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KR20060028508A - 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 Download PDF

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KR20060028508A
KR20060028508A KR1020040077481A KR20040077481A KR20060028508A KR 20060028508 A KR20060028508 A KR 20060028508A KR 1020040077481 A KR1020040077481 A KR 1020040077481A KR 20040077481 A KR20040077481 A KR 20040077481A KR 20060028508 A KR20060028508 A KR 20060028508A
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plasma display
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Abstract

본 발명은 레이저 어닐링(annealing) 공법을 이용하여 기포발생등에 의한 유전체의 파괴를 방지하고 버스 전극의 특성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
이와같은 본 발명은 유리기판상에 버스 전극이 형성되는 단계; 상기 형성된 버스 전극을 노광하는 단계; 상기 형성된 버스 전극을 현상하는 단계; 상기 형성된 버스 전극을 소성하는 단계; 및 소성이후에 상기 버스 전극을 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 제공한다.
언더컷(under cut), 에지컬(edge curl), 레이저 어닐링(annealing)

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법{Method for Manufacturing Plasma Display Panel}
도 1은 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 장치 구조을 개략적으로 나타낸 사시도.
도 2는 종래 포토리소그래피(Photolithography)법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도.
도 3은 종래 PDP의 제조공정중 버스 전극의 패턴이 형성되는 과정을 나타낸 도.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 공정도.
***** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *****
30 : 유리기판 32 : 버스 전극
34 : 포토레지스트 36 : 포토마스크
310a, 310b : 언더컷 330 : 양측단 테두리
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: 이하, PDP라 함)은 소다라임(Soda-lime) 글라스로 된 전면 기판과 후면 기판 사이에 형성된 격벽이 하나의 단위 셀을 이루고, 각 셀 내에는 헬륨-크세논(He-Xe), 헬륨-네온(He-Ne) 등과 같은 불활성 가스가 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)이 발생되어 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상을 구현하는 장치이다.
도 1은 종래 PDP의 장치 구조를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 도시된 바와 같이 PDP는 전면 글라스 기판(10)을 포함한 전면 패널과 후면 글라스 기판(20)을 포함한 후면 패널이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.
전면 글라스 기판(10)은 하방에 하나의 화소에서 상호 방전에 의해 셀의 발광을 유지하기 위한 유지전극(11,12), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명전극(11a,12a)과 금속재질로 제작된 버스전극(11b,12b)으로 구비된 유지전극(11,12)이 쌍을 이뤄 형성된다.
이러한 유지전극쌍은 스캔전극(11) 및 서스테인전극(12)으로 구성되고, 스캔전극(11)에는 패널 주사를 위한 주사신호와 방전유지를 위한 유지신호가 주로 공급되고, 서스테인전극(12)에는 유지신호가 주로 공급된다.
유지전극(11,12)은 방전전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 유전층(13a)에 의해 덮혀 지고, 유전층(13a) 상면에는 방전조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(14)이 형성된다.
후면 글라스 기판(20)은 복수 개의 방전 공간 즉, 셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(21)이 평행을 유지하여 배열되고 유지전극(11,12)과 교차되는 부위에서 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키게 되는 다수의 어드레스 전극(22)이 격벽(21)에 대해 평행하게 배치된다.
또한, 어드레스 전극(22) 상면에는 유전층(13b)이 형성되고, 유전층 상면은 어드레스 방전시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광층(23)이 도포된다.
이와 같은 구조를 갖는 종래 PDP는 크게 유리기판 제조 공정, 전면 패널 제조 공정, 후면 패널 제조 공정, 조립 공정을 거쳐 형성된다. 특히, PDP 제조 공정 중 패널의 제조 공정을 살펴보면 다음과 같다.
도 2는 종래 포토리소그래피(Photolithography)법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, (a) 단계에서는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 유리기판 상부(30)에 전극형성물질인 전극 페이스트를 이용하여 소정의 두께로 전극 막(32)을 형성한다.
이 후, (b) 단계에서 전극 막(32) 상부에 포토레지스트(34)를 도포한 후, (c) 단계에서 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(36)를 포토레지스트(34) 상부에 올려놓고, 자외선을 조사하여 포토레지스트(34)를 경화시킨다.
이러한 공정을 노광 공정이라한다. 노광 공정을 거친 유리기판(30)은 (d) 현상 공정을 통하여 경화되지 않은 포토레지스트(34)를 세척한 후, (e) 단계에서 에칭을 하면 포토레지스트(34)가 제거됨으로써 버스 전극(32)이 형성된다. (f) 단계에서 건조를 한 다음 550℃ 이상부터 600℃ 이하까지의 온도로 가열하여 소성함으로써 버스 전극(32)이 형성된다.
그러나 도 3에 도시된 바와 같이, 종래 버스 전극(32)의 패턴이 형성되는 공정에 있어서 전극 페이스트는 두꺼운 후막으로 형성된다. 그러므로 노광 공정시 전극 페이스트의 상부와 하부에 조사되는 자외선(UV)량은 달라진다.
이 후, 현상 공정시 상대적으로 자외선의 조사량이 적은 버스 전극(32)의 하부에 언더컷(under cut)(310a, 310b)현상이 발생한다.
그 후, 언더컷(310a, 310b) 상태에서 소성 공정을 수행하면 페이스트의 중앙측과 양측단의 팽창계수는 다르게 나타난다. 이때, 버스 전극(32)의 양측단 테두리(330)가 말려 올라가는 에지컬(edge curl) 현상이 나타난다.
이러한 에지컬은 유전체막을 그린시트(Green Sheet)를 사용하여 형성하는 경우, 그린시트의 라미네이팅(Laminating) 공정에서 그린시트가 에지컬과 글래스 기판 사이에 완전히 채워지지 않게 된다. 따라서, 최종적인 소성 공정을 거친 후, 글래스 기판, 전극 및 유전체막이 만나는 곳인 에지컬에 기포가 생성된다. 이러한 기포발생은 유전체 파괴의 원인이 되고 버스 전극의 저항특성을 악화시킨다. 또한, 최종적으로 패널이 완성된 후 인가되는 전압에 의해 기포가 생성된 영역은 절연 파 괴가 발생할 수 있다는 문제점이 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여 그린시트를 라미네이팅하기 전에 유전체 페이스트를 사용하여 인쇄를 2회 이상 실시함으로써 에지컬과 글래스 기판 사이를 채우고, 그 상부에 그린시트를 라미네이팅하는 하이브리드(Hybird) 방법이 사용되고도 있다.
하지만 하이브리드 방법은 2회 이상의 유전체 인쇄 및 건조 공정과 1회의 소성 공정을 추가적으로 수행하게 되는 관계로 공정의 횟수가 증가하고, 제조 단가가 상승하는 문제점이 있다. 또한, 에지컬이 과도하게 형성된 경우에는 전술한 유전체 페이스트를 이용한 인쇄법으로도 기포 발생을 방지하기 어려워서 절연 파괴 현상을 근본적으로 방지하는 데에는 한계가 있다.
따라서, 본 발명은 소성 공정 이후에 나타나는 버스 전극의 에지컬 현상을 제거하기 위하여 레이저 어닐링 공법을 사용한다. 이러한 레이저 어닐링 공법은 기포발생 등에 의한 유전체의 파괴를 방지하고 버스 전극의 특성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는데 그 목적이 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 유리기판상에 버스 전극이 형성되는 단계; 상기 형성된 버스 전극을 노광하는 단계; 상기 형성된 버스 전극을 현상하는 단계; 상기 형성된 버스 전극을 소성하는 단계; 및 소성이후에 상기 버스 전극을 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 버스 전극의 테두리 부위가 열처리(annealing)되는 것을 특징으로 한다. 또한, 버스 전극의 테두리 부위가 레이저로 어닐링(annealing)되는 것을 특징으로 한다. 또한, 레이저의 파장대는 500 nm 이상에서부터 1200 nm 이하까지인 것을 특징으로 한다. 또한, 버스 전극을 열처리하는 공법은 포토 페이스트공법을 이용하는 것을 특징으로 한다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 공정도이다. 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 도 2와 도 3의 패널의 제조방법을 포함한다.
도 4에 나열된 패널의 제조 과정을 설명하면 다음과 같다. (a) 단계에서는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 유리기판 상부(30)에 전극형성물질인 전극 페이스트를 이용하여 소정의 두께로 전극 막(32)을 형성한다. 이 후, (b) 단계에서 전극 막(32) 상부에 포토레지스트(34)를 도포한 후, (c) 단계에서 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(36)를 포토레지스트(34) 상부에 올려놓고, 자외선을 조사하여 포토레지스트(34)를 경화시킨다.
이러한 공정을 노광 공정이라한다. 노광 공정을 거친 유리기판(30)은 (d) 현상 공정을 통하여 경화되지 않은 포토레지스트(34)를 세척한후, (e) 단계에서 에칭을 하면 포토레지스트(34)가 제거됨으로써 버스 전극(32)이 형성된다. (f) 단계에 서 건조를 한 다음 550℃ 이상부터 600℃ 이하까지의 온도로 가열하여 소성함으로써 버스 전극(32)이 형성된다. (g) 단계에서 소성 이후에 버스 전극(32)의 테두리(330) 부위가 열처리(annealing)되도록 한다.
이때, 버스 전극(32)의 테두리(330) 부위에 실시하는 열처리(annealing) 공법은 레이저 어닐링(annealing) 공법으로 한다.
이러한 레이저 어닐링(annealing) 공법은 레이저로부터 나오는 파장의 특성을 이용한것으로 버스 전극(32)의 테두리(330) 부위가 열처리됨으로써 버스 전극(32)의 특성을 높여주는 공법이다. 또한, 포토 페이스트법도 가능하다.
이때, 레이저의 파장대는 500 nm이상에서부터 1200 nm이하로 한정되고 도 3a에 도시된 버스 전극(32)의 테두리(330) 부위가 레이저로 조사됨으로써 버스 전극(32)의 특성은 높아진다. 따라서, 기포발생등에 의한 유전체의 파괴는 발생하지 않는다. 또한, 버스 전극의 저항 특성도 개선된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서 소성 공정 이후에 나타나는 버스 전극의 에지컬 현상을 제거하기 위하여 레이저 어닐링 공법을 사용한다. 이러한 레이저 어닐링 공법은 기포발생 등에 의한 유전체의 파괴를 방지하고 버스 전극의 특성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 유리기판상에 버스 전극이 형성되는 단계;
    상기 형성된 버스 전극을 노광하는 단계;
    상기 형성된 버스 전극을 현상하는 단계;
    상기 형성된 버스 전극을 소성하는 단계; 및
    소성이후에 상기 버스 전극을 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 버스 전극의 테두리 부위가 열처리(annealing)되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 버스 전극의 테두리 부위가 레이저로 열처리(annealing)되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 레이저의 파장대는 500 nm이상에서부터 1200 nm이하까지인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 버스 전극을 열처리하는 공법은 포토 페이스트공법을 이용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
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