KR20140075498A - 점착제 조성물 및 이를 이용한 편광판 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 점착제 조성물 및 이를 이용한 편광판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 포지티브 C 형성 화합물을 일정량 함유함으로써, 점착성과 동시에 위상차 보상이 가능한 점착제 조성물과 상기 점착제 조성물을 도포하여 포지티브 C 위상차를 구현하기 위한 별도의 필름이 사용되지 않으므로 두께가 현저히 감소된 박막형 편광판에 관한 것이다.
Description
본 발명은 위상차 보상이 가능한 점착제 조성물 및 이를 이용한 편광판에 관한 것이다.
액정 표시 장치는 투명 전극, 액정층, 컬러 필터 등을 유리판 사이에 끼워 넣은 액정셀과, 상기 액정셀 양면에 점착제층에 의해 접합되는 편광판으로 구성된다.
편광판은 편광자와 그 양면에 편광자 보호필름이 적층된다. 점착제와 접합되는 편광자 보호필름은 셀룰로오스계 보호필름 또는 시클로올레핀계 보호필름이 사용되고, 그 반대면에는 셀룰로오스계 보호필름이 사용되는 것이 일반적이다.
상기 편광자 보호필름 상에는 표면처리필름, 위상차 필름 등의 광학 기능성 필름이 적층될 수 있다.
특히 위상차 필름은 목적으로 하는 위상차 보상을 구현하기 위해서는 다양한 위상차 필름을 조합하여 적층하는 것이 일반적이므로[일본특허등록 제3926824호], 편광판의 두께가 증가되는 경향이 있다. 최근 편광판의 저가화 및 박형화에 대한 요구가 확대되고 있어 이러한 요구를 충족하기 위해서는 두께의 감소와 함께 위상차 보상 효과를 발현할 수 있는 편광판의 개발이 절실히 필요한 실정이다.
본 발명은 점착 특성과 동시에 포지티브 C 위상차 보상이 가능한 점착제 조성물을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명은 상기 점착제 조성물을 이용하여 종래에 비해 두께가 현저히 감소되어 박형화가 가능한 편광판을 제공하고자 한다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 포지티브 C 형성 화합물이 총 고형분 100중량부에 대하여, 1 내지 30중량부 함유된 것인 점착제 조성물을 제공한다.
바람직하기로, 상기 포지티브 C 형성 화합물은 5 내지 20중량부 함유될 수 있다.
상기 점착제 조성물은 아크릴계 공중합체 및 포지티브 C 형성 화합물이 함유될 수 있다.
또한, 본 발명은 적어도 일면에 편광자 보호필름이 접합된 편광자의 보호필름상에, 상기 점착제 조성물이 도포된 편광판을 제공한다.
상기 편광자 보호필름은 위상차 필름일 수 있다.
본 발명의 점착제 조성물은 점착 특성과 동시에 포지티브 C 위상차 보상이 가능하여, 종래 편광판의 위상차 구현을 위해 사용되는 포지티브 C 위상차 필름이 사용되지 않으므로 편광판의 박막화가 가능하다는 이점이 있다.
본 발명은 위상차 보상이 가능한 점착제 조성물 및 이를 이용한 편광판에 관한 것이다.
이하 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 점착제 조성물은 포지티브 C 형성 화합물이 총 고형분 100중량부에 대하여, 1 내지 30중량부 함유된다. 바람직하기로, 상기 포지티브 C 형성 화합물은 5 내지 20중량부 함유될 수 있다.
상기 함유량이 1중량부 미만이면 그 양이 미미하여 목적으로 하는 위상차 구현이 어려울 수 있고 30중량부를 초과하는 경우에는 다른 성분과의 상용성 저하되어 헤이즈가 발생되거나 점착력이 저하될 수 있다.
포지티브 C 형성 화합물은 당 분야에서 일반적으로 사용되는 것으로, 액정화합물 또는 고분자화합물이 사용될 수 있다.
상기 액정화합물은 저분자 액정화합물 또는 고분자 액정화합물이 사용될 수 있으며, 점착제 조성물과의 상용성을 고려하면 저분자 액정화합물이 바람직하다. 저분자 액정화합물은 구체적으로 아조메틴류, 아족시류, 시아노비페닐류, 시아노페닐에스테르류, 안식향산에스테르류, 시클로헥산칼본산페닐에스테르류, 시아노페닐시클로헥산류, 시아노치환페닐피리미딘류, 알콕시치환페닐피리미딘류, 페닐디옥산류, 및 알케닐시클로헥실벤조니트릴류 등이 사용될 수 있다.
상기 고분자화합물은 할로겐이 치환된 주사슬 및 할로겐이 치환된 탄소수 6 내지 12의 아릴기를 갖는 곁사슬을 포함하고, 탄소와 할로겐 원소의 몰비가 6:4 내지 8:2이고 유리전이온도가 150 내지 250℃인 고분자를 포함하는 것일 수 있다. 상기 유리전이온도는 180 내지 230℃, 할로겐은 불소, 아릴기는 페닐기 또는 나프탈렌기인 것이 바람직하다.
이러한 고분자화합물은 중량평균분자량이 100,000 내지 1,000,000인 것이 바람직하다. 상기 중량평균분자량일 수 있다.
본 발명에 따른 포지티브 C를 형성하는 상기 고분자화합물은 주사슬에 전자받개인 할로겐원소를 도입하고, 곁사슬에는 전자주개인 아릴기를 도입하므로, 전자주개-받개의 작용에 의해 포지티브 C의 구현을 위한 수직 배향이 가능하다.
특히 본 발명의 점착제 조성물은 IPS모드 및 FFS모드 액정표시장치에 적용 시 별도의 시야각 보상필름을 사용하지 않고도 시야각 특성을 개선할 수 있다.
통상 상기 IPS모드 및 FFS모드 액정표시장치는 시야각 보상필름을 사용하지 않으면 블랙상태의 경사각에서 빛샘이 발생하여 낮은 콘트라스트비를 가지게 되므로 이를 개선하고자 위상차 보상이 요구된다.
본 발명의 점착제 조성물은 점착제 특성과 동시에 포지티브 C의 구현이 가능하므로 IPS모드 및 FFS모드 액정표시장치에 적용 시 위상차 보상의 효과에 의해 정면 및 경사각에서의 콘트라스트 특성이 향상되고 블랙상태에서 시야각에 따른 빛샘을 최소화할 수 있다.
본 발명에 따른 점착제 조성물은 점착력을 발현하기 위한 주요 수지성분을 함유하며, 상기 수지 성분은 특별히 한정하지 않는다. 예를 들면 아크릴계, 실리콘계, 폴리에스테르계, 폴리우레탄계, 폴리아미드계, 폴리에테르계, 불소계 및 고무계 등이 있으며, 광학적 투명성, 젖음성, 응집성, 접착성 등을 고려하면 아크릴계가 바람직하다.
본 발명은 아크릴계 점착제 조성물을 일례로 하여 구체적으로 설명하고자 하나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
아크릴계 점착제 조성물은 탄소수 1-12의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트 단량체로 이루어지며, 상기 탄소수 1-12의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트 단량체로는 n-부틸(메타)아크릴레이트, 2-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있으며, 이들 중에서 n-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 또는 이들의 혼합물이 바람직하다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
이외에 가교 가능한 관능기를 갖는 중합성 단량체를 추가로 함유할 수 있다.
상기 가교 가능한 관능기를 갖는 중합성 단량체는 예컨대 히드록시기를 갖는 단량체, 카르복시기를 갖는 단량체, 아미드기를 갖는 단량체, 3차 아민기를 갖는 단량체 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
히드록시기를 갖는 단량체로는 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 알킬렌기의 탄소수가 2-4인 히드록시알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸비닐에테르, 5-히드록시펜틸비닐에테르, 6-히드록시헥실비닐에테르, 7-히드록시헵틸비닐에테르, 8-히드록시옥틸비닐에테르, 9-히드록시노닐비닐에테르, 및 10-히드록시데실비닐에테르 등을 들 수 있으며, 이들 중에서 4-히드록시부틸비닐에테르가 바람직하다.
카르복시기를 갖는 단량체로는 (메타)아크릴산, 크로톤산 등의 1가산; 말레인산, 이타콘산, 푸마르산 등의 2가산 및 이들의 모노알킬에스테르; 3-(메타)아크릴로일프로피온산; 알킬기의 탄소수가 2-3인 2-히드록시알킬(메타)아크릴레이트의 무수호박산 개환 부가체, 알킬렌기의 탄소수가 2-4인 히드록시알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트의 무수 호박산 개환 부가체, 알킬기의 탄소수가 2-3인 2-히드록시알킬(메타)아크릴레이트의 카프로락톤 부가체에 무수 호박산을 개환 부가시킨 화합물 등을 들 수 있으며, 이들 중에서 (메타)아크릴산이 바람직하다.
아미드기를 갖는 단량체로는 (메타)아크릴아미드, N-이소프로필아크릴아미드, N-3차부틸아크릴아미드, 3-히드록시프로필(메타)아크릴아미드, 4-히드록시부틸(메타)아크릴아미드, 6-히드록시헥실(메타)아크릴아미드, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴아미드, 및 2-히드록시에틸헥실(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있으며, 이들 중에서 (메타)아크릴아미드가 바람직하다.
3차 아민기를 갖는 단량체로는 N,N-(디메틸아미노)에틸(메타)아크릴레이트, N,N-(디에틸아미노)에틸(메타)아크릴레이트, 및 N,N-(디메틸아미노)프로필(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 아크릴계 공중합체는 상기 단량체들 이외에 다른 중합성 단량체를 점착력을 저하시키지 않는 범위, 예컨대 총량에 대하여 10중량부 이하로 더 함유할 수 있다.
공중합체의 제조방법은 특별히 한정되지 않으며, 당 분야에서 통상적으로 사용되는 괴상중합, 용액중합, 유화중합 또는 현탁중합 등의 방법을 이용하여 제조할 수 있으며, 용액중합이 바람직하다. 또한, 중합 시 통상 사용되는 용매, 중합개시제, 분자량 제어를 위한 연쇄이동제 등을 사용할 수 있다.
상기 아크릴계 점착제 조성물은 가교제를 추가로 함유할 수 있다. 가교제는 밀착성 및 내구성을 향상시킬 수 있고, 고온에서의 신뢰성 및 점착제의 형상을 유지시킬 수 있다.
상기 가교제는 이소시아네이트계, 에폭시계, 멜라민계, 과산화물계, 금속킬레이트계, 옥사졸린계 등이 사용될 수 있으며, 1종 또는 2종 이상을 혼합 사용할 수 있다. 이중 이소시아네이트계 또는 에폭시계가 바람직하다.
상기와 같은 성분 이외에, 점착제 조성물은 용도에 따라 요구되는 점착력, 응집력, 점성, 탄성률, 유리전이온도 등을 조절하기 위하여, 실란커플링제, 점착성 부여 수지, 산화방지제, 레벨링제, 표면윤활제, 염료, 안료, 소포제, 충전제, 대전방지제 등의 첨가제를 더 함유할 수 있다.
본 발명은 적어도 일면에 편광자 보호필름이 접합된 편광자의 보호필름상에, 상기 점착제 조성물이 도포된 편광판에 특징이 있다.
상기 편광자 보호필름은 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성 등이 우수한 것으로 특별히 제안되지 않으며, 구체적으로 아크릴레이트계, 셀룰로스계, 시클로올레핀계 또는 폴리에스테르계 등이 사용될 수 있다.
또한, 상기 편광자 보호필름은 광학보상의 역할을 동시에 수행할 수 있는 위상차 필름일 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
제조예
1 :
편광자
제조
중합도가 2,400이고, 비누화도가 99.9몰% 이상인 75㎛ 두께의 PVA 필름을 건식으로 약 5배로 일축연신하고, 긴장 상태를 유지한 채로 60℃의 증류수에 1분 동안 침지한 후 요오드/요오드화칼륨/증류수의 중량비가 0.05/5/100인 28℃의 수용액에서 60초 동안 침지하였다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/증류수의 중량비가 8.5/8.5/100인 72℃ 수용액에 300초 동안 침지하고, 26℃의 증류수로 20초 동안 세정한 후 65℃에서 건조하여 폴리비닐알콜계 필름에 요오드가 흡착 배향된 편광자를 제조하였다.
제조예
2: 접착제 조성물 제조
아세토아세틸렌 변성 폴리비닐알콜 바인더 수지(Z200, (주)일본합성화학, 고형분 함량기준) 100중량부에 대하여 가교제로 글리옥살 10중량부와 Rockwood사) 5중량부를 혼합하여 접착제 조성물을 제조하였다.
제조예
3: 포지티브 C 형성 화합물(불소계 고분자 수지, J.
Org
.
Chem
. 2004. 69. 7083-7091)
(1)트리-플로오로에테닐징크(Tri-fluoroethenylzinc)
질소분위기에서 250ml삼각 플라스크를 드라이아이스와 프로판올을 이용하여 -20℃로 저온화시킨 후, 상기 플라스크에 염화아연(3.42g, 25.0mol)과 THF(15ml)를 넣었다. 이후에 15℃로 냉각시킨 1,1,1,2-테트라플로로에탄(2.5ml, 30.0mmol) 용액을 플라스크에 넣어 30분간 교반하였다. 이후에 리튬다이아이소프로필아마이드 용액(7ml, 50mmol)과 노말-부틸리튬(20ml, 2.5M, 50mmol)을 0℃에서 30분에 걸쳐 주사기로 천천히 플라스크에 주입하였다. 이후 서서히 상온까지 온도를 올려 노랑색 액체를 수득하였고 별도의 세척 없이 수득된 액체가 약50% 정도가 되도록 건조하였다.(수율 73%)
(2) 1,2,2-트리플루오로스티렌
절반 건조된 트리플로로에테닐징크 화합물(40ml, 17.5mmol)에 아이오도벤젠(2.85g, 14.0ml)과 팔라듐 촉매(Pd(PPh3)4, 0.28g, 1.5mol%)을 넣어 65℃에서 3시간 가량 가열하면서 교반하였다. 교반용액을 펜텐으로 정제 후 용매를 제거하여 무색 용액의 1,2,2-트리플로로스타이렌 화합물을 수득하였다.(수율 69%)
(3) 고분자화
질소분위기에서 250ml삼각 플라스크에 개시제인 AIBN(아조아이소부틸니트릴)를 10mg넣었다. 정제된 톨루엔 100ml와 단량체인 1,2,2-트리플루오로스티렌을 10ml 추가로 넣고 물중탕으로 70℃ 온도를 유지하면서 3시간 가량 교반시켰다. 이후이 천천히 충분량의 메탄올으로 여과시키고 건조하여 고분자를 수득하였다.(수율: 62%, 중량평균분자량: 430000, 중합도(PDI): 5.5)
실시예
1
1)점착제 조성물 제조
4-넥 재킷(neck jacket) 반응기(1L)에 교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하로트 및 질소 가스 도입관을 장치하고, 반응장치에 질소가스를 투입하여 치환시킨 후 에틸아세테이트 164중량부, n-부틸아크릴레이트 126중량부, 아크릴산 0.5중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 1.3중량부를 투입하고, 반응기의 외부온도를 50℃로 승온하였다. 이어서, 반응기에 에틸아세테이트 10중량부에 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.14중량부를 완전히 용해한 용액을 적하하였다. 재킷 외부 온도를 50℃로 유지하면서 추가적으로 5시간 동안 반응시킨 후 에틸아세테이트 90중량부를 1시간 동안 적하로트를 이용하여 천천히 적하하였다. 또한, 동일 온도에서 6시간 동안 추가적으로 교반한 후 에틸아세테이트 304중량부를 가하고, 다시 2시간 동안 교반하여 아크릴계 공중합체를 수득하였다. 제조된 아크릴계 공중합체는 고형분 함량이 20%, GPC법에 의한 중량평균분자량(폴리스티렌 환산)은 약 1,500,000이었다.
상기 제조된 아크릴계 공중합체 수지 100중량부(고형분 함량 기준), 가교제인 트리메틸올프로판-변성 톨릴렌디이소시아네이트(Coronate L, Nippon Polyurethane Industry사) 0.8중량부를 첨가하고, 총 고형분 함량 100중량부에 대하여 제조예 3의 포지티브 C 형성 화합물(불소계 고분자 수지)을 5중량부 첨가하여 점착제 조성물을 제조하였다.
상기에서 제조된 점착제 조성물을 실리콘 이형제가 코팅된 이형필름 상에 두께가 25㎛가 되도록 도포하고 100℃에서 1분 동안 건조시켜 점착층을 형성하였다. 이후에 점착제층 상에 이형필름을 라미네이션하여 점착시트를 제조하였다.
2) 편광판 제조
상기 제조예 1의 폴리비닐알콜(PVA) 편광자의 양 면에 제조예 2의 접착제 조성물을 건조막 두께가 0.1㎛가 되도록 도포한 후 상부에는 검화처리된 트리아세틸셀룰로오스계 필름(30㎝×20㎝)을, 하부에는 올레핀계 위상차 필름(네가티브 B 플레이트)을 접합하였다. 접합체를 약 65℃의 온도에서 5분 동안 건조하여 편광판을 제조하였다.
상기 편광판의 위상차 필름 상에, 1)에서 제조된 점착시트로부터 이형필름을 박리한 후 점착제층을 점착 가공으로 적층하여 점착제 부착 편광판을 제조하였다. 제조된 점착제 부착 편광판을 23℃, 60%RH의 조건 하에서 양생 기간 동안 보관하였다.
실시예
2
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 3의 포지티브 C 형성 화합물(불소계 고분자 수지) 대신에 아로마틱 화합물을 포함하는 액정화합물인 PaliocolorLC242(BASF社)을 사용하여 점착제 조성물 및 점착제 부착 편광판을 제조하였다.
실시예
3
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 3의 포지티브 C 형성 화합물(불소계 고분자 수지)를 10중량부 사용하여 점착제 조성물 및 점착제 부착 편광판을 제조하였다.
실시예
4
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 3의 포지티브 C 형성 화합물(불소계 고분자 수지)를 25중량부 사용하여 점착제 조성물 및 점착제 부착 편광판을 제조하였다.
비교예
1
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 3의 포지티브 C 형성 화합물(불소계 고분자 수지)를 0.5중량부 사용하여 점착제 조성물 및 점착제 부착 편광판을 제조하였다.
비교예
2
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 3의 포지티브 C 형성 화합물(불소계 고분자 수지)를 35중량부 사용하여 점착제 조성물 및 점착제 부착 편광판을 제조하였다.
시험예
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 점착제 조성물, 점착제 부착 편광판의 물성을 하기의 방법으로 측정하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
1.
위상차
측정
점착제층의 윗면을 검광기 방향으로 놓고 액소스캔(AXOSCAN, Axometrics製)를 이용하여 평균굴절율 1.52에 대해 Rth를 측정하였다. 상기 측정된 Rth값에서 올레핀계 위상차 필름(네가티브 B 플레이트)의 Rth를 빼주어 점착제층의 Rth를 산출하였다. 이때, Rth는 하기 수학식 1로 정의된다.
(식 중, nx, ny는 필름의 면상 굴절율로서 면상 굴절율이 최대가 되는 진동 방향을 x라고 할 때, 이 방향으로 진동하는 빛에 의한 굴절율을 nx라고 하고, nx와 ny는 서로 수직을 이루고 nx≥ny이며, nz는 nx와 ny에 의해 정의되는 평면에 수직방향(필름의 두께방향) 굴절율을 나타내며, d는 필름의 두께임)
2.광학특성
제조된 점착제 부착 편광판을 40×40mm크기로 커팅한 뒤 광학특성측정기(Haze METER(HM-150))를 이용하여, 투과율(%) 및 HAZE(%)를 측정하고 하기 방법으로 평가하였다.
[평가방법]
-투과율
90% 이상: ○
70% 이상 90% 미만: △
70% 미만: ×
-HAZE
1.5% 이하: ○
1.5% 초과 3% 미만: △
3% 이상: ×
3. 점착력
제조된 점착제 부착 편광판을 25㎜×100㎜의 크기로 절단하고 이형필름을 박리한 후 유리 기판(#1737, 코닝사)에 0.25MPa의 압력으로 라미네이션하고 50℃, 5기압의 조건으로 20분 동안 오토클레이브 처리하여 시편을 제작하였다. 제작된 시편을 23℃, 50%RH의 조건 하에서 24시간 방치한 후 만능인장시험기(UTM, Instron)를 사용하여 박리속도 10m/분, 박리각도 180°로 박리할 때의 점착력을 측정하였다. 이때, 측정은 23℃, 50%RH에서 수행하였다.
[평가방법]
5N 이상: ○
1N 이상 5N 미만: △
1N 미만: ×
구분 | 위상차 (㎜) |
광학특성 | 점착력 | |
투과율 | 헤이즈 | |||
실시예1 | -50 | ○ | ○ | ○ |
실시예2 | -50 | ○ | ○ | ○ |
실시예3 | -70 | ○ | ○ | ○ |
실시예4 | -100 | △ | △ | △ |
비교예1 | -5이하 | ○ | ○ | ○ |
비교예2 | -120 | × | × | × |
상기 표 1과 같이, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 4의 편광판은 비교예 1 내지 2와 비교하면, 별로의 위상차 필름을 사용하지 않고도 포지티브 C의 구현이 가능하면서 광학특성 및 점착력이 우수하다는 것을 확인할 수 있었다.
Claims (5)
- 포지티브 C 형성 화합물이 총 고형분 100중량부에 대하여, 1 내지 30중량부 함유된 것인 점착제 조성물.
- 청구항 1에 있어서, 상기 포지티브 C 형성 화합물은 5 내지 20중량부 함유된 것인 점착제 조성물.
- 청구항 1에 있어서, 상기 점착제 조성물은 아크릴계 공중합체 및 포지티브 C 형성 화합물이 함유된 것인 점착제 조성물.
- 적어도 일면에 편광자 보호필름이 접합된 편광자의 보호필름상에, 청구항 1 내지 3중 어느 한 항의 점착제 조성물이 도포된 편광판.
- 청구항 4에 있어서, 상기 편광자 보호필름은 위상차 필름인 편광판.
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-
2012
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