KR20060095706A - Atmospheric Plasma Surface Treatment System - Google Patents
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Abstract
본 발명의 실시예에 의한 대기압 플라즈마 표면 처리장치는, 플라즈마 생성의 재료가 되는 가스가 주입되는 가스 주입구 및 생성된 플라즈가 분사되는 플라즈마 분사구가 각각 구비된 하우징과; 상기 하우징의 내측에서 서로 대응되는 면에 각각 구비되는 제 1 및 제 2접지 전극과; 상기 하우징 내부 중앙에 구비되어 상기 제 1 및 제 2접지 전극 사이에 위치하는 고전압 전극과; 상기 제 1 및 제 2접지 전극과 상기 고전압 전극 사이의 영역에 형성되는 플라즈마 발생부로 구성되며, 상기 제 1 및 제 2 접지전극과 상기 고전압 전극은 유전체로 둘러싸여져 있음을 특징으로 한다.Atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, the housing is provided with a gas injection port for injecting the gas to be the material of plasma generation and the plasma injection port for injection of the generated plasma; First and second ground electrodes provided on surfaces corresponding to each other inside the housing; A high voltage electrode disposed in the center of the housing and positioned between the first and second ground electrodes; And a plasma generator formed in a region between the first and second ground electrodes and the high voltage electrode, wherein the first and second ground electrodes and the high voltage electrode are surrounded by a dielectric material.
이와 같은 본 발명에 의하면, 피처리물의 플라즈마 표면처리를 플라즈마가 생성되는 전극 사이의 영역 즉, 전장 밖에서 처리토록 구성되고, 상기 생성된 플라즈마를 분사하는 모듈을 카필러리(capillary) 방식으로 구성함으로써, 아킹(arcing) 이나 스트리머(streamer) 발생 문제가 극복되어 글로우(glow)한 방전으로 피처리물의 표면처리가 가능하며, 피처리물의 형상과 크기 제약을 극복할 수 있다는 장점이 있다.According to the present invention, the plasma surface treatment of the object to be treated is configured to be processed outside the region between the electrodes where the plasma is generated, i.e., outside the electric field, and the module for injecting the generated plasma is formed in a capillary manner. In addition, the problem of arcing or streamer generation is overcome, and the surface of the workpiece can be treated by a glow discharge, and the shape and size constraints of the workpiece can be overcome.
Description
도 1은 종래의 대기압 플라즈마 표면 처리 장치에 관한 개략적인 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional atmospheric plasma surface treatment apparatus.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 대기압 플라즈마 표면 처리장치의 개략적인 단면도.2 is a schematic cross-sectional view of an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 대기압 플라즈마 표면 처리장치의 개략적인 단면도.3 is a schematic cross-sectional view of an atmospheric plasma surface treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
200 : 하우징 202 : 가스 주입구200
204 : 플라즈마 분사구 210 : 제 1접지전극204: plasma injection port 210: first ground electrode
212 : 제 2접지전극 220 : 고전압 전극212: second ground electrode 220: high voltage electrode
230 : 유전체 240 : 플라즈마 발생부230: dielectric 240: plasma generating unit
본 발명은 플라즈마 표면처리장치에 관한 것으로, 특히 대기압 플라즈마 표면처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma surface treatment apparatus, and more particularly, to an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus.
종래의 플라즈마를 이용한 표면처리 장치에서는, 대기압이 아닌 진공 상태에서 플라즈마를 발생시켜 피처리물의 표면처리를 행하는 공정을 사용하였는데, 이러한 진공 플라즈마 표면처리 장치는 오픈 시스템이 아니라 진공 상태를 만들어 줄 수 있는 장비 및 진공 챔버가 별도로 필요하여 가격이 매우 상승하고, 또한 피처리물이 진공 챔버 내에서 처리되므로 크기와 형상에 큰 제약이 있다는 문제점을 지니고 있다.In the conventional surface treatment apparatus using plasma, a process of surface treatment of a target object by generating plasma in a vacuum state rather than atmospheric pressure is used. Such a vacuum plasma surface treatment apparatus is capable of creating a vacuum state rather than an open system. The equipment and the vacuum chamber is required separately, so the price is very high, and also, there is a problem that the size and shape are largely limited because the workpiece is processed in the vacuum chamber.
이러한 진공 플라즈마 발생장치의 단점을 극복하기 위하여 미국 특허 제 5,124,173호에서는 단순 평판전극을 사용하는 대기압 유전막 방전(Dielectric Barrier Discharge)에 대한 연구가 소개되었고, 미국 특허 제 5,414,324호에서도 대기압에서 플라즈마를 형성시키기 위한 장치로서 1~5kV, 1~100kHz로 전원을 가변할 때의 가스 조성, 전극간 간격에 따른 방전에 대한 연구를 수행하였다. In order to overcome the shortcomings of the vacuum plasma generator, U.S. Pat. As a device for this, the study was conducted on the gas composition and the discharge according to the distance between electrodes when the power was changed at 1 ~ 5kV, 1 ~ 100kHz.
그러나 이러한 방법들은 아크(arc) 또는 스트리머(streamer)와 같은 이상 방전 현상을 조절할 수가 없으며 사용되는 기체에 한계가 있고, 대향되게 위치된 고전압전극과 접지 전극 사이에서 피처리물의 표면처리가 진행되는 공정이기 때문에 복잡한 형상 및 크기를 갖는 피처리물의 표면처리가 어렵다는 문제점이 있다. However, these methods cannot control abnormal discharge phenomena such as arcs or streamers, are limited in the gas used, and surface treatment of the workpiece is performed between the high voltage electrode and the ground electrode which are positioned opposite each other. Because of the process, there is a problem that the surface treatment of the workpiece having a complicated shape and size is difficult.
도 1은 종래의 대기압 플라즈마 표면 처리 장치에 관한 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional atmospheric plasma surface treatment apparatus.
도 1을 참조하면, 종래의 대기압 플라즈마 표면 처리 장치는 금속 재질의 고전압 전극(10) 및 접지 전극(12)이 서로 대향되도록 배치되어 있다.Referring to FIG. 1, a conventional atmospheric plasma surface treatment apparatus is disposed such that a metal
또한, 서로 마주보는 상기 고전압 전극(10) 및 접지 전극(12)의 면은 유전체 판(14)이 형성되어 있으며, 상기 고전압 전극(10) 및 접지 전극(12)에 각각 형성된 유전체 판(14) 사이(16)에서 피처리물(미도시)의 표면처리가 진행되도록 설계되어 있다.In addition, the surfaces of the
즉, 종래의 대기압 플라즈마 표면 처리 장치는 대향형 구조로 이루어져 있으며, 상기 상, 하에 구비된 전극 사이에서 플라즈마가 발생되고, 그 영역 즉, 전장에서 상기 피처리물에 대한 표면처리가 수행되는 것이다.That is, the conventional atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus has an opposing structure, and plasma is generated between the electrodes provided above and below, and surface treatment of the target object is performed in the region, that is, the electric field.
그러나, 상기 전장 안에서 상기 피처리물이 이동되기 때문에 대기압 플라즈마의 특성상 arcing이 발생되어 burning 현상이 발생될 위험이 높으며, 상기 상, 하 전극의 간격이 좁을수록 효율이 높기 때문에 피처리물들의 두께가 제한된다는 단점이 있다. 또한, 이에 따라 상기 피처리물의 형상과 크기에 많은 제약이 따른다는 것을 알 수 있다.However, since the workpiece is moved in the electric field, arcing is generated due to the characteristics of the atmospheric pressure plasma, and thus there is a high risk of burning, and the narrower the gap between the upper and lower electrodes, the higher the efficiency, and thus the thickness of the workpiece is increased. The disadvantage is that it is limited. In addition, it can be seen that a lot of restrictions on the shape and size of the workpiece.
본 발명은 피처리물의 플라즈마 표면처리를 플라즈마가 생성되는 전극 사이의 영역 즉, 전장 밖에서 처리토록 구성되고, 상기 생성된 플라즈마를 분사하는 모듈을 카필러리(capillary) 방식으로 구성함으로써, 아킹(arcing) 이나 스트리머(streamer) 발생 문제가 극복되어 글로우(glow)한 방전으로 피처리물의 표면처리가 가능하며, 피처리물의 형상과 크기 제약을 극복할 수 있도록 하는 대기압 플라즈마 표면 처리장치를 제공함에 그 목적이 있다. The present invention is configured to treat the plasma surface treatment of an object to be treated in a region between electrodes where plasma is generated, i.e., outside the electric field, and by arranging a module for injecting the generated plasma in a capillary manner, thereby arcing. It is possible to treat the surface of the workpiece by glow discharge to overcome the problem of generating) or streamer, and to provide the atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus to overcome the shape and size constraints of the workpiece. There is a purpose.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 의한 대기압 플라즈마 표 면 처리장치는, 플라즈마 생성의 재료가 되는 가스가 주입되는 가스 주입구 및 생성된 플라즈가 분사되는 플라즈마 분사구가 각각 구비된 하우징과; 상기 하우징의 내측에서 서로 대응되는 면에 각각 구비되는 제 1 및 제 2접지 전극과; 상기 하우징 내부 중앙에 구비되어 상기 제 1 및 제 2접지 전극 사이에 위치하는 고전압 전극과; 상기 제 1 및 제 2접지 전극과 상기 고전압 전극 사이의 영역에 형성되는 플라즈마 발생부로 구성되며, 상기 제 1 및 제 2 접지전극과 상기 고전압 전극은 유전체로 둘러싸여져 있음을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, the housing is provided with a gas injection port for injecting a gas to be a material for plasma generation and a plasma injection port for injecting the generated plasma; First and second ground electrodes provided on surfaces corresponding to each other inside the housing; A high voltage electrode disposed in the center of the housing and positioned between the first and second ground electrodes; And a plasma generator formed in a region between the first and second ground electrodes and the high voltage electrode, wherein the first and second ground electrodes and the high voltage electrode are surrounded by a dielectric material.
여기서, 상기 유전체는 수정(quartz) 또는 세라믹(ceramic)으로 이루어지고, 상기 플라즈마 발생부를 통해 생성된 플라즈마가 상기 플라즈마 분사구를 통해 배출되고, 피처리물은 상기 플라즈마 분사구 외부에서 표면처리가 이루어지며, 상기 플라즈마 분사구를 구성하는 모듈이 카필러리(capillary) 방식으로 구성됨을 특징으로 한다.Here, the dielectric is made of quartz or ceramic, the plasma generated through the plasma generator is discharged through the plasma injection port, and the target object is surface treated outside the plasma injection port, The module constituting the plasma injection port is characterized in that configured in a capillary (capillary) method.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 대기압 플라즈마 표면 처리장치의 개략적인 단면도이다.2 is a schematic cross-sectional view of an atmospheric plasma surface treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 대기압 플라즈마 표면 처리장치는, 플라즈마 생성의 재료가 되는 가스가 주입되는 가스 주입구(202) 및 생성된 플라즈가 분사되는 플라즈마 분사구(204)가 각각 구비된 하우징(200)과; 상기 하우징의 내측에서 서로 대응되는 면에 각각 구비되는 제 1 및 제 2접지 전극(210, 212)과; 상기 하우징(200) 내부 중앙에 구비되어 상기 제 1 및 제 2접지 전극 사이에 위치하는 고전압 전극(220)과; 상기 제 1 및 제 2접지 전극과 상기 고전압 전극 사이의 영역에 형성되는 플라즈마 발생부(240)로 구성되며, 상기 제 1 및 제 2 접지전극과 상기 고전압 전극은 유전체(230)로 둘러싸여져 있음을 그 특징으로 한다. 여기서, 상기 유전체(230)는 수정(quartz) 또는 세라믹(ceramic)으로 이루어지는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 2, the apparatus for treating atmospheric pressure plasma surface according to the embodiment of the present invention includes a
본 발명의 경우 피처리물(미도시)의 표면처리가 종래의 경우와 같이 플라즈마가 발생되는 전장 즉, 상기 플라즈마 발생부(230)에서 이루어지지 아니함을 그 특징으로 한다.In the case of the present invention, the surface treatment of the workpiece (not shown) is not performed in the electric field in which the plasma is generated, that is, the
즉, 상기 플라즈마 발생부(230)를 통해 생성된 플라즈마가 상기 플라즈마 분사구(204)를 통해 배출되고, 상기 피처리물은 상기 플라즈마 분사구 외부에서 표면처리가 이루어지는 것이다.That is, the plasma generated by the
이에 따라 종래의 경우 발생되는 아킹(arcing)에 의한 burning 현상을 극복할 수 있게 된다. Accordingly, it is possible to overcome the burning phenomenon caused by arcing that occurs in the conventional case.
또한, 상기 플라즈마 분사구(204)를 구성하는 모듈(미도시)이 카필러리(capillary) 방식으로 구성됨으로써, 압력 차이에 의해 더 길게 플라즈마를 분사할 수 있도록 하며, 이에 따라 상기 피처리물의 이동에 있어서 상하로의 움직임이 자유로워지고, 피처리물의 두께에 상관없이 표면처리가 가능하게 된다.In addition, the module constituting the plasma injection hole (204) (not shown) is configured in a capillary (capillary) method, it is possible to inject a plasma longer by the pressure difference, and thus to the movement of the workpiece This frees up and down movement and enables surface treatment regardless of the thickness of the workpiece.
결과적으로 본 발명은 접지 전극이 한 쌍으로 구성되고, 상기 한 쌍의 접지 전극(210, 212) 사이에 고전압 전극(220)이 형성되어, 상기 고전압 전극에 소정 전 원이 가해져 상기 전극 사이의 영역에서 플라즈마가 생성되며, 상기 생성된 플라즈마가 플라즈마 분사구(204)를 통해 외부로 배출되고, 상기 배출되는 플라즈마를 통해 전장이 아닌 외부에서 피처리물의 표면처리를 수행함을 그 특징으로 하는 것이다.As a result, according to the present invention, a pair of ground electrodes is formed, and a
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 대기압 플라즈마 표면 처리장치의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.3 is a schematic cross-sectional view of an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.
단, 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호를 사용하며, 그에 대한 설명은 생략하기로 한다. However, the same reference numerals are used for the same components, and description thereof will be omitted.
도 3을 참조하면, 전체적인 구성은 도 2에 도시된 실시예와 동일하며 다만 하우징(200) 내부면이 원통형으로 구성되고, 플라즈마 분사구(204)의 간격이 수 mm로 매우 작음에 그 차이가 있다.Referring to FIG. 3, the overall configuration is the same as that of the embodiment shown in FIG. 2, except that the inner surface of the
상기 원통형의 헤드 구성에 의해 전장 즉, 플라즈마 발생부(230)의 경로(path)가 길게 되어 피처리물로의 아킹(arcing) 발생을 방지하는 특징이 있다. Due to the cylindrical head configuration, the electric field, that is, the path of the
즉, 도 3에 도시된 실시예의 경우도, 결과적으로 접지 전극이 한 쌍으로 구성되고, 상기 한 쌍의 접지 전극(210, 212) 사이에 고전압 전극(220)이 형성되어, 상기 고전압 전극(220)에 소정 전원이 가해져 상기 전극 사이의 영역에서 플라즈마가 생성되며, 상기 생성된 플라즈마가 플라즈마 분사구(204)를 통해 외부로 배출되고, 상기 배출되는 플라즈마를 통해 전장이 아닌 외부에서 피처리물의 표면처리를 수행함을 그 특징으로 한다. That is, in the case of the embodiment shown in FIG. 3, as a result, a pair of ground electrodes is formed, and a
이와 같은 본 발명에 의하면, 피처리물의 플라즈마 표면처리를 플라즈마가 생성되는 전극 사이의 영역 즉, 전장 밖에서 처리토록 구성되고, 상기 생성된 플라즈마를 분사하는 모듈을 카필러리(capillary) 방식으로 구성함으로써, 아킹(arcing) 이나 스트리머(streamer) 발생 문제가 극복되어 글로우(glow)한 방전으로 피처리물의 표면처리가 가능하며, 피처리물의 형상과 크기 제약을 극복할 수 있다는 장점이 있다.According to the present invention, the plasma surface treatment of the object to be treated is configured to be processed outside the region between the electrodes where the plasma is generated, i.e., outside the electric field, and the module for injecting the generated plasma is formed in a capillary manner. In addition, the problem of arcing or streamer generation is overcome, and the surface of the workpiece can be treated by a glow discharge, and the shape and size constraints of the workpiece can be overcome.
이에 따라 금속면으로 구성되거나 금속이 패터닝 피처리물에 대해서도 보다 안전하게 플라즈마 표면처리가 가능하며 대면적화나 인라인(in??line) 방식에도 적용할 수 있다는 장점이 있다. Accordingly, the plasma surface treatment can be safely performed even on the metal surface or the patterned workpiece, and it can be applied to a large area or an in-line method.
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PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20050228 |
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PG1501 | Laying open of application | ||
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PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20100212 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20050228 Comment text: Patent Application |
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E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20110428 Patent event code: PE09021S01D |
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E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20111215 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20110428 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |