KR20130045175A - 부상 반송 장치 - Google Patents
부상 반송 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20130045175A KR20130045175A KR1020120113586A KR20120113586A KR20130045175A KR 20130045175 A KR20130045175 A KR 20130045175A KR 1020120113586 A KR1020120113586 A KR 1020120113586A KR 20120113586 A KR20120113586 A KR 20120113586A KR 20130045175 A KR20130045175 A KR 20130045175A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- valve
- differential pressure
- substrate
- main pipe
- floating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/063—Transporting devices for sheet glass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/068—Stacking or destacking devices; Means for preventing damage to stacked sheets, e.g. spaces
- B65G49/069—Means for avoiding damage to stacked plate glass, e.g. by interposing paper or powder spacers in the stack
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G51/00—Conveying articles through pipes or tubes by fluid flow or pressure; Conveying articles over a flat surface, e.g. the base of a trough, by jets located in the surface
- B65G51/02—Directly conveying the articles, e.g. slips, sheets, stockings, containers or workpieces, by flowing gases
- B65G51/03—Directly conveying the articles, e.g. slips, sheets, stockings, containers or workpieces, by flowing gases over a flat surface or in troughs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67736—Loading to or unloading from a conveyor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Control Of Fluid Pressure (AREA)
Abstract
[해결 수단] 분출구(11)와 흡인구(12)가 기판(W)이 반송되는 방향으로 복수개씩 배열된 표면을 가지는 부상 스테이지(2)와, 흡인력 공급 수단(30)과, 흡인력 공급 수단(30)과 연통(連通)하는 주 배관(13)과, 주 배관(13)과 연통하고 각각의 흡인구(12)와 연통하는 분기 배관(15)과, 주 배관(13)의 도중에 설치된 차압 댐퍼(damper)(20)를 구비하는 부상 반송 장치이고, 차압 댐퍼(20)는, 주 배관(13) 내와 외기를 연통하는 경로인 매니폴드(21) 및 당해 경로를 차단하는 밸브(22)를 가지고, 밸브(22)는, 주 배관(13) 내와 외기와의 차압이 밸브(22)에 미치는 외력에 의하여 개폐하는 동작을 취하며, 차압의 변화에 따라 밸브(22)가 동작하여 개도(開度)가 변화하는 것에 의하여, 소정의 차압을 보지(保持)하는 것을 특징으로 한다.
Description
도 2는 본 실시예에 있어서의 부상 스테이지의 개략도이다.
도 3은 본 실시예에 있어서의 차압 댐퍼의 개략도이다.
도 4는 본 실시예에 있어서의 흡인력의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 5는 다른 실시예에 있어서의 부상 스테이지의 개략도이다.
도 6은 다른 실시예에 있어서의 차압 댐퍼의 개략도이다.
도 7은 다른 실시예에 있어서의 분출력의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 8은 다른 실시예에 있어서의 부상 스테이지의 개략도이다.
도 9는 다른 실시예에 있어서의 부상 스테이지의 개략도이다.
도 10은 다른 실시예에 있어서의 부상 스테이지의 개략도이다.
도 11은 다른 실시예에 있어서의 차압 댐퍼의 개략도이다.
도 12는 다른 실시예에 있어서의 부상 스테이지의 개략도이다.
도 13은 반송 장치를 가진 도포 장치의 개략도이다.
도 14는 종래의 부상 반송 장치의 개략도이다.
도 15는 종래의 부상 반송 장치를 이용한 기판 반송의 일례의 개략도이다.
3 : 반송 수단 10 : 부상판
11 : 분출구 12 : 흡인구
13 : 주 배관 14 : 매니폴드
15 : 분기 배관 20 : 차압 댐퍼
21 : 매니폴드 22 : 밸브
23 : 축 24 : 추
25 : 스토퍼 26 : 저항 수단
27 : 접속구 28 : 베어링
29 : 축 30 : 흡인력 공급 수단
31 : 기체 공급 수단 33 : 주 배관
34 : 매니폴드 35 : 분기 배관
40 : 차압 댐퍼 41 : 매니폴드
42 : 밸브 43 : 축
44 : 추 45 : 스토퍼
46 : 저항 수단 80 : 도포 장치
81 : 반송 장치 82 : 도포부
91 : 부상 반송 장치 92 : 분출구
93 : 흡인구 94 : 흡인력 공급 수단
W : 기판
Claims (4)
- 기판을 부상(浮上)시켜 반송(搬送)하는 부상 반송 장치이고,
기체를 분출하는 분출구와 기체를 흡인하는 흡인구가 기판이 반송되는 방향으로 복수개씩 배열된 표면을 가지고, 기체의 분출 및 흡인에 의하여 기판을 소정의 높이로 부상시키는 부상 스테이지와,
상기 흡인구에 흡인력을 공급하는 흡인력 공급 수단과,
상기 흡인력 공급 수단과 연통(連通)하는 주 배관과,
상기 주 배관과 연통하고, 각각의 상기 흡인구와 연통하는 분기 배관과,
상기 주 배관의 도중에 설치된 차압 댐퍼(damper)
를 구비하고,
상기 차압 댐퍼는, 상기 주 배관 내와 외기(外氣)를 연통하는 경로 및 당해 경로를 차단하는 밸브를 가지고, 상기 밸브는, 상기 주 배관 내와 외기와의 차압이 당해 밸브에 미치는 외력에 의하여 개폐하는 동작을 취하며, 상기 차압의 변화에 따라 상기 밸브가 동작하여 개도(開度)가 변화하는 것에 의하여, 소정의 상기 차압을 보지(保持)하는 것을 특징으로 하는, 부상 반송 장치. - 기판을 부상시켜 반송하는 부상 반송 장치이고,
기체를 분출하는 분출구가 기판이 반송되는 방향으로 복수개 배열된 표면을 가지고, 기체의 분출에 의하여 기판을 소정의 높이로 부상시키는 부상 스테이지와,
상기 분출구에 기체를 공급하는 기체 공급 수단과,
상기 기체 공급 수단과 연통하는 주 배관과,
상기 주 배관과 연통하고, 각각의 상기 분출구와 연통하는 분기 배관과,
상기 주 배관의 도중에 설치된 차압 댐퍼
를 구비하고,
상기 차압 댐퍼는, 상기 주 배관 내와 외기를 연통하는 경로 및 당해 경로를 차단하는 밸브를 가지고, 상기 밸브는, 상기 주 배관 내와 외기와의 차압이 당해 밸브에 미치는 외력에 의하여 개폐하는 동작을 취하며, 상기 차압의 변화에 따라 상기 밸브가 동작하여 개도가 변화하는 것에 의하여, 소정의 상기 차압을 보지하는 것을 특징으로 하는, 부상 반송 장치. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 차압 댐퍼는, 상기 밸브의 동작 범위를 소정의 범위로 제한하는 스토퍼(stopper)를 가지는 것을 특징으로 하는, 부상 반송 장치. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 차압 댐퍼는, 상기 밸브의 동작에 대한 저항 수단을 가지고, 상기 밸브의 동작 속도를 억제하는 것을 특징으로 하는, 부상 반송 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011233533A JP5871366B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | 浮上搬送装置 |
JPJP-P-2011-233533 | 2011-10-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130045175A true KR20130045175A (ko) | 2013-05-03 |
Family
ID=48411123
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020120113586A Ceased KR20130045175A (ko) | 2011-10-25 | 2012-10-12 | 부상 반송 장치 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5871366B2 (ko) |
KR (1) | KR20130045175A (ko) |
CN (1) | CN103112719B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102355530B1 (ko) * | 2021-12-15 | 2022-01-24 | 권태성 | Nct가공장치 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103771133A (zh) * | 2014-01-23 | 2014-05-07 | 南通剑桥输送设备有限公司 | 一种可调节高度的气动传输装置 |
CN104555348A (zh) * | 2014-11-28 | 2015-04-29 | 祥鑫科技股份有限公司 | 气吹浮起式输料带 |
CN105084000B (zh) * | 2015-06-23 | 2017-04-19 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种玻璃放置和取出方法 |
CN105712045B (zh) * | 2016-04-27 | 2017-12-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 传送设备 |
WO2017221229A1 (en) * | 2016-06-21 | 2017-12-28 | Core Flow Ltd. | Noncontact support platform with edge lifting |
CN106044225B (zh) * | 2016-06-28 | 2019-05-31 | 江苏东旭亿泰智能装备有限公司 | 气浮平台、气浮装置及玻璃基板传送装置 |
US9889995B1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-02-13 | Core Flow Ltd. | Noncontact support platform with blockage detection |
JP6829118B2 (ja) * | 2017-03-16 | 2021-02-10 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び半導体装置の製造方法 |
CN111601763B (zh) * | 2017-07-11 | 2022-03-29 | 康宁公司 | 玻璃加工设备及方法 |
CN108249746B (zh) * | 2018-02-09 | 2020-12-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 移载基台及采用该移载基台切割基板的切割方法 |
US11673748B2 (en) * | 2018-06-10 | 2023-06-13 | Core Flow Ltd. | Non-contact support platform with open-loop control |
CN112830256B (zh) * | 2020-12-31 | 2023-07-28 | 合肥工业大学 | 薄板气浮支承系统弹性稳压装置 |
CN115402635A (zh) * | 2022-08-16 | 2022-11-29 | 合肥工业大学 | 一种基于多孔质表面抑制振动的气浮支承 |
CN119117690B (zh) * | 2024-11-12 | 2025-02-07 | 合肥浩普智能装备科技有限公司 | 一种气浮式倒包输送机 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09287768A (ja) * | 1996-04-22 | 1997-11-04 | Sekisui Chem Co Ltd | 空調換気方法及び空調換気装置 |
JP3799469B2 (ja) * | 1999-09-27 | 2006-07-19 | 株式会社日立プラントテクノロジー | 差圧保持ダンパ |
JP4306354B2 (ja) * | 2003-07-14 | 2009-07-29 | 大成建設株式会社 | 排熱回収空調機構 |
JP4413789B2 (ja) * | 2005-01-24 | 2010-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | ステージ装置および塗布処理装置 |
JP4570545B2 (ja) * | 2005-09-22 | 2010-10-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP5145524B2 (ja) * | 2007-10-25 | 2013-02-20 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
JP2010260715A (ja) * | 2009-04-07 | 2010-11-18 | Myotoku Ltd | 浮上ユニット及び浮上装置 |
JP4916035B2 (ja) * | 2009-08-28 | 2012-04-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
-
2011
- 2011-10-25 JP JP2011233533A patent/JP5871366B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-10-12 KR KR1020120113586A patent/KR20130045175A/ko not_active Ceased
- 2012-10-23 CN CN201210405499.5A patent/CN103112719B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102355530B1 (ko) * | 2021-12-15 | 2022-01-24 | 권태성 | Nct가공장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5871366B2 (ja) | 2016-03-01 |
JP2013091540A (ja) | 2013-05-16 |
CN103112719B (zh) | 2016-08-10 |
CN103112719A (zh) | 2013-05-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20130045175A (ko) | 부상 반송 장치 | |
JP4344755B2 (ja) | 薄板状材料搬送用ローラユニット及び薄板状材料搬送装置 | |
CN101107186B (zh) | 载物台装置及涂敷处理装置 | |
JP5485928B2 (ja) | 基板浮上搬送装置及び基板処理装置 | |
WO2011046129A1 (ja) | 薄板状物の把持装置、および薄板状物の把持方法 | |
KR20110109868A (ko) | 반송 장치 및 도포 시스템 | |
KR102605684B1 (ko) | 기판 부상 반송 장치 | |
JP5028919B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
JP4429943B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
KR20160115693A (ko) | 가열 건조 장치 | |
WO2017163887A1 (ja) | 基板浮上搬送装置 | |
JP2010143733A (ja) | 基板ハンドリングシステム及び基板ハンドリング方法 | |
JP2004345814A (ja) | 浮上搬送装置 | |
KR20110077341A (ko) | 부상식 기판 코터 장치 | |
JP6804155B2 (ja) | 基板浮上搬送装置 | |
JP2014201449A (ja) | ガラス板搬送装置及びガラス板搬送方法 | |
WO2012066613A1 (ja) | 通気性搬送用テーブル | |
JP2009040533A (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
JP2004123254A (ja) | 大型薄板状材の搬送方法及び装置 | |
JP2014118221A (ja) | 基板浮上装置 | |
JP2018047420A (ja) | 脱臭装置及び塗布装置 | |
JP2005075499A (ja) | 浮上搬送装置 | |
JP2018114476A (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
JP4893481B2 (ja) | シリコンウェーハ搬送装置 | |
JP5308647B2 (ja) | 浮上搬送塗布装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20121012 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20170719 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20121012 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20190118 Patent event code: PE09021S01D |
|
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20190730 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20190118 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |