KR20090063658A - Multifunctional filter and duct system using it - Google Patents
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Abstract
본 발명은 다기능 필터와 이를 이용한 덕트 시스템에 관한 것으로서, 공기로부터 분진 및 화학성분을 동시에 제거하는 필터로서, 양측에 개구가 형성되며, 내측에 장착 공간이 형성되는 하우징과, 개구에 가로 놓여지도록 장착 공간 내에 설치되는 분진 제거용 필터와, 장착 공간에 분진 제거용 필터와 나란하게 설치되는 화학성분 제거용 필터를 포함한다. 따라서, 본 발명은 분진 제거용 필터와 화학성분 제거용 필터가 단일로 이루어짐으로써 분진과 화학성분을 동시에 제거하도록 하고, 필터를 별개로 구입시보다 구입 비용이 저렴하며, 설치시 필터가 차지하는 공간이 적어서 덕트 시스템의 설계 및 설치에 따른 제약을 최소화하는 효과를 가지고 있다.The present invention relates to a multi-functional filter and a duct system using the same, wherein the filter removes dust and chemicals from the air at the same time, the opening is formed on both sides, the mounting space is formed on the inside, and is mounted so as to cross the opening And a dust removal filter installed in the space, and a chemical removal filter installed in parallel with the dust removal filter in the mounting space. Therefore, in the present invention, the dust removal filter and the chemical component removal filter are made of a single unit to remove dust and chemical components at the same time, and the purchase cost is cheaper than when the filters are separately purchased, and the space occupied by the filter is This has the effect of minimizing the constraints of the design and installation of the duct system.
Description
본 발명은 분진 제거용 필터와 화학성분 제거용 필터가 단일로 이루어짐으로써 분진과 화학성분을 동시에 제거하도록 하고, 설치시 필터가 차지하는 공간이 적어서 덕트 시스템의 설계 및 설치에 따른 제약을 최소화하는 다기능 필터와 이를 이용한 덕트 시스템에 관한 것이다.The present invention is a multi-functional filter to remove dust and chemical components at the same time by a single filter for removing dust and chemical components, and to minimize the constraints of the design and installation of the duct system due to the small space occupied by the filter during installation And a duct system using the same.
일반적으로, 반도체 소자의 제조 공정은 포토, 식각 및 박막 형성 공정 등 많은 단위 공정을 거쳐서 제조되고, 반도체 소자를 제조하기 위한 웨이퍼는 각 공정시마다 항상 청결한 상태를 유지하여야 결함을 방지할 수 있으므로 반도체 소자의 제조 공정은 미세한 먼지까지 제거된 클린 룸에서 이루어지며, 최근에는 반도체 소자의 집적도를 높이기 위해서 패턴의 디자인 룰이 작아짐으로써 반도체 소자의 제조 공정 라인의 청결 유지는 더욱 중요하게 되었다.In general, semiconductor device manufacturing processes are manufactured through a number of unit processes such as photo, etching, and thin film formation processes, and wafers for manufacturing semiconductor devices must be kept clean at all times to prevent defects. The manufacturing process is performed in a clean room where even fine dust is removed. In recent years, the cleanliness of the manufacturing process line of semiconductor devices has become more important because the design rules of the patterns are reduced to increase the degree of integration of the semiconductor devices.
이러한 반도체 소자의 제조 환경의 경우 덕트를 통하여 공급되는 공기로부터 분진과 화학성분을 제거하기 위하여 분진 제거용 필터와 화학성분 제거용 필터가 각각 설치된다. In the manufacturing environment of the semiconductor device, a dust removal filter and a chemical removal filter are respectively installed to remove dust and chemical components from the air supplied through the duct.
이와 같이, 반도체 소자를 제조하기 위한 클린 룸에 공기의 청결을 위하여 설치되는 분진 제거용 필터와 화학성분 제거용 필터가 각각 설치되는 이유는 분진 제거용 필터만으로는 화학성분을 제거하지 못함으로써 특히 반도체 소자의 고집적화로 인해 외부 환경이 중요하게 됨으로써 화재나 쓰레기 소각 시 발생하는 화학성분이나 냄새로부터 발생하는 화학성분들이 덕트 시스템을 통하여 클린 룸으로 유입되어 반도체 소자에 직접적으로 데미지를 주게 된다. 따라서, 분진 제거용 필터와 함께 화학성분을 제거하는 필터가 각각 설치된다.As such, the reason why the dust removal filter and the chemical component removal filter, which are installed to clean the air in the clean room for manufacturing the semiconductor device, is respectively provided is that the dust removal filter alone does not remove the chemical component. As the external environment becomes important due to the high integration of chemicals, chemical components from odors or incineration generated from fire or garbage are introduced into the clean room through the duct system, which directly damages the semiconductor devices. Therefore, a filter for removing chemical components is provided along with the dust removal filter.
상기한 바와 같은, 종래의 기술에 따른 반도체 소자의 제조를 위한 클린 룸의 공기 정화에 사용되는 필터는 분진 제거용 필터와 화학성분 제거용 필터가 개별적으로 설치되어 있음으로써 개별적인 구입에 따른 비용을 증가하고, 설치시 많은 공간을 차지하여 덕트 시스템의 설계 및 설치에 많은 제약이 따르는 문제점을 가지고 있었다.As described above, the filter used for air purification of a clean room for manufacturing a semiconductor device according to the prior art increases the cost of individual purchase by separately installing a filter for removing dust and a filter for removing chemical components. In addition, the installation took up a lot of space and had a problem that many limitations exist in the design and installation of the duct system.
본 발명은 분진 제거용 필터와 화학성분 제거용 필터가 단일로 이루어짐으로써 분진과 화학성분을 동시에 제거하도록 하고, 설치시 필터가 차지하는 공간이 작도록 한다.In the present invention, the dust removal filter and the chemical component removal filter are made of a single unit to remove dust and chemical components at the same time, and the space occupied by the filter is small.
본 발명의 일 실시예로서 다기능 필터는, 분진 및 화학성분을 동시에 제거하는 필터로서, 양측에 개구가 형성되며, 내측에 장착 공간이 형성되는 하우징과, 상기 개구에 가로 놓여지도록 상기 장착 공간 내에 설치되는 분진 제거용 필터와, 상기 장착 공간에 상기 분진 제거용 필터와 나란하게 설치되는 화학성분 제거용 필터를 포함한다.As an embodiment of the present invention, the multifunctional filter is a filter that removes dust and chemical components at the same time, and includes a housing having openings at both sides and a mounting space formed at an inside thereof, and installed in the mounting space so as to lie across the opening. And a chemical removal filter installed in parallel with the dust removal filter in the mounting space.
본 발명의 다른 실시예로서 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템은 클린 룸이나 반도체 소자의 제조 라인에 청정한 공기를 제공하기 위한 덕트 시스템에 있어서, 상기 공기의 이동 경로를 제공하는 덕트와, 상기 덕트에 하우징이 가로 놓여지도록 설치되고, 공기가 통과하도록 상기 하우징 양측에 개구가 형성되며, 상기 하 우징 내측에 상기 개구에 가로 놓여지도록 분진 제거용 필터와 화학성분 제거용 필터가 나란하게 설치되는 다기능 필터를 포함한다.According to another embodiment of the present invention, a duct system using a multifunction filter is a duct system for providing clean air to a clean room or a manufacturing line of a semiconductor device, the duct providing a moving path of the air, and a housing in the duct. It is installed so as to lie horizontally, the opening is formed on both sides of the housing so that the air passes, and the dust removal filter and the chemical removal filter is installed in parallel to the opening in the housing to include a multi-functional filter is installed side by side. .
본 발명은 분진 제거용 필터와 화학성분 제거용 필터가 단일로 이루어짐으로써 분진과 화학성분을 동시에 제거하도록 하고, 필터를 별개로 구입시보다 구입 비용이 저렴하며, 설치시 차지하는 공간이 적어서 덕트 시스템의 설계 및 설치에 따른 제약을 최소화하는 효과를 가지고 있다.According to the present invention, the dust removal filter and the chemical removal filter are made of a single filter to remove dust and chemicals at the same time, and the filter cost is cheaper than when the filters are separately purchased, and the space occupied by the installation is reduced. It has the effect of minimizing the constraints of design and installation.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다. 아울러 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in describing the present invention, when it is determined that the detailed description of the related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
도 1은 본 발명의 다기능 필터가 장착된 제 1 실시예에 따른 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템을 도시한 단면도이다. 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 다기능 필터(100)는 분진 및 화학성분을 동시에 제거하는 필터로서, 하우징(110)과, 하우징(110) 내에 장착되는 분진 제거용 필터(120) 및 화학성분 제거용 필터(130)를 포함한다.1 is a cross-sectional view showing a duct system using a multifunctional filter according to a first embodiment equipped with a multifunctional filter of the present invention. As shown, the
하우징(110)은 공기가 통과하도록 양측에 개구(111)가 형성되고, 내측에 필터(120,130)가 장착되기 위해 장착 공간(112)이 형성되며, 내측의 필터(120,130)를 쉽게 착탈시키도록 측부에 개폐 가능한 도어(미도시)가 마련될 수 있다.The
분진 제거용 필터(120)는 개구(111)에 가로 놓여지도록 장착 공간(112) 내에 설치되고, 하우징(110)의 개구(111)를 통과하는 공기에 포함된 분진을 제거하며, 일예로 ULPA(Ultra Low Penetration Absolute) 필터 또는 HEPA(High Efficiency Particulate Arrestor) 필터 등이 사용된다.The
화학성분 제거용 필터(130)는 하우징(110)의 장착 공간(112)에 분진 제거용 필터(120)와 나란하게 서로 접하도록 설치되고, 하우징(110)을 통과하는 공기에 포함되는 화학성분을 제거하는 필터로서, 탄화수소 화합물, 질소 화합물, 황 화합물, H2O, CO2 등을 비롯한 총휘발성 유기 화합물(TVOC)을 제거하는 제 1 케미컬 필터(131)와, NOX 및 SOX를 제거하는 제 2 케미컬 필터(132)로 이루어진다.The chemical
본 발명의 제 1 실시예에 따른 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템(200)은 도 1에 도시된 바와 같이, 클린 룸의 외부에서 흡입하는 공기를 유입시킬 때 상기한 바와 같은 다기능 필터(100)를 설치하여 분진과 화학성분을 동시에 제거하여 깨끗한 공기를 클린 룸으로 보냄으로써 클린 룸 내의 장비나 반도체 소자와 같은 제품에 대한 오염을 방지하기 위한 것으로서, 클린 룸으로 공급되는 공기의 이동 경로를 제공하는 제 1 덕트(210)와, 제 1 덕트(210)에 다기능 필터(100)가 설치된다.In the
제 1 덕트(210)는 클린 룸의 외부에 설치되어 송풍기(220)의 송풍력에 의해 외부의 공기를 클린 룸측으로 송풍되기 위한 경로를 제공하며, 입구(211)와 출구(212)에 다기능 필터(100)가 각각 설치된다.The
다기능 필터(100)는 상기한 바와 같이, 제 1 덕트(210) 내측에 하우징(110)이 가로 놓여지도록 설치되고, 공기가 통과하도록 하우징(110) 양측에 개구(111)가 형성되며, 하우징(110) 내측에서 개구(111)에 가로 놓여지도록 분진 제거용 필터(120)와 화학성분 제거용 필터(130)가 나란하게 설치되고, 화학성분 제거용 필터(130)가 총휘발성 유기 화합물(TVOC)을 제거하는 제 1 케미컬 필터(131)와 NOX 및 SOX를 제거하는 제 2 케미컬 필터(132)로 이루어진다.As described above, the
따라서, 제 1 덕트(210)로 유입되는 공기를 입구(211) 및 출구(212)에 각각 설치되는 다기능 필터(100)에 의해 분진과 화학성분을 동시에 제거하여 깨끗한 공기가 클린 룸으로 공급되도록 한다.Therefore, the air flowing into the
도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템을 도시한 단면도로서, 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템(300)은 제 1 실시예와 마찬가지로 제 2 덕트(310)와, 제 2 덕트(310)에 설치되는 다기능 필터(100)를 포함하며, 제 1 실시예와의 차이점만 설명하기로 하겠다. 2 is a cross-sectional view showing a duct system using a multifunction filter according to a second embodiment of the present invention, as shown, the
제 2 덕트(310)는 반도체 소자의 제조 공정 라인에 설치되어 공정 라인 내에서 공기의 순환 경로를 제공하고, 송풍기(320)의 송풍력에 의해 생산 장비(1) 각각으로 공기가 공급되도록 다수의 분기 출구(311)를 형성하고, 분기 출구(311)에 다기능 필터(100)가 각각 설치된다. The
따라서, 반도체 소자의 제조 공정 라인 내에서 제 2 덕트(310)를 통과하여 생산 장비(1)로 순환되는 공기에 포함된 분진뿐만 아니라 총휘발성 유기 화합물과 NOX 및 SOX 등과 같은 화학성분을 단일로 이루어지는 다기능 필터(100)에 의해 동시에 제거한다.Therefore, in addition to the dust contained in the air circulated to the production equipment 1 through the
도 3은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템을 도시한 단면도로서, 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템(400)은 제 1 실시예와 마찬가지로 제 3 덕트(410)와, 제 3 덕트(410)에 설치되는 다기능 필터(100)를 포함하며, 제 1 실시예와의 차이점만 설명하기로 하겠다.3 is a cross-sectional view showing a duct system using a multifunction filter according to a third embodiment of the present invention. As shown, the
제 3 덕트(410)는 반도체 소자 등과 같은 제품(2)을 장시간 보관하는 자동 반송시스템의 스톡커(stocker)와 같은 클린 룸에 송풍기(420)의 송풍력에 의해 공기가 공급되도록 경로를 제공하며, 제품(2)으로 공기를 각각 토출시키기 위한 다수의 분기 출구(411)가 마련되며, 분기 출구(411) 각각에 다기능 필터(100)가 설치된다.The
따라서, 스톡커 내의 제품(2)으로 공급되는 공기에 포함된 분진뿐만 아니라 총휘발성 유기 화합물과 NOX 및 SOX 등과 같은 화학성분을 단일로 이루어지는 다기능 필터(100)에 의해 동시에 제거한다.Thus, not only the dust contained in the air supplied to the
이상과 같은 본 발명의 바람직한 실시예들에 따르면, 분진 제거용 필터와 화학성분 제거용 필터가 단일로 이루어짐으로써 분진과 화학성분을 동시에 제거하도록 하고, 필터를 별개로 구입시보다 구입 비용이 저렴하며, 설치시 필터가 차지하 는 공간이 적어서 덕트 시스템의 설계 및 설치에 따른 제약을 최소화한다.According to the preferred embodiments of the present invention as described above, the dust removal filter and the chemical component removal filter is made of a single to remove the dust and chemical components at the same time, and the purchase cost is cheaper than when the filter is separately purchased In addition, the space occupied by the filter during installation is minimal, minimizing the constraints of the design and installation of the duct system.
이상에서와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서 구체적인 실시예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 기술이 당업자에 의하여 용이하게 변형 실시될 가능성이 자명하며, 이러한 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술사상에 포함된다할 것이다.As described above, specific embodiments have been described in the detailed description of the present invention, but it is obvious that the technology of the present invention can be easily modified by those skilled in the art, and such modified embodiments are defined in the claims of the present invention. It will be included in the technical spirit described.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템을 도시한 단면도이고,1 is a cross-sectional view showing a duct system using a multifunctional filter according to a first embodiment of the present invention,
도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템을 도시한 단면도이고,2 is a cross-sectional view showing a duct system using a multifunctional filter according to a second embodiment of the present invention,
도 3은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 다기능 필터를 이용한 덕트 시스템을 도시한 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a duct system using a multifunctional filter according to a third embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
100 : 다기능 필터 110 : 하우징100: multi-function filter 110: housing
111 : 개구 112 : 장착 공간111: opening 112: mounting space
120 : 분진 제거용 필터 130 : 화학성분 제거용 필터120: filter for removing dust 130: filter for removing chemical components
131 : 제 1 케미컬 필터 132 : 제 2 케미컬 필터131: first chemical filter 132: second chemical filter
210, 310, 410 : 덕트 211 : 입구210, 310, 410: Duct 211: Entrance
212 : 출구 220, 320, 420 : 송풍기212:
311, 411 : 분기 출구 311, 411: branch exit
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