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KR102628672B1 - Ｉｐｓ 모드용 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치 - Google Patents

Ｉｐｓ 모드용 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치 Download PDF

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KR102628672B1
KR102628672B1 KR1020200074566A KR20200074566A KR102628672B1 KR 102628672 B1 KR102628672 B1 KR 102628672B1 KR 1020200074566 A KR1020200074566 A KR 1020200074566A KR 20200074566 A KR20200074566 A KR 20200074566A KR 102628672 B1 KR102628672 B1 KR 102628672B1
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이성훈
홍완택
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삼성에스디아이 주식회사
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Abstract

편광자; 상기 편광자의 상부면에 적층된 제1보호층; 및 상기 편광자의 하부면에 적층된 제2보호층을 포함하고, 상기 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축을 기준(0°)이라고 할 때 상기 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축이 이루는 각도는 -5° 내지 +5°이고, 상기 제1보호층은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 5,000nm 이상이고, 상기 제2보호층은 포지티브 C 플레이트층을 포함하고, 상기 제2보호층은 식 1, 식 2 중 적어도 어느 하나를 만족하는 것인, IPS 모드용 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치가 제공된다.

Description

ＩＰＳ 모드용 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치{POLARIZING PLATE FOR IPS MODE AND OPTICAL DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}
본 발명은 IPS(in plane switching) 모드용 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.
액정표시장치의 하나로서 IPS(in plane switching) 모드의 액정표시장치가 있다. IPS 모드의 액정표시장치는 전계가 존재하지 않는 상태에서 호모지니어스(homogeneous) 배향시킨 네마틱 액정을 횡전계에 의해 구동시켜 화상을 표시하는 것이다. IPS 모드의 액정표시장치는 다른 구동 모드의 액정표시 장치에 비해 시야각이 넓다는 장점이 있다.
IPS 모드의 액정표시장치는 화면을 보는 각도에 의한 화상의 색조 변화(측면 컬러 시프트(color shift)라고도 한다)가 크다고 하는 문제가 있었다. 시야각 보상 및 여러 장의 광학 보상 필름을 사용하여 화상의 색조 변화를 극복하려 하기 위한 시도가 있다. 그러나, 이들 기술은 색조 변화의 개선에 효과가 충분하지 않았다. 최근 액정표시장치가 점차 얇아지고 대면적화되면서 화상의 색조 변화는 더욱 두드러지게 나타나고 있다. 이에 얇으면서 대면적에서도 효과가 있는 IPS 모드의 액정표시장치가 요구되고 있다.
본 발명의 배경기술은 일본공개특허 제2006-251659호 등에 개시되어 있다.
본 발명의 목적은 정면 명암비(contrast ratio, CR)를 개선한 IPS 모드용 편광판을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 측면 컬러 시프트(color shift)를 개선한 IPS 모드용 편광판을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 빛샘이 낮아져 블랙 시감을 개선한 IPS 모드용 편광판을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 관점은 IPS 모드용 편광판이다.
1.IPS 모드용 편광판은 편광자; 상기 편광자의 상부면에 적층된 제1보호층; 및 상기 편광자의 하부면에 적층된 제2보호층을 포함하고, 상기 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축을 기준(0°)이라고 할 때 상기 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축이 이루는 각도는 -5° 내지 +5°이고, 상기 제1보호층은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 5,000nm 이상이고, 상기 제2보호층은 포지티브 C 플레이트층을 포함하고, 상기 제2보호층은 하기 식 1, 하기 식 2 중 적어도 어느 하나를 만족한다:
[식 1]
Re(450)/Re(550) > Re(650)/Re(550)
(상기 식 1에서, Re(450), Re(550), Re(650)은 각각 제2보호층의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 면내 방향 위상차(단위:nm)이다),
[식 2]
|Rth(450)|/|Rth(550)| > |Rth(650)|/|Rth(550)|
(상기 식 2에서, |Rth(450)|, |Rth(550)|, |Rth(650)|은 각각 제2보호층의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 두께 방향 위상차(단위:nm)의 절대값이다).
2.1에서, 상기 제2보호층은 상기 식 1, 상기 식 2를 모두 만족시킬 수 있다.
3.1-2에서, 상기 식 1 중 Re(450)/Re(550)이 0.1 내지 10, 상기 식 1 중 Re(650)/Re(550)이 0.1 내지 8이 될 수 있다.
4.1-3에서, 상기 식 2 중 |Rth(450)|/|Rth(550)|이 0.1 내지 10, 상기 식 2 중 |Rth(650)|/|Rth(550)|이 0.1 내지 8이 될 수 있다.
5.1-4에서, 상기 제2보호층은 파장 550nm에서의 두께 방향 위상차는 -150nm 내지 -10nm가 될 수 있다.
6.1-5에서, 상기 제2보호층은 비 액정층일 수 있다.
7.6에서, 상기 제2보호층은 셀룰로스 에스테르계 화합물 또는 그의 중합체, 방향족계 화합물 또는 그의 중합체 중 1종 이상의 화합물을 포함하는 조성물로 형성된 코팅층일 수 있다.
8.1-7에서, 상기 제1 보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 상기 제1 보호층의 기계적 방향(MD, machine direction)이고, 상기 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 상기 제1 보호층의 폭 방향(TD, transverse direction)일 수 있다.
9.1-8에서, 상기 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 상기 편광자의 기계적 방향이고, 상기 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 상기 편광자의 폭 방향일 수 있다.
10.1에서, 상기 제2보호층은 상기 편광자에 직접적으로 형성될 수 있다.
11.1-10에서, 상기 편광판은 제3보호층을 더 포함할 수 있다.
12.1-11에서, 상기 제3보호층은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 100nm 이하일 수 있다.
13.1-12에서, 상기 제3보호층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -10nm 내지 200nm일 수 있다.
14.1-13에서, 상기 제3보호층은 파장 550nm에서 이축성 정도가 -1 내지 10일 수 있다.
15.1-14에서, 상기 제3보호층과 상기 제2보호층의 적층체는 하기 식 3, 하기 식 4 중 적어도 어느 하나를 만족시킬 수 있다:
[식 3]
Re(450)/Re(550) > Re(650)/Re(550)
(상기 식 3에서, Re(450), Re(550), Re(650)은 하기 발명의 설명에서 설명된 바와 같다).
[식 4]
|Rth(450)|/|Rth(550)|> |Rth(650)|/|Rth(550)|
(상기 식 4에서, |Rth(450)|, |Rth(550)|, |Rth(650)|은 하기 발명의 설명에서 설명된 바와 같다).
16.1-15에서, 상기 식 3 중 Re(450)/Re(550)이 0.1 내지 10, 상기 식 3 중 Re(650)/Re(550)이 0.1 내지 8일 수 있다.
17.1-16에서, 상기 식 4 중 |Rth(450)|/|Rth(550)|이 0.1 내지 10, 상기 식 4 중 |Rth(650)|/|Rth(550)|이 0.1 내지 8일 수 있다.
18.1-17에서, 상기 제3보호층과 상기 제2보호층의 적층체는 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -150nm 내지 -10nm일 수 있다.
19.1-18에서, 상기 편광판은 파장 550nm에서 면내 위상차가 -10nm 내지 10nm일 수 있다.
본 발명의 다른 관점은 광학표시장치이다.
광학표시장치는 본 발명의 IPS 모드용 편광판을 포함한다.
본 발명은 정면 명암비를 개선한 IPS 모드용 편광판을 제공하였다.
본 발명은 측면 컬러 시프트를 개선한 IPS 모드용 편광판을 제공하였다.
본 발명은 빛샘이 낮아져 블랙 시감을 개선한 IPS 모드용 편광판을 제공하였다.
도 1은 본 발명 일 실시예의 IPS 모드용 편광판의 단면도이다.
도 2는 도 1의 IPS 모드용 편광판 중 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축과 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축 간의 관계를 보여주는 개념도이다.
도 3은 본 발명 다른 실시예의 IPS 모드용 편광판의 단면도이다.
첨부한 도면을 참고하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명을 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계 없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 도면에서 각 구성 요소의 길이, 크기는 본 발명을 설명하기 위한 것으로 본 발명이 도면에 기재된 각 구성 요소의 길이, 크기에 제한되는 것은 아니다.
본 명세서에서 "상부"와 "하부"는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시 관점에 따라 "상부"가 "하부"로 "하부"가 "상부"로 변경될 수 있고, "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, "직접 위(directly on)", "바로 위" 또는 "직접적으로 형성" 또는 "직접적으로 접하여 형성"으로 지칭되는 것은 중간에 다른 구조를 개재하지 않은 것을 의미한다.
본 명세서에서 "면내 방향 위상차(Re)", "두께 방향 위상차(Rth)", "이축성 정도(NZ)"는 하기 식 A, 식 B, 식 C로 표시된다:
[식 A]
Re = (nx - ny) x d
[식 B]
Rth = ((nx + ny)/2 - nz) x d
[식 C]
NZ = (nx - nz)/(nx - ny)
(상기 식 A, 식 B, 식 C에서, nx, ny, nz는 측정 파장에서 각각 해당 광학 소자의 x축 방향, 광학 소자의 y축 방향, 두께 방향의 굴절률이고, d는 해당 광학 소자의 두께(단위:nm)이다). 상기 측정 파장은 450nm, 550nm 및/또는 650nm가 될 수 있다.
본 발명에서는 x축 방향을 광학 소자의 지상축(slow axis) 방향, y축 방향을 광학 소자의 진상축(fast axis) 방향으로 정의한다. 상기 광학 소자는 편광판, 제1보호층, 제2보호층 또는 제3보호층이 될 수 있다.
본 명세서에서 "(메트)아크릴"은 아크릴 및/또는 메타아크릴을 의미한다.
본 명세서에서 "정면", "측면"은 각각 수평 방향을 기준으로, 구면 좌표계(spherical coordinate system)에 의한 (φ, θ)에 의할 때, 정면은 (0°, 0°)이고, 좌측 끝 지점을 (180°, 90°), 우측 끝 지점을 (0°, 90°)라고 할 때, 측면은 (60°, 45°) 내지 (60°, 135°) 또는 (45°, 45°) 내지 (45°, 135°)을 의미한다.
본 명세서에서 수치 범위 기재시 "X 내지 Y"는 X 이상 Y 이하를 의미한다.
본 발명의 IPS 모드용 편광판은 백색 모드에서의 휘도를 높이고 흑색 모드에서의 휘도를 낮춤으로써 정면 명암비 개선 효과를 높였다. 정면 명암비는 흑색 모드에서의 휘도에 대한 백색 모드에서의 휘도의 비((백색 모드에서의 휘도/(흑색 모드에서의 휘도))로 계산된다. 또한, 본 발명의 IPS 모드용 편광판은 측면 칼라 시프트 개선 효과 및 빛샘을 낮추어 트루 블랙(true black)을 구현함으로서 블랙 시감을 개선하는 효과를 높였다.
이하, 도 1, 도 2를 참고하여 본 발명 일 실시예의 IPS모드용 편광판을 설명한다.
도 1을 참고하면, 편광판은 편광자(300), 제1보호층(100), 제2보호층(200)을 포함한다.
편광판에 있어서, 편광자(300)의 상부면(편광자의 광 출사면)에는 제1보호층(100)이 배치된다. 편광자(300)의 하부면(편광자의 광 입사면)에는 제2보호층(200)이 배치된다.
편광판은 하기 상술되는 2가지의 조건을 동시에 만족한다. 즉, 본 발명은 편광자의 광 출사면에서는 제1보호층의 파장 550nm에서의 면내 위상차, 제1보호층 중 굴절률이 낮은 축과 편광자 중 굴절률이 높은 축 간의 각도를 제어하고 동시에 편광자의 광 입사면에서는 제2보호층의 파장 분산성을 제어하였다. 이를 통해, 편광판은 정면 명암비 개선 효과, 측면 칼라 시프트 개선 효과 및 블랙 시감 개선 효과가 나올 수 있다. 하기 상술되는 2개의 조건 중 어느 하나라도 만족하지 못하는 경우 본 발명의 상술 효과를 모두 얻을 수 없다.
이에 의하면, 편광판은 파장 550nm에서 면내 위상차가 -10nm 내지 10nm, 예를 들면 -10, -9, -8, -7, -6, -5, -4, -3, -2, -1, 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10nm 구체적으로 0nm 내지 10nm, 예를 들면 0nm 내지 5nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 상술 효과가 모두 구현하는데 도움을 줄 수 있고, 정면 색감 유지하는 효과도 있을 수 있다.
먼저 첫번째 조건으로서, 도 2를 참고하면, 편광자(300)의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축(310)을 기준(0°)이라고 할 때, 제1보호층(100)의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축(110)이 이루는 각도는 -5° 내지 +5°이다. 상기 각도 범위에서, 정면 명암비 개선 효과, 측면 칼라 시프트 개선 효과 및 블랙 시감 개선 효과가 나올 수 있다.
본 명세서에서 "각도"를 표시할 때 "+"는 기준을 0°라고 할 때 시계 방향에서의 각도를 의미하고, "-"는 기준을 0°라고 할 때 반시계 방향에서의 각도를 의미한다.
구체적으로, 도 2에서, 상기 각도는 -4° 내지 +4°, -3° 내지 +3°, -2° 내지 +2°, -1° 내지 +1°가 될 수 있고, 더 구체적으로 0°가 될 수 있다. 상기 범위에서 상술한 효과와 함께, 롤 투 롤 공정에 의한 편광판 제조를 가능하게 함으로써 편광판의 공정성, 경제성을 높일 수 있다.
다음으로 두번째 조건으로서, 제2보호층(200)은 포지티브 C 플레이트층을 포함한다. 포지티브 C 플레이트층은 nz > nx ≒ ny (nx, ny, nz는 각각 파장 550nm에서 포지티브 C 플레이트층의 지상축 방향, 진상축 방향, 두께 방향의 굴절률이다)이 되는 층을 의미한다.
또한, 제2보호층(200)은 하기 식 1, 하기 식 2 중 적어도 어느 하나를 만족한다:
[식 1]
Re(450)/Re(550) > Re(650)/Re(550)
(상기 식 1에서, Re(450), Re(550), Re(650)은 각각 제2보호층의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 면내 방향 위상차(단위:nm)이다),
[식 2]
|Rth(450)|/|Rth(550)| > |Rth(650)|/|Rth(550)|
(상기 식 2에서, |Rth(450)|, |Rth(550)|, |Rth(650)|은 각각 제2보호층의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 두께 방향 위상차(단위:nm)의 절대값이다).
Re(450)/Re(550)은 Re(450) 값을 Re(550) 값으로 나눈 값이다. Re(650)/Re(550), |Rth(450)|/|Rth(550)|, |Rth(650)|/|Rth(550)|도 동일한 방식으로 계산될 수 있다.
제2보호층(200)은 포지티브 C 플레이트층을 포함하고, 상기 식 1, 상기 식 2에서와 같이 Re, Rth 중 적어도 어느 하나를 만족함으로써, 편광판은 정면 명암비 개선 효과, 측면 칼라 시프트 개선 효과 및 블랙 시감 개선 효과가 나올 수 있다. 일 구체예에서, 제2보호층(200)은 포지티브 C 플레이트층 단독이 될 수 있다.
이하, 편광판 중 각 구성 요소에 대해 상세히 설명한다.
편광자
편광자(300)는 입사되는 광을 직교하는 2개의 편광 성분으로 분리하여 일방의 편광 성분은 투과시키고 타방의 편광 성분은 흡수하는 기능을 갖는, 광 흡수형 편광자를 포함한다.
일 구체예에서, 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 편광자의 흡수축이고, 굴절률이 낮은 축은 편광자의 투과축이 될 수 있다.
일 구체예에서, 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 편광자의 기계적 방향(MD, machine direction)이고, 굴절률이 낮은 축은 편광자의 폭 방향(TD, transverse direction)이 될 수 있다.
편광자(300)의 광 투과율은 40% 이상, 구체적으로 40% 내지 45%가 될 수 있다. 편광자(300)의 편광도는 95% 이상, 구체적으로 95% 내지 100%, 더 구체적으로 98% 내지 100%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 보다 한 층 정면 명암비가 개선될 수 있으며 내구성을 향상시킬 수 있다.
편광자(300)는 이색성 염료를 함유하고 1축 연신된 편광자를 포함할 수 있다.
구체적으로, 이색성 염료를 함유하는 편광자는 편광자용 기재 필름을 MD 1축 연신하고 이색성 염료(예: 요오드 또는 요오드 함유 물질로서 요오드화칼륨을 포함)로 염색하여 제조된 편광자를 포함할 수 있다. 편광자용 기재 필름은 폴리비닐알코올계 필름 또는 그의 유도체를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 편광자는 당업자에게 알려진 통상의 방법에 따라 제조될 수 있다.
편광자(300)는 두께가 1㎛ 내지 40㎛, 구체적으로 5㎛ 내지 30㎛, 더 구체적으로 10㎛ 내지 25㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 편광판에 사용될 수 있다.
제1 보호층
제1 보호층(100)은 편광자(300)의 상부면(광 입사면)에 배치되어 편광자를 보호한다. 제1보호층(100)은 상술되는 면내 방향 위상차 및 상술되는 축 간의 각도 조절을 통해 정면 명암비 개선 효과, 측면 칼라 시프트 개선 효과 및 블랙 시감 개선 효과를 제공할 수 있다.
제1보호층(100)은 면내 방향 중 굴절률이 높은 축과 굴절률이 낮은 축을 구비한다. 여기에서 "굴절률이 높은 축"과 "굴절률이 낮은 축"은 제1보호층의 면내 방향의 2개의 축인 x축과 y축 중에서 굴절률을 상대적으로 비교하여 정의한 것이다. 특별히 제한되지는 않지만, 제1보호층에서 면내 방향 중 굴절률이 높은 축과 굴절률이 낮은 축은 제1보호층을 제조하는 공정 중 연신에 의해 형성될 수 있다. 예를 들면, 굴절률이 높은 축은 지상축(slow axis), 굴절률이 낮은 축은 진상축(fast axis)이 될 수 있다.
일 구체예에서, 제1 보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 제1 보호층의 기계적 방향(MD, machine direction)이고, 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 제1 보호층의 폭 방향(TD, transverse direction)이 될 수 있다. 이 경우, 제1보호층은 TD 1축 연신 보호 필름 또는 TD 1축 연신 코팅층이 될 수 있다.
다른 구체예에서, 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 제1 보호층의 폭 방향(TD)이고, 제1 보호층의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 제1 보호층의 기계적 방향(MD)이 될 수 있다. 이 경우, 제1보호층은 MD 1축 연신 보호 필름 또는 MD 1축 연신 코팅층이 될 수 있다.
또 다른 구체예에서, 제1 보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 제1 보호층의 폭 방향에 대해 대해 경사 방향이 되고, 굴절률이 높은 축은 제1 보호 층의 기계적 방향에 대해 대해 경사 방향이 될 수 있다. 이 경우, 제1보호층은 MD와 TD 2축 연신 필름 또는 MD와 TD 2축 연신 코팅층이 될 수 있다.
바람직하게는, 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 제1보호층의 기계적 방향(MD)이고, 제1 보호층의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 제1보호 층의 폭 방향(TD)이 됨으로써 상술된 편광자와의 축 관계를 고려할 때, 편광판의 제조시 롤 투 롤 공정을 가능하게 함으로써 공정성과 경제성을 높일 수 있다. 이에, 이하에서는 위의 경우에 대해서만 설명한다.
일 구체예에서, 제1 보호층은 면내 방향 중 상술한 굴절률이 낮은 축과 굴절률이 높은 축을 갖기 위해 TD 1축 연신 제1보호 필름을 포함할 수 있다.
TD 1축 연신시, 제1보호 필름은 용융 압출된 제1보호 필름용 수지를 TD 방향으로만 2배 내지 10배 연신하는 단계를 포함하는 제1보호 필름 제조 방법에 의해 제조될 수 있다. 상기 연신비 범위에서 본 발명의 굴절률이 낮은 축과 굴절률이 높은 축을 가질 수 있다. 구체적으로 연신비는 3배 내지 8배가 될 수 있다.
연신은 건식 연신, 습식 연신 중 하나 이상으로 수행될 수 있고, 연신 온도는 제1보호 필름용 수지의 유리전이온도 Tg를 기준으로 (Tg - 20)℃ 내지 (Tg + 50)℃, 구체적으로 70℃ 내지 150℃, 더 구체적으로 80℃ 내지 130℃가 바람직하고, 보다 더 구체적으로 90℃ 내지 120℃가 될 수 있다. 상기 범위에서, 일률적으로 동일한 연신 효과가 있을 수 있다.
연신 후 제1보호 필름은 연신 과정 없이 제1보호 필름을 소정의 온도에서 열 처리함으로써 제1보호 필름의 축 및 위상차를 고정시킬 수 있다. TD 1축 연신으로 제조된 제1보호 필름은 상술한 열 처리를 함으로써 축 및 위상차를 안정적으로 고정시킬 수 있다. 열 처리시 온도 및 시간은 제1보호 필름의 재질에 따라 적당하게 조절될 수 있다.
제1 보호층은 상술한 굴절률이 낮은 축과 굴절률이 높은 축으로 인하여, 소정 범위의 위상차를 가질 수 있다. 제1 보호층의 위상차는 제1보호층의 연신 정도, 굴절률이 낮은 축의 굴절률, 굴절률이 높은 축의 굴절률 등에 따라 달라질 수 있다.
일 구체예에서, 제1 보호층은 파장 550nm에서 면내 위상차(Re)가 5,000nm 이상, 구체적으로 5,000nm 내지 15,000nm, 더 구체적으로 5,500nm 내지 12,000nm, 6,000nm 내지 13,000nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 정면 명암비 개선 효과, 무지개 무라 억제 효과 등이 있을 수 있다.
일 구체예에서, 제1 보호층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차(Rth)가 5,000nm 이상, 구체적으로 5,000nm, 6,000nm, 7,000nm, 8,000nm, 9,000nm, 10,000nm, 11,000nm, 12,000nm, 13,000nm, 14,000nm, 또는 15,000nm, 구체적으로 6,000nm 내지 15,000nm, 더 구체적으로 6,000nm 내지 12,000nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 복굴절에 의한 얼룩 제어 효과, 액정 표시 장치에서의 시야각 특성 개선 효과 등이 있을 수 있다.
일 구체예에서, 제1 보호층은 파장 550nm에서 이축성 정도(NZ)가 2.5 이하, 구체적으로0.1 내지 2.5, 0.1, 0.2, 0.3, 0.4, 0.5, 0.6, 0.7, 0.8, 0.9, 1.0, 1.1, 1.2, 1.3, 1.4, 1.5, 1.6, 1.7, 1.8, 1.9, 2.0, 2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 또는 2.5, 1.0 내지 2.2, 더 구체적으로 1.2 내지 2.0, 가장 구체적으로 1.4 내지 1.8 이 될 수 있다. 상기 범위에서, 복굴절에 의한 얼룩 제어 효과, 필름의 기계적 강도 유지 효과 등이 있을 수 있다.
일 구체예에서, 제1 보호층은 파장 550nm에서, 면내 방향 중 x축 방향의 굴절률 nx, y축 방향의 굴절률 ny 중 어느 하나가 1.65 이상이 될 수 있다. nx, ny 모두가 1.65 미만 또는 nx, ny 모두가 1.65 이상이면, 제1보호층으로 사용시 입사각 및 파장에 따라 위상차값의 변화로 인한 복굴절에 의해 무지개 얼룩이 발생할 수 있다. 일 구체예에서, nx는 1.65 이상, 구체적으로 1.67 내지 1.75이고, ny는 1.45 내지 1.55가 될 수 있다. 다른 구체예에서, ny는 1.65 이상, 구체적으로 1.67 내지 1.75, 더 구체적으로 1.69 내지 1.72이고, nx는 1.45 내지 1.55가 될 수 있다. nx와 ny의 차이의 절대값(｜nx - ny│)은 0.1 내지 0.2, 구체적으로 0.12 내지 0.18이 되도록 함으로써, 시야각을 보다 개선할 수 있고, 무지개 얼룩이 발생하지 않게 할 수 있다.
일 구체예에서, 제1보호층(100)은 광학적으로 투명한 수지로 형성된 필름을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제1보호층은 트리아세틸셀룰로스 등을 포함하는 셀룰로스 에스테르계 수지, 노르보르난, 노르보르넨, 비정성 환상 폴리올레핀 등을 포함하는 고리형 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 비환형-폴리올레핀계 수지, 폴리메틸메타아크릴레이트 수지 등을 포함하는 폴리아크릴레이트계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지 중 1종 이상을 포함하는 보호 필름을 포함할 수 있다.
바람직하게는, 제1 보호층은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르계 수지 필름을 포함할 수 있다. 폴리에스테르계 수지 필름은 수분 투과도가 낮아서 편광판의 신뢰성을 더 높일 수 있다.
제1보호층(100)은 단일층이 될 수도 있고 또는 단일층의 수지 필름이 복수 개 적층되는 경우 또는 공압출에 의해 복수 개의 적층이 일체로 형성된 필름도 포함할 수 있다.
다른 구체예에서, 제1보호층(100)은 보호 코팅층이 될 수 있다. 보호 코팅층은 당업자에게 알려진 통상의 조성물로 형성될 수 있다.
제1보호층(100)은 두께가 100㎛ 이하, 예를 들면 0㎛ 초과 100㎛ 이하, 10㎛ 내지 100㎛, 구체적으로 20㎛ 내지 100㎛, 30㎛ 내지 100㎛, 40㎛ 내지 80㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 편광판에 사용될 수 있다.
도 1에서 도시되지 않았지만, 제1보호층(100)의 상부면에는 하드코팅층, 내지문성층, 반사방지층 등의 추가적인 기능성 코팅층이 더 형성될 수도 있다.
또한, 도 1에서 도시되지 않았지만, 편광자(300)와 제1보호층(100)은 점착층 및/또는 접착층에 의해 적층될 수 있다.
제2보호층
제2보호층(200)은 편광자(300)의 하부면(광 입사면)에 배치되어 편광자를 보호할 수 있다. 제2보호층(200)은 IPS 액정 패널로부터 입사되는 광을 편광자로 투과시 광을 제어함으로써 본 발명의 정면 명암비 개선 효과, 측면 컬러 시프트 개선 효과 및 블랙 시감 개선 효과를 현저하게 개선하는데 도움을 줄 수 있다.
제2보호층(200)은 편광자(100)에 직접적으로 형성될 수 있다.
제2보호층(200)은 상술한 식 1, 식 2 중 적어도 하나를 만족한다.
바람직하게는, 제2보호층(200)은 상술한 식 2를 만족함으로써 제2보호층(200)의 제조를 용이하게 할 수 있고, 본 발명의 효과를 더 개선할 수 있다.
더 바람직하게는, 제2보호층(200)은 상술한 식 1과 식 2를 모두 만족함으로써 제2보호층(200)의 제조를 용이하게 할 수 있고, 본 발명의 효과를 더 개선할 수 있다.
제2보호층(200)은 Re(450)/Re(550)이 0.1 내지 10, 구체적으로 0.5내지 5, Re(650)/Re(550)이 0.1 내지 8, 구체적으로 0.3 내지 3이 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 식 1이 쉽게 구현될 수 있다. 일 구체예에서, 제2보호층(200)은 Re(450)/Re(550)이 0.1, 0.5, 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8, 8.5, 9, 9.5 또는 10, Re(650)/Re(550)이 0.1, 0.5, 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8이 될 수 있다.
일 구체예에서, 제2보호층(200)은 Re(450)이 0nm 내지 20nm, 구체적으로 0nm 내지 15nm, Re(550)이 0nm 내지 15nm, 구체적으로 0nm 내지 10nm, Re(650)이 0nm 내지 10nm, 구체적으로 0nm 내지 5nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 식 1이 쉽게 구현될 수 있다.
제2보호층(200)은 식 2의 |Rth(450)|/|Rth(550)|가 0.1 내지 10, 구체적으로 0.5 내지 5, |Rth(650)|/|Rth(550)|가 0.1 내지 8, 구체적으로 0.1 내지 5가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 식 2가 쉽게 구현될 수 있다.
일 구체예에서, 제2보호층(200)은 |Rth(450)|/|Rth(550)|이 0.1, 0.5, 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8, 8.5, 9, 9.5 또는 10, |Rth(650)|/|Rth(550)|이 0.1, 0.5, 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8이 될 수 있다.
일 구체예에서, 제2보호층(200)은 Rth(450)이 -180nm 내지 -10nm 구체적으로 -130nm 내지 -10m, Rth(550)이 -150nm 내지 -10nm 구체적으로 -100nm 내지 -10nm, Rth(650)이 -120nm 내지 -10nm 구체적으로 -90nm 내지 -10nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 식 2가 쉽게 구현될 수 있다.
일 구체예에서, 제2 보호층(200)은 Rth(450)이 -180nm, -170nm, -160nm, -150nm, -140nm, -130nm, -120nm, -110nm, -100nm, -90nm, -80nm, -70nm, -60nm, -50nm, -40nm, -30nm, -20nm, -10nm가 될 수 있다. 제2 보호층(200)은 Rth(550)이 -150nm, -140nm, -130nm, -120nm, -110nm, -100nm, -90nm, -80nm, -70nm, -60nm, -50nm, -40nm, -30nm, -20nm, -10nm가 될 수 있다. 제2 보호층(200)은 Rth(650)이 -120nm, -110nm, -100nm, -90nm, -80nm, -70nm, -60nm, -50nm, -40nm, -30nm, -20nm, -10nm가 될 수 있다.
제2보호층(200)은 두께가 15㎛ 이하, 구체적으로 0㎛ 초과 10㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 편광판에 사용될 수 있다.
제2보호층(200)은 상술한 포지티브 C 플레이트층, 상술 식 1과 식 2 중 적어도 어느 하나를 구현할 수 있다면 소재에 제한을 두지 않는다.
그 중에서도, 본 발명자는 제2보호층을 형성하는 소재로서 비 액정층으로서 셀룰로스 에스테르계 화합물 또는 그의 중합체, 방향족계 화합물 또는 그의 중합체 중 1종 이상의 화합물을 포함하는 조성물로 형성하였다.
셀룰로스 에스테르계 화합물을 포함하는 조성물은 연신 없이 비 연신층으로서 제2보호층을 제조할 수 있게 한다. 또한, 셀룰로스 에스테르계 화합물을 포함하는 조성물은 상술 식 1, 식 2 중 적어도 어느 하나가 용이하게 만족될 수 있고 포지티브 C 플레이트에도 용이하게 도달될 수 있으며 제1보호층과 함께 포함시 본 발명의 효과가 용이하게 도달됨을 확인하였다.
일 구체예예서, 제2보호층은 셀룰로스 에스테르계 화합물을 포함하는 제2보호층용 조성물로 형성될 수 있다.
다른 구체예에서, 제2보호층은 셀룰로스 에스테르계 화합물과 방향족 융합 고리를 갖는 화합물을 포함하는 제2보호층용 조성물로 형성될 수 있다.
셀룰로스 에스테르계 화합물은 셀룰로스 에스테르계 수지, 셀룰로스 에스테르계 올리고머, 셀룰로스 에스테르계 모노머 중 1종 이상을 포함한다.
셀룰로스 에스테르계 화합물은 셀룰로스 상의 하이드록실기와 카복실산의 카복신산 기의 반응으로부터의 축합 반응 생성물을 지칭한다. 셀룰로스 에스테르계 화합물은 위치 선택적으로 또는 랜덤(random)하게 치환될 수 있다. 위치 선택성은 탄소 13 NMR에 의해 셀룰로스 에스테르 상의 C6, C3, C2에서의 상대적인 치환도를 결정함으로써 측정할 수 있다. 셀룰로스 에스테르는 원하는 치환도 및 중합도를 가진 셀룰로스 에스테르를 제공하기에 충분한 접촉 시간 동안 셀룰로스 용액과 하나 이상의 C1 내지 C20의 아실화제를 접촉시킴으로써 통상적인 방법에 의해 제조될 수 있다. 바람직한 아실화제는 하나 이상의 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 아릴 카르복실산 무수물, 카르복실산 할라이드, 다이케톤, 또는 아세토아세트산 에스테르이다. 카복실산의 무수물의 예는 아세트산 무수물, 프로피온산 무수물, 부티르산 무수물, 이소브티르산 무수물, 발레르산 무수물, 헥사노산 무수물, 2-에틸헥사노산 무수물, 노나노산 무수물, 라우르산 무수물, 팔미트산 무수물, 스테아르산 무수물, 벤조산 무수물, 치환된 벤조산 무수물, 프탈산 무수물, 이소프탈산 무수물을 포함할 수 있다. 카르복실산 할라이드의 예는 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 헥사노일, 2-에틸헥사노일, 라우로일, 팔미토일, 벤조일, 치환된 벤조일, 및 스테아로일 클로라이드를 포함한다. 아세토아세트산 에스테르의 예는 메틸아세토아세테이트, 에틸아세토아세테이트, 프로필아세토아세테이트, 부틸아세토아세테이트, 3급부틸아세토아세테이트를 포함할 수 있다. 가장 바람직한 아실화제는 아세트산 무수물, 프로피온산 무수물, 부티르산 무수물, 2-에틸헥사노산 무수물, 노나노산 무수물, 스테아르산 무수물 등의 C2 내지 C9 직쇄 또는 분지쇄 알킬 카르복실산 무수물이다.
셀룰로스 에스테르계 화합물의 바람직한 예는 셀룰로스 아세테이트(CA), 셀룰로스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 셀룰로스 아세테이트 부티레이트(CAB)를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
일 구체예에서, 셀룰로스 에스테르계 화합물은 2개의 서로 다른 아실기의 치환기를 가질 수 있다. 상기 아실기 중 적어도 1개 이상은 방향족 치환기를 포함하고, 셀룰로스 에스테르계 화합물은 상대적 치환도(RDS, relative degree of substitution)가 C6>C2>C3이 될 수 있다. C6은 셀룰로스 에스테르 중 탄소 6번에서의 치환도, C2는 셀룰로스 에스테르 중 탄소 2번에서 치환도, C3은 셀룰로스 에스테르 중 탄소 3번에서 치환도를 의미한다. 상기 방향족계 화합물은 벤조에이트, 또는 치환된 벤조에이트를 포함할 수 있다.
다른 구체예에서, 셀룰로스 에스테르계 화합물은 하기 (a), (b)를 갖는 위치 선택적으로(regioselective) 치환된 셀룰로스 에스테르 화합물을 포함하고,
(a)복수 개의 크로모포어-아실 치환기,
(b)복수개의 피발로일 치환기,
상기 셀룰로스 에스테르계 화합물은 약 0.1 내지 약 1.2의 수산기 치환도를 가지고, 상기 셀룰로스 에스테르계 화합물은 약 0.4 내지 약 1.6의 크로모포어 아실 치환도를 가지고, 셀룰로스 에스테르계 화합물 중 탄소 2번에서의 크로모포어 아실 치환도와 탄소 3번에서의 크로모포어 아실 치환도의 총 합과 탄소 6번에서의 크로모포어 아실 치환도의 차이는 약 0.1 내지 약 1.6이고, 상기 크로모포어-아실은 하기 (i), (ii), (iii), (iv)으로부터 선택될 수 있다:
(i)(C6-20)아릴-아실, 이때, 아릴은 비치환되거나 또는 1개 내지 5의 R1으로 치환된 아릴이고,
(ii)헤테로 아릴, 이때 헤테로 아릴은 N, O, S로부터 선택되는 1개 내지 4개의 헤테로 원자를 갖는 5원 내지 10원의 고리이고, 상기 헤테로 아릴은 비치환되거나 또는 1개 내지 5개의 R1으로 치환되고
(iii)
상기 아릴은 C6-20 아릴,
상기 아릴은 비치환되거나 또는 1개 내지 5개의 R1으로 치환되고,
(iv)
상기 헤테로아릴은 N, O, S로부터 선택되는 1개 내지 4개의 헤테로원자를 갖는 5원 내지 10원의 고리이고, 상기 헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 내지 5개의 R1으로 치환되고,
상기 각각의 R1은 독립적으로, 니트로, 시아노, (C1-6)알킬, 할로(C1-6)알킬, (C6-20)아릴-CO2-, (C6-20)아릴, (C1-6)알콕시, 할로(C1-6)알콕시, 할로, N,O,S로부터 선택되는 1개 내지 4개의 헤테로원자를 갖는5원 내지 10원의 헤테로아릴, 또는 이다.
일 실시예에서, 상기 크로모포어-아실은 비치환 또는 치환된 벤조일, 비치환 또는 치환된 나프틸일 수 있다.
일 실시예에서, 상기 크로모포어-아실은 하기의 군으로부터 선택될 수 있다.:
또는
이때, *은 셀룰로스 에스테르의 산소에 대한 크로모포어-아실 치환기의 결합 부위를 나타낸다.
또 다른 구체예에서, 셀룰로스 에스테르계 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 바와 같이 셀룰로스를 이루는 당 단량체의 수산기[C2의 수산기, C3의 수산기 또는 C6의 수산기] 중 적어도 일부가 비치환 또는 치환된 아실 단위를 갖는 에스테르 중합체를 포함할 수 있다.
[화학식 1]
(상기 화학식 1에서, n은 1 이상의 정수)
셀룰로스 에스테르계 중합체 또는 아실을 위한 치환기는 각각 할로겐, 니트로, 알킬(예: 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알킬기), 알케닐(예: 탄소수 2 내지 20의 알케닐기), 시클로알킬(예: 탄소수 3 내지 탄소수 10의 시클로알킬기), 아릴(예: 탄소수 6 내지 탄소수 20의 아릴기), 헤테로 아릴(예: 탄소수 3 내지 탄소수 10의 아릴기), 알콕시(예: 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알콕시기), 아실, 할로겐 함유 작용기 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 치환기는 동일하거나 다를 수 있다.
상기 "아실"은 당업자에게 알려진 바와 같이 R-C(=O)-*(*은 연결 부호, R은 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 탄소수 20의 시클로알킬, 탄소수 6 내지 탄소수 20의 아릴 또는 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬)이 될 수 있다. 상기 "아실"은 셀룰로스에서 에스테르 결합을 통해(산소 원자를 통해) 셀룰로스의 고리에 결합된다.
상기 "알킬", "알케닐", "시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "알콕시", "아실"은 각각 편의상 할로겐을 포함하지 않는 비-할로겐계이다. 제2위상차층용 조성물은 상기 셀룰로스 에스테르계 단독 또는 상기 셀룰로스 에스테르계가 혼합되어 포함될 수도 있다.
상기 "할로겐"은 플루오린(F), Cl, Br 또는 I를 의미하고, 바람직하게는 F를 의미한다.
상기 "할로겐 함유 작용기"는 1개 이상의 할로겐을 함유하는 유기 작용기로서, 방향족, 지방족 또는 지환족 작용기를 포함할 수 있다. 예를 들면, 할로겐 함유 작용기는 할로겐 치환된 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알킬기, 할로겐 치환된 탄소수 2 내지 탄소수 20의 알케닐기, 할로겐 치환된 탄소수 2 내지 20의 알키닐기, 할로겐 치환된 탄소수 3 내지 탄소수 10의 시클로알킬기, 할로겐 치환된 탄소수 1 내지 탄소수 20 알콕시기, 할로겐 치환된 아실기, 할로겐 치환된 탄소수 6 내지 탄소수 20의 아릴기, 또는 할로겐 치환된 탄소수 7 내지 탄소수 20의 아릴알킬기를 의미할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
상기 "할로겐 치환된 아실기"는 R'-C(=O)-*(*은 연결 부호, R'은 할로겐 치환된 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알킬기, 할로겐 치환된 탄소수 3 내지 탄소수 20의 시클로알킬, 할로겐 치환된 탄소수 6 내지 탄소수 20의 아릴 또는 할로겐 치환된 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬)이 될 수 있다. 상기 "할로겐 치환된 아실기"는 셀룰로스에서 에스테르 결합을 통해(산소 원자를 통해) 셀룰로스의 고리에 결합된다.
바람직하게는, 포지티브 C 플레이트 위상차층 조성물은 아실, 할로겐 또는 할로겐 함유 작용기로 치환된 셀룰로스 에스테르계 중합체를 포함할 수 있다. 더 바람직하게는 상기 할로겐은 플루오린이 될 수 있다. 할로겐은 셀룰로스 에스테르계 중합체 중 1중량% 내지 10중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 물성을 갖는 포지티브 C 플레이트 위상차층 제조가 용이할 수 있으며, 원편광도(타원율)을 좀 더 높일 수 있다.
상기 셀룰로스 에스테르계 중합체는 당업자에게 알려진 통상의 방법으로 제조되거나 상업적으로 판매되는 제품을 구입하여 포지티브 C 플레이트 위상차층 제조에 사용될 수 있다. 예를 들면, 치환기로서 아실을 갖는 셀룰로스 에스테르계 중합체는 상술 화학식 1의 셀룰로스를 이루는 당 단량체 또는 당 단량체의 중합체에 트리플루오로아세트산, 트리플루오로아세트산 무수물을 반응시키거나 또는 트리플루오로아세트산, 트리플루오로아세트산 무수물을 반응시킨 다음 아실화제(예를 들면, 카르복실산의 무수물, 또는 카르복실산)를 추가로 반응시키거나, 또는 트리플루오로아세트산 또는 트리플루오로아세트산 무수물 및 아실화제를 함께 반응시켜 제조될 수 있다.
방향족계 화합물은 페닐기를 포함하며, 비치환된 또는 할로겐 바람직하게는 불소(F) 함유 폴리스티렌계 화합물, 플루오로벤젠 혹은 디플루오로스티렌 구조를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
방향족 융합 고리를 갖는 화합물은 제2보호층의 두께 방향 위상차의 발현율과 파장 분산성을 조절하는 역할을 수행한다. 상기 방향족 융합 고리를 갖는 화합물은 페닐기를 포함하며, 플루오로벤젠 혹은 디플루오로스티렌 구조, 나프탈렌, 안트라센, 페난트렌, 피렌, 하기 구조 1 또는 하기 구조2를 포함할 수 있다. 상기 방향족 융합 고리를 갖는 첨가제로는 2-나프틸 벤조에이트, 하기 구조 3의 2,6-나프탈렌 다이카르복실산 다이에스테르, 나프탈렌, 하기 구조 4의 아비에트산 에스테르 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다:
[구조 1]
[구조 2]
[구조 3]
(상기 구조 3에서, R은 C1 내지 C20의 알킬 또는 C6 내지 C20의 아릴, n은 0 내지 6의 정수)
[구조 4]
(상기 구조 4에서, R은 C1 내지 C20의 알킬 또는 C6 내지C20의 아릴)
바람직하게는 방향족 융합 고리를 갖는 화합물은 나프탈렌, 안트라센, 페난트렌, 피렌, 2-나프틸 벤조에이트, 상기 구조 3의 2,6-나프탈렌 다이카르복실산 다이에스테르 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
방향족 융합 고리를 갖는 화합물은 제2보호층 중 0 내지 30중량%, 구체적으로 0.1중량% 내지 30중량%, 바람직하게는 5중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 열안정성을 높이고, 두께당 위상차 발현율을 높이고 파장 분산성을 조절하는 효과가 있을 수 있다.
제2보호층용 조성물은 대전방지제, 가소화제, 안정제, UV 흡수제, 블록 방지제, 슬립제, 윤활제, 염료, 안료, 지연 개선제 등의 첨가제를 추가로 포함할 수도 있다.
제 2보호층용 조성물은 제 1용매 혹은 제 2용매를 포함한 용액으로 제조되며, 제1 용매는 기재층 용해를 제어함으로써 상기 조성물을 소정의 두께로 도포하여 코팅층을 형성하도록 한다. 예를 들면, 프로필렌글리콜메틸에테르, 메틸이소프로필케톤, 톨루엔, 자일렌 중 1종 이상을 포함할 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 제 2용매는 기재층을 용해시키는 용매, 기재층을 용해시키지 않는 용매 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 예를 들면 제 1용매 중 1종 또는 메틸에틸케톤, 메탄올, 에틸아세테이트, 디클로로메탄, 사이클로펜탄온, 테트라하이드로퓨란 중 1종 이상을 포함할 수 있으나 이에 제한되지 않는다.
제2보호층(200)은 편광자 또는 하기 상술되는 제3보호층의 일면에 상기 제2보호층용 조성물을 직접 코팅하고 건조 및/또는 경화시켜 제조될 수 있다.
코팅 방법은 당업자에게 알려진 통상의 방법을 채용할 수 있는데, 예를 들면 메이어바 코팅, 다이 코팅, 그라비아 코팅 등이 될 수 있다.
상기 조성물은 고형분 기준으로, 셀룰로스 에스테르계 화합물, 방향족계 화합물 또는 그의 중합체, 중 1종 이상을 1중량% 내지 20%중량으로 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 포지티브 C 플레이트 위상차층을 구현할 수 있고, 파장 분산성을 조절하는 효과가 있을 수 있다.
상기 조성물을 소정의 두께로 도포하여 코팅층을 형성하도록 하고, 상기 코팅층을 40℃ 내지 200℃의 범위에서 건조 및/또는 경화시켜 포지티브 C 플레이트 위상차층을 형성하도록 하였다. 상기 범위에서 두께당 위상차 발현율을 높이고, 열안정성을 높이는 효과가 있을 수 있다. 바람직하게는 60℃ 내지 120℃에서 0.5분 내지 30분 바람직하게는 1분 내지 10 분 동안 건조 및 경화 처리될 수 있다.
도 1에서 도시되지 않았지만, 제2보호층(200)의 하부면에는 점착층 또는 접착층이 더 형성될 수 있다. 점착층 또는 접착층은 편광판을 피착체 예를 들면 IPS 액정 패널에 고정시킬 수 있다.
편광판은 제3보호층을 더 포함할 수 있다.
이하, 도 3을 참조하여, 본 발명 다른 실시예의 편광판을 설명한다.
도 3을 참조하면, 편광판은 편광자(300), 제1보호층(100), 제2보호층(200), 제3보호층(400)을 포함한다. 제3보호층(400)이 편광자(300)와 제2보호층(200) 사이에 더 적층된 점을 제외하고는 도 1의 편광판과 실질적으로 동일하다.
제3보호층(400)은 제2보호층(200) 형성시 지지층 역할을 할 수 있다.
제3보호층(400)은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 100nm 이하 구체적으로 0nm, 1nm, 5nm, 10nm, 15nm, 20nm, 25nm, 30nm, 35nm, 40nm, 45nm, 50nm, 55nm, 60nm, 65nm, 70nm, 75nm, 80nm, 85nm, 90nm, 95nm 또는 100mn, 더 구체적으로 0nm 내지 10nm 또는 40nm 내지 100nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 제2보호층의 기능에 영향을 주지 않을 수 있다.
제3보호층(400)은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -10nm 내지 200nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 입사되는 광에 영향을 주지 않거나 출사되는 광에 영향을 주지 않을 수 있다. 구체적으로, 제3보호층(400)은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -10nm, -5nm, 0nm, 5nm, 10nm, 15nm, 20nm, 25nm, 30nm, 35nm, 40nm, 45nm, 50nm, 55nm, 60nm, 65nm, 70nm, 75nm, 80nm, 85nm, 90nm, 95nm, 100nm, 110nm, 115nm, 120nm, 125nm, 130nm, 140nm, 145nm, 150nm, 155nm, 160nm, 165nm, 170nm, 175nm, 180nm, 185nm, 190nm, 195nm 또는 200nm가 될 수 있다. 보다 구체적으로, 제3보호층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -10nm 내지 10nm, 또는 50nm 내지 200nm가 될 수 있다.
제3보호층(400)은 파장 550nm에서 이축성 정도가 -1 내지 10, 구체적으로 -1, 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10이 될 수 있다. 보다 구체적으로 제3보호층(400)은 파장 550nm에서 이축성 정도가 0 내지 1 또는 1 내지 5가 될 수 있다.
일 구체예에서, 제3보호층(400)은 무연신 필름이 될 수 있다. 이를 통해, 제3보호층은 위상차 필름으로 입사되는 광에 영향을 주지 않거나 포지티브 C 플레이트 위상차층으로부터 출사되는 광에 영향을 주지 않을 수 있다.
일 구체예에서, 제3보호층(400)과 제2보호층(200)의 적층체는 하기 식 3, 하기 식 4 중 적어도 어느 하나를 만족시킬 수 있다. 이를 통해, 편광판의 정면 명암비를 개선하고, 측면 컬라 시프트를 개선할 수 있다:
[식 3]
Re(450)/Re(550) > Re(650)/Re(550)
(상기 식 3에서, Re(450), Re(550), Re(650)은 각각 제3보호층과 제2보호층의 적층체의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 면내 방향 위상차(단위:nm)이다)
[식 4]
|Rth(450)|/|Rth(550)| > |Rth(650)|/|Rth(550)|
(상기 식 4에서, |Rth(450)|, |Rth(550)|, |Rth(650)|은 각각 제3보호층과 제2보호층의 적층체의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 두께 방향 위상차(단위:nm)의 절대값이다).
제3보호층(400)과 제2보호층(200)의 적층체는 상기 식 3의 Re(450)/Re(550)이 0.1 내지 10 구체적으로 0.5 내지 5, 상기 식 3의 Re(650)/Re(550)이 0.1 내지 8 구체적으로 0.3 내지 3이 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 식 3이 쉽게 구현될 수 있다. 일 구체예에서, 제3보호층(400)과 제2보호층(200)의 적층체는 Re(450)/Re(550)이 0.1, 0.5, 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8, 8.5, 9, 9.5 또는 10, Re(650)/Re(550)이 0.1, 0.5, 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8이 될 수 있다.
일 구체예에서, 제3보호층(400)과 제2보호층(200)의 적층체는 Re(450)이 0nm 내지 20nm 구체적으로 0nm 내지 15nm, Re(550)이 0nm 내지 15nm 구체적으로 0nm 내지 10nm, Re(650)이 0nm 내지 10nm 구체적으로 0nm 내지 5nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 식 3이 쉽게 구현될 수 있다.
제3보호층(400)과 제2보호층(200)의 적층체는 상기 식 4의 |Rth(450)|/|Rth(550)|가 0.1 내지 10, 구체적으로 0.5 내지 5, 상기 식 4의 |Rth(650)|/|Rth(550)|가 0.1 내지 8, 구체적으로 0.1 내지 5가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 식 4가 쉽게 구현될 수 있다.
일 구체예에서, 제3보호층(400)과 제2보호층(200)의 적층체는 |Rth(450)|/|Rth(550)|이 0.1, 0.5, 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8, 8.5, 9, 9.5 또는 10, |Rth(650)|/|Rth(550)|이 0.1, 0.5, 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8이 될 수 있다.
일 구체예에서, 제3보호층(400)과 제2보호층(200)의 적층체는 Rth(450)이 -180nm 내지 -10nm 구체적으로 -130nm 내지 -10m, Rth(550)이 -150nm 내지 -10nm 구체적으로 -100nm 내지 -10nm, Rth(650)이 -120nm 내지 -10nm 구체적으로 -90nm 내지 -10nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 식 4가 쉽게 구현될 수 있다.
일 구체예에서, 제3보호층(400)과 제2보호층(200)의 적층체는 Rth(450)이 -180nm, -170nm, -160nm, -150nm, -140nm, -130nm, -120nm, -110nm, -100nm, -90nm, -80nm, -70nm, -60nm, -50nm, -40nm, -30nm, -20nm, -10nm가 될 수 있다. 제2 보호층(200)은 Rth(550)이 -150nm, -140nm, -130nm, -120nm, -110nm, -100nm, -90nm, -80nm, -70nm, -60nm, -50nm, -40nm, -30nm, -20nm, -10nm가 될 수 있다. 제2 보호층(200)은 Rth(650)이 -120nm, -110nm, -100nm, -90nm, -80nm, -70nm, -60nm, -50nm, -40nm, -30nm, -20nm, -10nm가 될 수 있다.
제3보호층(400)은 광학적으로 투명한 수지로 형성된 필름을 포함할 수 있다. 구체적으로, 제3보호층은 트리아세틸셀룰로스 등을 포함하는 셀룰로스 에스테르계 수지, 노르보르넨, 노르보르난, 비정성 환상 폴리올레핀 등을 포함하는 고리형 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 비환형-폴리올레핀계 수지, 폴리메틸메타아크릴레이트 수지 등을 포함하는 폴리아크릴레이트계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지 중 1종 이상을 포함하는 보호 필름을 포함할 수 있다.
제3보호층(400)은 두께가 100㎛ 이하, 구체적으로 0㎛ 초과 100㎛ 이하, 10㎛ 내지 100㎛, 더 구체적으로 10㎛ 내지 55㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 편광판에 사용될 수 있다.
도 3은 제3보호층(400)이 편광자(300)와 제2보호층(200) 사이에 더 적층된 편광판을 도시한 것이다. 그러나, 제3보호층(400)이 제2보호층(200)의 하부면에 적층되어, 제1보호층, 편광자, 제2보호층, 제3보호층의 순서로 적층된 편광판도 본 발명의 범위에 포함될 수도 있다.
본 발명의 광학표시장치는 본 발명의 IPS 모드용 편광판을 포함한다. 일 구체예에서, 광학표시장치는 IPS 액정표시장치를 포함할 수 있다.
액정표시장치는 액정 패널, 액정 패널의 광 출사면에 적층되는 본 발명의 편광판(시인측 편광판), 액정 패널의 광 입사면에 배치되는 편광판(광원측 편광판)을 포함한다. 광 입사면에 배치되는 편광판은 당업자에게 통상적으로 알려진 편광판을 포함할 수 있다.
액정표시장치는 광원측 편광판의 하부면에 광원을 포함한다. 광원은 연속적인 발광 스펙트럼을 갖는 광원을 포함할 수 있다. 예를 들면, 광원은 백색 LED(White LED) 광원, 양자점(QD, quantum dot) 광원, 금속 불화물 적색 형광체 광원 구체적으로 KSF(K2SiF6:Mn4+) 형광체 또는 KTF(K2TiF6:Mn4+) 형광체 함유 광원 등을 포함할 수 있다. 액정 패널은 수지 배향(VA) 모드 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되지는 않는다.
실시예 1
폴리비닐알코올계 필름(KURARAY社, VF-TS#4500, 두께:45㎛)을 30℃에서 2배로 폴리비닐알코올계 필름의 MD로 1축 연신하고 요오드를 흡착시킨 후 60℃의 붕산 수용액에서 연신하여 편광자(두께: 17㎛)를 제조하였다. 최대 연신 배율은 6.5배이다. 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 편광자의 흡수축(MD)이다.
트리아세틸셀룰로스(TAC) 필름(KONICA社, KC4CT1W, 두께:40㎛, 파장 550nm에서 Re: 0.10nm, Rth: 0.30nm, NZ: 0.8)의 하부면에 제2보호층용 조성물(EASTMAN社, 포지티브 C 플레이트층을 위한 조성물)을 10% 함량으로 하여 소정의 두께로 코팅하고 80℃에서 10분간 건조시켜, TAC 필름 하부면에 제2보호층을 형성하였다. 제2보호층은 두께가 5㎛이고, 포지티브 C 플레이트층이다. 제2보호층은 하기 표 1의 파장 분산성을 갖는다.
상기 제조한 편광자의 하부면(광 입사면)에 상기 TAC 필름의 상부면을 접착시켰다. 상기 제조한 편광자의 상부면(광 출사면)에 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도요보社, 두께:80㎛, 파장 550nm에서 Re: 8,500nm, Rth: 9,300nm, NZ: 1.55, TD 1축 연신 필름)을 접착시켰다. PET 필름에 있어서, 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 진상축으로 PET 필름의 MD이다. 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축을 0° 라고 할 때, PET 필름의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축이 이루는 각도는 0°이다.
실시예 2
실시예 1에서 TAC 필름 대신에 노르보르넨계 위상차 필름(ZEON社, ZB12-052125-F1490, 두께: 51㎛, 파장 550nm에서 Re: 52nm, Rth: 125nm, NZ: 2.9)을 사용하고 파장 분산성을 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
실시예 3
실시예 1에서 트리아세틸셀룰로스(TAC) 필름을 사용하지 않고 제2보호층용 조성물을 편광자의 하부면에 직접적으로 코팅하고 파장 분산성을 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 실시하여 편광판을 제조하였다.
실시예 4 내지 실시예 5
실시예 1에서 편광판의 구성을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 실시하여 편광판을 제조하였다.
비교예 1 내지 비교예 4
실시예 1에서 편광판의 구성을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 실시하여 편광판을 제조하였다.
실시예와 비교예의 편광판의 상세 구성을 하기 표 1에 나타내었다.
각도 제1보호층의 Re 제2보호층의 Rth 제2보호층 Re(450)/
Re(550)		 Re(650)/
Re(550)		 |Rth(450) |/
|Rth(550)|		 |Rth(650)|/
|Rth(550)|
실시예1 0 8500 -30 +C 1.6 1.0 1.1 0.9
실시예2 0 8500 -30 +C 2.5 1.1 1.3 0.8
실시예3 0 8500 -30 +C 3.4 1.2 1.6 1.1
실시예4 +4 8500 -30 +C 4.8 0.6 3.5 0.7
실시예5 0 6500 -70 +C 4.7 4.1 1.6 0.1
비교예1 -6 8500 -30 +C 1.9 1.1 1.5 1.1
비교예2 +6 8500 -30 +C 1.2 0.3 1.4 0.9
비교예3 0 4500 -30 +C 3.6 1.2 1.5 1.4
비교예4 0 8500 -30 +C 2.3 4.4 0.1 1.6
*표 1에서 각도는 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축을 0°라고 할 때 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축이 이루는 각도(단위: °)이다.
실시예와 비교예의 편광판을 사용하여 하기 표 2의 물성을 평가하였다.
(1)정면 명암비와 상대 명암비(%): 실시예와 비교예의 편광판을 사용해서 LED 광원, 도광판, IPS용 액정표시장치용 패널을 조립하여 에지형 LED 광원을 포함하는 액정표시장치(실시예 및 비교예의 편광판을 시인측 편광판으로 사용하는 것을 제외하고는Samsung TV(55인치, 2016년 제조 모델명:UN55KS8000F)와 동일 구성)용 모듈을 제조하였다. 상기 제조한 액정표시장치용 모듈에 대해 휘도 측정 장치 EZCONTRAST X88RC(EZXL-176R-F422A4, ELDIM社)를 이용하여 구면 좌표계 정면(0°, 0°)에서 백색 모드(white mode), 흑색 모드(black mode) 각각에서 휘도값을 측정하였다.
정면 명암비는 흑색 모드에서의 휘도에 대한 백색 모드에서의 휘도의 비로 계산된다. 상대 명암비는 [(해당 실시예 또는 비교예의 정면 명암비 - 실시예 1의 정면 명암비)/(실시예 1의 정면 명암비)] x 100으로 계산하였다.
(2)측면 칼라 시프트(△x,y): (1)과 동일한 방법으로 모듈을 조립하였다. 휘도 측정 장치 EZCONTRAST X88RC(EZXL-176R-F422A4, ELDIM社) 를 사용해서 (θ,φ)로서, (60°, 45°), (60°, 135°)에서 색좌표 x, 색좌표 y를 각각 측정하였다. 색좌표 x, y는 CIE 1931년 기준에 따라 평가되었다.
측면 △x,y 값은 (60°, 45°), (60°, 135°) 간의 x,y 좌표의 거리로 계산하였다.
상대 측면 △x,y 값은 [(해당 실시예 또는 비교예의 측면 △x,y 값 - 실시예 1의 측면 △x,y 값)/(실시예 1의 측면 △x,y 값)] x 100으로 계산하였다. 상대 측면 x,y 값의 절대값이 낮을수록 측면 칼라 시프트 개선 효과가 있음을 의미한다.
(3)편광판의 파장 550nm에서 Re(단위:nm): AxoMetrics社의 Axoscan을 통해 편광판 위상차를 측정한 후 Axometrics Multi Layer Analysis를 통해 편광판의 Re(@550nm)를 확인하였다.
백색 모드 휘도 흑색 모드 휘도 정면
명암비		 상대
명암비		 측면
△x,y 값		 상대 측면 △x,y 값 편광판의
Re
실시예1 278 0.196 1418 0% 0.059 0% 0.2
실시예2 278 0.195 1426 1% 0.051 -14% 2.2
실시예3 277 0.195 1421 0% 0.060 2% 0.9
실시예4 270 0.199 1357 -4% 0.062 5% 0.8
실시예5 280 0.191 1466 3% 0.043 -27% 4.5
비교예1 239 0.220 1086 -23% 0.074 25% 0.6
비교예2 242 0.209 1158 -18% 0.072 22% 0.6
비교예3 261 0.207 1261 -11% 0.088 49% 3.8
비교예4 253 0.208 1216 -14% 0.095 61% 2.7
상기 표 2에서와 같이, 본 발명의 편광판은 백색 모드의 휘도를 높이고 흑색 모드의 휘도를 낮추어 정면 명암비를 개선하고, 측면 컬러 시프트를 낮춤으로써 화상 품질을 개선하였다.
반면에, 본 발명에서 축 간의 각도를 만족하지 못하는 비교예 1, 비교예 2는 백색 모드 휘도가 떨어지고, 흑색 모드 휘도가 높아져 결과적으로는 패널에서 빛이 새고 정면 명암비가 떨어지는 문제점이 있었다. 본 발명에서 제1보호층의 면내 위상차 5000nm 이상을 만족하지 못하는 비교예 3은 초고위상차를 만족하지 못하여 패널에서 위상차 무지개 무라가 생기고, 측면 색상차이가 커지는 문제점이 있었다. 본 발명의 파장 분산성 식 1, 식 2 중 어느 하나라도 만족하지 못하는 비교예 4는 측면 색상차이를 개선하지 못하여 패널에서 측면 색상차이가 심해지는 문제점이 있었다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (20)

  1. 편광자; 상기 편광자의 상부면에 적층된 제1보호층; 및 상기 편광자의 하부면에 적층된 제2보호층을 포함하고,
    상기 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축을 기준(0°)이라고 할 때 상기 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축이 이루는 각도는 -5° 내지 +5°이고,
    상기 제1보호층은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 5,000nm 이상이고,
    상기 제2보호층은 포지티브 C 플레이트층을 포함하고, 상기 제2보호층은 하기 식 1 및 하기 식 2를 만족하는 것인, IPS 모드용 편광판:
    [식 1]
    Re(450)/Re(550) > Re(650)/Re(550)
    (상기 식 1에서, Re(450), Re(550), Re(650)은 각각 제2보호층의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 면내 방향 위상차(단위:nm)이다),
    [식 2]
    |Rth(450)|/|Rth(550)| > |Rth(650)|/|Rth(550)|
    (상기 식 2에서, |Rth(450)|, |Rth(550)|, |Rth(650)|은 각각 제2보호층의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 두께 방향 위상차(단위:nm)의 절대값이다).
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 식 1 중 Re(450)/Re(550)이 0.1 내지 10, 상기 식 1 중 Re(650)/Re(550)이 0.1 내지 8인 것인, IPS 모드용 편광판.
  4. 제1항에 있어서, 상기 식 2 중 |Rth(450)|/|Rth(550)|이 0.1 내지 10, 상기 식 2 중 |Rth(650)|/|Rth(550)|이 0.1 내지 8인 것인, IPS 모드용 편광판.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제2보호층은 파장 550nm에서의 두께 방향 위상차는 -150nm 내지 -10nm인 것인, IPS 모드용 편광판.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제2보호층은 비 액정층인 것인, IPS 모드용 편광판.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제2보호층은 셀룰로스 에스테르계 화합물 또는 그의 중합체, 방향족계 화합물 또는 그의 중합체 중 1종 이상의 화합물을 포함하는 조성물로 형성된 코팅층인 것인, IPS 모드용 편광판.
  8. 제1항에 있어서, 상기 제1 보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 상기 제1 보호층의 기계적 방향(MD, machine direction)이고, 상기 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 상기 제1 보호층의 폭 방향(TD, transverse direction)인 것인, IPS 모드용 편광판.
  9. 제1항에 있어서, 상기 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 상기 편광자의 기계적 방향이고, 상기 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 상기 편광자의 폭 방향인 것인, IPS 모드용 편광판.
  10. 제1항에 있어서, 상기 제2보호층은 상기 편광자에 직접적으로 형성된 것인, IPS 모드용 편광판.
  11. 제1항에 있어서, 상기 편광판은 제3보호층을 더 포함하는 것인, IPS 모드용 편광판.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제3보호층은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 100nm 이하인 것인, IPS 모드용 편광판.
  13. 제11항에 있어서, 상기 제3보호층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -10nm 내지 200nm인 것인, IPS 모드용 편광판.
  14. 제11항에 있어서, 상기 제3보호층은 파장 550nm에서 이축성 정도가 -1 내지 10인 것인, IPS 모드용 편광판.
  15. 제11항에 있어서, 상기 제3보호층과 상기 제2보호층의 적층체는 하기 식 3, 하기 식 4 중 적어도 어느 하나를 만족시키는 것인, IPS 모드용 편광판:
    [식 3]
    Re(450)/Re(550) > Re(650)/Re(550)
    (상기 식 3에서, Re(450), Re(550), Re(650)은 각각 제3보호층과 제2보호층의 적층체의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 면내 방향 위상차(단위:nm)이다),
    [식 4]
    |Rth(450)|/|Rth(550)| > |Rth(650)|/|Rth(550)|
    (상기 식 4에서, |Rth(450)|, |Rth(550)|, |Rth(650)|은 각각 제3보호층과 제2보호층의 적층체의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 두께 방향 위상차(단위:nm)의 절대값이다).
  16. 제15항에 있어서, 상기 식 3 중 Re(450)/Re(550)이 0.1 내지 10, 상기 식 3 중 Re(650)/Re(550)이 0.1 내지 8인 것인, IPS 모드용 편광판.
  17. 제15항에 있어서, 상기 식 4 중 |Rth(450)|/|Rth(550)|이 0.1 내지 10, 상기 식 4 중 |Rth(650)|/|Rth(550)|이 0.1 내지 8인 것인, IPS 모드용 편광판.
  18. 제11항에 있어서, 상기 제3보호층과 상기 제2보호층의 적층체는 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -150nm 내지 -10nm인 것인, IPS 모드용 편광판.
  19. 제1항에 있어서, 상기 편광판은 파장 550nm에서 면내 위상차가 -10nm 내지 10nm인 것인, IPS 모드용 편광판.
  20. 제1항, 제3항 내지 제19항 중 어느 한 항의 IPS 모드용 편광판을 포함하는 것인, 광학표시장치.
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