KR20210024105A - 플라스틱을 분쇄하고 그로부터 분말상 물질을 생산하기 위한 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
열가소성 고분자, 특히 열가소성 엘라스토머를 분쇄하고 그로부터 미리 정의된 입자 분포를 갖는 분말상 물질을 생산하기 위한 방법 및 장치로서, 상기 방법은 적어도 다음의 단계 즉, 분쇄 장치(분쇄기(58))에서 덩어리 형태로 제공되는 열가소성 고분자를 출발 분말로 분쇄하는 단계, 및 이후 이 출발 분말을 미리 정의된 입자 분포(48)에 도달할 때까지 적어도 한번 선별(체(46))하는 단계를 포함한다. 출발 분말의 점성 및 응집 형성력을 감소시키는 이형제는 분쇄 단계 동안 분쇄 장치에 공급(파이프(60))된다.
Description
본 발명은 열가소성 고분자를 분쇄하고 그로부터 미리 정의된 입자 분포를 갖는 분말상 물질을 생산하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.
목표는 500㎛ 미만, 특히 100㎛ 미만의 입자 크기, 예를 들어 30㎛ 내지 100㎛ 범위의 입자이다. 지정할 수 있는 최대 상한은 800㎛이다. 하한은 수 나노미터 범위, 바람직하게는 약 1㎛ 또는 10㎛이다. 가능하다면, 구형과의 편차는 입자의 최소 단면 치수가 이들 입자의 최대 단면 치수의 20% 이상, 바람직하게는 50% 이상이 되도록 해야 한다.
그러한 분말상 물질은 많은 사용 분야, 예를 들어 3D 프린팅, 분말 코팅 등에 필요하다. 개별 입자가 더 구형일수록 분말은 더 유동적이다. 이러한 종류의 분말은 각 경우에 필요하고 개별 용도에 맞게 미리 정의된 입자 분포로 시장에서 요구된다. 특정 분말을 생산하기 위해서, 먼저 열가소성 고분자가 덩어리 형태로 제공되는 출발 물질이 분쇄 단계에서 출발 분말로 분쇄되고, 선별 과정에서 원하는 입자 분포(분말 분포 또는 입자 밴드라고도 함)를 얻는 방식으로 출발 분말이 선별된다. 이후, 이러한 최종 분말은 포장 및 운송된다.
그러한 분말상 물질을 제조하는 장치는 독일 특허 제20 2016 106 243 U1호에서 알려져 있다. 여기에서, 플라스틱 출발 생성물의 핫멜트는 용융물이 빠져나와 액적으로 분리되어 떨어지는 노즐 장치에 공급된다. 액적은 극저온 가스에 의해 냉각되어 떨어져 하부 영역에서 수집된다. 이후, 선별 및 포장이 이루어진다.
또한, 플라스틱 출발 생성물을 용매에 먼저 용해시키고 그로부터 입자를 획득하는 방법, 예를 들어 획득한 용액을 원자화 또는 분무하고 용매가 실질적으로 휘발될 때까지 획득한 액적을 분리된 상태로 유지하는 방법이 알려져 있다. 이러한 방법에서는 플라스틱을 더 높은 온도로 올릴 필요가 없기 때문에 이러한 점에서 화학 변화가 예상되지 않는다. 그러나, 용매는 플라스틱에 영향을 미친다.
분말을 분쇄하고 생산하는 방법 및 장치는 업계에서 사용되고 있다. 국제 특허 제2007/008480 A1호는 극저온에서 분쇄하여 분말을 생산하는 방법을 기술하고, 극저온 분쇄에 대한 알려진 선행 기술을 설명의 도입부 몇 페이지에서 상세하게 기술한다. 유럽 특허 제2 957 598 A1호는 극저온 분쇄에 의해 분말로 변환된 폴리아미드를 생산하는 방법을 개시한다. 이후, 선별 공정이 수행된다.
극저온은 일반적으로 -150℃ 이하의 온도로 이해된다. 당면한 출원의 경우, -50℃ 이하의 온도가 포함되어야 하고, 이는 드라이아이스 CO2를 사용한 냉각도 포함한다.
저온에서 분쇄 단계를 수행하지 않을 수도 있다. 고분자의 유리전이온도가 -20℃ 이하, 특히 30℃ 이하인 경우 일반적으로 저온 분쇄가 필요하며, 그렇지 않으면, 각각의 고분자가 정상적으로 분쇄될 수 없다.
전술한 방법은 플라스틱 출발 물질을 분말상 플라스틱으로 분쇄하는 예이다. 추가적인 분쇄 방법은 선행 기술에서 알려져 있다.
분쇄할 때, 시장에서 요구하고 원하는 분말상 최종 생성물은 일반적으로 즉시 얻어지지 않는다. 시장은 필요에 따라, 예를 들어 특정 3D 프린터를 위해 원하는 분말상 물질의 크기 및 분포를 지정한다. 정확한 입자 분포를 얻기 위해, 분쇄 단계에서 얻은 분말상 플라스틱(출발 분말)은 적어도 한번 선별된다. 여러 번의 선별 공정이 차례로 수행될 수 있다. 이러한 경우, 입자 분포는 분쇄 및 선별이 수행되는 방법에 따라서도 달라진다. 적어도 하나의 선별 공정이 분쇄 공정에 맞게 적용되고 조정된다. 그것은 또한 미리 정의된 입자 분포에 맞게 적용된다.
선택된 분쇄 공정에 따라, 얻어진 분말상 물질은 개별 입자 또는 과립의 특징적인 모양을 갖는다. 전형적인 모양은 궁극적으로 원하는 구형에서 어느 정도 벗어날 수 있다. 예를 들어, 과립은 둥글지 않고, 예를 들어 부속물(꼬리)을 가질 수 있고, 비교적 평평한 것(평판)일 수 있고, 막대 모양일 수 있다. 이는 선별 공정 및 선별 결과에 영향을 미친다. 분쇄 단계 이후 및 선별 단계 이전에 과립을 둥글게 만드는 공정이 수행될 수 있다. 이와 관련하여, 출원인은 예를 들어, 독일 특허 제10 2017 100 98호를 참조한다.
방법이 실제로 수행됨에 따라, 특히 열가소성 엘라스토머로부터, 예를 들어 연성 TPU를 갈아서 출발 분말을 얻고 그것이 특정 점성을 나타내는 경우, 선별 공정 중에 분쇄 단계에 의해 야기된 문제들이 발생하는 것으로 밝혀졌다. 장치의 처리량은 빈번하게 크게 감소된다. 선별 장치가 막히는 경향이 있다. 환경적으로 건전한 선별 공정이 빈번하게 수행될 수 없다.
이러한 배경으로, 본 발명의 목표는 선별 공정이 더 쉬어지고 개선되는 방식으로 열가소성 고분자를 분쇄하고, 그로부터 분말을 생산하는 이전 방법 및 이전 장치를 개선하는 것이다.
이러한 목표는 열가소성 고분자, 특히 열가소성 엘라스토머를 분쇄하고, 그로부터 미리 정의된 입자 분포를 갖는 분말상 물질을 생산하기 위한 방법에 의해 달성되고, 방법은
- 덩어리 형태로 출발 물질로서 제공되는 열가소성 고분자를 분쇄 장치에서 출발 분말로 분쇄하는 단계
- 미리 정의된 입자 분포에 도달할 때까지 적어도 한번 출발 분말을 선별하는 단계
- 바람직하게, 이러한 방식으로 얻은 최종 분말을 채우는 단계를 포함하고,
출발 분말의 점성 및 응집 형성력을 감소시키는 이형제가 분쇄 단계 동안 분쇄 장치에 공급된다.
이러한 방법에 의해 안정적인 선별 공정이 달성될 수 있다. 일정한 분말 분포가 달성되었다. 처리량이 상당히 예를 들어, 10배 증가하였다. 또한, 최종 분말의 벌크 중량이 적어도 10%, 가장 빈번하게는 최소 20% 증가하였다.
분쇄 방법은 선행 기술로부터 알려진 확립된 분쇄 방법 중 하나 이후에 수행된다. 중요한 예는 위에서 언급된다. 기계적 분쇄는 일반적으로 분쇄기에서 수행되고, 본 경우에서는 예를 들어, 선풍 분쇄기, 핀 분쇄기, 볼 분쇄기 등이 사용된다. 분무 탑이 사용되는 경우, 분쇄는 분무 탑에서 원자화 및 열가소성 고분자를 용융 또는 용해시킴으로써 달성된다.
미리 정의된 입자 분포는 일반적으로 시장에 의해, 가장 빈번하게는 특정 고객에 의해 지정된다. 입자 분포의 전형적인 예는 d90 < 125㎛, 60㎛ 내지 80㎛ 사이의 d50, 20㎛ 내지 30㎛ 사이의 d10이다. 덩어리 형태로 제공되는 고분자는 과립 형태, 막대 형태, 블록 형태, 상업적으로 이용 가능한 배송 형태 또는 다른 형태의 열가소성 고분자 출발 물질을 포함하는 것으로 이해된다. 출발 물질의 덩어리는 출발 분말의 크기보다 적어도 천배 이상인 크기, 바람직하게는 센티미터 범위 이상의 크기를 갖는다.
일반적으로는 각 경우에 1개의 고분자만 상기 방법에 따라 처리되지만, 2개 이상의 고분자를 동일한 장치에서 동시에 처리할 수도 있다.
선별 공정의 개선으로 인해 최종 분말에서 10㎛보다 작은 미분 함량이 최소화된다. 따라서, 추가적인 탈진 단계가 생략될 수 있다. 처리하는 동안 및 최종 분말의 후속 추가 처리 중에도 예를 들어 최종 고객의 건강 보호가 개선된다. 최종 분말의 자유 유동성이 선행 기술에 따른 최종 분말보다 상당히 개선된다. 응집 형성이 적게 되어 선별 공정이 더 쉬어지기 때문에, 분쇄 단계로 다시 보내야 하는 거친 입자 함량이 적다. 본 발명은 분쇄 단계로 다시 보내야 하는 거친 입자 물질의 비율을 상당히 감소시킬 수 있다. 각각의 분쇄 단계가 반복됨에 따라 미분 함량 비율이 증가하기 때문에, 이는 실제로 이미 정확한 크기를 가지고 있는 입자를 다시 분쇄하는 결과를 낳는다. 출발 분말 또는 최종 분말을 탈진하는 단계가 추가적으로 수행될 수 있고, 본 발명에 따르면 더 적은 노력으로 수행될 수 있다.
방법은 분쇄 단계 이후에 점성 및 응집 형성을 나타내는 경향이 있는 열가소성 물질에 적합하다. 또한, 방법은 예를 들어, PP, PA, PPS, ABS, PBT, PE, PS, PET, PMMA, PC, PEEK, PEKK와 같은 열가소성 고분자에 적합하다. 특히 바람직하게, 방법은 TPU, 에스테르계 및 에테르계 열가소성 물질, 예를 들어 TPEE에 적합하다.
이형제는 바람직하게는 매우 미세한 분말 형태로 제공된다. 이형제는 먼지 같은 방식으로 출발 분말의 입자를 코팅하여 출발 분말의 인접한 두 입자 사이의 직접적인 접촉을 방지한다. 따라서, 출발 분말의 자유 유동성이 향상된다. 이형제는 첨가제, 고화 방지제 또는 응집 방지제라고도 부를 수 있다. 출발 분말의 유동성은 이형제에 의해 개선된다. 공정 플랜트 즉, 그 파이프, 회전 공급기 등에서의 유동성도 개선된다.
금속 스테아린산염 및 아미드 왁스는 특히 선호되는 이형제이다. 이형제의 용융 온도는 바람직하게는 50℃와 160℃ 사이의 범위에 있어야 한다.
분쇄 단계 이후에 출발 분말을 가열하는 것이 가능하다. 따라서, 선별 단계는 사례별로 더 편리한 방식으로 수행될 수 있다.
첨가제의 후속 사용이 자주 요구된다. 선행 기술에 따르면, 이를 위해서는 추가적인 방법 단계가 필요하다. 본 발명에 따르면, 분쇄 단계 동안 첨가제가 이미 첨가되기 때문에 그러한 단계가 더 이상 필요하지 않거나, 이형제 외에 추가로 제공되는 다른 첨가제가 함께 추가될 수 있다.
목표는 방법을 수행하는 역할을 하는 장치에 의해 또한 달성될 수 있다. 열가소성 고분자, 특히 열가소성 엘라스토머를 분쇄하고, 그로부터 미리 정의된 입자 분포를 갖는 분말상 물질을 생산하기 위한 장치는
- 출발 물질로서 덩어리 형태로 제공되는 열가소성 고분자용 분쇄 장치로서, 바람직하게는 분쇄기 또는 분무 탑을 포함하고, 열가소성 고분자용 주입구, 출발 분말용 배출구, 및 선택적으로 예를 들어 극저온 가스용과 같은 추가 공급 파이프가 있는 분쇄 장치, 및
- 분쇄 장치의 하류에 배치되고, 바람직하게는 출발 분말이 운송되는 파이프라인을 통해 연결되는 선별 장치로서, 미리 정의된 입자 분포를 위해 설계된 적어도 하나의 체를 포함하는 선별 장치를 포함한다. 분쇄 장치에는 이형제를 분쇄 장치에 도입하기 위한 공급 파이프가 있다.
선별 단계와는 별도의 시간에 분쇄 단계를 수행할 수도 있다. 직사각형 메시 체(Oblong-mesh screen) 예를 들어, Allgaier 회사의 300 x 110 ㎛ 직사각형 메시 텀블링 체인 AVTM1600이 체로 사용될 수 있다.
선별 장치의 상류에 위치한 모든 구성 요소 즉, 회전 공급기, 운송 펌프 등은 분쇄 장치의 일부로 간주된다.
예
예 1: 덩어리 형태의 TPU가 선풍 분쇄기의 분쇄 루프에 도입되어 분쇄된다. (분쇄기에 도입되는 TPU 기준으로) Baerlocher 회사의 아미드 왁스 Baerolub L-AS 1 wt%가 TPU와 함께 도입된다. 분쇄 공정 동안, 분쇄기는 출발 분말에서 이형제의 우수한 분포에 영향을 미친다. 공정에서, 이형제의 윤활 효과는 유리한 것으로 보인다.
예 2: 공정은 예 1과 동일하지만, 0.13 wt%의 산화알루미늄(Alu C)이 이형제로 첨가된다. 입자 분포 d90 < 125㎛, 60㎛ 내지 80㎛ 사이의 d50, 20㎛ 내지 30㎛ 사이의 d10을 위해 372 g/l의 벌크 중량이 달성된다.
예 3: 공정은 예 2와 동일하지만, 2 wt%의 Ca 스테아린산염(Valtris Specialty Chemicals 회사의 114-36 L3)이 이형제로 첨가된다. 전술한 입자 분포를 위해 462 g/l의 벌크 중량이 달성된다. 예 2와 비교할 때, 선별 장치의 처리량을 약 50% 향상시킬 수 있었다.
본 발명의 다른 장점 및 기능은 본 발명의 2개의 예시적인 실시예에 대한 다음의 설명뿐만 아니라 다른 청구 범위로부터 명백해지며, 이는 제한하지 않는 것으로 이해되어야 하고 도면을 참조하여 후술된다.
도 1은 용융 및 원자화에 의해 열가소성 물질을 분쇄하는 장치의 개략도를 도시한다.
도 2는 도 1과 유사하지만 분쇄가 분쇄기에 의해 기계적으로 수행되는 장치의 개략도를 도시한다.
도 1은 용융 및 원자화에 의해 열가소성 물질을 분쇄하는 장치의 개략도를 도시한다.
도 2는 도 1과 유사하지만 분쇄가 분쇄기에 의해 기계적으로 수행되는 장치의 개략도를 도시한다.
먼저, 도 1에 따른 장치를 설명하고, 도 2에 따른 장치는 그 개별 구성 요소가 도 1에 따른 장치와 상이한 경우에만 설명한다.
과립 형태로 제공되는 TPU는 용융 용기(20)에서 용융된다. 용융된 TPU는 펌프(24)에 의해 운송되어 용융 용기(20)로부터 컨베이어 파이프(22)를 통해 분무 탑을 형성하는 용기(26)로 공급된다. 용융된 물질이 공급되는 노즐 어셈블리(28)는 용기(26) 내 상단에 위치한다. 액체 물질은 예를 들어, 얇은 실 형태로 그 노즐 개구부를 빠져 나와 좀 더 아래에서 액적으로 분리된다. 노즐 어셈블리(28)로부터의 거리가 증가함에 따라 액적은 더 둥글게 되고, 그로부터 자유 낙하 입자들이 형성되고, 그들은 수직으로 아래로 떨어진다.
극저온 가스, 특히 액체 질소용 공급 파이프(30)는 컨베이어 파이프(20) 옆의 용기로 위에서 돌출된다. 공급 파이프(30)는 본 경우에서는 노즐 어셈블리(28) 위와 외부에 위치한 링으로 구성되는 공급 장치(32)에 연결된다.
고분자 물질은 콘(34) 내의 노즐 어셈블리(28)에서 빠져 나온다. 극저온 가스는 콘의 엔벨로프(36) 모양으로 공급 장치를 빠져 나오고, 콘(34)은 콘의 엔벨로프(36) 내에 위치한다. 콘(34)은 가능하면 용기(26) 측벽에 부딪히지 않도록 배향된다.
측면 노즐(38) 또는 유사한 도입 장치는 용기(26)의 하부 영역에 위치한다. 이형제인 금속 스테아린산염은 가능하면 용기(26)의 하부 영역에 이형제의 층(40)이 형성되도록 측면 노즐을 통해 용기(26) 내부로 도입된다(화살표 참조). 액적은 이러한 층(40)을 통해 떨어지기 때문에 어느 정도 이형제로 코팅된다. 공정 제어에 따라, 이형제의 일부는 층(40)에서 아래쪽으로 떨어지고, 이러한 일부는 비스듬한 벽을 갖는 배출구 영역에 떨어진다. 입자는 비스듬한 벽을 친 후 천천히 배출구(42)의 가장 아래쪽 부분에 도달한다. 따라서, 입자는 비스듬한 벽에 머무는 동안 이형제로 또한 코팅될 수 있다. 입자는 비스듬한 벽 위 및 층(40) 아래에 위치하는 동안 이형제로 또한 코팅될 수 있다.
용기(26)의 하부 영역에서, 끝부분은 원뿔 모양의 배출구(42)를 갖는다. 그곳에서, 코팅된 액적은 실질적으로 더이상 변형될 수 없을 정도로 냉각되어 출발 분말을 형성한다. 이는 이제 선별 장치(44)에 도착한다. 수정된 것에서는 도 2에서 알 수 있듯이 회전 공급기가 삽입될 수 있다. 그것은 분쇄 장치의 일부이다. 수정된 것에서는 이러한 회전 공급기에 이형제를 공급할 수 있다.
선별 장치(44)는 선행 기술에 따라 구성된다. 도면을 단순화하기 위해, 도면에는 한 개의 체(46)만 있다. 미리 정의된 입자 분포는 체(46)를 통과하고(화살표(48) 참조), 나머지는 배출된다(화살표(50) 참조).
도 2에 따른 장치에서, 과립 형태의 TPU는 공급 용기(52)에 위치한다. 과립은 회전 공급기(54)를 통해 분쇄기(58)(본 경우에서는 핀 분쇄기로 구성)의 유입부(56)에 공급된다. 이형제(본 경우에서는 아미드 왁스)용 파이프(60)는 추가적으로 분쇄기(58)를 향한 공급 파이프로 연결된다. 따라서, 과립 및 이형제는 동시에 분쇄기(58)의 유입부(56)로 들어가서 분쇄 공정동안 분쇄기(58)에서 직접적으로 혼합된다.
도 1의 것과 유사한 조건이 배출구 측에 제공된다. 또한, 본 경우에서 분쇄기(58)의 배출구(42)는 선별 장치(44)에 직접 연결된다.
실질적으로는, 바람직하게는 등의 용어 및 정확하지 않은 것으로 이해될 수 있는 표시는 정상 값에서 +/- 5%, 바람직하게는 +/- 2% 및 특히 +/- 1%의 편차가 가능하다는 의미로 이해되어야 한다. 출원인은 청구항의 모든 기능 및 하위 기능을 결합할 수 있는 권리 및/또는 설명 문장의 모든 기능 및 일부 기능을, 독립항의 기능을 벗어나는 경우에도, 다른 기능, 하위 기능 또는 모든 형태의 일부 기능과 결합할 수 있는 권리가 있다. 또한, 출원인은 모든 기능 및 일부 기능을 삭제할 권리가 있다.
도면에서, 기능면에서 동등한 부품에는 항상 동일한 참조 번호가 부여되기 때문에 원칙적으로 한번만 설명한다.
20: 용융 용기
22: 컨베이어 파이프
24: 펌프
26: 용기
28: 노즐 어셈블리
30: 공급 파이프
32: 공급 장치
34: 콘(cone)
36: 콘 엔벨로프(cone envelope)
38: 노즐
40: 층(layer)
42: 배출구
44: 선별 장치
46: 체
48: 화살표
50: 화살표
52: 공급 용기
54: 회전 공급기
56: 유입부
58: 분쇄기
60: 파이프
22: 컨베이어 파이프
24: 펌프
26: 용기
28: 노즐 어셈블리
30: 공급 파이프
32: 공급 장치
34: 콘(cone)
36: 콘 엔벨로프(cone envelope)
38: 노즐
40: 층(layer)
42: 배출구
44: 선별 장치
46: 체
48: 화살표
50: 화살표
52: 공급 용기
54: 회전 공급기
56: 유입부
58: 분쇄기
60: 파이프
Claims (16)
- 열가소성 고분자, 특히 열가소성 엘라스토머를 분쇄하고 그로부터 미리 정의된 입자 분포를 갖는 분말상 물질을 생산하기 위한 방법으로서,
- 덩어리 형태로 제공되는 상기 열가소성 고분자를 분쇄 장치에서 출발 분말로 분쇄하는 단계
- 상기 미리 정의된 입자 분포에 도달할 때까지 적어도 한번 상기 출발 분말을 선별하는 단계를 포함하고,
상기 출발 분말의 점성 및 응집 형성력을 감소시키는 이형제는 상기 분쇄 단계동안 상기 분쇄 장치에 공급되는 것을 특징으로 하는 방법. - 제1 항에 있어서, 상기 이형제는 다음의 군 즉, 계면활성제, 왁스, 금속 비누에서 적어도 하나로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 항 또는 제2 항에 있어서, 상기 이형제는 소수성인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 항 내지 제3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이형제는 상기 고분자의 용융점 온도와 최대 30℃, 바람직하게는 최대 20℃, 특히 최대 10℃ 차이가 나는 용융점 온도를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이형제는 상기 출발 분말의 생산이 완료되기 전에 공급되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 선별 단계에서 적어도 하나의 기계적으로 움직이는 체(46), 특히 진동 체(46), 텀블링 동작을 수행하는 체(46), 초음파에 의해 여기된 체(46)가 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 항 내지 제6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이형제는 상기 열가소성 고분자의 중량을 기준으로 최대 5 wt%, 특히 최대 3 wt%, 바람직하게는 최대 2 wt%로 공급되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이형제는 상기 열가소성 고분자의 중량을 기준으로 적어도 0.1 wt%, 특히 적어도 0.2 wt%로 공급되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 분쇄 단계는 분쇄기에서 수행되고, 상기 이형제는 덩어리 형태로 제공되는 상기 열가소성 고분자와 함께 상기 분쇄기에 도입되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 분쇄 단계는 적어도 하나의 분무 노즐 및 배출구(42)를 갖는 분무 탑을 이용하고, 상기 이형제는 상기 분무 탑으로, 특히 상기 분무 노즐과 상기 배출구(42) 사이에서 상기 분무 탑으로 도입되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 항 내지 제10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 열가소성 고분자는 정상 온도에서의 Shore A 경도가 90 미만, 특히 80 미만, 바람직하게는 70 미만인 것을 특징으로 하는 방법.
- 열가소성 고분자, 특히 열가소성 엘라스토머를 분쇄하고 그로부터 미리 정의된 입자 분포를 갖는 분말상 물질을 생산하기 위한 장치로서,
- 덩어리 형태로 제공되는 열가소성 고분자용 분쇄 장치로서, 바람직하게는 분쇄기 또는 분무 탑을 포함하고, 상기 열가소성 고분자용 주입구, 출발 분말용 배출구(42), 및 선택적으로 예를 들어 극저온 가스용과 같은 추가 공급 파이프(30)가 있는 분쇄 장치
- 상기 분쇄 장치의 하류에 배치되고, 상기 출발 분말이 전달되는 파이프라인을 통해 연결되는 선별 장치(44)로서, 상기 미리 정의된 입자 분포를 위해 설계된 적어도 하나의 체(46)를 갖는 선별 장치(44)를 포함하고,
상기 분쇄 장치는 상기 분쇄 장치에 이형제를 도입하기 위한 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 장치. - 제12 항에 있어서, 상기 수단은 상기 이형제용 파이프(30) 또는 노즐(38)이고, 상기 수단은 바람직하게는 상기 열가소성 고분자용 주입구 또는 선택적인 추가 공급 파이프(30)와 통합되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제12 항 또는 제13 항에 있어서, 상기 분쇄 장치는 적어도 하나의 분무 노즐 및 배출구(42)를 갖는 분무 탑이 있고, 이형제를 도입하기 위한 수단은 상기 분무 노즐과 상기 배출구(42) 사이에서 상기 분무 탑에 배치된 적어도 하나의 노즐(38)인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제14 항에 있어서, 상기 분무 노즐을 빠져나온 액적은 상기 분무 탑 내에서 상기 배출구(42)쪽으로 이동하고, 특히 상기 배출구(42)쪽으로 떨어지고, 상기 노즐(38)은 상기 액적이 이동하는 이형제의 미스트를 상기 분무 탑에서 발생시키기 위해 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제12 항 또는 제13 항에 있어서, 상기 분쇄 장치는 분쇄기를 포함하고, 상기 이형제용 파이프(30)는 상기 열가소성 고분자용 및/또는 선택적으로는 극저온 가스용 유입부(56)와 함께 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
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