KR102255602B1

KR102255602B1 - 점착 필름, 적층체 및 가식 성형체

Info

Publication number: KR102255602B1
Application number: KR1020177035124A
Authority: KR
Inventors: 요시히로 오타; 요시하루 니시코리
Original assignee: 오지 홀딩스 가부시키가이샤
Priority date: 2015-06-15
Filing date: 2016-06-13
Publication date: 2021-05-24
Anticipated expiration: 2036-06-13
Also published as: TW201706130A; JP6601494B2; CN107636099B; TWI608939B; WO2016203304A1; CN107636099A; JPWO2016203304A1; KR20180002830A

Abstract

본 발명은 TOM 성형을 행할 때에, 점착제층으로부터의 발포가 억제된 점착 필름을 제공한다. 보다 구체적으로는, 본 발명은 점착제층과 점착제층의 일방의 면측에 적층된 가식층을 갖고, 점착제층에 포함되는 휘발성 물질이 50ppm 미만인 것을 특징으로 하는 점착 필름에 관한 것이다.

Description

점착 필름, 적층체 및 가식 성형체

본 발명은 점착 필름, 적층체 및 가식 성형체에 관한 것이다.

본원은 2015년 6월 15일에 출원된 일본 특허출원 2015-120042호에 기초하는 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.

종래, 자동차 내외장 부품, 가전용 부품, 건재용 부품 등의 표면을 보호하거나, 장식(가식)을 하거나 하는 경우, 사출 성형 또는 진공 성형 등에 의해 성형체를 가공한 후, 성형체의 표면에 스프레이 도장 등으로 도료를 도포하고, 건조·가열 경화시키는 일이 행해지고 있었다. 그러나, 이러한 도장은 휘발성 유기 용제의 배출이 작업 환경을 악화시킨다는 문제에 더하여, 성형 부품마다의 작업 공정 및 생산 설비가 필요해지는 점, 나아가서는 도료의 덧칠이 필요해지기 때문에, 도료의 수율이 나쁘고, 생산성이 낮다는 문제가 있었다.

최근에는, 자동차 내외장 부품, 가전용 부품, 건재용 부품 등을 경량화하는 목적으로, 성형체로서 수지 성형체의 사용이 진행되고 있다. 수지 성형체의 장식(가식)에는 스프레이 도장이 적합하지 않은 경우가 많으며, 수지 성형체의 표면을 가식하기 위해 다양한 방법이 개발되고 있다. 그 중에서도, 성형체의 최표면을 가식 필름으로 가식하여 가식 성형체를 얻는 방법은, 도료 등을 사용하여 표면에 도포 또는 인쇄하는 방법보다도 의장의 자유도가 높고, 생산성도 우수하다는 이점을 갖는다. 또한, 가식 필름을 사용한 가식 방법은 3차원적인 요철을 갖는 성형체 표면도 가식할 수 있기 때문에, 다양한 용도로 사용되고 있다.

3차원적인 요철을 갖는 성형체 표면을 가식 필름으로 가식하는 방법으로는, 3차원 피복 성형(TOM 성형) 방법이 있다(특허문헌 1). TOM 성형은 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형 공법이며, 가식 필름과 성형체를 압착시켜 가식 성형체를 얻는 방법이다. TOM 성형에 있어서는 성형체의 재질에 관계없이 가식을 하는 것이 가능하다. 또한, 성형체에 진공 구멍을 형성하지 않고, 역테이퍼부, 말단 말림부를 피복 성형할 수 있다.

TOM 성형에 사용되는 가식 필름에는, 가식층에 접착제층 또는 점착제층을 적층한 점착 필름 등이 있다. 가식층과 접착제층을 갖는 필름을 사용하여 가식 성형체를 얻는 경우는, TOM 성형시의 가온으로 접착성이 얻어지는 접착제를 사용하여 피착체에 가식층을 첩부한다. 또한, 가식층과 점착제층을 갖는 점착 필름을 사용하는 경우는, 점착제층의 점착력을 이용하여 점착 필름과 성형체를 밀착시킨다.

점착제층을 구성하는 점착제에는, 일반적으로 용제계 점착제가 사용되고 있지만, 자외선 경화형 접착제를 사용하는 것도 검토되고 있다. 예를 들면, 특허문헌 2에는 가식층과 전리 방사선 경화형 접착제층을 갖는 가식 시트가 개시되어 있다. 여기서는 전리 방사선 경화형 접착제층은 일정 시간 가접착을 하는 것이 가능한 성질을 갖고, 접착제를 구성하는 모노머 성분의 중합 반응은 경시적으로 진행된다.

일본 특허 제3733564호 공보 일본 공개특허공보 2004-142107호

상술한 바와 같이, 가식층과 점착제층을 갖는 점착 필름을 가식 필름으로서 사용하는 경우는, 점착제층에 용제계 점착제가 사용되는 경우가 많다. 그러나, 용제계 점착제를 사용한 경우, 점착제층이 발포되기 쉬워 문제가 되고 있었다.

또한, 특허문헌 2에서는 점착제층에 자외선 경화형 접착제를 사용하는 것이 검토되고 있지만, 특허문헌 2의 가식 필름을 TOM 성형에 사용한 경우, 가접착을 한 후에 발포되기 쉽고, 가식 성형체의 수율 등을 악화시키는 것이 본 발명자들의 검토에 의해 분명해졌다.

이에, 본 발명자들은 이러한 종래 기술의 과제를 해결하기 위해, TOM 성형을 행할 때에 점착제층으로부터의 발포가 억제된 점착 필름을 제공하는 것을 목적으로 검토를 진행하였다.

상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 행한 결과, 본 발명자들은 가식층과 점착제층을 갖는 점착 필름에 있어서, 점착제층에 포함되는 휘발성 성분을 일정 이하로 함으로써, TOM 성형을 행할 때의 발포를 억제할 수 있다는 것을 알아냈다.

구체적으로, 본 발명은 이하의 구성을 갖는다.

[1] 점착제층과, 점착제층의 일방의 면측에 적층된 가식층을 갖고, 점착제층에 포함되는 휘발성 물질이 50ppm 미만인 것을 특징으로 하는 점착 필름.

[2] 점착제층을 구성하는 점착제는 자외선 경화형 점착제인 [1]에 기재된 점착 필름.

[3] 휘발성 물질이, 점착제층을 구성하는 점착제의 구성 성분인 모노머, 및 점착제층을 구성하는 점착제의 구성 성분인 올리고머로부터 선택되는 적어도 1종인 [1] 또는 [2]에 기재된 점착 필름.

[4] 점착제층을 구성하는 점착제는 (메타)아크릴산에스테르 모노머 단위를 포함하는 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 점착 필름.

[5] 점착제층의 두께가 20㎛ 이상인 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 점착 필름.

[6] 가식층의 두께가 75㎛ 이상인 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 점착 필름.

[7] 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형용으로 사용되는 [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 점착 필름.

[8] 점착제층과, 점착제층의 일방의 면측에 적층된 가식층과, 점착제층의 다른 일방의 면측으로서 가식층이 적층된 면과는 반대인 면측에 적층된 세퍼레이터층을 갖는 적층체로서, 점착제층에 포함되는 휘발성 물질이 50ppm 미만인 것을 특징으로 하는 적층체.

[9] 점착제층, 가식층 및 세퍼레이터층 중 적어도 어느 하나는 표면 전기 저항이 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□인 층을 갖는 [8]에 기재된 적층체.

[10] 세퍼레이터층은 표면 전기 저항이 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□인 층을 갖는 [8] 또는 [9]에 기재된 적층체.

[11] [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 점착 필름과, 점착 필름으로 가식된 성형체를 포함하는 가식 성형체.

[12] 진공 조건하 또는 감압 조건하에 있어서 점착 필름을 성형체에 적층하는 공정과, 기압 차에 의해 점착 필름을 성형체에 압착하는 공정을 포함하고, 점착 필름은 점착제층과 점착제층의 일방의 면측에 적층된 가식층을 갖고, 점착제층에 포함되는 휘발성 물질이 50ppm 미만인 가식 성형체의 제조 방법.

본 발명에 의하면, TOM 성형을 행할 때에, 점착제층으로부터의 발포가 억제된 점착 필름을 얻을 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 점착 필름을 사용하면, 가식 성형체의 생산성을 높일 수 있고, 또한 의장성이 우수한 가식 성형체를 얻을 수 있다.

도 1은 본 발명의 점착 필름의 구성의 일 예를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 적층체의 구성을 설명하는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 가식 성형체의 구성을 설명하는 단면도이다.
도 4는 실시예 및 비교예에 있어서 사용한 성형체를 설명하는 도면이다. 도 4(a)는 상면도, 도 4(b)는 우측면도, 도 4(c)는 저면도이다.

이하에서, 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다. 이하에 기재하는 구성 요건의 설명은 대표적인 실시형태 및 구체예에 기초하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 이러한 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 한편, 본 명세서에 있어서 「∼」를 사용하여 나타내는 수치 범위는 「∼」의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.

(점착 필름)

본 발명의 점착 필름은, 점착제층과, 점착제층의 일방의 면측에 적층된 가식층을 갖는다. 점착제층에 포함되는 휘발성 물질은 50ppm 미만이다. 점착제층에 포함되는 휘발성 물질은 30ppm 미만인 것이 바람직하고, 15ppm 이하인 것이 보다 바람직하며, 5ppm 이하인 것이 특히 바람직하다. 여기서, 휘발성 물질이란, 150℃의 진공 조건하에 있어서 휘산하는 물질을 말한다. 또한, 본 발명의 점착 필름이란, 피착 대상(성형체)에 첩합시키는 TOM 성형 전의 필름을 말하고, 본 발명에서는 첩합 전의 점착 필름에 있어서 휘발성 물질의 함유율이 상기 범위인 점에 특징이 있다.

휘발성 물질로는, 예를 들면, 용제, 점착제층을 구성하는 점착제의 구성 성분인 모노머, 및 점착제층을 구성하는 점착제의 구성 성분인 올리고머로부터 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 여기서, 점착제의 구성 성분인 올리고머는 점착제의 구성 성분인 모노머가 2∼5개 중합된 것이다.

본 발명의 점착 필름은 상기 구성을 갖기 때문에, 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형시(TOM 성형시)에, 점착제층에 있어서의 발포를 억제할 수 있다. 또한, 본 발명의 점착 필름은 피착 대상인 성형체에 대하여 우수한 점착력을 발휘할 수 있기 때문에, 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형용의 점착 필름으로서 바람직하게 사용된다.

도 1은 본 발명의 점착 필름의 구성의 일 예를 나타내는 단면도이다. 도 1에 나타나 있는 바와 같이, 본 발명의 점착 필름(20)은 가식층(22)과 점착제층(24)을 갖는다. 점착제층(24)은 가식층(22)의 일방의 면측에 적층되어 있다. 이러한 점착 필름(20)에 있어서는 점착제층(24)이 피착 대상인 성형체의 표면에 첩착됨으로써, 성형체를 가식할 수 있다.

본 발명의 점착 필름에 있어서는 점착제층의 두께는 20㎛ 이상인 것이 바람직하고, 35㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 70㎛ 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 150㎛ 이상인 것이 특히 바람직하다. 본 발명에서는 점착제층의 두께를 상기 범위로 함으로써, 점착제층에 이물질이 혼입된 경우라도, 가식 성형체의 표면으로 이물질 형상이 도드라지는 것을 억제할 수 있다. 이 때문에, 미소한 이물질 또는 기포라면, 혼입된 경우라도 그 영향을 받지 않는다.

또한, 가식층의 두께는 50㎛ 이상인 것이 바람직하고, 100㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 180㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 본 발명에서는 가식층의 두께를 상기 범위로 함으로써, 점착제층에 이물질이 혼입된 경우라도, 가식 성형체의 표면으로 이물질 형상이 도드라지는 것을 억제할 수 있다.

(점착제층)

점착제층을 구성하는 점착제는 자외선 경화형 점착제(UV 경화형 점착제)인 것이 바람직하고, 아크릴계 자외선 경화형 점착제인 것이 보다 바람직하다. 자외선 경화형 점착제로는 예를 들면, 아크릴계 모노머 및/또는 아크릴계 올리고머와 광중합 개시제를 함유하는 무용제형 점착제를 들 수 있다.

점착제층을 구성하는 점착제는 아크릴계 폴리머를 구성하는 단위로서, (메타)아크릴산에스테르 모노머 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 여기서, 「단위」란, 폴리머를 구성하는 반복 단위(모노머 단위)이다. 또한, 「(메타)아크릴산」이란, 「아크릴산」 및 「메타크릴산」의 양쪽 모두를 포함하는 것을 의미한다.

(메타)아크릴산에스테르 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 프로필, (메타)아크릴산 이소프로필, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 이소부틸, (메타)아크릴산 t-부틸, (메타)아크릴산 n-펜틸, (메타)아크릴산 n-헥실, (메타)아크릴산 2-에틸헥실, (메타)아크릴산 n-옥틸, (메타)아크릴산 이소옥틸, (메타)아크릴산 n-노닐, (메타)아크릴산 이소노닐, (메타)아크릴산 n-데실, (메타)아크릴산 이소데실, (메타)아크릴산 n-운데실, (메타)아크릴산 라우릴, (메타)아크릴산 n-도데실, (메타)아크릴산 스테아릴, (메타)아크릴산 이소스테아릴, (메타)아크릴산 이소보닐, (메타)아크릴산 메톡시에틸, (메타)아크릴산 에톡시에틸, (메타)아크릴산 시클로헥실, (메타)아크릴산 벤질 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.

그 중에서도, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 이소부틸, (메타)아크릴산 2-에틸헥실로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다.

또한 필요에 따라, 하기의 성분을 함유해도 된다. 예를 들면, 디(메타)아크릴산 에틸렌글리콜, 디(메타)아크릴산 트리에틸렌글리콜, 디(메타)아크릴산 1,3-부틸렌글리콜, 디(메타)아크릴산 1,4-부틸렌글리콜, 디(메타)아크릴산 1,9-노난디 올, 디아크릴산 1,6-헥산디올, 디(메타)아크릴산 폴리부틸렌글리콜, 디(메타)아크릴산 네오펜틸글리콜, 디(메타)아크릴산 테트라에틸렌글리콜, 디(메타)아크릴산 트리프로필렌글리콜, 디(메타)아크릴산 폴리프로필렌글리콜, 트리(메타)아크릴산 트리메틸올프로판, 트리(메타)아크릴산 펜타에리스리톨, 테트라(메타)아크릴산 펜타에리스리톨 등을 들 수 있다. 또한 카르복실기를 갖는 성분, 바람직하게는, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 크로톤산, β-카르복시에틸아크릴레이트, 및/또는 수산기를 갖는 성분, 바람직하게는 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 클로로-2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-히드로옥틸(메타)아크릴레이트, 및/또는 공중합 가능한 불포화 성분, 바람직하게는 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 초산 비닐, (메타)아크릴로니트릴, 매크로머를 들 수 있다. 이들 카르복실기를 갖는 성분, 수산기를 갖는 성분, 공중합 가능한 성분은 아크릴계 폴리머의 0.1∼30질량％, 바람직하게는 1∼10질량％ 포함되어 있는 것이 바람직하다.

점착제층을 구성하는 점착제는 아크릴계 폴리머를 구성하는 단위로서 든 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 것이 바람직하다. 모노머 및/또는 올리고머는 점착제층의 전체 질량에 대하여 30∼98질량％인 것이 바람직하고, 70∼95질량％인 것이 특히 바람직하다. 모노머 및/또는 올리고머의 배합량을 상기 범위 내로 함으로써, 점착제의 점도를 원하는 범위로 조정하기 쉬워지고, 점착제층을 도포에 의해 형성할 수 있다.

또한, 점착제층을 구성하는 점착제는 아크릴계 폴리머 이외에, 지방족(C5) 계 석유 수지, 방향족(C9)계 석유 수지, 공중합(C5/C9)계 석유 수지, 디시클로펜타디엔(DCPD)계 석유 수지, 쿠마론인덴 수지, α메틸스티렌계 수지를 포함하는 스티렌계 수지, 로진, 로진에스테르 수지, 테르펜계 수지, 방향족 변성 테르펜 수지, 테르펜페놀 수지, 및 이들의 수첨형 수지 등을, 바람직하게는 점착제 중에 0∼40질량％, 보다 바람직하게는 10∼25질량％ 함유해도 된다.

점착제층을 구성하는 점착제는 중합개시제를 0.1∼10질량％ 함유하는 것이 바람직하고, 0.5∼5질량％ 함유하는 것이 보다 바람직하다. 중합개시제는 광중합 개시제인 것이 바람직하다. 중합개시제로는 예를 들면, 아세토페논계 개시제, 벤조인에테르계 개시제, 벤조페논계 개시제, 히드록시알킬페논계 개시제, 티옥산톤 계 개시제, 아민계 개시제, 아실포스핀옥사이드계 개시제 등을 들 수 있다.

아세토페논계 개시제로서, 구체적으로는, 디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.

벤조인에테르계 개시제로서, 구체적으로는, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 들 수 있다.

벤조페논계 개시제로서, 구체적으로는, 벤조페논, o-벤조일벤조산 메틸 등을 들 수 있다.

히드록시알킬페논계 개시제로서, 구체적으로는, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온 등을 들 수 있다.

티옥산톤계 개시제로서, 구체적으로는, 2-이소프로필티옥산톤, 2,4-디메틸 티옥산톤 등을 들 수 있다.

아민계 개시제로서, 구체적으로는, 트리에탄올아민, 4-디메틸벤조산 에틸 등을 들 수 있다.

아실포스핀옥사이드계 개시제로서, 구체적으로는, 2,4,6-트리메틸벤조일-디 페닐-포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다.

점착제층에는 필요에 따라, 공지의 첨가제인 가교제, 연쇄 이동제, 증감제, 광안정제, 충전제, 안료, 증점제, 점성 조정제, 습윤제, 레벨링제, 소포제, 방부제, 분산제, 산화 방지제, 동결 방지제, 난연제 등을 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 함유시켜도 된다.

점착제층을 구성하는 아크릴계 폴리머의 평균 분자량은 1만∼500만인 것이 바람직하고, 30만∼300만인 것이 보다 바람직하며, 70만∼250만인 것이 특히 바람직하다. 아크릴계 폴리머의 평균 분자량을 상기 범위 내로 함으로써, 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형(TOM 성형)시에 성형체로의 추종성을 높일 수 있고, 복잡한 형상의 성형체도 가식할 수 있다. 또한, 아크릴계 폴리머의 분자량 분포(Mw/Mn)는 1∼30이 바람직하고, 1∼20인 것이 보다 바람직하며, 1∼6인 것이 특히 바람직하다. 목적의 분자량 분포를 얻기 위해 평균 분자량이 상이한 2종류 이상의 폴리머를 혼합하여 사용할 수 있다.

아크릴계 폴리머의 분자량 분포를 넓게 함으로써, 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형(TOM 성형)시에 성형체로의 추종성을 높일 수 있고, 복잡한 형상의 성형체도 가식할 수 있다.

점착제층의 표면 전기 저항은 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□인 것이 바람직하고, 1×10⁶∼1×10¹²Ω／□인 것이 보다 바람직하다. 특히, 후술하는 세퍼레이터층의 표면 전기 저항이 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□의 범위 내에 없는 경우, 점착제층의 표면 전기 저항이 상기 범위인 것이 바람직하다. 여기서, 점착제층의 표면 전기 저항은 어느 일방의 면의 표면 전기 저항이 상기 범위 내이면 된다.

점착제층의 표면 전기 저항을 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□로 하기 위해서는, 점착제층은 대전 방지제를 포함하는 것이 바람직하다. 특히, 후술하는 세퍼레이터층의 표면 전기 저항이 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□의 범위 내에 없는 경우는, 점착제층이 대전 방지제를 포함하는 것이 바람직하다. 점착제층이 함유하는 대전 방지제로는, 후술하는 세퍼레이터층이 함유할 수 있는 대전 방지제와 동일한 것을 열거할 수 있으며, 바람직한 대전 방지제도 동일하다.

한편, 점착제층의 표면 전기 저항은 하이레스타 UX MCP-HT800(미츠비시 화학 애널리테크사 제조, 측정 방식: 정전압 인가/누설 전류 측정 방식)으로 측정할 수 있다.

점착제층이 대전 방지제를 포함하는 경우, 대전 방지제의 함유량은 점착제층의 전체 질량에 대하여, 0.1∼10질량％인 것이 바람직하고, 0.5∼7질량％인 것이 보다 바람직하며, 1∼5질량％인 것이 더욱 바람직하다.

점착제층의 점착력으로는, JIS Z 0237에 기초하여 측정하는 점착력이 10∼200N/25㎜인 것이 바람직하고, 25∼100N/25㎜인 것이 더욱 바람직하다.

(가식층)

본 발명의 적층체는 가식층을 포함한다. 가식층은 단층 구성이어도 되지만, 자외선 흡수제를 함유하는 표면 보호층과, 유색층을 갖는 층인 것이 바람직하다. 여기서, 유색층은 안료, 염료, 금속, 금속 산화물 등을 함유하는 것이 바람직하다. 유색층은 안료, 염료, 금속, 금속 산화물을 함유하는 수지층이어도 되고, 안료, 염료, 금속, 금속 산화물로부터 이루어지는 증착, 스퍼터층이어도 되고, 또한 안료, 염료, 금속, 금속 산화물을 포함하는 잉크층을, 가식층에 인쇄로 실시한 것이어도 된다. 이 경우는, 그 인쇄부를 유색층(유색부)이라고 불러도 된다. 이 경우의 인쇄 방법으로는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 볼록판 인쇄, 오프셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 그라비아 인쇄, 잉크젯 인쇄 등을 들 수 있다. 이들 인쇄에 사용하는 인쇄 잉크로는 산화 중합형의 유성 잉크, 대두유 잉크, 베지터블 오일 잉크, 자외선 경화형의 UV 잉크, LED-UV 잉크, 그라비아 잉크, 플렉소 잉크, 스크린 잉크 등을 들 수 있고, 특히 그라비아 잉크, 스크린 잉크, 잉크젯 잉크가 바람직하다. 인쇄 잉크에는 필요에 따라, 안료 분산제, 소포제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 대전 방지제, 마모 방지제, 블로킹 방지제 등의 첨가제가 첨가되어 있어도 된다.

또한, 유색층은 안료, 염료, 금속, 금속 산화물을 함유하는 수지층인 경우, 수지층은 열가소성 수지로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, ABS 수지(아크릴로니트릴, 부타디엔 및 스티렌의 공중합체), AS 수지(아크릴로니트릴 및 스티렌의 공중합체), AAS 수지(아크릴로니트릴, 아크릴 및 스티렌의 공중합체), 아크릴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 나일론, 폴리아세탈, 폴리페닐렌옥시드, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 액정 폴리머, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리불화비닐리덴, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아세탈, 폴리에테르에테르케톤, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르이미드, 폴리아미드이미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 우레탄 수지, 염화비닐리덴, 염화비닐 등이 바람직하다.

유색층이 가져도 되는 안료로는, 무기 안료(알루미나 화이트, 산화티탄, 아연화, 흑색 산화철, 운모상 산화철, 연백, 화이트 카본, 몰리브덴 화이트, 카본 블랙, 리사지, 리소폰, 바라이트, 카드뮴 레드, 카드뮴 수은 레드, 벵갈라, 몰리브덴 레드, 연단, 황연, 카드뮴 옐로, 바륨 옐로, 스트론튬 옐로, 티탄 옐로, 티탄 블랙, 산화크롬 그린, 산화코발트, 코발트 그린, 코발트·크롬 그린, 군청, 감청, 코발트 블루, 세룰리아 블루, 망간 퍼플, 코발트 퍼플 등) 및 유기 안료(셸락, 불용성 아조 안료, 용성 아조 안료, 축합 아조 안료, 프탈로시아닌 블루, 염색 레이크 등), 또한 톨루이딘 레드, 톨루이딘 마룬, 한자 옐로, 벤지딘 옐로, 피라졸론 레드 등의 불용성 아조 안료, 리톨 레드, 헬리오 보르도, 피그먼트 스칼렛, 퍼머넌트 레드 2B 등의 용성 아조 안료, 알리자린, 인단트론, 티오인디고 마룬 등의 유도체, 프탈로시아닌 블루, 프탈로시아닌 그린 등의 프탈로시아닌계 안료, 퀴나크리돈 레드, 퀴나크리돈 마젠타 등의 퀴나크리돈계 안료, 페릴렌 레드, 페릴렌 스칼렛 등의 페릴렌계 안료, 이소인도리논 옐로, 이소인도리논 오렌지 등의 이소인도리논계 안료, 벤즈이미다졸론 옐로, 벤즈이미다졸론 오렌지, 벤즈이미다졸론 레드 등의 이미다졸론계 안료, 피란트론 레드, 피란트론 오렌지 등의 피란트론계 안료, 티오인디고계 안료, 축합 아조계 안료, 디케토피롤로피롤계 안료, 프로반스론 옐로, 아실아미드 옐로, 퀴노프탈론 옐로, 니켈아조 옐로, 구리아조메틴 옐로, 페리논 오렌지, 안트론 오렌지, 디안트라퀴노닐 레드, 디옥사진 바이올렛 등의 그 밖의 안료를 들 수 있다. 본 발명에서는 이들로 한정되지 않고, 공지의 어떠한 안료도 사용할 수 있다.

유색층이 가져도 되는 염료로는, 산성 염료, 염기성 염료, 직접 염료, 반응성 염료, 분산 염료, 또는 식품용 색소 등을 들 수 있다. 한편, 본 발명에서는 공지의 어떠한 염료도 사용할 수 있고, 한정되는 것은 아니다. 이들 염료 중에서도, 특히 아조계 및 프탈로시아닌계의 염료가 바람직하고, 또한 산성 염료, 직접 염료, 반응성 염료, 식품용 색소 등이 특히 바람직하다.

유색층이 가져도 되는 금속층으로는, 알루미늄, 금, 은, 니켈, 인듐 등을 들 수 있다.

표면 보호층은 적층체의 최표면을 구성하는 층이며, 가식 성형체에 있어서도 최표면을 구성하는 층이다. 특히, 자동차 내외장 부품 등의 강도가 요구되는 부재를 가식할 때에는, 표면 보호층은 손상 곤란성 및 강도 등을 가지고 있을 것이 요구된다. 본 발명에 있어서의 표면 보호층은 연필 경도가 B 이상인 것이 바람직하고, F 이상인 것이 보다 바람직하다.

표면 보호층은 수지층인 것이 바람직하다. 구체적으로는, ABS 수지(아크릴로니트릴, 부타디엔 및 스티렌의 공중합체), AS 수지(아크릴로니트릴 및 스티렌의 공중합체), AAS 수지(아크릴로니트릴, 아크릴 및 스티렌의 공중합체), 아크릴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 나일론, 폴리아세탈, 폴리페닐렌옥시드, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 액정 폴리머, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리불화비닐리덴, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아세탈, 폴리에테르에테르케톤, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르이미드, 폴리아미드이미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 우레탄 수지, 염화비닐리덴 수지, 염화비닐 수지 등을 바람직하게 들 수 있다. 보다 바람직하게는, 내찰상성이 우수한 점에서 아크릴 수지이다. 또한, 본 발명의 표면 보호층은 전리 방사선 경화 수지여도 된다. 전리 방사선 경화 수지란, 전자선 또는 자외선 등을 조사함으로써 경화하는 수지이다. 본 발명에 있어서, 전리 방사선 경화 수지는 실질적으로 투명한 것이 바람직하다. 실질적으로 투명한 전리 방사선 경화 수지로는, 예를 들면, 아크릴계 자외선 경화 수지를 사용하는 것이 바람직하다.

가식층의 표면 전기 저항은 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□인 것이 바람직하고, 1×10⁶∼1×10¹²Ω／□인 것이 보다 바람직하다. 특히, 후술하는 세퍼레이터층 및 상술한 점착제층의 표면 전기 저항이 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□의 범위 내에 없는 경우, 가식층의 표면 전기 저항이 상기 범위인 것이 바람직하다. 여기서, 가식층의 표면 전기 저항은 어느 일방의 면의 표면 전기 저항이 상기 범위 내이면 된다.

가식층의 표면 전기 저항을 상술한 범위로 하는 경우에는, 표면 보호층과 유색층의 사이에는, 대전 방지제를 함유시킬 수 있다. 이 경우, 대전 방지제는 후술하는 세퍼레이터층의 항목에서 든 대전 방지제와 동일한 것을 사용할 수 있다.

한편, 가식층의 표면 전기 저항은 하이레스타 UX MCP-HT800(미츠비시 화학 애널리테크사 제조, 측정 방식: 정전압 인가/누설 전류 측정 방식)으로 측정할 수 있다.

(적층체)

본 발명은 점착제층과, 점착제층의 일방의 면측에 적층된 가식층과, 점착제층의 다른 일방의 면측으로서 가식층이 적층된 면과는 반대인 면측에 적층된 세퍼레이터층을 갖는 적층체에 관한 것이기도 하다. 여기서, 점착제층에 포함되는 휘발성 물질은 50ppm 미만이다.

도 2(a)는 본 발명의 적층체의 구성의 일 예를 나타내는 단면도이다. 도 2(a)에 나타나는 바와 같이, 본 발명의 적층체(30)는 점착제층(24)과, 점착제층(24)의 일방의 면측에 적층된 가식층(22)과, 점착제층(24)의 다른 일방의 면측으로서 가식층(22)이 적층된 면과는 반대인 면측에 적층된 세퍼레이터층(26)을 갖는다. 적층체(30)는 세퍼레이터층(26)을 갖기 때문에, 적층체(30)의 보관시 등에 있어서, 점착제층(24)의 표면에 먼지 등의 이물질이 부착되는 것이 억제되고 있다. 본 발명의 적층체(30)를 사용할 때에는, 이 세퍼레이터층(26)을 박리하여, 점착제층(24)을 노출시킨다. 그리고, 점착제층(24)은 피착물인 성형체에 첩착되게 된다. 본 명세서에 있어서는, 세퍼레이터층(26)이 박리된 적층체를 점착 필름(20)이라고 한다.

도 2(b)는 본 발명의 적층체의 바람직한 구성을 나타내는 단면도이다. 본 발명의 적층체(30)에 있어서는 가식층(22)은 표면 보호층(32)과 유색층(34)을 포함하는 층인 것이 바람직하다. 또한, 세퍼레이터층(26)은 기재층(42)과, 박리제층(44)과, 대전 방지층(46)을 포함하는 층인 것이 바람직하다. 본 발명의 적층체(30)는 상술한 층 이외의 층을 갖고 있어도 되고, 가식층(22)이 추가로 대전 방지층을 갖는 구성, 및 점착제층이 유색층 및/또는 대전 방지층을 갖는 구성이어도 된다.

또한, 도 2(b)에 나타나는 바와 같은 적층체(30)에 있어서도 세퍼레이터층(26)이 박리된 후에는 점착 필름(20)이 된다.

본 발명의 적층체는 상기와 같은 구성을 갖기 때문에, 시트상이어도 되고, 롤상으로 권취되어 있어도 된다. 롤상으로 귄취되어 있는 경우는, 세퍼레이터층이 심축측에 배치되도록 권취되는 것이 바람직하다.

(세퍼레이터층)

본 발명의 적층체는 세퍼레이터층을 포함한다. 세퍼레이터층은 수지제이며, 종이 기재를 포함하지 않는 층인 것이 바람직하다. 이러한 세퍼레이터층을 사용함으로써, 종이 유래의 먼지 등의 이물질이 적층체와 성형체 사이에 끼이는 일이 없어져, 이물질의 혼입을 효과적으로 억제할 수 있다.

세퍼레이터층의 표면 전기 저항은 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□인 것이 바람직하고, 1×10⁶∼1×10¹²Ω／□인 것이 보다 바람직하다. 적층체에 있어서는 세퍼레이터층을 박리할 때의 정전 상호 작용에 의해, 이물질이 점착제층에 부착하기 쉬운 경향이 있다. 그러나, 본 발명에서는 세퍼레이터층의 표면 전기 저항을 상기 범위 내로 함으로써, 이물질의 부착을 억제할 수 있고, 특히 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형시(TOM 성형시)에 이물질의 홉입을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 한편, 세퍼레이터층의 표면 전기 저항은 어느 일방의 면의 표면 전기 저항이 상기 범위 내이면 된다.

세퍼레이터층은 단층 구성이며, 그 단층의 표면 전기 저항이 상기 범위 내여도 되지만, 표면 전기 저항이 상기 범위 내인 층을 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 세퍼레이터층은 기재층과, 기재층의 일방의 면측에 적층된 박리제층과, 기재층의 다른 일방의 면측으로서 박리제층이 적층된 면과는 반대인 면측에 적층된 대전 방지층을 갖는 것이 바람직하다. 그 중에서도, 대전 방지층의 표면 전기 저항이 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□인 것이 바람직하다.

본 발명에서는 세퍼레이터층이 대전 방지제를 함유하는 것이 바람직하고, 가식층과 점착제층으로 구성되는 점착 필름에는, 대전 방지제가 포함되지 않는 것이 바람직하다. 본 발명에서는 적층체를 사용할 때에는, 세퍼레이터층은 적층체로부터 박리되어, 가식층과 점착제층으로 구성되는 점착 필름이 된다. 그리고, 이 점착 필름이 피착물인 성형체에 첩착된다. 즉, 세퍼레이터층만이 대전 방지제를 함유하는 경우, 가식 성형체에는 대전 방지제가 포함되지 않게 되어, 가식 성형체 전체의 내구성이 보다 높아지게 된다.

한편, 세퍼레이터층의 표면 전기 저항은 하이레스타 UX MCP-HT800(미츠비시 화학 애널리테크사 제조, 측정 방식: 정전압 인가/누설 전류 측정 방식)으로 측정할 수 있다.

도 2(b)에 나타나는 바와 같이, 세퍼레이터층(26)은 기재층(42)과, 박리제층(44)과, 대전 방지층(46)을 포함하는 층인 것이 바람직하고, 대전 방지층(46)은 대전 방지제를 함유하는 것이 바람직하다. 대전 방지제는 이온성 대전 방지제, 유기계 대전 방지제 및 무기계 대전 방지제로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 유기계 대전 방지제 및 무기계 대전 방지제로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하며, 무기계 대전 방지제인 것이 특히 바람직하다. 또한, 유기계 대전 방지제는 π공액계 도전성 고분자계 대전 방지제인 것이 보다 바람직하다. 대전 방지제로서, π공액계 도전성 고분자계 대전 방지제 및 무기계 대전 방지제로부터 선택되는 적어도 1종을 사용함으로써, 대전 방지 성능의 습도 의존성을 억제할 수 있다. 즉, 모든 습도대에 있어서, 대전 방지 성능을 발휘할 수 있다. 특히, 무기계 대전 방지제는 저습도 환경하에 있어서도 우수한 대전 방지 성능을 발휘할 수 있다. 또한, 이온성 대전 방지제는 비교적 저렴하기 때문에, 적층체의 제조 비용을 억제할 수 있다.

이온성 대전 방지제로서, 본 발명에서는 공지의 어떠한 이온성 대전 방지제라도 사용할 수 있지만, 바람직하게는, 글리세린산 지방산에스테르, 폴리글리세린 지방산에스테르, 소르비탄 지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방 알코올에테르, 알킬술폰산염, 알킬벤젠술폰산염, 테트라알킬암모늄염, 트리알킬벤질암모늄염, 스테아린산 모노글리세라이드, N,N-비스(2-히드록시에틸)알킬아민, N,N-비스(2-히드록시에틸)알킬아미드, 폴리옥시에틸렌알킬아민의 지방산에스테르, 알킬설페이트, 알킬포스페이트, 알킬베타인, 폴리스티렌술폰산 소다, 폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트 공중합체, 폴리에테르에스테르아미드 등을 들 수 있다.

유기계 대전 방지제로는 π공액계 도전성 고분자계 대전 방지제를 사용하는 것이 바람직하다. π공액계 도전성 고분자계 대전 방지제로서, 본 발명에서는 공지의 어떠한 π공액계 도전성 고분자계 대전 방지제도 사용할 수 있지만, 바람직하게는, 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리아닐린 등을 들 수 있고, 특히 바람직하게는 폴리티오펜이다.

무기계 대전 방지제로서, 본 발명에서는 공지의 어떠한 무기계 대전 방지제도 사용할 수 있고, 바람직하게는, ITO 필러, 은나노 필러, 산화안티몬 도프 산화주석을 피복한 산화티탄 등을 들 수 있고, 특히 바람직하게는 은나노 필러이다.

대전 방지층이 대전 방지제를 포함하는 경우, 대전 방지제의 함유량은 대전 방지층의 전체 질량에 대하여 2∼100질량％인 것이 바람직하고, 50∼100질량％인 것이 보다 바람직하다. 또한, 대전 방지층의 건조 후의 도포량은 0.001∼1g/㎡인 것이 바람직하고, 0.01∼0.2g/㎡인 것이 특히 바람직하다.

세퍼레이터층을 구성하는 기재층은 수지층인 것이 바람직하고, 수지층은 열가소성 수지로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 기재층으로는 폴리올레핀 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리비닐알코올 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리스티렌 필름 또는 폴리아크릴로니트릴 필름을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리에스테르 필름이 바람직하게 사용되고, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름이 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 기재층에는 렌즈 필름, 프리즘 필름, 홀로그램 필름 등의 요철 가공이 행해진 필름을 사용해도 된다.

박리제층은 박리제를 포함한다. 박리제로는 예를 들면, 범용의 부가형 또는 축합형의 실리콘계 박리제가 사용된다. 특히, 반응성이 높은 부가형 실리콘계 박리제가 바람직하게 사용된다. 실리콘계 박리제로는 구체적으로는, 도레이·다우코닝 실리콘사 제조의 BY24-162, SD-7234 등이나, 신에츠 화학 공업(주) 제조의 KS-3600, KS-774, X62-2600 등을 들 수 있다. 또한, 실리콘계 박리제 중에, SiO₂ 단위와, (CH₃)₃SiO₁ _/ ₂ 단위 혹은 CH₂＝CH(CH₃)SiO₁ _/ ₂ 단위를 갖는 유기 규소 화합물인 실리콘 레진을 함유하는 것이 바람직하다. 실리콘 레진의 구체예로는, 도레이·다우코닝 실리콘사 제조의 BY24-843, SD-7292, SHR-1404 등 및 신에츠 화학 공업(주) 제조의 KS-3800, X92-183 등을 들 수 있다.

박리제층에는 촉매, 밀착 향상제 등의 보조 첨가제를 첨가할 수 있다. 촉매로는 백금계, 주석계의 촉매를 바람직하게 들 수 있다. 또한, 밀착 향상제는 밀착이 향상된다면 특히 어떠한 것이라도 사용할 수 있고, 바람직하게는 실란 커플링제를 들 수 있다.

박리제층의 건조 후의 도포량은 0.01∼1g/㎡인 것이 바람직하고, 0.05∼0.2g/㎡인 것이 특히 바람직하다.

세퍼레이터층은 기재층에, 박리제 함유액과, 대전 방지제 함유액를 도포하고, 건조함으로써 형성할 수 있다. 각각의 용액을 도포할 때에는, 사이즈 프레스 코터, 게이트 롤 코터, 바 코터, 롤 코터, 에어 나이프 코터, 블레이드 코터, 로드 블레이드 코터, 커텐 코터, 그라비아 코터 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 앞뒤를 1회로 도포할 수 있는 2헤드 코터를 사용하는 것이 바람직하고, 적은 도포량을 컨트롤할 수 있는 그라비아 헤드를 갖는 표리 도공할 수 있는 2헤드 코터가 특히 바람직하다. 이로써, 기재층의 양면에 기능층을 동시에 형성할 수 있으며, 세퍼레이터층의 생산 효율을 높일 수 있다.

(적층체의 제조 방법)

본 발명의 적층체를 제조하는 공정에 있어서는 전술한 구성이 되도록, 가식층과, 점착제층과, 세퍼레이터층을 적층한 후에, 광선(자외선 또는 전자선)을 조사하는 것이 바람직하다. 또한, 세퍼레이터층과, 점착제층과, 세퍼레이터층을 적층한 후에, 광선(자외선 또는 전자선)을 조사하고, 이것과 가식층을 첩합으로써 상술한 구성으로 하는 것도 가능하다. 가식층을 포함한 구성으로 광선을 조사하는 경우는, 광선(자외선 또는 전자선)을 세퍼레이터층측으로부터 조사하는 것이 바람직하다.

광선(자외선)을 조사하는 공정은 적어도 파장 200∼400㎚ 범위의 조도가 50㎽/㎠ 이상인 자외선을 사용하여 조사하는 것이 바람직하고, 70∼3000㎽/㎠의 자외선을 조사하는 것이 보다 바람직하며, 100∼1000㎽/㎠의 자외선을 조사하는 것이 특히 바람직하다. 적산 광량으로는 100∼10000mJ/㎠인 것이 바람직하고, 300∼3000mJ/㎠인 것이 특히 바람직하다. 이러한 조사를 행하는 조사기로는, 고압 수은 자외선 조사기, 메탈할라이드 자외선 조사기, 무전극 자외선 조사기로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. 파장 200∼400㎚ 범위의 조도가 50㎽/㎠ 이상인 자외선의 조사 조건을 상기 범위로 함으로써, 점착제층 중에 잔존하는 모노머 성분량을 줄일 수 있다. 또한, 조사 조건을 상기 범위로 함으로써, 가식층이 자외선에 의해 황변되는 것을 억제할 수 있다.

본 발명에서는 파장 200∼400㎚ 범위의 조도가 50㎽/㎠ 이상인 자외선을 사용하는 조사 공정에 추가로, 파장 200∼400㎚ 범위의 조도가 20㎽/㎠ 이하인 자외선을 사용한 조사를 행하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 파장 200∼400㎚ 범위의 조도가 1∼10㎽/㎠, 특히 바람직하게는 2∼5㎽/㎠의 자외선을 사용한 조사를 행한다. 이러한 조사를 행하는 조사기로는, 케미컬 램프 및/또는 블랙 라이트로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 조사기를 이용하여 바람직하게는 0.01∼30분간 조사, 특히 바람직하게는 0.1∼20분간 조사함으로써 적산 광량으로서, 10∼1000mJ/㎠로 하는 것이 바람직하고, 40∼600mJ/㎠로 하는 것이 보다 바람직하며, 100∼400mJ/㎠로 하는 것이 특히 바람직하다. 파장 200∼400㎚ 범위의 조도가 20㎽/㎠ 이하인 자외선을 사용한 조사 조건을 상기 범위로 함으로써, TOM 성형에 있어서 점착제층의 추종성을 높일 수 있다.

본 발명에서는 파장 200∼400㎚ 범위의 조도가 20㎽/㎠ 이하인 자외선을 사용한 조사를 행하는 경우는, 파장 200∼400㎚ 범위의 조도가 50㎽/㎠ 이상인 자외선을 사용한 조사를 행하는 공정 전에 행하는 것이 바람직하다.

본 발명에서는 상기와 같은 조건으로 자외선을 조사함으로써, 모노머의 중합도를 높이면서, 점착제층에 포함되는 휘발성 물질의 비율을 소정값 이하로 할 수 있다.

(진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형(TOM 성형))

본 발명의 적층체는 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형용으로 사용되는 것이 바람직하다. 본 발명의 적층체를 사용함으로써, 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형에 있어서, 점착제층과 성형체 사이에 먼지 등의 이물질이 혼입되는 것을 억제할 수 있다. 이와 같이, 본 발명의 적층체는 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형에 사용됨으로써, 그 효과를 발휘할 수 있다.

본 명세서에 있어서, 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형은, 이른바 TOM 성형이라고 불리는 것이다. TOM 성형 공법에 있어서는, 진공 조건하 또는 감압 조건하에 있어서 점착 필름을 성형체에 적층하는 공정과, 기압 차에 의해 점착 필름을 성형체에 압착하는 공정을 포함한다. 한편, 본 명세서에 있어서는 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형에는, 성형체에 진공 구멍을 형성한 것을 이용하여, 점착 필름과 성형체를 밀착시키는 공법은 포함되지 않는다. 구체적으로는, 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형은 일본 특허 제3733564호 공보에 기재된 「진공 성형 장치」를 이용함으로써 실시할 수 있다.

본 발명은 상술한 바와 같은 가식 성형체의 제조 방법에 관한 것이다. 구체적으로는, 본 발명의 가식 성형체의 제조 방법은, 진공 또는 감압 조건하에 있어서 점착 필름을 성형체에 적층하는 공정과, 압공 조건하에 있어서 기압 차에 의해 점착 필름을 성형체에 압착하는 공정을 포함한다. 또한, 본 발명의 가식 성형체의 제조 방법에 있어서는, 점착 필름을 성형체에 압착하는 공정 후에, 적층체의 표면을 100∼180℃로 가열하는 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우, 적층체의 표면의 가열에는 적외선 히터를 사용하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 가식 성형체의 제조 방법에서 사용되는 점착 필름은 상술한 점착 필름이고, 점착제층에 포함되는 휘발성 물질이 50ppm 미만인 것이다.

(가식 성형체)

본 발명은 상술한 바와 같은 적층체의 가식층 및 점착제층으로 구성되는 점착 필름과, 점착 필름으로 가식된 성형체를 포함하는 가식 성형체에 관한 것이기도 하다. 가식 성형체는 성형체의 표면의 일부 또는 전면에 점착 필름을 첩착시킨 것이다. 즉, 가식 성형체에 있어서는 가식층이 점착제층을 개재하여 적층되어 있다.

도 3은 가식 성형체(100)의 구성을 설명하는 단면도이다. 도 3은 표면에 오목부를 갖는 성형체(50)를 점착 필름(20)으로 가식한 모습을 나타내고 있다. 도 3에 나타나는 바와 같이, 진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형에 있어서는, 성형체(50)에 진공 구멍을 형성하지 않아도, 역테이퍼부 및 말단 말림부를 피복 성형할 수 있다. 또한, 제품의 재질에 관계없이, 가식할 수 있다. 이로써, 복잡한 3차원적 요철을 갖는 성형체 표면에 대해서도 가식할 수 있고, 의장성이 높은 가식 성형체(100)를 얻을 수 있다.

성형체(50)로는 ED 강판, Mg 합금, 스테인리스(SUS), 알루미늄 합금 등의 금속 재료 또는 수지 성형체를 들 수 있지만, 수지 성형체인 것이 바람직하다. 예를 들면, ABS 수지(아크릴로니트릴, 부타디엔 및 스티렌의 공중합체), AS 수지(아크릴로니트릴 및 스티렌의 공중합체), AAS 수지(아크릴로니트릴, 아크릴 및 스티렌의 공중합체), 아크릴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 나일론, 폴리아세탈, 폴리페닐렌옥시드, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 액정 폴리머, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리불화비닐리덴, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아세탈, 폴리에테르에테르케톤, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르이미드, 폴리아미드이미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 우레탄 수지, 염화비닐리덴 수지, 염화비닐 수지 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 수지를 블렌드하고 있어도 된다. 예를 들면, 폴리카보네이트 함유 수지 등을 바람직하게 예시할 수 있다. 폴리카보네이트 함유 수지로는 폴리카보네이트와 폴리부틸렌테레프탈레이트가 블렌드된 수지(PC·PBT), 폴리카보네이트와 ABS 수지가 블렌드된 수지(PC·ABS), 폴리카보네이트와 PET가 블렌드된 수지(PC·PET) 등을 특히 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 폴리올레핀 수지로는 폴리프로필렌(PP)을 특히 바람직하게 사용할 수 있다.

구체적으로는, ABS 수지(아크릴로니트릴, 부타디엔 및 스티렌의 공중합체), AS 수지(아크릴로니트릴 및 스티렌의 공중합체), AAS 수지(아크릴로니트릴, 아크릴 및 스티렌의 공중합체), 아크릴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 나일론, 폴리아세탈, 폴리페닐렌옥시드, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 액정 폴리머, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리불화비닐리덴, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아세탈, 폴리에테르에테르케톤, 폴리페닐렌설파이드, 폴리에테르이미드, 폴리아미드이미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 우레탄 수지 등을 바람직하게 들 수 있다.

본 발명에 의해 얻어지는 가식 성형체는 예를 들면, 자동차용 부품(예를 들면, 보디, 범퍼, 스포일러, 미러, 휠, 내장재 등의 부품으로서, 각종 재질의 것), 이륜차용 부품, 도로용 자재(예를 들면, 교통 표식, 방음벽 등), 터널용 자재(예를 들면, 측벽판 등), 철도 차량, 가구, 악기, 가전 제품, 건축 재료, 용기, 사무 용품, 스포츠 용품, 완구 등에 사용할 수 있다.

실시예

이하에 실시예 및 비교예를 들어 본 발명의 특징을 더욱 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적절하게 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 의해 한정적으로 해석되어야 하는 것은 아니다.

(실시예 1)

＜가식층(1)＞

아크릴 필름(미츠비시 레이욘사 제조, 아크리프렌 HBA001P, 연필 경도 2H, 두께 125㎛)의 한쪽 면 위에, 그라비아 인쇄기로 두께가 5㎛가 되도록 먹잉크(DIC제조, TRC1268)층(유색층)을 전면에 형성하여, 가식층(1)을 얻었다.

＜세퍼레이터층(1)＞

두께 38㎛의 PET(도레이사 제조, 루미러 T60)의 한쪽 면 위에, π공액계 유기 도전 재료: 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)를 포함하는 데나트론 P-502S(나가세켐텍스 제조)를 건조 후의 도공량이 0.07g/㎡가 되도록 도포하고, 건조기로 130℃, 30초간 처리를 행했다. 이와 같이 하여, 대전 방지층을 형성했다.

다음으로, 반대면 상에, 열경화형 실리콘(도레이·다우코닝사 제조, LTC300B) 100질량부, 촉매(도레이·다우코닝사 제조, SRX212) 1질량부로 이루어지는 박리제를 건조 후의 중량으로 0.1g/㎡가 되도록 도포하고, 박리제층을 형성했다. 그 후, 건조기로 130℃, 60초간 처리를 행하고, 세퍼레이터층(1)을 얻었다.

＜점착제(1)＞

질소 분위기의 반응 용기 중에, 2-에틸헥실아크릴레이트 95질량부, 아크릴산 5질량부를 넣고, 개시제(2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)) 0.01질량부를 사용하여 중합 반응을 행하고, 폴리머 농도 9％, 중량 평균 분자량 Mw 150만의 점착제(1)를 얻었다.

＜적층체(1)＞

점착제(1) 100질량부에, 헥산디올디아크릴레이트 0.1질량부, 벤질디메틸케탈 1질량부를 첨가하여, 질소 가스를 퍼지하여 용존하는 산소를 완전히 제거하고, 세퍼레이터층(1)의 박리제층측과 130㎛의 가식층(1)의 잉크층측 사이에, 점착제(1)를 점착제층의 두께가 50㎛가 되도록 도포(웨트 라미네이트)했다. 그 후, 세퍼레이터층(1)측으로부터 케미컬 램프를 이용하여, 파장 365㎚의 자외선의 조도 4㎽/㎠, 적산 광량이 300mJ/㎠가 되도록 조사하고, 다음으로 고압 수은 램프로 파장 365㎚의 자외선의 조도가 100㎽/㎠, 적산 광량이 2000mJ/㎠가 되도록 조사하여, 적층체(1)를 얻었다. 적층체(1)의 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 가스크로마토그래피에 의해 측정한 결과, 5ppm이었다.

＜가식 성형체의 작성 방법＞

적층체(1)로부터 세퍼레이터층(1)을 떼어내고, 점착 필름(1)으로 했다. 그 점착 필름(1)을 TOM 성형기에 세트했다. 방우입선 커버(파나소닉 주식회사 제조, 품번: WP9171)를, 당해 커버의 외면(볼록면)측과 상기 점착 필름(1)의 점착제층이 마주보도록, TOM 성형기(후세 진공 주식회사 제조, NGF 성형기)에 세트했다. TOM 성형기를 이용하여 130℃에서 점착 필름(1)을 상기 성형체에 적층시킴으로써, 가식 성형체(1)를 얻었다. 동일하게 하여 가식 성형체(1)를 10개 제작했다.

또한, 상기 방우입선 커버의 형상을 도 4(a)∼(c)에 나타낸다. 도 4(a)∼(c)에 나타나는 방우입선 커버는 도 4(a)와 같이 상방으로부터 관찰했을 때에, 길이(종) 방향의 길이가 90㎜이고, 폭(횡) 방향의 길이가 60㎜이었다.

(실시예 2)

점착제층(1)의 두께를 75㎛로 하고, 세퍼레이터층(1)을 세퍼레이터층(2)으로 변경하여, 자외선 조사를 고압 수은 램프로 파장 365㎚의 자외선의 조도가 300㎽/㎠, 적산 광량이 3000mJ/㎠만으로 하여 적층체(2)를 얻은 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 가식 성형체(2)를 얻었다. 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 측정한 결과, 23ppm이었다.

＜세퍼레이터층(2)＞

두께 50㎛의 PET(도레이사 제조, 루미러 T60)의 한쪽 면 위에, 글리세린모노스테아레이트를 건조 후의 도공량이 0.15g/㎡가 되도록 도포하고, 건조기로 130℃, 30초간 처리를 행했다. 이와 같이 하여, 대전 방지층을 형성했다.

다음으로, 반대면 상에, 열경화형 실리콘(도레이·다우코닝사 제조, LTC300B) 100질량부와, 촉매(도레이·다우코닝사 제조, SRX212) 1질량부로 이루어지는 박리제를 건조 후의 중량으로 0.1g/㎡가 되도록 도포하고, 박리제층을 형성했다. 그 후, 건조기로 130℃, 60초간 처리를 행하여, 세퍼레이터층(2)을 얻었다.

(실시예 3)

점착제(1)를 점착제(3)로 바꾸어 점착제층(3)을 두께 25㎛로 형성하고, 세퍼레이터층(2)측으로부터 케미컬 램프를 이용하여, 파장 365㎚의 자외선의 조도 4㎽/㎠, 적산 광량이 100mJ/㎠가 되도록 조사하고, 다음으로 고압 수은 램프로 파장 365㎚의 자외선의 조도가 100㎽/㎠, 적산 광량이 2000mJ/㎠가 되도록 조사하여 적층체(3)를 얻은 것 이외에는, 실시예 2와 동일하게 하여 가식 성형체(3)를 얻었다. 적층체(3)의 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 측정한 결과, 3ppm이었다.

＜점착제(3)＞

질소 분위기의 반응 용기 중에, 2-에틸헥실아크릴레이트 90질량부, 아크릴산 5질량부, 아크릴산 이소보르닐 5질량부를 넣고, 개시제(2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)) 0.01질량부를 사용하여 중합 반응을 행하여, 폴리머 농도 8％, 중량 평균 분자량 Mw 200만의 점착제(3)를 얻었다.

(실시예 4)

점착제(1)를 점착제(4)로 바꾸어 점착제층(4)을 형성하고, 가식층(1)을 대신하여 세퍼레이터층(3)을 사용하여, 또한 고압 수은 램프를 대신하여 메탈할라이드 램프로 파장 365㎚의 자외선의 조도가 100㎽/㎠, 적산 광량이 2000mJ/㎠가 되도록 조사하고, 세퍼레이터층(1)/점착제층(4)/세퍼레이터층(3)의 구성인 것을 작성하고, 다음의 세퍼레이터층(1)을 박리하고, 노출된 점착제층(4)에 롤 첩합기를 이용하여 가식층(1)과 첩합하고, 적층체(4)를 얻은 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 가식 성형체(4)를 얻었다. 적층체(4)의 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 측정한 결과, 14ppm이었다.

＜점착제(4)＞

질소 분위기의 반응 용기 중에, 부틸아크릴레이트 95질량부, 2-히드록시메틸 아크릴레이트 5질량부를 넣고, 개시제(2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)) 0.01질량부를 사용하여 중합 반응을 행하여, 폴리머 농도 11％, 중량 평균분자량 Mw 100만의 용액(4)을 얻었다. 이 용액(4)에 로진계 점착 부여제(아라카와 화학 제조, KE311) 15질량부를 첨가하여, 교반하고 점착제(4)를 얻었다.

＜세퍼레이터층(3)＞

은나노 와이어(Cold stones제, CST-NW-S40)와, 폴리에스테르계 바인더(타카마츠 유지 제조, 페스레진 A-645GH)를 건조 후의 중량으로 20:80이 되도록 배합하고, 두께 50㎛의 PET(도레이사 제조, 루미러 T60)의 한쪽 면 위에 도포했다. 도포량은 건조 후의 도공량이 0.01g/㎡가 되도록 하고, 도포는 클린룸(클래스(1000)) 내에서 행했다. 그 후, 건조기로 130℃, 30초간 처리를 행하고, 대전 방지층(D)을 형성했다.

다음으로, 반대면 상에, 열경화형 실리콘(도레이·다우코닝사 제조, LTC300B) 100질량부와, 촉매(도레이·다우코닝사 제조, SRX212) 1질량부로 이루어지는 박리제를 건조 후의 중량으로 0.1g/㎡가 되도록 클린룸(클래스(1000)) 내에서 도포하고, 박리제층을 형성했다. 그 후, 건조기로 130℃, 60초간 처리를 행하여, 세퍼레이터층(3)을 얻었다.

(실시예 5)

점착제(1)를 점착제(5)로 바꾸어 점착제층(5)의 두께를 25㎛로 한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 적층체(5)를 작성하고 가식 성형체(5)를 얻었다.

적층체(5)의 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 측정한 결과, 4ppm이었다.

＜점착제 5＞

질소 분위기의 반응 용기 중에, 2-에틸헥실아크릴레이트 90질량부, 아크릴산 10질량부를 넣고, 개시제(2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)) 0.01질량부를 사용하여 중합 반응을 행하고, 폴리머 농도 11％, 중량 평균 분자량 Mw 150만의 용액(5)을 얻었다. 이 용액(5)에, 테르펜계 점착 부여제(야스하라 케미컬 제조, TH130) 10질량부와, 지방족 탄화수소계 점착 부여제(아라카와 화학 제조, 알콘 M100)를 첨가하여 교반하고, 점착제(5)를 얻었다.

(실시예 6)

점착제층의 두께를 200㎛로 하고, 세퍼레이터층(2)을 세퍼레이터층(4)로 바꾼 것 이외에는, 실시예 2와 동일하게 하여 적층체(6)를 작성하여 가식 성형체(6)를 얻었다. 적층체(6)의 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 측정한 결과, 30ppm이었다.

＜세퍼레이터층(4)＞

두께 38㎛의 PET(도레이사 제조, 루미러 T60)의 한쪽 면 위에, 열경화형 실리콘(도레이·다우코닝사 제조, LTC300B) 100질량부, 촉매(도레이·다우코닝사 제조, SRX212) 1질량부로 이루어지는 박리제를 건조 후의 중량으로 0.1g/㎡가 되도록 도포하고, 박리제층을 형성했다. 그 후, 건조기로 130℃, 60초간 처리를 행하여, 세퍼레이터층(4)을 얻었다.

(비교예 1)

적층체(11)로부터 세퍼레이터층(4)을 박리한 점착 필름(11)을 사용하여 가식 성형체(11)를 얻으려고 했지만, TOM 성형기를 이용하여 130℃에서 가공할 때에 점착제층이 발포를 일으켜, 양호한 가식 성형체를 얻을 수 없었다. 적층체(11)의 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 측정한 결과, 80ppm이었다.

＜적층체(11)＞

세퍼레이터층(4)의 박리제층 상에 건조 후의 두께가 25㎛가 되도록 점착제(11)를 도포하여, 90℃에서 10분간에 걸쳐서 건조한 후, 가식층(1)을 롤 첩합기로 첩합하여, 적층체(11)를 얻었다.

＜점착제(11)＞

부틸아크릴레이트 65질량부, 메틸아크릴레이트 30질량부, 아크릴산 5질량부를 질소 분위기의 반응 용기(온도 컨트롤러, 교반기, 환류기 장착)에 투입하고, 초산 에틸 200질량부와 아소비스이소부티로니트릴 0.1질량부를 첨가하여 중합 반응을 행하고, 폴리머 A를 얻었다. 얻어진 폴리머 A의 중량 평균 분자량 Mw는 80만이었다. 얻어진 폴리머 A와, 폴리 α메틸스티렌(분자량 Mw＝850,000, Tg＝105℃, 와코준야쿠 제조)과, 가교제(미츠비시 가스 화학사 제조, 테트라드 X)를 건조 중량비로 98:10:2가 되도록 배합하여 점착제(11)를 얻었다.

(비교예 2)

적층체(12)로부터 세퍼레이터층(2)을 박리한 점착 필름(12)을 사용하여 가식 성형체(12)를 얻으려고 했지만, TOM 성형기를 이용하여 130℃에서 가공할 때에 점착제층이 발포를 일으켜, 양호한 가식 성형체를 얻을 수 없었다. 적층체(12)의 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 측정한 결과, 140ppm이었다.

＜적층체(12)＞

세퍼레이터층(2)의 박리제층 상에 건조 후의 두께가 75㎛가 되도록 점착제(12)를 도포하는 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여 적층체(12)를 얻었다.

＜점착제(12)＞

부틸아크릴레이트 65질량부, 메틸아크릴레이트 30질량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 5질량부를 질소 분위기의 반응 용기(온도 컨트롤러, 교반기, 환류기 장착)에 투입하고, 초산 에틸 200질량부와, 아소비스이소부티로니트릴 0.1질량 부를 첨가하여 중합 반응을 행하고, 폴리머 B를 얻었다. 얻어진 폴리머 B의 중량 평균 분자량 Mw는 80만이었다.

얻어진 폴리머 B와, 가교제(미츠비시 가스 화학사 제조, 테트라드 X)와, 비스트리플루오로메탄술폰이미드를 건조 중량비로 96:2:2가 되도록 배합하여 점착제(12)를 얻었다.

(비교예 3)

적층체(13)로부터 세퍼레이터층(1)을 박리한 점착 필름(13)을 사용하여 가식 성형체(13)를 얻으려고 했지만, TOM 성형기를 이용하여 130℃에서 가공할 때에 점착제층이 발포를 일으켜, 양호한 가식 성형체를 얻을 수 없었다.

＜적층체(13)＞

고압 수은 램프로 파장 365㎚의 자외선의 조도가 100㎽/㎠, 적산 광량이 50mJ/㎠로 하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 적층체(13)를 얻었다. 적층체(13)의 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 측정한 결과, 610ppm이었다.

(비교예 4)

적층체(14)로부터 세퍼레이터층(1)을 박리한 점착 필름(14)을 사용하여 가식 성형체(14)를 얻으려고 했지만, TOM 성형기를 이용하여 130℃에서 가공할 때에 점착제층이 발포를 일으켜, 양호한 가식 성형체를 얻을 수 없었다.

＜적층체(14)＞

메탈할라이드 램프로 파장 365㎚의 자외선의 조도가 100㎽/㎠, 적산 광량이 50mJ/㎠가 되도록 조사하는 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 세퍼레이터층(1)/점착제층(4)/세퍼레이터층(3)의 구성인 것을 작성하고, 다음으로 세퍼레이터층(1)을 박리하고, 노출된 점착제층(4)에 롤 첩합기를 이용하여 가식층(1)과 첩합하여, 적층체(14)를 얻었다. 적층체(14)의 점착제층에 포함되는 휘발성 물질을 측정한 결과, 310ppm이었다.

(평가)

(표면 전기 저항값의 측정)

표면 전기 저항은 적층체를 23℃, 50％RH의 환경하에 1일 조습 방치한 후, 하이레스타 UX MCP-HT800(미츠비시 화학 애널리테크사 제조)로 측정했다.

(TOM 성형성)

실시예 1∼6 및 비교예 1∼4의 점착 필름을 성형했을 때, 발포가 없었던 것을 성형성 양호(○)로 평가했다. 필름 성형시에, 발포가 보인 것을, 성형성 나쁨(×)으로 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

(결함수)

23℃, 상대 습도 50％의 환경하에서 에이징을 행한 적층체(점착 필름)를 사용한 가식 성형체의 표면을 관찰하여, 볼록한 형상으로 부푼 표면의 결함수를 계측했다. 각 실시예 및 비교예에서 얻은 가식 성형체의 상면(도 4(a)의 상면에 대응 되는 영역)을 레이저 현미경(VK-X100, 키엔스 제조)로 관찰하고, 높이가 3㎛ 이상인 것을 결함으로 하여 수를 계측했다. 여기서, 결함수는 각 실시예 및 각 비교예에 있어서 각각 동일하게 제작한 10개의 가식 성형체의 동영역의 결함수의 평균값이다.

(저습도 환경하 결함수)

15℃, 상대 습도 30％의 환경하에서 에이징을 행한 적층체(점착 필름)를 사용한 가식 성형체의 표면을 상기와 동일한 방법으로 관찰하여, 결함수를 계측하고, 평균값을 구했다.

(점착력)

25×50㎜의 시험편을 ABS판에 첩부하고, 압착 첩합(2㎏ 롤러, 1왕복) 및 열처리(130℃, 1분)를 행하고, 24시간 방치한 후, 인장 시험기를 이용하여, 박리 속도 300㎜/min의 박리 속도, 박리 각도 180도, 측정 온도 23℃, 측정 습도 50％의 조건으로 시험편을 박리했을 때에, 박리하는 데에 필요로 하는 힘을 측정했다.

(내구성(크로스 컷 테스트))

80℃의 환경하에서 가식 성형체를 500시간 방치하고, 방치 후에 실온하에서 필름의 표면에 2㎜ 간격으로 가로 세로 11개의 컷팅을 넣어 100개의 바둑판 눈금을 만들었다. 셀로판 테이프를 그 표면에 밀착시킨 후, 한번에 박리했을 때에 박리되지 않고 잔존한 눈금의 개수를 표시했다.

실시예에서 얻은 점착 필름을 사용하여 TOM 성형을 행한 경우, TOM 성형성이 양호했다. 한편, 비교예에서 얻은 점착 필름을 사용하여 TOM 성형을 행한 경우, 점착제층으로부터 발포가 일어났다.

또한, 실시예에서 얻은 적층체는 결함수가 적고, 성형체에 대하여 양호한 점착력을 발휘한다. 또한, 실시예에서 얻은 가식 성형체는 내구성이 우수하다는 것을 알 수 있다.

20 점착 필름
22 가식층
24 점착제층
26 세퍼레이터층
30 적층체
32 표면 보호층
34 유색층
42 기재층
44 박리제층
46 대전 방지층
50 성형체
100 가식 성형체

Claims

점착제층과, 상기 점착제층의 일방의 면측의 전면에 적층된 가식층을 갖고,
상기 점착제층에 포함되는 휘발성 물질이 30ppm 이하인 것을 특징으로 하는 요철을 갖는 성형체의 3차원 피복 성형용 점착 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 점착제층을 구성하는 점착제는 자외선 경화형 점착제인 점착 필름.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 휘발성 물질이, 용제, 상기 점착제층을 구성하는 점착제의 구성 성분인 모노머, 및 상기 점착제층을 구성하는 점착제의 구성 성분인 올리고머로부터 선택되는 적어도 1종인 점착 필름.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 점착제층을 구성하는 점착제는 (메타)아크릴산에스테르 모노머 단위를 포함하는 점착 필름.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 점착제층의 두께가 20㎛ 이상인 점착 필름.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 가식층의 두께가 75㎛ 이상인 점착 필름.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
진공 조건하 또는 감압 조건하에서의 성형용으로 사용되는 점착 필름.
점착제층과, 상기 점착제층의 일방의 면측의 전면에 적층된 가식층과, 상기 점착제층의 다른 일방의 면측으로서 상기 가식층이 적층된 면과는 반대인 면측에 적층된 세퍼레이터층을 갖는 적층체로서,
상기 점착제층에 포함되는 휘발성 물질이 30ppm 이하인 것을 특징으로 하는 요철을 갖는 성형체의 3차원 피복 성형용 적층체.
제 8 항에 있어서,
상기 점착제층, 상기 가식층 및 상기 세퍼레이터층 중 적어도 어느 하나는 표면 전기 저항이 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□인 층을 갖는 적층체.
제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
상기 세퍼레이터층은 표면 전기 저항이 1×10⁵∼1×10¹²Ω／□인 층을 갖는 적층체.
제 1 항 또는 제 2 항의 점착 필름과, 상기 점착 필름으로 가식된 성형체를 포함하는 가식 성형체.
진공 조건하 또는 감압 조건하에 있어서 요철을 갖는 성형체의 3차원 피복 성형용 점착 필름을 요철을 갖는 성형체에 적층하는 공정과,
기압 차에 의해 상기 점착 필름을 상기 성형체에 압착하는 공정을 포함하고,
상기 점착 필름은 점착제층과 상기 점착제층의 일방의 면측의 전면에 적층된 가식층을 갖고, 상기 점착제층에 포함되는 휘발성 물질이 30ppm 이하인 가식 성형체의 제조 방법.