sensing function. .

도 2a 내지 도 2c에 도시된 홀 영역(H)의 형상이 단지 예시적인 실시예이며, 본 개시가 이에 제한되지 않는다는 것을 이해해야 한다. 일부 다른 실시예에서, 홀 영역(H)은 또한 다른 적절한 형상(예를 들어, 타원, 다각형 등)을 가질 수 있고, 각각의 전극 라인(L)은 또한 홀 영역(H)의 형상과 매칭하도록 적절하게 구성될 수 있다. 이하의 설명에서, 본 개시의 다른 실시예에 따른 터치 센서가 기술될 것이다.It should be understood that the shape of the hole region H shown in FIGS. 2A to 2C is only an exemplary embodiment, and the present disclosure is not limited thereto. In some other embodiments, the hole regions H may also have other suitable shapes (eg, ellipses, polygons, etc.), and each electrode line L may also be configured to match the shape of the hole regions H. can be appropriately configured. In the following description, a touch sensor according to another embodiment of the present disclosure will be described.

도 3은 본 개시의 일부 다른 실시예에 따른 터치 센서(100a)를 예시한 평면도이다. 도 4는 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 3에서의 터치 센서(100a)의 영역(R2)을 예시한 부분 확대도이다. 도 3 및 도 4를 참조한다. 도 3 및 도 4의 실시예에서, 터치 센서(100a)는 제2 터치 전극 층(122)을 더 포함하고, 제1 터치 전극 층(120)과 제2 터치 전극 층(122)은 양면 단층 전극 구조를 형성하도록 구성된다. 더 구체적으로, 제1 터치 전극 층(120)과 제2 터치 전극 층(122)이 서로 전기적으로 절연되도록, 제1 터치 전극 층(120)은 기판(110)의 제1 표면(예를 들면, 상부 표면) 상에 배치되고, 제2 터치 전극 층(122)은 기판(110)의 제2 표면(예를 들면, 하부 표면) 상에 배치된다. 일부 실시예에서, 제2 터치 전극 층(122)은 또한 복수의 전극 라인(L)으로 배열된 전극 패턴을 가지며, 전술한 금속 나노와이어와 매트릭스는 제2 터치 전극 층(122)의 각각의 전극 라인(L)에 있다. 일부 실시예에서, 제2 터치 전극 층(122)의 각각의 전극 라인(L)은 제2 방향(D2)을 따라 가시 영역(VA)의 좌측 경계로부터 가시 영역(VA)의 우측 경계까지 연장될 수 있으며, 제1 방향(D1)을 따라 가시 영역(VA)에 대응하게 일정 간격으로 배치된다. 환언하면, 제1 터치 전극 층(120)의 전극 라인(L)과 제2 터치 전극 층(122)의 전극 라인(L)은 상이한 방향으로 연장되고 서로 수직이다. 이에 따라, 제1 터치 전극 층(120)과 제2 터치 전극 층(122) 사이의 신호 변화(예를 들면, 커패시턴스의 변화)를 검출하는 것에 의해 터치 감지 기능이 수행될 수 있다.3 is a plan view illustrating a touch sensor 100a according to some other embodiments of the present disclosure. 4 is a partially enlarged view illustrating a region R2 of the touch sensor 100a in FIG. 3 according to some embodiments of the present disclosure. See Figures 3 and 4. 3 and 4 , the touch sensor 100a further includes a second touch electrode layer 122 , and the first touch electrode layer 120 and the second touch electrode layer 122 are double-sided single-layer electrodes. configured to form a structure. More specifically, the first touch electrode layer 120 is formed on the first surface (eg, upper surface), and the second touch electrode layer 122 is disposed on the second surface (eg, lower surface) of the substrate 110 . In some embodiments, the second touch electrode layer 122 also has an electrode pattern arranged in a plurality of electrode lines L, and the aforementioned metal nanowires and matrix are each electrode of the second touch electrode layer 122 . It is on line (L). In some embodiments, each electrode line L of the second touch electrode layer 122 may extend from a left boundary of the visible area VA to a right boundary of the visible area VA along the second direction D2. and may be arranged at regular intervals to correspond to the visible area VA along the first direction D1. In other words, the electrode line L of the first touch electrode layer 120 and the electrode line L of the second touch electrode layer 122 extend in different directions and are perpendicular to each other. Accordingly, a touch sensing function may be performed by detecting a signal change (eg, a change in capacitance) between the first touch electrode layer 120 and the second touch electrode layer 122 .

일부 실시예에서, 제2 터치 전극 층(122)은 홀 영역(H)의 대향 측면에 인접해 있는 제5 전극 라인(L5)과 제6 전극 라인(L6)을 포함하고, 제5 전극 라인(L5)과 제6 전극 라인(L6)은 홀 영역(H)에 더 가까운 제1 부분(L51, L61)과 제2 방향(D2)을 따라 홀 영역(H)으로부터 더 멀리 떨어진 제2 부분(L52, L62)을 갖는다. 제5 전극 라인(L5)의 제1 부분(L51)과 제2 부분(L52)은 서로 연결되고, 제6 전극 라인(L6)의 제1 부분(L61)과 제2 부분(L62)도 서로 연결된다. 제2 터치 전극 층(122)의 제5 전극 라인(L5)과 제6 전극 라인(L6)이 제2 방향(D2)을 따라 연장되기 때문에, 제5 전극 라인(L5)과 제6 전극 라인(L6)의 제1 부분(L51, L61)은 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 제3 에지(S3) 및 제1 에지(S1)와 제2 에지(S2)의 일 부분에 인접하게 배치된다. 제2 터치 전극 층(122)과 제1 터치 전극 층(120) 사이의 차이점이 이들의 연장 방향 및 배열 방향에만 있으며, 제2 터치 전극 층(122)과 제1 터치 전극 층(120)의 컴포넌트 구성과 연결 관계, 재료 및 장점이 실질적으로 동일하며, 이에 대해서는 이후에 반복되지 않을 것임을 이해해야 한다. 예를 들어, 제2 터치 전극 층(122)의 제5 전극 라인(L5) 및 제6 전극 라인(L6)은 제각기 제1 터치 전극 층(120)의 제1 전극 라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)과 동일한 컴포넌트 구성, 재료 및 장점을 갖는다.In some embodiments, the second touch electrode layer 122 includes a fifth electrode line L5 and a sixth electrode line L6 adjacent to opposite sides of the hole region H, and the fifth electrode line ( L5 and the sixth electrode line L6 have a first portion L51 and L61 closer to the hole region H and a second portion L52 farther from the hole region H along the second direction D2. , L62). The first portion L51 and the second portion L52 of the fifth electrode line L5 are connected to each other, and the first portion L61 and the second portion L62 of the sixth electrode line L6 are also connected to each other. do. Since the fifth electrode line L5 and the sixth electrode line L6 of the second touch electrode layer 122 extend in the second direction D2, the fifth electrode line L5 and the sixth electrode line (L5) The first portions L51 and L61 of the L6 are along the contour of the hole area H, the third edge S3 of the hole area H, and a portion of the first edge S1 and the second edge S2. placed adjacent to The difference between the second touch electrode layer 122 and the first touch electrode layer 120 is only in their extension direction and arrangement direction, and the components of the second touch electrode layer 122 and the first touch electrode layer 120 are It should be understood that the construction and connection relationships, materials, and advantages are substantially the same, which will not be repeated hereinafter. For example, the fifth electrode line L5 and the sixth electrode line L6 of the second touch electrode layer 122 are respectively the first electrode line L1 and the second electrode of the first touch electrode layer 120 . It has the same component construction, materials and advantages as line L2.

한편, 커패시턴스 감지의 요구사항을 충족시키기 위해, 제1 터치 전극 층(120)과 제2 터치 전극 층(122)은 기판(110)의 연장 방향에 수직인 방향을 따라 부분적으로 스태거링(stagger)된다(즉, 완전히 중첩되지는 않음). 제1 터치 전극 층(120)의 제1 전극 라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)은 물론 제2 터치 전극 층(122)의 제5 전극 라인(L5) 및 제6 전극 라인(L6)의 관점에서, 제1 전극 라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)의 제2 부분(L12, L22)은 제5 전극 라인(L5) 및 제6 전극 라인(L6)의 제1 부분(L51, L61)과 부분적으로 중첩되는 반면, 제1 전극라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L11, L21)은 제5 전극 라인(L5) 및 제6 전극 라인(L6)의 제1 부분(L51, L61)으로부터 완전히 오프셋되어 있다. 일부 실시예에서, 제5 전극 라인(L5) 및 제6 전극 라인(L6)의 제1 부분(L51, L61)과 홀 영역(H)의 에지 사이의 거리(A8)는 제1 전극 라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)의 제1 부분(L11, L21)과 홀 영역(H)의 에지 사이의 거리(A7)보다 클 수 있다.Meanwhile, in order to meet the requirement of capacitance sensing, the first touch electrode layer 120 and the second touch electrode layer 122 are partially staggered along a direction perpendicular to the extending direction of the substrate 110 . ) (i.e. not completely overlapping). The first electrode line L1 and the second electrode line L2 of the first touch electrode layer 120 as well as the fifth electrode line L5 and the sixth electrode line L6 of the second touch electrode layer 122 In terms of , second portions L12 and L22 of the first electrode line L1 and the second electrode line L2 are , L61 partially overlaps, while the first portions L11 and L21 of the first electrode line L1 and the second electrode line L2 are the fifth electrode line L5 and the sixth electrode line L6. completely offset from the first portion L51, L61 of In some embodiments, the distance A8 between the first portions L51 and L61 of the fifth electrode line L5 and the sixth electrode line L6 and the edge of the hole region H is the first electrode line L1 ) and the distance between the first portions L11 and L21 of the second electrode line L2 and the edge of the hole region H may be greater than the distance A7 .

비록 도면에 도시되어 있지 않지만, 도 3에서의 양면 단층 전극 구조를 갖는 터치 센서(100a)가 도 2b 및 도 2c에 도시된 직사각형 형상 또는 알약 형상을 갖는 홀 영역(H)을 또한 가질 수 있다는 점은 주목할 만한 가치가 있다. 한편, 본 개시의 터치 센서(100a)가 또한 단면 이중층 전극 구조일 수 있다. 구체적으로, 제1 터치 전극 층(120)과 제2 터치 전극 층(122) 둘 모두가 기판(110)의 제1 표면 또는 제2 표면의 측면 상에 배치되며, 절연 층에 의해 전기적으로 절연된다. 위에서 설명된 컴포넌트 연결 관계, 재료 및 장점에 대해서는 이후에 반복되지 않을 것임을 이해해야 한다. 이하의 설명에서, 터치 센서(100)의 제조 방법을 더 논의하기 위해 도 1 및 도 2a에서의 터치 센서(100)를 예로 들 것이다.Although not shown in the drawings, the touch sensor 100a having a double-sided single-layer electrode structure in FIG. 3 may also have a hole region H having a rectangular shape or a pill shape shown in FIGS. 2B and 2C . is worth noting. Meanwhile, the touch sensor 100a of the present disclosure may also have a single-sided double-layer electrode structure. Specifically, both the first touch electrode layer 120 and the second touch electrode layer 122 are disposed on the side of the first surface or the second surface of the substrate 110 and are electrically insulated by the insulating layer. . It should be understood that the component connection relationships, materials and advantages described above will not be repeated hereinafter. In the following description, the touch sensor 100 in FIGS. 1 and 2A will be taken as an example to further discuss the manufacturing method of the touch sensor 100 .

일부 실시예에서, 터치 센서(100)의 제조 방법은 단계(S10) 내지 단계(S14)를 포함하고, 단계(S10) 내지 단계(S14)는 순차적으로 수행될 수 있다. 단계(S10)에서, 기판(110)이 제공되며, 여기서 기판(110)은 가시 영역(VA) 및 주변 영역(PA)에 제각기 대응하는 제1 영역 및 제2 영역을 가지며, 기판(110)의 제1 영역에는 홀 영역(H)이 제공되어 있다. 단계(S12)에서, 기판(110)의 제1 영역 상에 전도성 층이 형성된다. 단계(S14)에서, 제1 터치 전극 층(120)이 제1 전극 라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)을 갖고, 제1 전극 라인(L1)의 일 부분 및 제2 전극 라인(L2)의 일 부분이 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 에지에 인접하게 배치되도록, 제1 터치 전극 층(120)을 형성하기 위해 전도성 층이 패터닝된다. 이하의 설명에서, 전술한 단계들에 대해 더 상세히 기술될 것이다.In some embodiments, the method of manufacturing the touch sensor 100 may include steps S10 to S14, and steps S10 to S14 may be sequentially performed. In step S10 , a substrate 110 is provided, wherein the substrate 110 has a first area and a second area corresponding to the visible area VA and the peripheral area PA, respectively, and A hole area H is provided in the first area. In step S12 , a conductive layer is formed on the first region of the substrate 110 . In step S14 , the first touch electrode layer 120 has a first electrode line L1 and a second electrode line L2 , and a portion of the first electrode line L1 and the second electrode line L2 ), the conductive layer is patterned to form the first touch electrode layer 120 such that a portion of the hole region H is disposed adjacent to the edge of the hole region H along the contour of the hole region H. In the following description, the foregoing steps will be described in more detail.

먼저, 단계(S10)에서, 기판(110)이 제공되며, 여기서 기판(110)은 가시 영역(VA) 및 주변 영역(PA)에 제각기 대응하는 제1 영역 및 제2 영역을 가지며, 기판(110)의 제1 영역에는 홀 영역(H)이 제공되어 있다. 일부 실시예에서, 제1 영역과 제2 영역 사이의 경계와 홀 영역(H)의 에지 사이의 거리(A9)는 100 μm 이상이다. 이에 따라, 터치 분해능을 유지하기 위해 터치 감지에 충분한 적어도 하나의 전극 라인(L)을 배치하기 위한 공간이 제공되도록, 홀 영역(H)과 경계가 특정 거리만큼 분리될 수 있다. 상세하게는, 거리(A9)가 100 μm 미만일 때, 홀 영역(H)과 경계 사이에 위치하는 전도성 층이 불충분하거나 패터닝되기 어려워, 이에 의해 홀 영역(H) 근처의 전극 패턴의 완전성에 영향을 미치고 터치 분해능을 감소시킬 수 있다.First, in step S10 , a substrate 110 is provided, wherein the substrate 110 has a first area and a second area corresponding to a visible area VA and a peripheral area PA, respectively, and the substrate 110 A hole region H is provided in the first region of ). In some embodiments, the distance A9 between the boundary between the first region and the second region and the edge of the hole region H is greater than or equal to 100 μm. Accordingly, the hole region H and the boundary may be separated by a specific distance to provide a space for arranging at least one electrode line L sufficient for touch sensing to maintain touch resolution. Specifically, when the distance A9 is less than 100 μm, the conductive layer positioned between the hole region H and the boundary is insufficient or difficult to pattern, thereby affecting the integrity of the electrode pattern near the hole region H. and may reduce touch resolution.

다음으로, 단계(S12)에서, 적어도 금속 나노와이어를 포함하는 전도성 층(예를 들면, 은 나노와이어 재료 층, 금 나노와이어 재료 층 또는 구리 나노와이어 재료 층)이 기판(110)의 제1 영역 상에 형성된다. 일부 실시예에서, 금속 나노와이어를 갖는 분산액 또는 슬러리가 코팅에 의해 기판(110) 상에 형성될 수 있고, 분산액 또는 슬러리는 이어서 금속 나노와이어가 기판(110)의 표면에 부착되게 하기 위해 경화되거나 건조된다. 상기 경화 또는 건조 단계 이후에, 분산액 또는 슬러리 중의 용매 및 다른 물질이 휘발될 것이고, 금속 나노와이어가 기판(110)의 표면 상에 랜덤하게 분포될 수 있거나, 또는 바람직하게는 금속 나노와이어가 전도성 층을 형성하기 위해 떨어지지 않고 기판(110)의 표면 상에 고정될 수 있다. 전도성 층에 있는 금속 나노와이어는, 전도성 네트워크를 형성하기 위해, 연속적인 전류 경로를 제공하도록 서로 접촉할 수 있다. 즉, 금속 나노와이어는 그의 교차 위치에서 서로 접촉하여 전자를 전달하기 위한 경로를 형성한다.Next, in step S12 , a conductive layer comprising at least metal nanowires (eg, a layer of silver nanowire material, a layer of gold nanowire material, or a layer of copper nanowire material) is applied to a first region of the substrate 110 . formed on the In some embodiments, a dispersion or slurry having metal nanowires can be formed on the substrate 110 by coating, which is then cured or cured to cause the metal nanowires to adhere to the surface of the substrate 110 . is dried After the curing or drying step, the solvent and other substances in the dispersion or slurry will be volatilized, and the metal nanowires may be randomly distributed on the surface of the substrate 110 , or preferably the metal nanowires are the conductive layer It can be fixed on the surface of the substrate 110 without falling to form a. The metal nanowires in the conductive layer may contact each other to provide a continuous current path to form a conductive network. That is, the metal nanowires contact each other at their crossing positions to form a path for electron transfer.

일부 실시예에서, 금속 나노와이어가 용매 중에 균일하게 분산되도록, 분산액 또는 슬러리는 용매를 포함한다. 구체적으로, 용매는, 예를 들어, 물, 알코올, 케톤, 에테르, 탄화수소, 방향족 용매(벤젠, 톨루엔, 자일렌 등) 또는 이들의 조합이다. 일부 실시예에서, 분산액은 금속 나노와이어와 용매 사이의 상용성(compatibility) 및 용매 중에서의 금속 나노와이어의 안정성을 개선시키기 위해 첨가제, 계면활성제 및/또는 결합제를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 첨가제, 계면활성제 및/또는 결합제는, 예를 들어, 카르복시메틸 셀룰로스, 히드록시에틸 셀룰로스, 하이프로멜로스, 플루오로계면활성제, 설포숙시네이트 설포네이트, 설페이트, 포스페이트, 디설포네이트 또는 이들의 조합일 수 있다. 금속 나노와이어를 포함하는 분산액 또는 슬러리는, 스크린 인쇄, 스프레이 코팅 또는 롤러 코팅과 같은 프로세스와 같은, 그러나 이에 제한되지 않는 임의의 방식으로 기판(110)의 표면 상에 형성될 수 있다. 일부 실시예에서, 연속적으로 공급되는 기판(110)의 표면 상에 금속 나노와이어를 포함하는 분산액 또는 슬러리가 코팅되도록, 롤-투-롤(roll-to-roll) 프로세스가 수행될 수 있다.In some embodiments, the dispersion or slurry includes a solvent such that the metal nanowires are uniformly dispersed in the solvent. Specifically, the solvent is, for example, water, alcohol, ketone, ether, hydrocarbon, aromatic solvent (benzene, toluene, xylene, etc.) or a combination thereof. In some embodiments, the dispersion may further include additives, surfactants and/or binders to improve the compatibility between the metal nanowires and the solvent and the stability of the metal nanowires in the solvent. Specifically, additives, surfactants and/or binders are, for example, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hypromellose, fluorosurfactants, sulfosuccinate sulfonates, sulfates, phosphates, disulfonates or a combination thereof. The dispersion or slurry comprising metal nanowires may be formed on the surface of the substrate 110 in any manner, such as, but not limited to, a process such as screen printing, spray coating, or roller coating. In some embodiments, a roll-to-roll process may be performed so that a dispersion or slurry including metal nanowires is coated on the surface of the continuously supplied substrate 110 .

일부 실시예에서, 전도율을 향상시키기 위해, 금속 나노와이어의 교차 위치에서의 금속 나노와이어의 접촉 특성을 개선(예를 들어, 접촉 면적을 증가)시키기 위해 후처리가 추가로 수행될 수 있다. 후처리는 가열, 플라스마 제공, 코로나 방전, 자외선 제공, 오존 제공 또는 가압과 같은, 그러나 이에 제한되지 않는 단계를 포함할 수 있다. 구체적으로, 경화 또는 건조에 의해 전도성 층이 형성된 후에, 그에 압력을 가하기 위해 롤러가 사용될 수 있다. 일부 실시예에서, 전도성 층에 압력을 가하기 위해 하나 이상의 롤러를 사용될 수 있다. 일부 실시예에서, 가해지는 압력은 약 50 psi 내지 약 3400 psi, 바람직하게는 약 100 psi 내지 약 1000 psi, 약 200 psi 내지 약 800 psi, 또는 약 300 psi 내지 약 500 psi일 수 있다. 일부 실시예에서, 후처리의 가열 단계와 가압 단계가 금속 나노와이어에 대해 동시에 수행될 수 있다. 예를 들어, 롤러를 통해 약 10 psi 내지 약 500 psi의 압력(또는 바람직하게는 약 40 psi 내지 약 100 psi의 압력)이 가해질 수 있으며, 금속 나노와이어의 전도율을 향상시키기 위해 롤러가 약 70°C 내지 약 200°C(또는 바람직하게는 약 100°C 내지 약 175°C)로 가열될 수 있다. 일부 실시예에서, 금속 나노와이어는 후처리를 위해 환원제에 노출될 수 있다. 예를 들어, 은 나노와이어를 포함하는 금속 나노와이어는 바람직하게는 후처리를 위해 은 환원제에 노출될 수 있다. 일부 실시예에서, 은 환원제는 나트륨 보로하이드라이드와 같은 보로하이드라이드, 디메틸아민 보란과 같은 붕소 질소 화합물, 또는 수소와 같은 가스 환원제를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 노출 시간은 약 10초 내지 약 30분, 바람직하게는 약 1분 내지 약 10분일 수 있다.In some embodiments, post-treatment may be further performed to improve the contact properties (eg, increase the contact area) of the metal nanowires at the crossover locations of the metal nanowires to improve the conductivity. Post-treatment may include steps such as, but not limited to, heating, providing plasma, corona discharge, providing ultraviolet light, providing ozone or pressurizing. Specifically, after the conductive layer is formed by curing or drying, a roller may be used to apply pressure thereto. In some embodiments, one or more rollers may be used to apply pressure to the conductive layer. In some embodiments, the applied pressure may be from about 50 psi to about 3400 psi, preferably from about 100 psi to about 1000 psi, from about 200 psi to about 800 psi, or from about 300 psi to about 500 psi. In some embodiments, the heating step and the pressing step of the post-treatment may be performed simultaneously on the metal nanowires. For example, a pressure of about 10 psi to about 500 psi (or preferably a pressure of about 40 psi to about 100 psi) may be applied through the roller, and the roller may be rotated at about 70° to improve the conductivity of the metal nanowires. C to about 200 °C (or preferably from about 100 °C to about 175 °C) may be heated. In some embodiments, the metal nanowires may be exposed to a reducing agent for post-treatment. For example, metal nanowires comprising silver nanowires may be exposed to a silver reducing agent, preferably for post-treatment. In some embodiments, the silver reducing agent may include a borohydride such as sodium borohydride, a boron nitrogen compound such as dimethylamine borane, or a gas reducing agent such as hydrogen. In some embodiments, the exposure time may be from about 10 seconds to about 30 minutes, preferably from about 1 minute to about 10 minutes.

후속적으로, 단계(S14)에서, 전도성 층의 패턴을 규정하여, 이에 의해 기판(110)의 제1 영역 상에 배치되는 제1 터치 전극 층(120)을 형성하기 위해 패터닝 단계가 수행된다. 일부 실시예에서, 홀 영역(H)에 인접해 있는 전도성 층은 홀 영역(H)의 2개의 측면에 연장되는 제1 전극 라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)으로 패터닝될 수 있고, 제1 전극 라인(L1)의 일 부분과 제2 전극 라인(L2)의 일 부분은 홀 영역(H)의 윤곽을 따라 홀 영역(H)의 에지들에 인접해 있다. 환언하면, 전도성 층의 패터닝이 홀 영역(H)의 간섭(또는 차단)을 만날 때, 전도성 층의 패터닝은 홀 영역(H)의 에지의 윤곽을 따라 수행된다. 일부 실시예에서, 전술한 제3 전극 라인(L3), 제4 전극 라인(L4) 및 실질적으로 직선 형상을 갖는 각각의 전극 라인(L)을 형성하기 위해 홀 영역(H)으로부터 더 멀리 떨어진 전도성 층이 패터닝될 수 있다. 각각의 전극 라인(L)에 대한 상세한 설명에 대해서는 전술한 설명이 참조될 수 있으며, 이에 대해서는 이후에 반복되지 않을 것이다. 일부 실시예에서, 전도성 층의 패터닝은 에칭에 의해 수행될 수 있다. 전도성 층에 있는 금속 나노와이어가 은 나노와이어일 때, 동일한 프로세스에서 은 재료를 제거하기 위해, 에칭 용액의 주성분은 H3PO4(에칭 용액 중에서 약 55% 내지 약 70% H3PO4의 체적비를 가짐) 및 HNO3(에칭 용액 중에서 약 5% 내지 약 15% HNO3의 체적비를 가짐)일 수 있다. 일부 다른 실시예에서, 에칭 용액의 주성분은 염화 제2철/질산 또는 인산/과산화수소일 수 있다.Subsequently, in step S14 , a patterning step is performed to define a pattern of the conductive layer, thereby forming the first touch electrode layer 120 disposed on the first region of the substrate 110 . In some embodiments, the conductive layer adjacent to the hole region (H) may be patterned with a first electrode line (L1) and a second electrode line (L2) extending on two sides of the hole region (H), A portion of the first electrode line L1 and a portion of the second electrode line L2 are adjacent to edges of the hole region H along the contour of the hole region H. In other words, when the patterning of the conductive layer encounters interference (or blocking) of the hole region H, the patterning of the conductive layer is performed along the contour of the edge of the hole region H. In some embodiments, the conductivity further away from the hole region H to form the above-described third electrode line L3 , the fourth electrode line L4 , and each electrode line L having a substantially linear shape. The layer may be patterned. For a detailed description of each electrode line L, reference may be made to the above description, and this will not be repeated later. In some embodiments, patterning of the conductive layer may be performed by etching. When the metal nanowires in the conductive layer are silver nanowires, to remove the silver material in the same process, the main component of the etching solution is H 3 PO 4 (a volume ratio of about 55% to about 70% H 3 PO 4 in the etching solution) ) and HNO 3 (having a volume ratio of about 5% to about 15% HNO 3 in the etching solution). In some other embodiments, the main component of the etching solution may be ferric chloride/nitric acid or phosphoric acid/hydrogen peroxide.

단계(S14)가 수행된 후에, 단계(S16)는, 기판(110) 상의 홀 영역(H)이 관통 홀로 형성되도록, 실제 필요에 따라 선택적으로 수행될 수 있다. 일부 실시예에서, 관통 홀은, 예를 들어, 스탬핑에 의해 형성될 수 있다. 상기 단계들 이후에, 도 1에 도시된 바와 같은 터치 센서(100)가 형성될 수 있으며, 여기서 홀 영역(H)은 중실 영역 또는 관통 홀일 수 있다.After the step S14 is performed, the step S16 may be selectively performed according to actual needs so that the hole region H on the substrate 110 is formed as a through hole. In some embodiments, the through hole may be formed by, for example, stamping. After the above steps, the touch sensor 100 as shown in FIG. 1 may be formed, where the hole region H may be a solid region or a through hole.

일부 대안적인 실시예에서, 기판(110)의 홀 영역(H)이 관통 홀인 터치 센서(100)를 제조하기 위해, 본 개시의 터치 센서(100)를 제조하는 데 상이한 프로세스 흐름이 채택될 수 있다. 상세하게는, 이 실시예에서, 터치 센서(100)의 제조 방법은 단계(S20) 내지 단계(S26)를 포함하고, 단계(S20) 내지 단계(S26)는 순차적으로 수행될 수 있다. 단계(S20)에서, 기판(110)이 제공되며, 여기서 기판(110)은 가시 영역(VA) 및 주변 영역(PA)에 제각기 대응하는 제1 영역 및 제2 영역을 가지며, 기판(110)의 제1 영역에는 홀 영역(H)이 제공되어 있다. 단계(S22)에서, 기판(110)의 제1 영역 상에 전도성 층이 형성된다. 단계(S24)에서, 홀 영역(H)은 관통 홀으로 형성되고, 그 동안에, 관통 홀에 대응하는 홀이 전도성 층에 형성된다. 단계(S26)에서, 제1 터치 전극 층(120)이 제1 전극 라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)을 갖고, 제1 전극 라인(L1)의 일 부분 및 제2 전극 라인(L2)의 일 부분이 관통 홀의 윤곽을 따라 관통 홀의 에지에 인접하게 배치되도록, 제1 터치 전극 층(120)을 형성하기 위해 전도성 층이 패터닝된다. 이하의 설명에서는, 조정된 단계들에 대해서만 설명될 것이고, 나머지 생략된 설명에 대해서는 전술한 실시예에 대한 설명이 참조될 수 있다.In some alternative embodiments, to fabricate the touch sensor 100 in which the hole region H of the substrate 110 is a through hole, a different process flow may be employed to fabricate the touch sensor 100 of the present disclosure. . Specifically, in this embodiment, the manufacturing method of the touch sensor 100 includes steps ( S20 ) to ( S26 ), and steps ( S20 ) to ( S26 ) may be sequentially performed. In step S20 , a substrate 110 is provided, wherein the substrate 110 has a first area and a second area corresponding to the visible area VA and the peripheral area PA, respectively, and A hole area H is provided in the first area. In step S22 , a conductive layer is formed on the first region of the substrate 110 . In step S24, the hole region H is formed as a through hole, during which a hole corresponding to the through hole is formed in the conductive layer. In step S26 , the first touch electrode layer 120 has a first electrode line L1 and a second electrode line L2 , and a portion of the first electrode line L1 and the second electrode line L2 ), the conductive layer is patterned to form the first touch electrode layer 120 such that a portion of the portion is disposed adjacent to the edge of the through hole along the contour of the through hole. In the following description, only the adjusted steps will be described, and for the remaining omitted description, reference may be made to the description of the above-described embodiment.

단계(S22) 내지 단계(S24)에서, 먼저 기판(110)의 제1 영역 상에 전도성 층이 형성되고, 이어서 기판(110)에 관통 홀이 형성되기 때문에, 관통 홀을 형성하는 동안 관통 홀에 대응하는 전도성 층에 홀이 형성될 수 있다. 환언하면, 기판(110)에 있는 관통 홀과 전도성 층에 있는 홀이 동일한 프로세스에서 형성된다. 일부 실시예에서, 기판(110)에 있는 관통 홀과 전도성 층에 있는 홀이, 예를 들어, 스탬핑에 의해 형성될 수 있다. 한편, 단계(S26)에서, 패터닝에 의해 형성되는 제1 전극 라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)과 기판(110)에 있는 관통 홀 사이에 일정 거리가 있도록, 전도성 층을 패터닝할 때 홀의 크기가 확대될 수 있다. 상기 단계들 이후에, 본 개시의 터치 센서(100)가 또한 형성될 수 있다. 구체적인 구조는 위에서 기술된 바와 같으며 이후에 반복되지 않을 것이다.In steps S22 to S24, since a conductive layer is first formed on the first region of the substrate 110, and then a through hole is formed in the substrate 110, the through hole is formed in the through hole while forming the through hole. A hole may be formed in the corresponding conductive layer. In other words, the through hole in the substrate 110 and the hole in the conductive layer are formed in the same process. In some embodiments, the through hole in the substrate 110 and the hole in the conductive layer may be formed by, for example, stamping. Meanwhile, in step S26, when the conductive layer is patterned so that there is a certain distance between the first electrode line L1 and the second electrode line L2 formed by patterning and the through hole in the substrate 110, The size of the hole can be enlarged. After the above steps, the touch sensor 100 of the present disclosure may also be formed. The specific structure is as described above and will not be repeated hereinafter.

일부 다른 대안적인 실시예에서, 본 개시의 터치 센서(100)를 제조하기 위해 상이한 프로세스 흐름이 채택될 수 있다. 구체적으로, 전술한 단계(S22)와 단계(S24)가 반대로 될 수 있다. 상세하게는, 이 실시예에서, 터치 센서(100)의 제조 방법은 단계(S30) 내지 단계(S36)를 포함하고, 단계(S30) 내지 단계(S36)는 순차적으로 수행될 수 있다. 단계(S30)에서, 기판(110)이 제공되며, 여기서 기판(110)은 가시 영역(VA) 및 주변 영역(PA)에 제각기 대응하는 제1 영역 및 제2 영역을 가지며, 기판(110)의 제1 영역에는 홀 영역(H)이 제공되어 있다. 단계(S32)에서, 홀 영역(H)이 관통 홀으로 형성된다. 단계(S34)에서, 기판(110)의 제1 영역 상에 전도성 층이 형성된다. 단계(S36)에서, 제1 터치 전극 층(120)이 제1 전극 라인(L1) 및 제2 전극 라인(L2)을 갖고, 제1 전극 라인(L1)의 일 부분 및 제2 전극 라인(L2)의 일 부분이 관통 홀의 윤곽을 따라 관통 홀의 에지에 인접하게 배치되도록, 제1 터치 전극 층(120)을 형성하기 위해 전도성 층이 패터닝된다. 이하의 설명에서는, 조정된 단계들에 대해서만 설명될 것이고, 나머지 생략된 설명에 대해서는 전술한 실시예에 대한 설명이 참조될 수 있다.In some other alternative embodiments, different process flows may be employed to manufacture the touch sensor 100 of the present disclosure. Specifically, the above-described steps (S22) and (S24) may be reversed. Specifically, in this embodiment, the manufacturing method of the touch sensor 100 includes steps (S30) to (S36), and steps (S30) to (S36) may be sequentially performed. In step S30 , a substrate 110 is provided, wherein the substrate 110 has a first area and a second area corresponding to the visible area VA and the peripheral area PA, respectively, and A hole area H is provided in the first area. In step S32 , the hole region H is formed as a through hole. In step S34 , a conductive layer is formed on the first region of the substrate 110 . In step S36 , the first touch electrode layer 120 has a first electrode line L1 and a second electrode line L2 , and a portion of the first electrode line L1 and the second electrode line L2 ), the conductive layer is patterned to form the first touch electrode layer 120 such that a portion of the portion is disposed adjacent to the edge of the through hole along the contour of the through hole. In the following description, only the adjusted steps will be described, and for the remaining omitted description, reference may be made to the description of the above-described embodiment.

단계(S32) 내지 단계(S34)에서, 사전에 기판(110)에 관통 홀이 형성되고, 이어서 기판(110)의 제1 영역 상에 전도성 층이 형성되기 때문에, 전도성 층에 추가 홀을 형성할 필요가 없다. 추가적으로, 전도성 층은 관통 홀의 위치를 선택적으로 피하도록 형성된다. 상기 단계들 이후에, 본 개시의 터치 센서(100)가 또한 형성될 수 있다. 본 개시에서 제공되는 터치 센서(100)의 제조 방법들 모두가 터치 센서(100)가 일정한 수율로 제공될 수 있게 하기 때문에, 제조 프로세스에서의 편의성을 개선시키기 위해 실제 필요에 따라 프로세스 흐름이 유연하게 조정될 수 있다.In steps S32 to S34, since a through hole is formed in the substrate 110 in advance, and then a conductive layer is formed on the first region of the substrate 110, an additional hole is to be formed in the conductive layer. no need. Additionally, the conductive layer is formed to selectively avoid the location of the through hole. After the above steps, the touch sensor 100 of the present disclosure may also be formed. Since all of the manufacturing methods of the touch sensor 100 provided in the present disclosure enable the touch sensor 100 to be provided at a constant yield, the process flow can be flexibly adjusted according to actual needs to improve convenience in the manufacturing process. can be adjusted.

도 5a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 터치 디스플레이 모듈(200)을 예시한 단면도이다. 일부 실시예에서, 전술한 터치 센서(도 3의 터치 센서(100a)를 예로 듦)는 디스플레이, 휴대폰, 태블릿 컴퓨터 등과 같은 터치 디스플레이 모듈(200)에 통합될 수 있다. 터치 디스플레이 모듈(200)은 전술한 장점을 구비할 수 있다. 일부 실시예에서, 터치 디스플레이 모듈(200)은 디스플레이 패널(210) 및 터치 센서(100a)를 포함하고, 터치 센서(100a)는 디스플레이 패널(210) 상에 배치된다. 일부 실시예에서, 디스플레이 패널(210)은, 예를 들어, 유기 발광 다이오드(OLED) 패널일 수 있다. 일부 실시예에서, 디스플레이 패널(210)은 터치 센서(100a)와 함께 터치 디스플레이 모듈(200)의 굴곡 요구사항을 실현하기 위해 가요성을 가질 수 있다.5A is a cross-sectional view illustrating a touch display module 200 according to some embodiments of the present disclosure. In some embodiments, the above-described touch sensor (taking the touch sensor 100a of FIG. 3 as an example) may be integrated into the touch display module 200 such as a display, a mobile phone, a tablet computer, or the like. The touch display module 200 may have the aforementioned advantages. In some embodiments, the touch display module 200 includes a display panel 210 and a touch sensor 100a , and the touch sensor 100a is disposed on the display panel 210 . In some embodiments, the display panel 210 may be, for example, an organic light emitting diode (OLED) panel. In some embodiments, the display panel 210 may be flexible to realize the bending requirements of the touch display module 200 together with the touch sensor 100a.

일부 실시예에서, 터치 디스플레이 모듈(200)은 커버(220)를 더 포함한다. 커버(220)와 디스플레이 패널(210)은 함께 이들 사이에 터치 센서(100a)를 끼우고 있다. 전체적인 적층 구조에서, 터치 센서(100a)와 커버(220)가 디스플레이 패널(210) 상에 순차적으로 적층된다. 일부 실시예에서, 커버(220)는, 업계에서 특정 강도 및 특정 가요성을 갖는 재료를 지칭하는, 가요성을 갖는 가요성 재료를 포함할 수 있다. 예를 들어, 그러한 재료는 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 폴리에테르 설파이드, 폴리에스테르, 폴리아미드 아민, 폴리부텐, 폴리에틸렌, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에테르 에테르 케톤, 폴리우레탄, 폴리에테르 이미드, 폴리테트라플루오로에틸렌, 아크릴, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 이에 따라, 커버(220)와 터치 센서(100a)는 함께 터치 디스플레이 모듈(200)의 굴곡 요구사항을 실현할 수 있다.In some embodiments, the touch display module 200 further includes a cover 220 . The cover 220 and the display panel 210 have the touch sensor 100a sandwiched therebetween. In the overall stacked structure, the touch sensor 100a and the cover 220 are sequentially stacked on the display panel 210 . In some embodiments, the cover 220 may comprise a flexible material having flexibility, which in the industry refers to a material having a specific strength and a specific flexibility. For example, such materials include polyimide, polycarbonate, polyvinyl chloride, polystyrene, polyether sulfide, polyester, polyamide amine, polybutene, polyethylene, polymethyl methacrylate, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate. , polyether ether ketone, polyurethane, polyether imide, polytetrafluoroethylene, acrylic, or combinations thereof. Accordingly, the cover 220 and the touch sensor 100a together can realize the bending requirement of the touch display module 200 .

일부 실시예에서, 터치 디스플레이 모듈(200)은, 예를 들어, 액정 코팅된 편광 층일 수 있는, 편광 층(230)을 더 포함한다. 일부 실시예에서, 편광 층(230)은 디스플레이 패널(210)과 터치 센서(100a) 사이에 배치될 수 있다. 예를 들어, 편광 층(230)은 디스플레이 패널(210)의 표면 상에 직접 형성될 수 있다. 즉, 디스플레이 패널(210)의 구조 층(도시되지 않음)이 편광 층(230)을 형성하기 위한 기판으로서 사용된다. 일부 실시예에서, 편광 층(230)은 터치 센서(100a)와 함께 터치 디스플레이 모듈(200)의 굴곡 요구사항을 실현하기 위해 가요성을 가질 수 있다.In some embodiments, the touch display module 200 further includes a polarization layer 230 , which may be, for example, a liquid crystal coated polarization layer. In some embodiments, the polarization layer 230 may be disposed between the display panel 210 and the touch sensor 100a. For example, the polarization layer 230 may be formed directly on the surface of the display panel 210 . That is, a structural layer (not shown) of the display panel 210 is used as a substrate for forming the polarization layer 230 . In some embodiments, the polarization layer 230 may be flexible to realize the bending requirements of the touch display module 200 in conjunction with the touch sensor 100a.

일부 실시예에서, 터치 디스플레이 모듈(200)은 보호 층(240)을 더 포함한다. 보호 층(240)은, 예를 들어, 터치 센서(100a)의 전체 표면을 덮을 수 있다. 즉, 보호 층(240)은 터치 센서(100a)의 제1 터치 전극 층(120)과 주변 회로 층(130)을 덮고, 전기 절연을 제공하기 위해 인접한 전극 라인(L)과 인접한 주변 회로 사이를 충전한다. 일부 실시예에서, 보호 층(240)은, 비전도성 수지 또는 다른 유기 재료와 같은, 그러나 이에 제한되지 않는, 절연 재료를 포함하는 하드 코팅 층일 수 있다. 일부 실시예에서, 보호 층(240)은 터치 센서(100a)와 함께 터치 디스플레이 모듈(200)의 굴곡 요구사항을 실현하기 위해 가요성을 갖는다. 추가적으로, 층들 간의 본딩을 용이하게 하기 위해 각각의 층 사이에, 광학적으로 투명한 접착제와 같은, 접착제 층이 선택적으로 배치될 수 있다.In some embodiments, the touch display module 200 further includes a protective layer 240 . The protective layer 240 may cover the entire surface of the touch sensor 100a, for example. That is, the protective layer 240 covers the first touch electrode layer 120 and the peripheral circuit layer 130 of the touch sensor 100a, and provides electrical insulation between the adjacent electrode line L and the adjacent peripheral circuit. recharge In some embodiments, the protective layer 240 may be a hard coating layer comprising an insulating material, such as, but not limited to, a non-conductive resin or other organic material. In some embodiments, the protective layer 240 is flexible to realize the bending requirements of the touch display module 200 with the touch sensor 100a. Additionally, an adhesive layer, such as an optically clear adhesive, may optionally be disposed between each layer to facilitate bonding between the layers.

전술한 층의 경우, 광학 컴포넌트가 홀 영역(H) 및 구멍(O1 내지 O3)에 대응하게 배치될 수 있도록, 디스플레이 패널(210), 편광 층(230) 및 보호 층(240)에는 제각기 터치 센서(100a)의 홀 영역(H)에 대응하게 홀(O1 내지 O3)이 제공될 수 있다. 예를 들어, 터치 센서(100a)로부터 멀어지는 쪽을 향해 있는 디스플레이 패널(210)의 표면 상에 홀 영역(H) 및 홀(O1 내지 O3)에 대응하게 광학 컴포넌트가 배치될 수 있다. 이에 따라, 가시 영역(VA)에 대응하게 광학 컴포넌트를 갖는 터치 디스플레이 모듈(200)이 형성될 수 있어, 이에 의해 터치 디스플레이 모듈(200)에 대한 좁은 베젤의 요구사항을 실현할 수 있다. 일부 실시예에서, 광학 컴포넌트가 실제 필요에 따라 홀(O1 내지 O3)에 추가로 수용될 수 있고, 홀(O1, O2) 및 심지어 홀(O3)에 있는 광학 컴포넌트의 실제 수용 깊이가 필요에 따라 설계될 수 있다.In the case of the above-mentioned layer, the display panel 210, the polarization layer 230, and the protective layer 240 have the respective touch sensors so that the optical component can be disposed corresponding to the hole region H and the holes O1 to O3. Holes O1 to O3 may be provided to correspond to the hole region H of 100a. For example, an optical component may be disposed on the surface of the display panel 210 facing away from the touch sensor 100a to correspond to the hole region H and the holes O1 to O3 . Accordingly, the touch display module 200 having an optical component corresponding to the visible area VA may be formed, thereby realizing the requirement of a narrow bezel for the touch display module 200 . In some embodiments, optical components may be further accommodated in holes O1 to O3 according to actual needs, and the actual receiving depths of optical components in holes O1 , O2 and even holes O3 may be adjusted as needed. can be designed

도 5b는 본 개시의 일부 다른 실시예에 따른 터치 디스플레이 모듈(200a)을 예시한 단면도이다. 도 5b의 터치 디스플레이 모듈(200a)과 도 5a의 터치 디스플레이 모듈(200) 사이의 적어도 하나의 차이점은 터치 디스플레이 모듈(200a)의 편광 층(230)이 터치 센서(100a)와 커버(220) 사이에 배치될 수 있다는 것에 있다. 예를 들어, 편광 층(230)은 커버(220)의 표면 상에 직접 형성될 수 있다. 즉, 커버(220)가 편광 층(230)을 형성하기 위한 기판으로서 사용된다.5B is a cross-sectional view illustrating a touch display module 200a according to some other embodiments of the present disclosure. At least one difference between the touch display module 200a of FIG. 5B and the touch display module 200 of FIG. 5A is that the polarization layer 230 of the touch display module 200a is disposed between the touch sensor 100a and the cover 220 . in that it can be placed in For example, the polarization layer 230 may be formed directly on the surface of the cover 220 . That is, the cover 220 is used as a substrate for forming the polarization layer 230 .

본 개시의 전술한 실시예에 따르면, 본 개시의 터치 센서가 가시 영역에 대응하게 배치되는 홀 영역을 갖기 때문에, 터치 센서가 광학 기능을 갖는 터치 디스플레이 모듈에 통합될 때, 터치 디스플레이 모듈의 광학 컴포넌트가 홀 영역에 대응하게 배치될 수 있다. 그 결과, 광학 컴포넌트를 배치하기 위한 주변 영역에서의 공간이 절감될 수 있고, 터치 디스플레이 모듈에 대한 좁은 베젤의 설계 요구사항이 추가로 달성된다. 추가적으로, 터치 디스플레이 모듈의 광학 컴포넌트가 가시 영역에 대응하게 배치되기 때문에, 배치된 터치 센서의 주변 영역에 주변 배선을 배열하는 것이 광학 컴포넌트의 위치를 피할 필요가 없으며, 주변 영역의 굴곡이 광학 컴포넌트에 의해 제한되지 않는다. 따라서, 터치 센서는 다양한 굴곡 설계를 달성할 수 있다. 한편, 터치 전극의 배열과 터치 전극 층에서의 전극 패턴의 설계를 통해, 터치 전극은 홀 영역을 우회하면서 양호한 터치 기능을 유지할 수 있다. 추가적으로, 본 개시의 터치 센서의 제조 프로세스에서, 실제 필요에 따라 제조 단계가 유연하게 조정될 수 있어, 이에 의해 제조 프로세스의 편의성을 개선시킬 수 있다.According to the above-described embodiment of the present disclosure, since the touch sensor of the present disclosure has a hall area disposed corresponding to the visible area, when the touch sensor is integrated into a touch display module having an optical function, the optical component of the touch display module may be disposed to correspond to the hole area. As a result, the space in the peripheral area for arranging the optical component can be saved, and the design requirement of a narrow bezel for the touch display module is further achieved. Additionally, since the optical component of the touch display module is disposed to correspond to the visible region, arranging the peripheral wiring in the peripheral region of the disposed touch sensor does not need to avoid the position of the optical component, and the curvature of the peripheral region affects the optical component. not limited by Thus, the touch sensor can achieve various curvature designs. On the other hand, through the arrangement of the touch electrodes and the design of the electrode pattern in the touch electrode layer, the touch electrode can maintain a good touch function while bypassing the hole area. Additionally, in the manufacturing process of the touch sensor of the present disclosure, the manufacturing steps may be flexibly adjusted according to actual needs, thereby improving the convenience of the manufacturing process.

본 개시가 그의 특정 실시예를 참조하여 상당히 상세하게 설명되었지만, 다른 실시예도 가능하다. 따라서, 첨부된 청구항의 사상 및 범위가 본 명세서에 포함된 실시예에 대한 설명으로 제한되지 않아야 한다.Although the present disclosure has been described in considerable detail with reference to specific embodiments thereof, other embodiments are possible. Accordingly, the spirit and scope of the appended claims should not be limited to the description of the embodiments contained herein.

본 개시의 범위 또는 사상을 벗어나지 않으면서 본 개시의 구조에 대해 다양한 수정 및 변경이 이루어질 수 있음이 본 기술 분야의 통상의 기술자에게는 명백할 것이다. 전술한 내용을 고려하여, 본 개시는 이하의 청구항의 범위 내에 속하기만 한다면 본 개시의 수정 및 변경을 포함하는 것으로 의도된다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and changes can be made to the structure of the present disclosure without departing from the scope or spirit of the disclosure. In view of the foregoing, this disclosure is intended to cover modifications and variations of this disclosure provided they come within the scope of the following claims.

Claims (19)

가시 영역 및 상기 가시 영역의 적어도 하나의 측면 상의 주변 영역을 갖는 터치 센서에 있어서,
상기 가시 영역에 대응하는 홀(hole) 영역을 갖는 기판 - 상기 홀 영역은 제1 에지를 가짐 -; 및
상기 기판 상에 배치되고 상기 가시 영역에 대응하는 제1 터치 전극 층 - 상기 제1 터치 전극 층은 제1 방향을 따라 연장되는 제1 전극 라인을 포함하고, 상기 제1 전극 라인은 상기 제1 방향을 따라 상기 홀 영역에 가까운 제1 부분과 상기 홀 영역으로부터 멀리 떨어진 제2 부분을 가지며, 상기 제1 전극 라인의 제1 부분은 상기 제1 전극 라인의 제2 부분에 연결되고, 상기 제1 전극 라인의 제1 부분은 상기 홀 영역의 윤곽을 따라 상기 제1 에지에 인접하게 배치됨 -
을 포함하는, 터치 센서.
A touch sensor having a visible area and a peripheral area on at least one side of the visible area, the touch sensor comprising:
a substrate having a hole area corresponding to the visible area, the hole area having a first edge; and
a first touch electrode layer disposed on the substrate and corresponding to the visible region - the first touch electrode layer includes a first electrode line extending in a first direction, the first electrode line extending in the first direction has a first portion close to the hole region and a second portion far away from the hole region along a first portion of the line is disposed adjacent the first edge along the contour of the hole area;
Including, a touch sensor.
제1항에 있어서, 상기 제1 터치 전극 층은 매트릭스 및 상기 매트릭스 내에 분포된 복수의 금속 나노구조체들을 포함하는 것인, 터치 센서.The touch sensor of claim 1 , wherein the first touch electrode layer comprises a matrix and a plurality of metal nanostructures distributed within the matrix. 제1항에 있어서, 상기 홀 영역은 제2 에지를 더 가지며, 상기 제2 에지의 일 부분과 상기 제1 에지의 일 부분은 상기 홀 영역의 대향 측면들 상에 위치되는 것인, 터치 센서.The touch sensor according to claim 1, wherein the hole area further has a second edge, and a portion of the second edge and a portion of the first edge are located on opposite sides of the hole area. 제3항에 있어서, 상기 제1 터치 전극 층은 상기 제1 방향을 따라 연장되는 제2 전극 라인을 더 포함하고, 상기 제2 전극 라인은 상기 제1 전극 라인에 인접하여 상기 제1 전극 라인으로부터 이격되게 배치되며, 상기 제2 전극 라인은 상기 제1 방향을 따라 상기 홀 영역에 가까운 제1 부분과 상기 홀 영역으로부터 멀리 떨어진 제2 부분을 갖고, 상기 제2 전극 라인의 제1 부분은 상기 제2 전극 라인의 제2 부분에 연결되며, 상기 제2 전극 라인의 제1 부분은 상기 홀 영역의 윤곽을 따라 상기 제2 에지에 인접하게 배치되는 것인, 터치 센서.According to claim 3, wherein the first touch electrode layer further comprises a second electrode line extending along the first direction, the second electrode line is adjacent to the first electrode line from the first electrode line spaced apart, the second electrode line has a first portion close to the hole region and a second portion far away from the hole region along the first direction, and the first portion of the second electrode line includes the first portion of the second electrode line connected to a second portion of the second electrode line, wherein the first portion of the second electrode line is disposed adjacent to the second edge along the contour of the hole region. 제4항에 있어서, 상기 제1 전극 라인의 제1 부분과 상기 제2 전극 라인의 제1 부분 사이의 거리는 상기 제1 전극 라인의 제2 부분과 상기 제2 전극 라인의 제2 부분 사이의 거리보다 큰 것인, 터치 센서.5. The method of claim 4, wherein a distance between a first portion of the first electrode line and a first portion of the second electrode line is a distance between a second portion of the first electrode line and a second portion of the second electrode line. The bigger one, the touch sensor. 제4항에 있어서, 상기 제1 전극 라인의 제1 부분의 적어도 일 부분은 상기 홀 영역에 의해 상기 제2 전극 라인의 제1 부분의 적어도 일 부분으로부터 이격되는 것인, 터치 센서.The touch sensor according to claim 4, wherein at least a portion of the first portion of the first electrode line is spaced apart from at least a portion of the first portion of the second electrode line by the hole region. 제4항에 있어서, 상기 제1 전극 라인의 제2 부분과 상기 제2 전극 라인의 제2 부분은 실질적으로 평행한 것인, 터치 센서.The touch sensor of claim 4 , wherein the second portion of the first electrode line and the second portion of the second electrode line are substantially parallel. 제4항에 있어서, 상기 제1 전극 라인의 제1 부분과 상기 홀 영역의 제1 에지 사이의 거리는 100 μm 내지 400 μm이고, 상기 제2 전극 라인의 제1 부분과 상기 홀 영역의 제2 에지 사이의 거리는 100 μm 내지 400 μm인 것인, 터치 센서.5. The method of claim 4, wherein the distance between the first portion of the first electrode line and the first edge of the hole region is 100 μm to 400 μm, and the first part of the second electrode line and the second edge of the hole region The distance between them will be 100 μm to 400 μm, the touch sensor. 제4항에 있어서, 상기 제1 전극 라인의 제1 부분과 상기 제1 전극 라인의 제2 부분의 연결부는 둥근 모서리를 갖고, 상기 제2 전극 라인의 제1 부분과 상기 제2 전극 라인의 제2 부분의 연결부는 둥근 모서리를 갖는 것인, 터치 센서.5. The method of claim 4, wherein the connecting portion of the first portion of the first electrode line and the second portion of the first electrode line has a rounded corner, and the first portion of the second electrode line and the second portion of the second electrode line The touch sensor, wherein the connection of the two parts has rounded corners. 제1항에 있어서, 상기 제1 전극 라인은 일정 간격으로 배치되는 복수의 분기 라인들을 포함하고, 상기 분기 라인들은 평행하게 연결되는 것인, 터치 센서.The touch sensor of claim 1 , wherein the first electrode line includes a plurality of branch lines disposed at regular intervals, and the branch lines are connected in parallel. 제10항에 있어서, 상기 분기 라인들이 동시에 상기 제1 방향을 따라 상기 홀 영역과 만날(encounter) 때, 상기 분기 라인들은 상기 홀 영역의 윤곽을 따라 상기 홀 영역의 제1 에지에 인접하도록 함께 결합되는 것인, 터치 센서.11. The method of claim 10, wherein when the branch lines simultaneously encounter the hole area along the first direction, the branch lines join together to be adjacent to a first edge of the hole area along the contour of the hole area The one that becomes, the touch sensor. 제11항에 있어서, 상기 제1 터치 전극 층의 상기 제1 전극 라인은 제3 부분을 더 가지며, 상기 제1 전극 라인의 제2 부분과 상기 제1 전극 라인의 제3 부분은 상기 제1 전극 라인의 상기 분기 라인들 중 2개를 구성하며, 상기 제1 전극 라인의 제1 부분이 상기 분기 라인들이 함께 결합되는 부분을 구성하도록, 상기 제3 부분이 상기 제1 전극 라인의 제1 부분에 연결되는 것인, 터치 센서.The method of claim 11, wherein the first electrode line of the first touch electrode layer further has a third portion, and the second portion of the first electrode line and the third portion of the first electrode line are the first electrode the third portion is attached to the first portion of the first electrode line such that a first portion of the first electrode line constitutes a portion to which the branch lines are coupled together, constituting two of the branch lines of a line. What is connected is the touch sensor. 제1항에 있어서, 상기 터치 센서는 제2 터치 전극 층을 더 포함하고, 상기 기판은 제1 표면 및 상기 제1 표면으로부터 멀어지는 쪽을 향해 있는 제2 표면을 가지며, 상기 제1 터치 전극 층과 상기 제2 터치 전극 층은 제각기 상기 기판의 상기 제1 표면과 상기 제2 표면 상에 배치되고; 또는 상기 제1 터치 전극 층과 상기 제2 터치 전극 층은 상기 기판의 상기 제1 표면 또는 상기 제2 표면의 측면 상에 배치되며, 절연 층에 의해 전기적으로 절연되는 것인, 터치 센서.The touch sensor of claim 1 , further comprising a second touch electrode layer, the substrate having a first surface and a second surface facing away from the first surface, the first touch electrode layer and the second touch electrode layer is disposed on the first surface and the second surface of the substrate, respectively; or the first touch electrode layer and the second touch electrode layer are disposed on a side surface of the first surface or the second surface of the substrate, and are electrically insulated by an insulating layer. 제13항에 있어서, 상기 제2 터치 전극 층은 제2 방향을 따라 연장되는 제5 전극 라인을 포함하고, 상기 제2 방향은 상기 제1 방향에 수직이며, 상기 제5 전극 라인은 상기 제2 방향을 따라 상기 홀 영역에 가까운 제1 부분과 상기 홀 영역으로부터 멀리 떨어진 제2 부분을 갖고, 상기 제5 전극 라인의 제1 부분은 상기 제5 전극 라인의 제2 부분에 연결되며, 상기 제5 전극 라인의 제1 부분은 상기 홀 영역의 윤곽을 따라 상기 홀 영역의 에지에 인접하게 배치되는 것인, 터치 센서.The method of claim 13 , wherein the second touch electrode layer includes a fifth electrode line extending in a second direction, the second direction being perpendicular to the first direction, and the fifth electrode line extending in the second direction. along a direction having a first portion close to the hole region and a second portion remote from the hole region, wherein a first portion of the fifth electrode line is connected to a second portion of the fifth electrode line, the fifth electrode line being connected to the fifth electrode line. The first portion of the electrode line is disposed adjacent to the edge of the hole region along the contour of the hole region, the touch sensor. 터치 디스플레이 모듈에 있어서,
디스플레이 패널; 및
상기 디스플레이 패널 상에 배치되는 제1항의 터치 센서
를 포함하는, 터치 디스플레이 모듈.
In the touch display module,
display panel; and
The touch sensor of claim 1 disposed on the display panel
Including, a touch display module.
제15항에 있어서,
상기 터치 센서 상에 배치되는 커버
를 더 포함하는, 터치 디스플레이 모듈.
16. The method of claim 15,
a cover disposed on the touch sensor
Further comprising, a touch display module.
제16항에 있어서,
상기 디스플레이 패널과 상기 터치 센서 사이에 또는 상기 터치 센서와 상기 커버 사이에 배치되는 편광 층
을 더 포함하는, 터치 디스플레이 모듈.
17. The method of claim 16,
a polarizing layer disposed between the display panel and the touch sensor or between the touch sensor and the cover
Further comprising, a touch display module.
제15항에 있어서, 상기 디스플레이 패널은 상기 홀 영역에 대응하는 홀을 갖는 것인, 터치 디스플레이 모듈.The touch display module according to claim 15, wherein the display panel has a hole corresponding to the hole area. 제18항에 있어서,
상기 홀에 수용되는 광학 컴포넌트
를 더 포함하는, 터치 디스플레이 모듈.
19. The method of claim 18,
an optical component received in the hole
Further comprising, a touch display module.
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