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KR102101158B1 - 반응기 - Google Patents

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KR102101158B1
KR102101158B1 KR1020150169417A KR20150169417A KR102101158B1 KR 102101158 B1 KR102101158 B1 KR 102101158B1 KR 1020150169417 A KR1020150169417 A KR 1020150169417A KR 20150169417 A KR20150169417 A KR 20150169417A KR 102101158 B1 KR102101158 B1 KR 102101158B1
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Abstract

본 발명은 반응기에 관한 것으로, 본 발명의 일 측면에 따르면, 반응공간이 마련된 하우징; 상기 하우징 내부에 배치된 튜브; 반응공간의 반응물을 튜브 내부 및 외부로 유동시키도록 하우징 내부에 마련된 임펠러; 및 반응공간으로 액체를 분사하도록 하우징 벽면으로부터 튜브 측을 향하여 소정 길이로 연장 형성된 노즐을 포함하며, 상기 노즐의 길이는, 하우징 벽면과 튜브 사이의 간격의 5% 이하인 반응기가 제공된다.

Description

반응기{Reactor}
본 발명은 반응기에 관한 것으로, 특히, 결정화 반응이 일어나는 결정화기에 관한 것이다.
결정화란 분리기술의 한 분야로써 결정을 통하여 원하고자 하는 특정 물질의 분리를 쉽게 할 수 있다. 따라서 산업현장에서는 결정화 공법을 사용하여 다양한 제품을 생산하고 있다.
일반적으로 결정화 공정에서는 파울링(Fouling) 발생이 매우 큰 문제이다. 상기 파울링은 주로 액면이 닿아있는 결정화기 내벽에서 발생하며 발생된 파울링은 시간이 지남에 따라 점점 증가한다. 이후, 크기가 커진 파울링 덩어리들은 결정화기 내벽에서 분리되어 결정화기 내부를 이동하며 공정의 불안정성을 초래한다.
또한 발생된 파울링을 제거하기 위해서는 주기적인 청소를 해야 하는데 이로 인해 짧아진 생산일수는 생산량의 감소를 야기한다.
따라서 공정의 안정성을 높이고 제품의 생산량을 증가시키기 위해서는 결정화기 벽면에서의 파울링 발생을 예방하는 것이 중요하다.
본 발명은 결정화 반응 시, 파울링 생성을 억제할 수 있는 반응기를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.
상기한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 측면에 따르면, 반응공간이 마련된 하우징; 상기 하우징 내부에 배치된 튜브; 반응공간의 반응물을 튜브 내부 및 외부로 유동시키도록 하우징 내부에 마련된 임펠러; 및 반응공간으로 액체를 분사하도록 하우징 벽면으로부터 튜브 측을 향하여 소정 길이로 연장 형성된 노즐을 포함하며, 상기 노즐의 길이는, 하우징 벽면과 튜브 사이의 간격의 5% 이하인 반응기가 제공된다.
또한, 상기 반응공간에서는 결정화 반응이 일어나고, 노즐은 결정화 열을 제거하기 위한 액체를 분사하도록 마련된다.
또한, 상기 노즐은 결정화 반응 시 노즐로부터 분사된 액체가 기화되어 생성된 증기가 하우징의 벽면에 인접하여 상승하도록 마련되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 노즐은 튜브 측을 향하여 액체를 분사하도록 마련될 수 있다.
또한, 튜브는 하우징의 높이 방향을 따라 개방된 중공을 가질 수 있다.
또한, 임펠러는 튜브 내부에 배치될 수 있다.
또한, 튜브는 상단부 및 하단부 중 어느 하나의 단부에서 직경이 증가 또는 감소하도록 마련될 수 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 반응공간이 마련된 하우징; 상기 하우징 내부에 배치된 튜브; 반응공간의 반응물을 튜브 내부 및 외부로 유동시키도록 하우징 내부에 마련된 임펠러; 및 반응공간으로 소정 액체를 분사하도록 하우징 벽면으로부터 튜브 측을 향하여 연장 형성된 노즐을 포함하며, 상기 노즐은 하우징 벽면 측으로 액체를 분사하도록 마련된 반응기가 제공된다.
또한, 노즐은 분사구가 하우징 벽면과 튜브 사이의 간격의 5% 이하에 위치하도록 마련되는 것이 바람직하다.
또한, 노즐은 절곡부를 갖도록 마련될 수 있다.
또한, 반응공간에서는 결정화 반응이 일어나고, 노즐은 결정화 열을 제거하기 위한 액체를 분사하도록 마련된다.
또한, 노즐은 결정화 반응 시 노즐로부터 분사된 액체가 기화되어 생성된 증기가 하우징의 벽면에 인접하여 상승하도록 마련되는 것이 바람직하다.
또한, 튜브는 드래프트 튜브(draft tube, 흡출관)일 수 있다.
또한, 튜브는 하우징의 높이 방향을 따라 개방된 중공을 가질 수 있다.
또한, 임펠러는 튜브 내부에 배치될 수 있다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 적어도 하나의 실시예와 관련된 반응기는 다음과 같은 효과를 갖는다.
통상 결정화기 내부에서 발생하는 결정화 열을 제거하기 위해서 액체 물질의 기화열(흡열반응)을 이용한다. 이때 기화를 시키기 위해 주입되는 액체가 증기(vapor)로 상 변화가 발생하면, 밀도 차이에 의한 부력이 발생하여 증기가 결정화기 액면으로 떠올라 상부로 배출된다.
본 발명에서와 같이, 노즐의 분사구 위치를 결정화기 벽면과 가깝게 설치하면, 결정화기 벽면 근처에서 증기가 상승 하게 되고, 이때 발생하는 증기의 전단력(shear force)에 의해 결정화기 벽면에서 발생하는 파울링 이 억제된다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예와 관련된 반응기의 개략도이다.
도 2는 파울링(fouling) 생성을 억제하기 위한 노즐의 일 작동상태를 설명하기 위한 개념도이다.
도 3은 도 1에 도시된 반응기의 단면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 노즐의 확대 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예와 관련된 반응기를 구성하는 노즐의 단면도이다.
도 6 및 도 7은 종래 반응기와 본 발명에 따른 반응기에서의 내부 유동을 비교하기 위한 시뮬레이션 결과들이다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 반응기(또는 ‘결정화기’라고도 함)를 첨부된 도면을 참고하여 상세히 설명한다.
또한, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응되는 구성요소는 동일 또는 유사한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복 설명은 생략하기로 하며, 설명의 편의를 위하여 도시된 각 구성 부재의 크기 및 형상은 과장되거나 축소될 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예와 관련된 반응기의 개략도이고, 도 2는 파울링(fouling) 생성을 억제하기 위한 노즐의 일 작동상태를 설명하기 위한 개념도이며, 도 3은 도 1에 도시된 반응기의 단면도이고, 도 4는 도 1에 도시된 노즐의 확대 단면도이다.
제1 실시예와 관련된 반응기(100)는 반응공간(112)이 마련된 하우징(110)을 포함한다. 또한, 상기 하우징(110)은 반응물이 공급되는 공급부(113) 및 생성물이 외부로 배출되는 배출부(114)를 포함한다. 일예로, 공급부(113)는 튜브(120) 내측 하부에 마련될 수 있고, 배출부(114)는 하우징(110)의 하단 영역에 마련될 수 있다. 미설명 부호 111은 하우징(110)의 벽면을 나타낸다.
또한, 반응기(100)는 상기 하우징(110) 내부에 배치된 튜브(120)를 포함한다. 상기 튜브(120)는 하우징의 높이 방향(y축 방향)을 따라 개방된 중공을 갖는다. 상기 튜브(120)로는 반응기(100) 내부의 상하 유동을 강화하기 위하여 드래프트 튜브(draft tube, 흡출관)가 사용된다.
또한, 반응기(100)는 반응공간(112)의 반응물을 튜브(120) 내부 및 외부로 유동시키도록 하우징(110) 내부에 마련된 임펠러(140)를 포함한다. 상기 임펠러(120)로는 결정화기에서 사용되는 주지의 다양한 임펠러가 채용될 수 있다. 또한, 상기 임펠러(140)를 회전시키기 위한 구동축(150)이 마련되며, 상기 구동축(150)은 모터와 같은 구동부(도시되지 않음)와 연결된다. 예를 들어, 상기 임펠러(140)의 회전에 의하여, 튜브(120) 내부에서 반응물의 하강 유동(DS)이 이루어지고, 튜브(120)와 하우징(110) 벽면(111) 사이 공간에서 반응물의 상승 유동(US)이 이루어질 수 있다. 한편, 구동축(150)과 튜브(120) 및 하우징(110)은 각각의 중심이 모두 동축 상에 배치될 수 있다. 또한, 임펠러(140)는 튜브(120) 내부에 배치될 수 있다. 또한, 튜브(120)는 상단부 및 하단부 중 어느 하나의 단부에서 직경이 증가 또는 감소하도록 마련될 수 있다.
또한, 반응기(100)는 반응공간(112)으로 액체(L)를 분사하도록 하우징(110) 벽면(111)으로부터 튜브(120) 측을 향하여 소정 길이(d2)로 연장 형성된 노즐(130)을 포함한다. 또한, 상기 노즐(130)은 튜브(120)의 둘레방향을 따라 복수 개로 구비될 수 있다. 상기 액체는 반응기 내부 압력과 온도에서 기화가 일어날 수 있는 끓는점을 갖는 액체이어야 하며, 예를 들어, 상기 액체로는 BPA 공정에서 펜탄(pentane)이 사용될 수 있다.
여기서, 상기 노즐(130)의 길이(d2)는, 하우징(110) 벽면(111)과 튜브(120) 사이의 간격(d1)의 5% 이하이다. 본 문서에서 노즐(130)의 길이라 함은 하우징(130) 내부에 위치한 부분의 길이를 의미한다. 구체적으로, 노즐(130)의 길이는 상기 하우징(110) 벽면(111)으로부터 노즐(130)의 분사구(131)까지의 거리를 의미할 수 있다. 또한, 하우징(110) 벽면(111)과 튜브(120) 사이의 간격(d1)은, 튜브(120)의 반경방향(x축 방향)에 따른 간격을 의미한다.
전술한 바와 같이, 상기 반응공간(112)에서는 결정화 반응이 일어나고, 노즐(130)은 결정화 열을 제거하기 위한 액체(L)를 분사하도록 마련된다.
또한, 도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 노즐(130)은 결정화 반응 시 노즐(130)의 분사구(131)로부터 분사된 액체가 기화되어 생성된 증기(v)가 하우징(110)의 벽면(111)에 인접하여 상승하도록 마련되는 것이 바람직하다.
전술한 바와 같이, 결정화기 내부에서 발생하는 결정화 열을 제거하기 위해서 노즐(130)로부터 분사된 액체(L)의 기화열(흡열반응)을 이용한다. 이때 기화시키기 위해 주입된 액체(L)가 증기(v)로 상 변화가 발생하면, 밀도 차이에 의한 부력이 발생하여 증기(v)가 결정화기 액면(S)으로 떠올라 상부로 배출된다.
본 발명에서와 같이, 노즐(130)의 분사구(131) 위치를 결정화기 벽면(111)과 가깝게 설치하면, 결정화기 벽면(111) 근처에서 증기(v)가 상승하게 되고, 이때 발생하는 증기(v)의 전단력(shear force)에 의해 결정화기 벽면에서 발생하는 파울링(F)이 억제된다.
한편, 노즐(130)의 길이(d2)는, 하우징(110) 벽면(111)과 튜브(120) 사이의 간격(d1)의 5% 보다 커지게 되면, 기화된 증기가 벽면(111)으로부터 이격되어 상승하게 되며, 이에 따라 벽면(111)의 파울링(F)에 전단력을 가하기 어려운 문제가 발생한다.
한편, 상기 노즐(130)은 튜브(120) 측을 향하여 액체(L)를 분사하도록 마련될 수 있다. 즉, 노즐(130)의 분사구(131)는 튜브(121)을 향하여 배치될 수 있다.
한편, 미설명 부호 160은, 상기 반응기 내부로 액체를 분사하는 노즐(130)의 균일 유량 분배 기능을 수행한다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예와 관련된 반응기를 구성하는 노즐의 단면도이다. 제2 실시예와 관련된 반응기는 노즐의 형상에서만 제1 실시예와 관련된 반응기(100)와 차이를 갖는다. 따라서, 노즐(130’)을 제외한 나머지 구성요소들은 도 1을 통해 설명한 반응기(100)와 동일하며, 이하, 나머지 구성요소는 도 1을 원용하여 설명한다.
도 1 및 도 5를 참조하면, 제2 실시예의 반응기(100)는 반응공간(112)이 마련된 하우징(110)과 상기 하우징(110) 내부에 배치된 튜브(120)와 반응공간(112)의 반응물을 튜브 내부 및 외부로 유동시키도록 하우징 내부에 마련된 임펠러(140) 및 반응공간으로 소정 액체를 분사하도록 하우징(110) 벽면(111)으로부터 튜브(120) 측을 향하여 연장 형성된 노즐(130’)을 포함한다. 이때 상기 노즐(130’)은 하우징(110) 벽면(111) 측으로 액체(L)를 분사하도록 마련된다. 즉, 상기 노즐(130’)은 분사구(131’)가 하우징(110) 벽면(111)을 향하도록 마련된다.
또한, 노즐(130’)은 분사구(121’)가 하우징(110) 벽면(111)과 튜브(120) 사이의 간격의 5% 이하에 위치하도록 마련되는 것이 바람직하다. 또한, 노즐(130’)은 절곡부(132’)를 갖도록 마련될 수 있다.
도 6 및 도 7은 종래 반응기(10)와 본 발명에 따른 반응기(100)에서의 내부 유동을 비교하기 위한 시뮬레이션 결과들이다.
도 6은 종래 반응기(10)에서의 내부 유동을 나타내며, 결정화기 내부에서 증기(v)가 상승하면서, 하우징 벽면의 파울링을 제거하지 못하는 것을 확인할 수 있다.
도 7은 본 발명과 관련된 반응기(100)에서의 내부 유동을 나타내며, 노즐의 분사구 위치를 결정화기 벽면과 가깝게 배치시킴으로써, 결정화기 벽면 근처에서 증기(v)가 상승하게 되고, 이때 발생하는 증기(v)의 전단력(shear force)에 의해 결정화기 벽면에서 발생하는 파울링(F)이 가라지는 것을 확인할 수 있다.
위에서 설명된 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
100: 반응기
110: 하우징
111: 벽면
112: 반응공간
113: 공급부
114: 배출부
120: 튜브
130: 노즐
140: 임펠러
150: 구동축

Claims (14)

  1. 결정화 반응이 일어나는 반응공간이 마련된 하우징;
    상기 하우징 내부에 배치되며, 하우징의 높이 방향을 따라 개방된 중공을 갖는 튜브;
    반응공간의 반응물을 튜브 내부 및 외부로 유동시키도록 하우징 내부에 마련된 임펠러; 및
    반응공간으로 액체를 분사하도록 하우징 벽면으로부터 튜브 측을 향하여 소정 길이로 연장 형성된 노즐을 포함하며,
    상기 노즐은 튜브의 둘레방향을 따라 복수 개로 구비되고,
    상기 노즐은 분사구가, 하우징 벽면과 튜브 사이의 간격의 5% 이하에 위치하도록 마련되고,
    상기 간격은 튜브의 반경방향에 따른 간격이며,
    임펠러의 회전에 의하여, 튜브 내부에서 반응물의 하강 유동이 이루어지고, 튜브와 하우징 벽면 사이 공간에서 반응물의 상승 유동이 이루어지며,
    상기 액체는 반응기 내부 압력과 온도에서 기화가 일어날 수 있는 끓는점을 갖는 액체이며,
    노즐은, 결정화 반응 시 노즐로부터 분사된 액체가 기화되어 생성된 증기가 하우징의 벽면에 인접하여 상승하며, 하우징의 벽면의 파울링에 전단력을 가하도록 마련된 반응기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    노즐은 결정화 열을 제거하기 위한 액체를 분사하도록 마련된 반응기.
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 노즐은 튜브 측을 향하여 액체를 분사하도록 마련된 반응기.
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서,
    임펠러는 튜브 내부에 배치된 반응기.
  7. 제 1 항에 있어서,
    튜브는 상단부 및 하단부 중 어느 하나의 단부에서 직경이 증가 또는 감소하도록 마련된 반응기.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 노즐은 하우징 벽면 측으로 액체를 분사하도록 마련된 반응기..
  9. 삭제
  10. 제 8 항에 있어서,
    노즐은 절곡부를 갖도록 마련된 반응기.
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102175817B1 (ko) * 2017-09-12 2020-11-06 주식회사 엘지화학 결정화기

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011162952A1 (en) * 2010-06-23 2011-12-29 Badger Licensing Llc Crystallizer and method for producing phenol-bpa adduct crystals

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI86965C (fi) * 1991-04-04 1992-11-10 Ahlstroem Oy Foerfarande och anordning foer rening av roekgaser
JP5017814B2 (ja) 2005-08-04 2012-09-05 日本下水道事業団 晶析方法
KR20140122280A (ko) * 2006-09-22 2014-10-17 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 액체-가스 상 반응기 시스템
KR20120011974A (ko) * 2010-07-29 2012-02-09 삼성전자주식회사 복수 개의 인터페이스를 지원하는 스마트 카드 및 그것의 인터페이스 방법
KR101516848B1 (ko) * 2011-04-22 2015-04-30 주식회사 엘지화학 침착물 제거를 수반하는 비스페놀 에이의 제조방법 및 제조장치
JP2013129609A (ja) 2011-12-20 2013-07-04 Sumitomo Chemical Co Ltd ε−カプロラクタムの製造方法
KR101620177B1 (ko) * 2013-07-18 2016-05-12 주식회사 엘지화학 기액 분리 장치
JP6183606B2 (ja) 2013-11-28 2017-08-23 株式会社流機エンジニアリング 濾過装置及び濾過方法
KR20150086740A (ko) 2014-01-20 2015-07-29 주식회사 효성 고속분쇄기능을 가지는 스트레이너 장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2011162952A1 (en) * 2010-06-23 2011-12-29 Badger Licensing Llc Crystallizer and method for producing phenol-bpa adduct crystals

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