[go: up one dir, main page]

KR102131216B1 - 포스폰산 단량체의 제조 방법 - Google Patents

포스폰산 단량체의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102131216B1
KR102131216B1 KR1020157014841A KR20157014841A KR102131216B1 KR 102131216 B1 KR102131216 B1 KR 102131216B1 KR 1020157014841 A KR1020157014841 A KR 1020157014841A KR 20157014841 A KR20157014841 A KR 20157014841A KR 102131216 B1 KR102131216 B1 KR 102131216B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
abandoned
payment
formula
registration fee
set registration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020157014841A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20150090105A (ko
Inventor
무훈탄 사티오사탐
더글라스 세본
Original Assignee
롬 앤드 하스 캄파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 롬 앤드 하스 캄파니 filed Critical 롬 앤드 하스 캄파니
Publication of KR20150090105A publication Critical patent/KR20150090105A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102131216B1 publication Critical patent/KR102131216B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3826—Acyclic unsaturated acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/30—Phosphinic acids [R2P(=O)(OH)]; Thiophosphinic acids ; [R2P(=X1)(X2H) (X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/32—Esters thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)

Abstract

다이에스터 또는 무기 인산 화합물을 본질적으로 함유하지 않는 포스폰산 단량체의 간단하고 상업적으로 실행가능한 제조 방법이 개시된다.

Description

포스폰산 단량체의 제조 방법{A PROCESS FOR THE PREPARATION OF PHOSPHONIC ACID MONOMERS}
본원은 2012년 12월 5일자로 출원된 미국 가출원 제 61/733,438 호를 우선권 주장하고, 이의 전체가 참고로서 본원에 혼입된다.
본 발명은 포스폰산 단량체의 제조 방법에 관한 것이다.
인산 기를 함유하는 중합체는 코팅 및 접착제를 비롯한 많은 적용에 유용하다. 인산 기는 금속 기판에 대해 중합체의 개선된 접착력을 제공하고, 2가 금속 이온의 존재하에 가교결합을 형성하고, 안료 입자, 예컨대 티타늄 다이옥사이드에 중합체의 흡착을 촉진하여 복합체 입자를 형성한다. 그러나, 이러한 단량체는 일반적으로 많은 목적하지 않은 불순물 및/또는 부산물을 함유한다.
미국특허 제 6,710,161 호는 특정한 인산 화합물을 실질적으로 함유하지 않는 인산-함유 단량체 조성물을 개시한다. 그러나, 상기 단량체는 목적하지 않은 인산 화합물을 제거하기 위해 사용 전에 처리되어야 하고, 그렇게 함으로써 비로소 공단량체와 중합되어, 코팅을 제조하는데 사용될 수 있는 중합체를 생성할 수 있다.
포스폰산 단량체의 제조를 위한 간단하고 직접적인 방법이 요구된다.
본 발명은 하기 화학식 II의 포스폰산 화합물을 포함하는 생성물을 생성하기에 충분한 반응 조건하에 메타크릴산을 하기 화학식 I의 인 반응물과 접촉하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다:
[화학식 I]
Figure 112015053843621-pct00001
[화학식 II]
Figure 112015053843621-pct00002
상기 식에서,
n은 1 내지 3의 평균 값을 갖는 수이다.
놀랍게도, 생성물 단량체는, 무기 인산을 실질적으로 함유하지 않고 다이에스터 가교제를 실질적으로 함유하지 않음으로써 상기 화합물을 제거하기 위한 값비싼 시간-소모적인 정제 단계를 필요로 하지 않도록 제조될 수 있다.
본원에 사용된 단수 용어, "적어도 하나" 및 "하나 이상"은 상호교환적으로 사용된다. 용어 "포함하다", "함유하다" 및 이의 변형은 이러한 용어가 명세서 및 청구범위에 나타내는 의미를 제한하지 않는다. 따라서, 예를 들면, 소수성 중합체의 입자를 포함하는 수성 조성물은 조성물이 "하나 이상"의 소수성 중합체의 입자를 포함함을 의미하는 것으로 이해될 수 있다.
또한 본원에서, 종점에 의한 수치 범위의 인용은 그 범위에 포함된 모든 수를 포함한다(예를 들면, 1 내지 5는 1, 1.5, 2, 2.75, 3, 3.80, 4, 5 등을 포함한다). 본 발명의 목적을 위해, 수치 범위는 그 범위에 포함되는 모든 가능한 하위 범위를 포함하고 지지하도록 의도되는 것으로 당업자가 이해할 수 있는 것과 일치되게 이해되어야 한다. 예를 들면, 1 내지 100의 범위는 1.01 내지 100, 1 내지 99.99, 1.01 내지 99.99, 40 내지 60, 1 내지 55 등을 전달하는 것으로 의도된다.
또한 본원에서, 청구범위에 인용된 것을 비롯한 수치 범위 및/또는 수치 값의 인용은, 용어 "약"을 포함하는 것으로 이해될 수 있다. 이러한 예에서, 용어 "약"은 본원에 인용된 것과 실질적으로 동일한 수치 범위 및/또는 수치 값을 지칭한다.
달리 명시되지 않는 한, 또는 문맥에서 암시되지 않는 한, 모든 부 및 백분율은 중량 기준이고, 모든 시험 방법은 본원의 출원일을 기준으로 통용된다. 미국 특허 실시의 목적을 위해, 임의의 언급된 특허, 특허 출원 또는 출판물의 내용은, 특히 당해 분야의 일반적인 지식 및 정의(본원에 구체적으로 제공된 임의의 정의와 모순되지 않는 정도까지)의 개시내용에 관하여, 이의 전체가 참조로서 혼입된다(또는 이의 동등한 미국 버전이 참조로서 혼입된다).
메타크릴산은 널리 공지되어 있고 광범위하게 상업적으로 입수가능하다.
본 발명의 방법에서, 메타크릴산을 하기 화학식 I의 인 반응물과 반응시킨다:
[화학식 I]
Figure 112015053843621-pct00003
상기 식에서,
n은 1 내지 3의 평균 값을 갖는 수이다
유리하게 사용되는 메타크릴산의 양은 인 반응물 1 몰당 0.5 내지 10 몰이다. 본 발명의 다양한 실시양태에서, 사용되는 메타크릴산의 양은 인 반응물 1 몰당 1 내지 3 몰, 또는 1.5 내지 2 몰이다. 인 반응물의 혼합물이 사용될 수 있다.
메타크릴산 및 인 반응물을 하기 화학식 II의 포스폰산 단량체를 생성하기에 충분한 반응 조건하에 접촉한다:
[화학식 II]
Figure 112015053843621-pct00004
본 발명의 일 실시양태에서, 목적 단량체를 생성하기에 충분한 시간 동안 반응물을 감압 하에 고온에서 접촉한다. 유리하게는, 온도는 70 내지 170℃이고, 당업자에게 공지된 바와 같이 사용된 압력, 공정 단계, 반응 혼합물의 조성에 따라 달라질 것이다. 바람직하게는, 공정 온도는 90 내지 150℃, 더욱 바람직하게는 120 내지 140℃이다. 물은 반응의 부산물이고, 유리하게는 반응 혼합물로부터 증발 또는 비등 분출되어 제거된다. 압력은 유리하게는 0 내지 760 mmHg, 바람직하게는 200 내지 600 mmHg, 더욱 바람직하게는 450 내지 550 mmHg이다.
유리하게는 중합 억제제가 공정에 사용된다. 상기 억제제는 목적하지 않은 중합을 방지하기에 충분한 양으로 사용된다. 많은 억제제 및 이의 사용 방법은 당업자에게 공지되어 있고, 많은 억제제는 상업적으로 입수가능하다. 억제제의 예는 페노티아진(PTZ), 4-하이드록시-TEMPO(4-HT), 메톡시 하이드로퀴논(MeHQ) 및 하이드로퀴논(HQ)을 포함한다.
유리하게는, 상기 반응은 추가 용매 또는 촉매를 필요로 하지 않고, 목적 생성물을 높은 수율로 생성한다. 상기 공정은 값비싼 시약, 예컨대 (CH3)3SiBr을 필요로 하지 않는다.
본 발명의 구체적인 실시양태
실시예 1: ( 메타크로일옥시 )에틸 포스폰산의 제조
오버헤드 교반기, 열전대 및 10-트레이 증류 컬럼이 장착된 4목 1000 mL 환저 플라스크를 2-하이드록시에틸포스폰산(125 g, 0.991 mol), 메타크릴산(180 g, 2.1 mol) 및 페노티아진(45 mg)으로 충전하였다. 교반기를 켜고 200 rpm으로 설정하고, 반응기의 압력을 488 mmHg로 설정하였다. 플라스크의 내용물을 130℃로 45 분간에 걸쳐서 가열하였다. 포트 온도가 125℃에 도달할 때 증류액을 제거하기 시작하고 증기 온도를 80 내지 90℃로 유지하였다. 1 시간 후, 증기 온도를 떨어뜨리기 시작하였다. 열을 중단하고, 진공을 해제하였다. 샘플을 취하고 1H-NMR 및 31P-NMR 분광법으로 분석하였다. NMR 결과는 출발 알코올의 16%가 샘플에 남아 있음을 시사하였다. 반응기의 압력을 다시 490 mmHg로 줄이고, 내용물을 140℃로 가열하였다. 60 내지 85℃의 증기 온도에서 추가 1 시간 동안 증류액을 수집하였다.
남아 있는 메타크릴산을 완전 진공(10 mmHg 미만) 하에 100 내지 120℃의 포트 온도에서 제거하였다. 생성물의 수득량은 174 g(이론 수율의 89%)이고, 생성물을 1H, 13C, 31P-NMR 분광법으로 분석하였다. 결과는 하기 화학식 III을 갖는 단량체인 (메타크로일옥시)에틸 포스폰산의 예상된 구조와 일치하였다:
[화학식 III]
Figure 112015053843621-pct00005
일부 적용을 위해, 분리되지 않은 혼합물이 중합에 사용될 수 있으므로, 남아 있는 메타크릴산을 제거할 필요는 없다.
실시예 2: ( 메타크로일옥시 ) 메틸 포스폰산의 제조
오버헤드 교반기, 열전대 및 10-트레이 증류 컬럼이 장착된 4목 250 mL 환저 플라스크를 2-하이드록시메틸포스폰산(42 g, 0.38 mol), 메타크릴산(93 g, 1.1 mol) 및 페노티아진(45 mg)으로 충전하였다. 교반기를 켜고 200 rpm으로 설정하고, 반응기의 압력을 497 mmHg로 설정하였다. 플라스크의 내용물을 130℃로 45 분간에 걸쳐서 가열하였다. 포트 온도가 125℃에 도달할 때 증류액을 제거하기 시작하고 증기 온도를 80 내지 90℃로 유지하였다. 2 시간 후, 압력을 완전 진공(10 mmHg 미만)으로 줄이고, 남아 있는 메타크릴산을 100 내지 120℃의 포트 온도에서 제거하였다. 생성물의 수득량은 57 g(이론 수율의 84%)이고, 생성물을 1H, 31P-NMR 분광법으로 분석하였다. 결과는 하기 화학식 IV를 갖는 단량체인 (메타크로일옥시)메틸 포스폰산의 예상된 구조와 일치하였다:
[화학식 IV]
Figure 112015053843621-pct00006

Claims (13)

  1. 하기 화학식 II의 포스폰산 화합물을 포함하는 생성물을 생성하는 방법으로서,
    메타크릴산을 하기 화학식 I의 인 반응물과 접촉하는 단계를 포함하고, 이때 접촉을 첨가된 용매의 부재하에 수행하는, 방법:
    [화학식 I]
    Figure 112019135221514-pct00007

    [화학식 II]
    Figure 112019135221514-pct00008

    상기 식에서,
    n은 1 내지 3의 평균 값을 갖는 수이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    접촉을 중합 억제제의 존재하에 수행하는 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    접촉을 70 내지 170℃의 온도 범위에서 수행하는 방법.
  4. ◈청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    접촉을 130 내지 140℃의 온도 범위에서 수행하는 방법.
  5. ◈청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    접촉을 0 내지 760 mmHg의 압력 범위에서 수행하는 방법.
  6. ◈청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    접촉을 450 내지 550 mmHg의 압력 범위에서 수행하는 방법.
  7. ◈청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    인 반응물 1 몰당 0.5 내지 10 몰의 메타크릴산을 이용하는 방법.
  8. ◈청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    인 반응물 1 몰당 1 내지 3 몰의 메타크릴산을 이용하는 방법.
  9. ◈청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    인 반응물 1 몰당 1.5 내지 2 몰의 메타크릴산을 이용하는 방법.
  10. ◈청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    억제제가 페노티아진, 4-하이드록시-TEMPO, 메톡시 하이드로퀴논 및 하이드로퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  11. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    생성물이 무기 인산을 함유하지 않는 방법.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    생성물이 다이에스터 가교제를 함유하지 않는 방법.
  13. 삭제
KR1020157014841A 2012-12-05 2013-11-26 포스폰산 단량체의 제조 방법 Active KR102131216B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201261733438P 2012-12-05 2012-12-05
US61/733,438 2012-12-05
PCT/US2013/071778 WO2014088872A1 (en) 2012-12-05 2013-11-26 A process for the preparation of phosphonic acid monomers

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150090105A KR20150090105A (ko) 2015-08-05
KR102131216B1 true KR102131216B1 (ko) 2020-07-07

Family

ID=49780360

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157014841A Active KR102131216B1 (ko) 2012-12-05 2013-11-26 포스폰산 단량체의 제조 방법

Country Status (9)

Country Link
US (1) US9546190B2 (ko)
EP (1) EP2928901B1 (ko)
JP (1) JP6139694B2 (ko)
KR (1) KR102131216B1 (ko)
CN (1) CN104822694B (ko)
AU (1) AU2013356428B2 (ko)
BR (1) BR112015012175B1 (ko)
CA (1) CA2896580C (ko)
WO (1) WO2014088872A1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3521364B1 (en) * 2016-09-30 2021-12-15 Kuraray Co., Ltd. Copolymer composition having phosphonate group

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000007687A (ja) * 1998-06-18 2000-01-11 Nippon Chem Ind Co Ltd （メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物およびその製造方法
JP2009242805A (ja) 2009-06-11 2009-10-22 Nippon Chem Ind Co Ltd フルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類およびその製造方法、並びにその用途

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4733005A (en) 1986-04-21 1988-03-22 The Dow Chemical Company Phosphinyl-containing ethylenically unsaturated compounds
ES2032392T3 (es) 1987-02-10 1993-02-16 The Dow Chemical Company Composicion de latex.
DE19604253A1 (de) * 1996-02-06 1997-08-07 Basf Ag Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkylestern der (Meth)acrylsäure
FR2815633B1 (fr) * 2000-10-24 2004-01-09 Atofina Procede de preparation de (meth) acrylate de (dialkylphosphono) alkyle
US6710161B2 (en) 2002-06-19 2004-03-23 Rohm And Haas Company Polymer composition and monomer composition for preparing thereof
EP1997839A1 (en) 2007-05-07 2008-12-03 Rhodia Opérations Polymer and use thereof
US9068065B2 (en) * 2008-04-14 2015-06-30 Basf Se Hydrolytically decomposable ionic copolymers
KR20110079706A (ko) * 2008-10-31 2011-07-07 바스프 에스이 코팅, 필름 또는 접착제용의 포스폰산 에스테르 함유 접착 촉진제
WO2011050121A2 (en) * 2009-10-21 2011-04-28 3M Innovative Properties Company Solventless functionalization, milling, and compounding process with reactive diluents

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000007687A (ja) * 1998-06-18 2000-01-11 Nippon Chem Ind Co Ltd （メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物およびその製造方法
JP2009242805A (ja) 2009-06-11 2009-10-22 Nippon Chem Ind Co Ltd フルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類およびその製造方法、並びにその用途

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, 2008, vol. 46(14), pp. 4794-4803, 1부.*

Also Published As

Publication number Publication date
EP2928901A1 (en) 2015-10-14
BR112015012175A2 (pt) 2017-07-11
BR112015012175B1 (pt) 2021-02-02
KR20150090105A (ko) 2015-08-05
CA2896580A1 (en) 2014-06-12
JP6139694B2 (ja) 2017-05-31
WO2014088872A1 (en) 2014-06-12
CN104822694B (zh) 2018-03-16
AU2013356428A1 (en) 2015-07-09
CA2896580C (en) 2017-07-04
US20150307529A1 (en) 2015-10-29
CN104822694A (zh) 2015-08-05
JP2016501263A (ja) 2016-01-18
US9546190B2 (en) 2017-01-17
EP2928901B1 (en) 2017-09-06
AU2013356428B2 (en) 2016-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103502198B (zh) 在传热剂存在下使用快速回收合成亚甲基丙二酸酯
JP2019509307A (ja) アクリル酸およびその生成方法
JP7562918B2 (ja) ビナフチル類の製造方法
JP5640332B2 (ja) ヒドロキシ（アルキル）トリエチレンジアミン類の製造方法
KR102131216B1 (ko) 포스폰산 단량체의 제조 방법
JP2016537447A5 (ko)
CN104945255B (zh) 一种甲基丙烯酸环己酯的制备方法
JPWO2017135184A1 (ja) ２−シアノアクリレートの製造方法
EP2236528B1 (en) Improved polymerizable compositions
KR20170074894A (ko) 소르베이트 에스테르의 제조
RU2331630C1 (ru) Способ получения 1,1,3-тригидроперфторпропиловых эфиров эпсилон-аминокапроновой кислоты
JP5585088B2 (ja) Ｎ−（２，３−ジヒドロキシプロピル）ピペラジンの製造方法
JP2011168514A (ja) 高品位なｎ（ｎ，ｎ）−モノ（ジ）アルキルアクリルアミドの製造方法
WO2003048103A1 (en) Method of purifying (meth)acrylic ester
CN107001296A (zh) 制备荷羟酮(甲基)丙烯酸酯的方法
HK40000203A (en) Acrylic acid, and methods of producing thereof
JP2016074641A (ja) ホスホン酸誘導体、不飽和基含有ホスホン酸誘導体及びこれらの製造方法
JPH02104559A (ja) （メタ）アクリル酸エステルの精製方法

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 20150604

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20181112

Comment text: Request for Examination of Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20191030

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20200424

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20200701

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20200702

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20240617

Start annual number: 5

End annual number: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20250616

Start annual number: 6

End annual number: 6