KR20160096021A - 박리 장치, 박리 시스템, 박리 방법 및 컴퓨터 판독 가능 정보 기억 매체 - Google Patents
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Abstract
제1 기판과 제2 기판이 접합된 중합 기판을 상기 제1 기판과 상기 제2 기판으로 박리하는 박리 장치로서, 상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 박리 기점으로서의 절입을 형성하는 날부와, 상기 날부의 날끝의 상태를 검사하는 검사부를 구비하고, 상기 검사부는, 상기 날부의 날끝을 촬상하는 촬상부와, 상기 촬상부의 화상을 화상 처리하는 화상 처리부를 갖는, 박리 장치.
Description
도 2는 일실시형태에 따른 중합 기판의 평면도이다.
도 3은 일실시형태에 따른 중합 기판의 단면도이다.
도 4는 도 3의 일부 확대도이다.
도 5는 일실시형태에 따른 박리 방법의 흐름도이다.
도 6은 일실시형태에 따른 박리 장치의 단면도이다.
도 7은 일실시형태에 따른 검사부의 측면도이다.
도 8은 일실시형태에 따른 촬상부가 촬상하는 촬상 영역을 나타내는 평면도로서, 도 14에 나타내는 상태에서의 날부와 중합 기판의 위치 관계를 나타내는 평면도이다.
도 9는 일실시형태에 따른 촬상부가 촬상한 화상을 나타내는 도면이다.
도 10은 일실시형태에 따른 박리 방법의 흐름도이다.
도 11은 프레임 유지부가 프레임을 유지한 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
도 12는 도 11의 상태로부터 프레임 유지부를 하강시켜, 기판 유지부가 테이프를 통해 피처리 기판을 유지한 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
도 13은 도 12의 상태로부터 날부를 삽입 방향으로 이동시켜, 날부를 중합 기판에 접촉시킨 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
도 14는 도 13의 상태로부터 날부를 삽입 방향으로 더 이동시킨 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
도 15는 도 14의 상태로부터 날부를 삽입 방향으로 더 이동시키며, 기판 유지부 및 프레임 유지부를 하강시킨 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
도 16은 기판 외주 유지부 및 기판 중앙 유지부에 의해 지지 기판을 유지한 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
도 17은 도 16의 상태로부터 기판 외주 유지부를 상승시킨 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
도 18은 도 17의 상태로부터 기판 외주 유지부 및 기판 중앙 유지부를 상승시킨 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
15 박리 장치
16 제1 세정 장치
30 제어 장치
40 출력 장치
130 박리 기점 형성부
131 날부
131a 날끝
132 Z 방향 이동부
133 Y 방향 이동부
134 X 방향 이동부
140 검사부
141 광원부
142 촬상부
142P 화상
142P-1 암부
142P-2 명부
142P-3 경계선
145 촬상 부위 변경부
147 화상 처리부
Claims (16)
- 제1 기판과 제2 기판이 접합된 중합 기판을 상기 제1 기판과 상기 제2 기판으로 박리하는 박리 장치로서,
상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 박리 기점으로서의 절입을 형성하는 날부와,
상기 날부의 날끝의 상태를 검사하는 검사부를 구비하고,
상기 검사부는, 상기 날끝을 촬상하는 촬상부와, 상기 촬상부의 화상을 화상 처리하는 화상 처리부를 갖는 것인 박리 장치. - 제1항에 있어서,
상기 검사부의 검사 결과에 기초한, 상기 날끝의 절입 개시 위치의 변경을 행하는 위치 변경부를 구비하는 박리 장치. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 촬상부는 상기 날끝을 부분적으로 촬상하고,
상기 검사부는, 상기 날끝의 촬상 부위를 변경하는 촬상 부위 변경부를 구비하는 것인 박리 장치. - 제3항에 있어서,
상기 화상 처리부는, 상기 촬상 부위가 상이한 복수의 상기 화상을 화상 처리함으로써, 상기 날끝의 상태를 나타내는 맵을 작성하는 것인 박리 장치. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 검사부는, 상기 날끝에 대하여 광을 조사하는 광원부를 구비하고,
상기 화상은, 상기 광이 상기 날부에 가려짐으로써 형성되는 암부와, 상기 광이 상기 날부의 바깥을 통과함으로써 형성되는 명부를 포함하며,
상기 화상 처리부는, 상기 암부와 상기 명부의 경계선을 검출하는 것인 박리 장치. - 제1 기판과 제2 기판이 접합된 중합 기판을 상기 제1 기판과 상기 제2 기판으로 박리하는 박리 장치로서,
상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 박리 기점으로서의 절입을 형성하는 날부와,
상기 날부의 날끝의 상태를 검사하는 검사부와,
상기 검사부의 검사 결과에 기초한, 상기 날끝의 절입 개시 위치의 변경을 행하는 위치 변경부를 구비하는 박리 장치. - 제1항, 제2항, 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 검사부의 검사 결과에 기초한 경보를 출력하는 출력부를 구비하는 박리 장치. - 제1 기판과 제2 기판이 접합된 중합 기판을 상기 제1 기판과 상기 제2 기판으로 박리하는 박리 장치, 및 박리 후의 상기 제1 기판을 세정하는 세정 장치를 구비하는 박리 시스템으로서,
상기 박리 장치로서, 제1항, 제2항, 제6항 중 어느 한 항에 기재된 박리 장치를 구비하는 박리 시스템. - 제1 기판과 제2 기판이 접합된 중합 기판을 상기 제1 기판과 상기 제2 기판으로 박리하는 박리 방법으로서,
상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 날부를 삽입함으로써 박리 기점으로서의 절입을 형성하고, 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 상기 박리 기점으로부터 박리하는 처리 공정과,
상기 날부의 날끝을 촬상부에 촬상시키고, 상기 촬상부가 촬상한 화상을 화상 처리함으로써, 상기 날끝의 상태를 검사하는 검사 공정을 갖는 박리 방법. - 제9항에 있어서,
상기 검사 공정의 검사 결과에 기초하여, 상기 날끝의 절입 개시 위치를 변경하는 위치 변경 공정을 갖는 박리 방법. - 제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 촬상부는 상기 날끝을 부분적으로 촬상하고,
상기 검사 공정에서는, 상기 날끝의 촬상 부위를 변경하면서, 상기 촬상부에 의한 촬상을 반복해서 행하는 것인 박리 방법. - 제11항에 있어서,
상기 검사 공정에서는, 상기 촬상 부위가 상이한 복수의 상기 화상을 화상 처리함으로써, 상기 날끝의 상태를 나타내는 맵을 작성하는 것인 박리 방법. - 제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 검사 공정에서는, 상기 날끝에 대하여 광을 조사하고,
상기 화상은, 상기 광이 상기 날부에 가려짐으로써 형성되는 암부와, 상기 광이 상기 날부의 바깥을 통과함으로써 형성되는 명부를 포함하며,
상기 검사 공정에서는, 상기 암부와 상기 명부의 경계선을 검출하는 것인 박리 방법. - 제1 기판과 제2 기판이 접합된 중합 기판을 상기 제1 기판과 상기 제2 기판으로 박리하는 박리 방법으로서,
상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 날부를 삽입함으로써 박리 기점으로서의 절입을 형성하고, 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 상기 박리 기점으로부터 박리하는 처리 공정과,
상기 날부의 날끝의 상태를 검사하는 검사 공정과,
상기 검사 공정의 검사 결과에 기초하여, 상기 날끝의 절입 개시 위치를 변경하는 위치 변경 공정을 구비하는 박리 방법. - 제9항, 제10항, 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 검사 공정의 검사 결과에 기초한 경보를 출력하는 출력 공정을 갖는 박리 방법. - 제9항, 제10항, 제14항 중 어느 한 항에 기재된 박리 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 정보 기억 매체.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015019876A JP6345611B2 (ja) | 2015-02-04 | 2015-02-04 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム、および情報記憶媒体 |
JPJP-P-2015-019876 | 2015-02-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160096021A true KR20160096021A (ko) | 2016-08-12 |
Family
ID=56554719
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160011199A Ceased KR20160096021A (ko) | 2015-02-04 | 2016-01-29 | 박리 장치, 박리 시스템, 박리 방법 및 컴퓨터 판독 가능 정보 기억 매체 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9576854B2 (ko) |
JP (1) | JP6345611B2 (ko) |
KR (1) | KR20160096021A (ko) |
TW (1) | TWI638426B (ko) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20160129 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20201030 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20160129 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20220511 Patent event code: PE09021S01D |
|
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20221123 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20220511 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |
|
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
PJ0201 | Trial against decision of rejection |
Patent event date: 20230210 Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal Patent event code: PJ02012R01D Patent event date: 20221123 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PJ02011S01I Appeal kind category: Appeal against decision to decline refusal Appeal identifier: 2023101000301 Request date: 20230210 |
|
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2023101000301; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20230210 Effective date: 20230531 |
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PJ1301 | Trial decision |
Patent event code: PJ13011S01D Patent event date: 20230531 Comment text: Trial Decision on Objection to Decision on Refusal Appeal kind category: Appeal against decision to decline refusal Request date: 20230210 Decision date: 20230531 Appeal identifier: 2023101000301 |