KR102081838B1 - Laminated quartz and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
복수개의 쿼츠가 적층되는 적층형 쿼츠가 제공된다. 적층형 쿼츠는 판형의 제 1 몸체 및 상기 제 1 몸체의 테두리 외측으로 돌출 형성되는 제 1 돌출부가 형성되는 제 1 쿼츠 부재; 상기 제 1 쿼츠 부재와 마주보도록 배치되는 판형의 제 2 몸체 및 상기 제 2 몸체의 테두리 외측으로 돌출 형성되는 제 2 돌출부가 형성되는 제 2 쿼츠 부재; 및 상기 제 1 쿼츠 부재와 상기 제 2 쿼츠 부재 사이에 배치되는 판형의 중간 쿼츠 부재;를 포함하고, 상기 제 1 돌출부와 상기 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 쿼츠 부재와 상기 제 2 쿼츠 부재의 서로 마주보도록 대응되는 위치에 형성되고, 상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부를 관통하는 흡입홀을 구비하고, 상기 흡입홀은 상기 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재와 상기 중간 쿼츠 부재 사이의 내부 공간과 연통되어, 상기 내부 공간에 위치한 유체가 상기 흡입홀을 통해 배출될 수 있다.A stacked quartz in which a plurality of quartz is stacked is provided. The stacked quartz includes a first quartz member in which a plate-shaped first body and a first protrusion formed to protrude outside the rim of the first body are formed; A second quartz member having a plate-shaped second body disposed to face the first quartz member and a second protrusion formed to protrude outside the rim of the second body; And a plate-shaped intermediate quartz member disposed between the first quartz member and the second quartz member; wherein the first protrusion and the second protrusion are each of the first quartz member and the second quartz member, respectively. The first projection and the second projection are formed at corresponding positions so as to face each other, and the suction holes passing through the first projection and the second projection are respectively provided, and the suction holes are the first quartz member and the second In communication with the inner space between the quartz member and the intermediate quartz member, a fluid located in the inner space may be discharged through the suction hole.
Description
본 발명은 적층형 쿼츠 및 적층형 쿼츠의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laminated quartz and a method of manufacturing the laminated quartz.
반도체 제조에 있어 석영(quartz) 제품은 화학기상증착(chemical vapor deposition, 이하, CVD) 및 물리기상증착(physical vapor deposition, 이하, PVD) 공정에서 프로세스 튜브(Process Tube) 및 웨이퍼 지지용 구조물, 열전달 및 열 차폐용 페데스탈(Pedestal) 소재로 사용된다. 반도체 제조 공정은 화학적 및 물리적 공정으로 증착 및 산화 식각을 통해 실리콘 웨이퍼에 미세회로를 형성한다. 이러한 공정들은 주로 고온에서 진행이 되어 외부 이물질이 공정 중에 침투해서는 안된다. CVD 및 PVD 공정에서 외부 이물질 오염은 수율과 직접적인 관계로 인해, 공정 중에 화학적 및 물리적으로 안정된 석영 재료를 사용해 오고 있다.In semiconductor manufacturing, quartz products include process tubes and wafer support structures, heat transfer in chemical vapor deposition (hereinafter CVD) and physical vapor deposition (PVD) processes. And Pedestal for heat shielding. The semiconductor manufacturing process is a chemical and physical process, and microcircuits are formed on a silicon wafer through deposition and oxidation etching. These processes mainly proceed at high temperature, so that foreign objects should not penetrate during the process. In CVD and PVD processes, foreign contaminant contamination has been directly related to yield, and chemical and physically stable quartz materials have been used during the process.
석영 유리(quartz glass) 재료 중 불투명 석영(opaque quartz, 이하 OPQ)는 석영 내에 미세한 기포(10m 이하)가 균일하게 분포하면서 불투명한 상태를 유지하고 있다. 따라서, OPQ 재료는 고온의 CVD 및 PVD 공정에서 열원(1100℃)으로부터 전달 및 복사되는 열을 차폐하기 위하여 이용된다.Among quartz glass materials, opaque quartz (hereinafter referred to as OPQ) maintains an opaque state with uniform distribution of fine bubbles (10 m or less) in the quartz. Thus, OPQ materials are used to shield heat transferred and radiated from a heat source (1100 ° C.) in high temperature CVD and PVD processes.
기존의 90 나노 반도체 공정까지는 이러한 단순한 OPQ 재료를 가공해서 열 전달 및 복사 차폐 목적으로 사용을 해왔으나, 최근 반도체 제조 공정이 점점 미세화 되어 65 나노 이하의 공정에서는 기존 불투명 OPQ 재료가 오염원이 되고 있다. OPQ 재료의 미세한 기포들이 고온에서 에칭과 같은 공정에서 투명 용융 석영(cleared fused quartz, 이하 CFQ)보다 쉽게 식각이 되어 파티클(particle) 발생 및 OPQ 재료 자체가 가지고 있는 기포가 열리면서 기포 내에 함유하고 있을 수 있는 이물질이 반도체 공정 중에서 영향을 미칠 가능성이 있다.Until the existing 90 nano-semiconductor process, these simple OPQ materials have been processed and used for heat transfer and radiation shielding purposes. Recently, however, the semiconductor manufacturing process has been gradually refined, and the existing opaque OPQ material has become a contaminant in processes below 65 nanometers. The microscopic bubbles of OPQ material are easily etched more than clear fused quartz (CFQ) in a process such as etching at high temperature, so particles may be generated and bubbles contained in the OPQ material itself may be contained in the bubbles. There is a possibility that foreign substances present may affect the semiconductor process.
상기 오염원의 요소를 제거하기 위해, 즉, 전달열 및 복사열 차단을 하면서 동시에 식각에 잘 견딜 수 있도록 OPQ에 CFQ를 코팅하는 샌드위치(Sandwich)형 재료가 제안되고 있다. 상기 샌드위치 형태의 재료를 만들기 위해서는 서로 다른 이종의 석영 재료를 압착해서 붙이는 기술이 필요하다.In order to remove the element of the contaminant, that is, while blocking heat and radiant heat, a sandwich-type material coating CFQ on OPQ has been proposed to withstand etching at the same time. In order to make the sandwich type material, a technique of pressing and attaching different kinds of quartz materials is required.
종래에는 일반적인 방법으로 두개의 디스크 또는 플레이트 형태의 석영 재료를 겹쳐 놓은 상태에서 중력방향의 하중을 이용해서 가스 토치(Gas Torch) 및 버너의 화염으로 압착하였지만, 낮은 수율, 장시간의 작업 시간 및 기포에 의한 불량의 문제가 발생된다Conventionally, in the state of superimposing two discs or plates in the form of a quartz material, it was compressed with the flame of a gas torch and a burner using a load in the direction of gravity, but with low yield, long working time and air bubbles Caused by the problem of defects
본 발명의 일 실시예에 따르면, 종래 제조 공정에 비해 용이하고, 가공면의 불필요한 소모를 감소시키며 공정 시간을 단축시키는 적층형 쿼츠 제조 방법 및 제조 시스템과 이에 따라 제조되는 적층형 쿼츠를 제공하고자 한다.According to an embodiment of the present invention, to provide a laminated quartz manufacturing method and a manufacturing system and a laminated quartz manufactured accordingly, which are easier than conventional manufacturing processes, reduce unnecessary consumption of a processed surface, and shorten the process time.
본 발명의 일 측면에 따르면, 복수개의 쿼츠가 적층되는 적층형 쿼츠로서, 판형의 제 1 몸체 및 상기 제 1 몸체의 테두리 외측으로 돌출 형성되는 제 1 돌출부가 형성되는 제 1 쿼츠 부재; 상기 제 1 쿼츠 부재와 마주보도록 배치되는 판형의 제 2 몸체 및 상기 제 2 몸체의 테두리 외측으로 돌출 형성되는 제 2 돌출부가 형성되는 제 2 쿼츠 부재; 및 상기 제 1 쿼츠 부재와 상기 제 2 쿼츠 부재 사이에 배치되는 판형의 중간 쿼츠 부재;를 포함하고, 상기 제 1 돌출부와 상기 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 쿼츠 부재와 상기 제 2 쿼츠 부재의 서로 마주보도록 대응되는 위치에 형성되고, 상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부를 관통하는 흡입홀을 구비하고, 상기 흡입홀은 상기 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재와 상기 중간 쿼츠 부재 사이의 내부 공간과 연통되어, 상기 내부 공간에 위치한 유체가 상기 흡입홀을 통해 배출될 수 있는 적층형 쿼츠가 제공된다.According to an aspect of the present invention, a laminated quartz in which a plurality of quartz are stacked, a first quartz member in which a plate-shaped first body and a first protrusion formed protruding outside the rim of the first body are formed; A second quartz member having a plate-shaped second body disposed to face the first quartz member and a second protrusion formed to protrude outside the rim of the second body; And a plate-shaped intermediate quartz member disposed between the first quartz member and the second quartz member; wherein the first protrusion and the second protrusion are each of the first quartz member and the second quartz member, respectively. The first projection and the second projection are formed at corresponding positions so as to face each other, and the suction holes passing through the first projection and the second projection are respectively provided, and the suction holes are the first quartz member and the second There is provided a stacked quartz in communication with the inner space between the quartz member and the intermediate quartz member, so that the fluid located in the inner space can be discharged through the suction hole.
이 때, 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재는 투명한 재질로 형성될 수 있다.At this time, the first quartz member and the second quartz member may be formed of a transparent material.
이 때, 상기 중간 쿼츠 부재는 불투명한 재질로 형성될 수 있다.At this time, the intermediate quartz member may be formed of an opaque material.
이 때, 상기 중간 쿼츠 부재의 일면은 상기 제 1 쿼츠 부재의 타면과 접촉되고, 상기 중간 쿼츠 부재의 타면은 상기 제 2 쿼츠 부재의 일면과 접촉될 수 있다.At this time, one surface of the intermediate quartz member may be in contact with the other surface of the first quartz member, and the other surface of the intermediate quartz member may be in contact with one surface of the second quartz member.
이 때, 상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 중심부로부터 반경 외측 방향으로 연장된 사다리꼴 형상 또는 삼각 형상으로 이루어질 수 있다.In this case, the first protrusion and the second protrusion may be formed in a trapezoidal shape or a triangular shape extending radially outwardly from the centers of the first quartz member and the second quartz member, respectively.
이 때, 상기 제 1 돌출부 및 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재와 별도로 제작된 후 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재에 결합되는 부재이거나 또는 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재와 일체로 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 일측에 형성될 수 있다.At this time, the first protrusion and the second protrusion are respectively made of the first quartz member and the second quartz member, and then are members coupled to the first quartz member and the second quartz member or the first quartz The member and the second quartz member may be integrally formed on one side of the first quartz member and the second quartz member.
이 때, 상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부는 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 반경 외측 방향으로 갈수록 단면적이 작아지도록 형성될 수 있다.At this time, the first protrusion and the second protrusion may be formed to have a smaller cross-sectional area toward the radially outward direction of the first quartz member and the second quartz member.
이 때, 상기 내부 공간이 밀폐되도록, 상기 제 1 쿼츠 부재, 상기 제 2 쿼츠 부재 및 상기 중간 쿼츠 부재의 테두리가 압착될 수 있다.At this time, the rims of the first quartz member, the second quartz member, and the intermediate quartz member may be compressed so that the inner space is sealed.
본 발명의 다른 측면에 따르면 상기 적층형 쿼츠를 제조하는 적층형 쿼츠의 제조 방법으로서, 흡입홀이 형성되는 돌출부를 구비한 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재를 제공하는 단계; 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재 사이에 중간 쿼츠 부재를 배치시키는 단계; 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재 각각의 흡입홀이 서로 연통되도록, 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재를 정렬시키는 단계; 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 돌출부의 테두리를 가열시켜 접합시키는 단계; 상기 흡입홀에 음압을 인가시켜, 상기 제 1 쿼츠 부재, 상기 중간 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 테두리를 압착시키는 테두리 압착 단계; 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 상부면을 중심부 방향 및 원주 방향으로 이동하며 가열시키는 제 1 중심부 압착 단계; 및 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 하부면을 중심부 방향 및 원주 방향으로 이동하며 가열시키는 제 2 중심부 압착 단계; 상기 테두리 압착 단계 및 상기 제 1 및 제 2 중심부 압착 단계는 상기 흡입홀을 통해, 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재 사이의 유체를 배출시키는 진공 형성 단계를 포함하는 적층형 쿼츠 제조 방법이 제공된다. According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a laminated quartz for manufacturing the laminated quartz, the method comprising: providing a first quartz member and a second quartz member having protrusions in which suction holes are formed; Disposing an intermediate quartz member between the first quartz member and the second quartz member; Aligning the first quartz member and the second quartz member so that the suction holes of each of the first quartz member and the second quartz member communicate with each other; Heating and bonding the edges of the protrusions of the first quartz member and the second quartz member; A rim crimping step of applying a negative pressure to the suction hole and crimping the rims of the first quartz member, the intermediate quartz member and the second quartz member; A first central compression step of heating the first quartz member and the upper surfaces of the second quartz member while moving in a central direction and a circumferential direction; And a second center pressing step of heating the lower surfaces of the first quartz member and the second quartz member in a central direction and a circumferential direction. The rim pressing step and the first and second center pressing step are provided by a method of manufacturing a laminated quartz including a vacuum forming step of discharging a fluid between the first quartz member and the second quartz member through the suction hole. do.
이 때, 상기 테두리 압착 단계는 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 원주 방향을 따라 상기 돌출부의 일측으로부터 상기 돌출부의 타측까지 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 테두리를 가열시킬 수 있다.At this time, the crimping step of the first quartz member and the second quartz member in the circumferential direction from the one side of the protrusion to the other side of the protrusion to heat the rim of the first quartz member and the second quartz member You can.
이 때, 상기 중심부 압착 단계에서는, 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 테두리로부터 각각의 중심부 방향으로 화염을 소정 간격 이동시킨 후, 원주 방향으로 가열시킬 수 있다.At this time, in the step of compressing the central portion, the flames may be moved from the rims of the first quartz member and the second quartz member to the respective central directions at predetermined intervals, and then heated in the circumferential direction.
이 때, 상기 중심부 압착 단계에서는, 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 테두리로부터 각각의 중심부 방향으로 나선형 경로를 따라 상기 제 1 쿼츠 부재의 상부면 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 하부면을 가열시킬 수 있다.At this time, in the pressing step of the central portion, the upper surface of the first quartz member and the lower surface of the second quartz member along a helical path from the rims of the first quartz member and the second quartz member to the respective central directions. It can be heated.
이 때, 상기 테두리 압착 단계 및 상기 중심부 압착 단계에서는, 1800도 이상의 산수소 화염을 이용하여 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재를 가열시킬 수 있다.At this time, in the frame pressing step and the center pressing step, the first quartz member and the second quartz member may be heated using an oxyhydrogen flame of 1800 degrees or more.
이 때, 상기 진공 형성 단계는, 상기 흡입홀에 2kg/cm^2의 흡입 압력을 인가하여 수행될 수 있다.At this time, the vacuum forming step may be performed by applying a suction pressure of 2kg / cm ^ 2 to the suction hole.
이 때, 상기 제 2 중심부 압착 단계 이후에 상기 제 1 쿼츠 부재의 상부면 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 하부면을 화염 연마시키는 화염 연마 단계를 더 포함할 수 있다.In this case, a flame polishing step of flame polishing the upper surface of the first quartz member and the lower surface of the second quartz member after the second central compression step may be further included.
이 때, 상기 화염 연마 단계 이후에 상기 화염 연마된 적층형 쿼츠를 열처리하는 열처리 단계를 더 포함할 수 있다.At this time, after the flame polishing step may further include a heat treatment step of heat-treating the flame-polluted laminated quartz.
이 때, 상기 진공 형성 단계 이후에 적층된 쿼츠의 테두리부를 제거하여, 원형의 쿼츠 부재를 획득하는 단계를 더 포함할 수 있다.At this time, after the vacuum forming step may further include the step of obtaining a circular quartz member by removing the edge of the laminated quartz.
본 발명의 예시적인 실시예에 따르면, 쿼츠 부재의 내부 공간 유체를 흡입시키는 흡입홀이 형성되는 돌출부를 포함하여, 작업 시간을 단축하고, 기포에 의한 불량의 문제를 해결할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, including a projection in which a suction hole is formed for sucking the internal space fluid of the quartz member, it is possible to shorten the working time and solve the problem of defects caused by air bubbles.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 쿼츠의 돌출부에 진공 펌프가 결합된 것을 도시한 도면이다.
도 2은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 쿼츠의 돌출부에 진공 펌프가 결합된 것을 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 쿼츠의 각 쿼츠 부재의 결합도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 적층형 쿼츠 제조 방법의 순서도이다.1 is a view showing a vacuum pump is coupled to the protrusion of the laminated quartz according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing that the vacuum pump is coupled to the protrusions of the laminated quartz according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a combined view of each quartz member of the laminated quartz according to an embodiment of the present invention.
4 is a flowchart of a method of manufacturing a laminated quartz according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art to which the present invention pertains may easily practice. The present invention can be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In the drawings, parts not related to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and the same reference numerals are attached to the same or similar elements throughout the specification.
본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In this specification, terms such as “include” or “have” are intended to indicate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification exists, and one or more other features. It should be understood that the presence or addition possibilities of fields or numbers, steps, actions, components, parts or combinations thereof are not excluded in advance.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 쿼츠의 돌출부에 진공 펌프가 결합된 것을 도시한 도면이다. 도 2은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 쿼츠의 돌출부에 진공 펌프가 결합된 것을 도시한 도면이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 쿼츠의 각 쿼츠 부재의 결합도이다.1 is a view showing a vacuum pump is coupled to the protrusion of the laminated quartz according to an embodiment of the present invention. 2 is a view showing that the vacuum pump is coupled to the protrusions of the laminated quartz according to an embodiment of the present invention. Figure 3 is a combined view of each quartz member of the laminated quartz according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 쿼츠(1)는 제 1 쿼츠 부재(12), 제 2 쿼츠 부재(16), 중간 쿼츠 부재(14) 및 돌출부(17a, 17b)를 포함할 수 있다.The
도 1 및 도 2를 참조하면 제 1 쿼츠 부재(12)는 적층된 복수의 쿼츠 부재 중 도면을 기준으로 상부측에 배치되는 쿼츠 부재를 의미할 수 있다. 이 때, 제 1 쿼츠 부재(12)는 원형의 디스크 형상으로 도시되나, 다각형 플레이트 형상으로 이루어질 수 있다.1 and 2, the
제 1 쿼츠 부재(12)는 판형의 제 1 몸체를 구비할 수 있다. 제 1 몸체는 원판형으로 이루어질 수 있다. 제 1 몸체의 테두리부에 제 1 돌출부(17a)가 형성될 수 있다. 제 1 돌출부(17a)는 도 1에 도시된 바와 같이 테두리부로부터 반경 외측 방향으로 돌출 형성될 수 있다. 제 1 돌출부(17a)의 위치는 제 1 쿼츠 부재(12)의 임의의 반경 외측 방향으로 형성될 수 있으나, 후술하는 바와 같이 제 2 쿼츠 부재(16)의 측면부에 형성된 제 2 돌출부(17b)와 대응되는 위치에 형성될 수 있다.The
제 2 쿼츠 부재(16)는 판형의 제 2 몸체를 구비할 수 있다. 이 때, 제 2 몸체의 테두리부에는 제 2 돌출부(17b)가 형성될 수 있으며, 제 1 돌출부(17a)와 대응되는 위치에 대응되는 형상으로 이루어질 수 있다.The
제 1 돌출부와 제 2 돌출부는 사다리꼴 또는 삼각형 형상으로 이루어져, 제 1 몸체와 제 2 몸체 각각의 중심부로부터 반경 외측 방향으로 갈수록 단면적이 작아지도록 형성될 수 있다.The first protrusion and the second protrusion may be formed in a trapezoidal or triangular shape, and may be formed to have a smaller cross-sectional area from the center of each of the first body and the second body toward the radially outward direction.
제 1 쿼츠 부재(12)의 하부면과 제 2 쿼츠 부재(16)의 상부면은 마주보되, 소정 간격 이격되도록 배치될 수 있으며, 제 1 쿼츠 부재(12) 및 제 2 쿼츠 부재(16) 사이에는 중간 쿼츠 부재(14)가 배치될 수 있다.The lower surface of the
이 때, 제 2 쿼츠 부재(16)의 제 2 돌출부(17b)는 제 1 쿼츠 부재(12)의 제 1 돌출부(17a)와 마주보는 위치에 대응되도록 형성될 수 있다.At this time, the
제 1 돌출부(17a)와 제 2 돌출부(17b)는 각각 제 1 쿼츠 부재(12) 및 제 2 쿼츠 부재(16)로부터 연장 형성될 수 있다. 제 1 돌출부(17a) 및 제 2 돌출부(17b)는 제 1 쿼츠 부재(12) 및 제 2 쿼츠 부재(16)와 대응되는 두께로 이루어질 수 있다.The
제 1 돌출부(17a) 및 제 2 돌출부(17b)는 각각 제 1 쿼츠 부재(12) 및 제 2 쿼츠 부재(16)에 결합되는 별도의 부재이거나, 또는 가열 변형되어 형성되는 부재일 수 있다.The
이 때, 제 1 돌출부(17a) 및 제 2 돌출부(17b)는 각각 제 1 쿼츠 부재(12) 및 제 2 쿼츠 부재(16)의 중심부로부터 반경 외측 방향으로 단면적이 감소하도록 형성될 수 있다.At this time, the
제 1 돌출부(17a)와 제 2 돌출부(17b)에는 각각을 관통하도록 흡입홀(15a, 15b)이 형성될 수 있다. 흡입홀(15a, 15b)은 후술하는 바와 같이 진공 펌프(20)의 유체 흡입관(22)과 연결되어, 제 1 돌출부(17a)와 제 2 돌출부(17b) 사이의 유체가 배출될 수 있다.
이 때, 제 1 돌출부와 제 2 돌출부의 테두리는 열 융착되어 접합될 수 있다. 또한, 제 1 쿼츠 부재(12)와 제 2 쿼츠 부재(16)는 각각의 테두리 부분이 접합되어 제 1 쿼츠 부재(12)와 제 2 쿼츠 부재(16) 사이에는 흡입홀(15a, 15b)을 제외하고 밀폐된 내부 공간이 형성될 수 있다.At this time, the edges of the first protrusion and the second protrusion may be heat-sealed and joined. In addition, the
구체적으로, 제 1 쿼츠 부재(12)와 제 2 쿼츠 부재(16)의 테두리 부분 중 제 1 돌출부(17a)와 제 2 돌출부(17b)가 형성된 부분을 제외한 나머지 부분이 접합 또는 열 융착될 수 있다. 이로써, 제 1 쿼츠 부재(12)와 중간 쿼츠 부재(14) 및 제 2 쿼츠 부재(16)와 중간 쿼츠 부재(14) 사이에 위치한 유체는 오로지 흡입홀(15a, 15b)을 통해서만 외부와 연통될 수 있다.Specifically, the remaining portions of the rim portions of the
이를 위해, 후술하는 바와 같이, 제 1 쿼츠 부재(12) 및 제 2 쿼츠 부재(16)의 제 1 돌출부(17a) 및 제 2 돌출부(17b)에 진공 펌프(20)를 연결하고, 제 1 쿼츠 부재(12)의 상부면을 화염 연마시킬 수 있다. To this end, as described later, the vacuum pump 20 is connected to the
이 때, 테두리 부분의 융착을 위해 제 1 쿼츠 부재(12)의 상부면 테두리 부분을 먼저 가열시킬 수 있다. 테두리 부분의 가열이 완료되면, 제 1 쿼츠 부재(12)의 중심부 방향으로 나선을 그리면서 상부면을 가열시킬 수 있다.At this time, in order to fuse the rim portion, the rim portion of the upper surface of the
이후, 도 2에 도시된 바와 같이, 제 2 쿼츠 부재(16)의 하부면 테두리 부분을 가열시킬 수 있다. 제 2 쿼츠 부재(16)의 하부면 테두리 부분이 완료되면, 제 2 쿼츠 부재(16)의 중심부 방향으로 나선을 그리면서 하부면을 가열시킬 수 있다.Thereafter, as illustrated in FIG. 2, the edge portion of the lower surface of the
제 1 쿼츠 부재(12) 및 제 2 쿼츠 부재(16)의 테두리 부분이란, 제 1 쿼츠 부재(12) 및 제 2 쿼츠 부재(16)의 일측으로 돌출 형성된 제 1 돌출부(17a) 및 제 2 돌출부(17b)를 제외한 테두리 부분을 의미할 수 있다.The rim portion of the
즉, 제 1 돌출부(17a)의 일측으로부터 제 1 쿼츠 부재(12)의 원주 방향을 따라 제 1 돌출부(17a)의 타측까지 가열시킬 수 있다. 마찬가지로, 제 2 돌출부(17b)의 일측으로부터 제 2 쿼츠 부재(16)의 원주 방향을 따라 제 2 돌출부(17b)의 타측까지 가열시킬 수 있다. 또한, 이러한 가열은 반복적으로 수행될 수 있다.That is, it can be heated from one side of the
제 1 쿼츠 부재(12)와 제 2 쿼츠 부재(16)는 투명한 쿼츠로 형성될 수 있으며, 중간 쿼츠 부재(14)는 불투명한 쿼츠로 형성될 수 있다. 고온의 반도체 공정을 진행함에 있어, 불투명 쿼츠에 포함된 기포가 외부로 배출되어 반도체 공정에서 불순물로 작용할 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 쿼츠는 불투명 쿼츠 양 측으로 투명 쿼츠를 적층시켜 고온의 반도체 공정에서도 불투명 쿼츠의 기포가 배출됨을 방지할 수 있다.The
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 적층형 쿼츠 제조 방법을 도시한 순서도이다.4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a laminated quartz according to another embodiment of the present invention.
본 발명의 다른 실시예에 따른 적층형 쿼츠 제조 방법은 돌출부 준비 단계(S10), 돌출부 결합 단계(S20), 중간 쿼츠 부재 배치 단계(S30), 쿼츠 부재 정렬 단계(S40), 진공 펌프 연결 단계(S50), 돌출부 접합 단계(S60), 테두리 압착 단계(S70), 중심부 압착 단계(S80), 화염 연마 단계(S90) 및 열처리 단계(S100)를 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, a method of manufacturing a laminated quartz includes a protrusion preparation step (S10), a protrusion engagement step (S20), an intermediate quartz member placement step (S30), a quartz member alignment step (S40), and a vacuum pump connection step (S50). ), A protrusion bonding step (S60), a rim pressing step (S70), a central pressing step (S80), a flame polishing step (S90) and a heat treatment step (S100).
이 때, 제 1 쿼츠 부재, 중간 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재가 순차적으로 배치되어 적층될 수 있으며, 제 1 쿼츠 부재와 제 2 쿼츠 부재는 투명한 재질로 이루어질 수 있으며, 중간 쿼츠 부재는 불투명한 재질로 이루어질 수 있다.At this time, the first quartz member, the intermediate quartz member and the second quartz member may be sequentially arranged and stacked, the first quartz member and the second quartz member may be made of a transparent material, and the intermediate quartz member is an opaque material It can be made of.
돌출부 준비 단계(S10)에서 돌출부는 쿼츠 부재의 테두리에 결합되는 것으로, 쿼츠 부재의 중심부로부터 반경 방향 외측으로 갈수록 단면적이 작아지는 형상으로 형성될 수 있다. 이 때, 도 1에 도시된 바와 같이, 사다리꼴 형상 또는 삼각형 형상으로 이루어질 수 있다.In the step of preparing the protrusion (S10), the protrusion is coupled to the edge of the quartz member, and may be formed in a shape in which the cross-sectional area becomes smaller from the center of the quartz member toward the outside in the radial direction. At this time, as shown in Figure 1, it may be made of a trapezoidal shape or a triangular shape.
돌출부 준비 단계(S10)에서는 쿼츠 부재의 일측으로 돌출 형성된 돌출부에 흡입홀을 형성시킬 수 있다. 이 때, 흡입홀은 돌출부에 수직된 방향으로 형성될 수 있다.In the step of preparing the protrusion (S10), a suction hole may be formed in the protrusion formed to protrude to one side of the quartz member. At this time, the suction hole may be formed in a direction perpendicular to the protrusion.
돌출부 결합 단계(S20)에서는 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재의 테두리부에 돌출부를 결합시킬 수 있다. 돌출부는 각 쿼츠 부재의 테두리로부터 돌출 결합될 수 있다.In the step of engaging the protrusion (S20), the protrusion may be coupled to the edge portions of the first quartz member and the second quartz member. Protrusions may be protruded from the edges of each quartz member.
각 쿼츠 부재와 돌출부를 가열하여 각 부재를 결합시킬 수 있다. 일례로 용접하여 각 부재를 결합시킬 수 있다. 이 때, 쿼츠 부재와 돌출부의 면이 평행하도록 쿼츠 부재와 돌출부를 결합시킬 수 있다. Each member can be joined by heating each quartz member and the protrusion. As an example, each member can be joined by welding. At this time, the quartz member and the protruding portion can be joined so that the surfaces of the quartz member and the protruding portion are parallel.
중간 쿼츠 부재 배치 단계(S30)에서는 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재 사이에 중간 쿼츠 부재를 배치시킬 수 있다. 제 1 쿼츠 부재의 일면이 중간 쿼츠 부재의 일면과 면 접촉하도록 배치하고, 중간 쿼츠 부재의 이면이 제 2 쿼츠 부재의 일면과 면 접촉하도록 배치시킬 수 있다.In the step of placing the intermediate quartz member (S30), the intermediate quartz member may be disposed between the first quartz member and the second quartz member. One surface of the first quartz member may be arranged to be in surface contact with one surface of the intermediate quartz member, and the rear surface of the intermediate quartz member may be arranged to be in surface contact with one surface of the second quartz member.
제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재 정렬 단계(S40)에서는 제 1 쿼츠 부재와 제 2 쿼츠 부재의 측부가 일치하도록 정렬시킬 수 있다. 이 때, 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재 사이에 배치된 중간 쿼츠 부재의 측부가 일치하도록 배치시킬 수 있다. 즉 세 개의 쿼츠 부재의 테두리가 나란히 적층되도록 정렬시킬 수 있다.In the step of aligning the first quartz member and the second quartz member (S40), the side portions of the first quartz member and the second quartz member may be aligned to coincide. At this time, the side portions of the intermediate quartz member disposed between the first quartz member and the second quartz member may be arranged to coincide. That is, the edges of the three quartz members can be arranged to be stacked side by side.
또한, 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재는 각 쿼츠 부재의 테두리에 결합된 돌출부에 형성된 흡입홀이 연통되도록 정렬시킬 수 있다.In addition, the first quartz member and the second quartz member can be aligned so that the suction holes formed in the protrusions coupled to the rim of each quartz member communicate.
진공 펌프 연결 단계(S50)에서는 진공 펌프의 유체 흡입관을 흡입홀에 연결시킬 수 있다. 이 때, 진공 펌프의 유체 흡입관에 진공압력이 형성되면, 돌출부의 흡입홀을 통해, 유체가 배출될 수 있다.In the vacuum pump connection step (S50), the fluid suction pipe of the vacuum pump may be connected to the suction hole. At this time, when a vacuum pressure is formed in the fluid suction pipe of the vacuum pump, the fluid may be discharged through the suction hole of the protrusion.
돌출부 압착 단계(S60)에서는 정렬된 제 1 쿼츠 부재, 중간 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재가 적층된 쿼츠에서, 제 1 쿼츠 부재와 제 2 쿼츠 부재의 일측에 형성되는 제 1 돌출부와 제 2 돌출부를 압착시킬 수 있다.In the step of pressing the protrusion (S60), in the quartz in which the aligned first quartz member, the intermediate quartz member, and the second quartz member are stacked, the first protrusion and the second protrusion formed on one side of the first quartz member and the second quartz member Can be compressed.
이 때, 제 1 돌출부와 제 2 돌출부의 테두리를 가열하여 열 융착시킬 수 있다. 이로써, 제 1 돌출부와 제 2 돌출부 사이에는 밀폐된 공간이 형성될 수 있다. 상기 공간은 오직 흡입홀을 통해서만 외부로 연통될 수 있다.At this time, the edges of the first protrusion and the second protrusion may be heat-sealed. Accordingly, a closed space may be formed between the first protrusion and the second protrusion. The space can be communicated to the outside only through the suction hole.
테두리 압착 단계(S70)는 정렬된 제 1 쿼츠 부재, 중간 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재가 적층된 쿼츠의 테두리 부분을 우선 가열하는 단계를 포함할 수 있다.The edge pressing step (S70) may include first heating the rim portion of the quartz in which the aligned first quartz member, the intermediate quartz member, and the second quartz member are stacked.
테두리를 가열시키면서 진공 펌프를 이용하여, 적층된 쿼츠들 사이의 유체를 흡입할 수 있다. 이로써, 각 쿼츠들의 테두리가 압착되어 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재 사이가 외부와 차단되는 공간이 형성될 수 있다.Using a vacuum pump while heating the rim, the fluid between the stacked quartz can be sucked. As a result, a space in which the edges of the respective quartz elements are compressed and the first quartz member and the second quartz member is blocked from the outside can be formed.
이 때, 제 1 쿼츠 부재와 제 2 쿼츠 부재의 테두리를 가열함에 있어서, 돌출부의 일측으로부터 돌출부의 타측까지 원주 방향을 따라 가열시킬 수 있다. 이 때, 테두리를 가열시키는 방향은 제한되지 않으나 바람직하게는 시계 방향으로 형성될 수 있다.At this time, in heating the edges of the first quartz member and the second quartz member, it is possible to heat the circumferential direction from one side of the protrusion to the other side of the protrusion. At this time, the direction of heating the rim is not limited, but may be preferably formed in a clockwise direction.
즉, 돌출부가 연결된 부분은 가열시키지 않고, 나머지 테두리 부분을 가열함으로써 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재를 압착시킬 수 있다. 이로써, 적층된 쿼츠 내부 공간은 돌출부에 형성된 흡입홀을 통해서만 외부와 연통될 수 있다.That is, the first quartz member and the second quartz member can be compressed by heating the remaining rim portion without heating the portion where the protrusion is connected. As a result, the stacked quartz inner space can communicate with the outside only through the suction hole formed in the protrusion.
다음으로, 중심부 가열 단계(S80)에서는 제 1 쿼츠 부재의 상부면과 제 2 쿼츠 부재의 하부면을 가열시킬 수 있다. 이 때, 화염을 우선 가열한 테두리로부터 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재의 중심 방향으로 소정 간격 이동시킨 후, 원주 방향을 따라 면 가열 시킬 수 있다. 이와 동시에, 흡입홀에 연결되는 진공 펌프를 통해, 내부 공간을 진공으로 형성시킬 수 있다. 이 때, 진공 펌프의 압력은 2kg/cm^2으로 형성될 수 있다.Next, in the central heating step (S80), the upper surface of the first quartz member and the lower surface of the second quartz member may be heated. At this time, the flame can be first moved from the rim heated to the center direction of the first quartz member and the second quartz member, and then heated by the circumferential direction. At the same time, through the vacuum pump connected to the suction hole, the interior space can be formed into a vacuum. At this time, the pressure of the vacuum pump may be formed at 2kg / cm ^ 2.
중심부 가열 단계(S80)는 상부면 가열 단계와 하부면 가열 단계를 포함할 수 있으며, 어느 하나를 가열하여 압착시킨 후 다른 하나를 가열하여 압착시킬 수 있다.The central heating step (S80) may include an upper surface heating step and a lower surface heating step, and may be compressed by heating one and then compressing the other.
이 때, 테두리 가열 단계와 중심부 가열 단계의 화염 온도는 1800도 이상으로 형성될 수 있다.At this time, the flame temperature of the edge heating step and the central heating step may be formed to 1800 degrees or more.
제 1 쿼츠 부재 또는 제 2 쿼츠 부재의 중심부를 원의 중심으로 반지름이 감소하는 동심원을 그릴 수 있다. 또는 나선형의 경로를 따라 가열시킬 수 있다.It is possible to draw a concentric circle whose radius decreases from the center of the first quartz member or the second quartz member to the center of the circle. Or it can be heated along a spiral path.
화염 연마 단계(S90)에서는 제 1 쿼츠 부재의 상부면 및 제 2 쿼츠 부재의 하부면을 전체적으로 연마시킬 수 있다.In the flame polishing step (S90), the upper surface of the first quartz member and the lower surface of the second quartz member may be entirely polished.
마지막으로 열처리 단계(S100)에서는 화염 연마 단계에서 표면 연마된 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재가 적층된 적층 쿼츠를 오븐에 투입시켜 열처리시킬 수 있다.Finally, in the heat treatment step (S100), the laminated quartz, in which the first quartz member and the second quartz member, which are surface polished in the flame polishing step, are stacked, may be heat-treated by being put in an oven.
열처리는 연마 단계에서 발생될 수 있는 표면 크랙을 방지하기 위한 것으로, 각 쿼츠 부재 내부에 남아있는 열 이력 또는 격자 구조에 생긴 손상을 제거할 수 있다. 열처리된 적층 쿼츠는 표면이 평탄화되는 것이 바람직하다. 이 때, 열처리 온도는 1050도로 유지될 수 있다. The heat treatment is to prevent surface cracks that may occur in the polishing step, and it is possible to remove thermal history or damage to the lattice structure remaining inside each quartz member. It is preferable that the heat-treated laminated quartz has a flat surface. At this time, the heat treatment temperature may be maintained at 1050 degrees.
이후, 완전 밀착이 이루어진 적층형 쿼츠에 어닐링 공정을 더 수행하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 쿼츠, 적층형 쿼츠 제조 시스템 및 적층형 쿼츠 제조 방법은 종래의 기술과 대비하여 다음과 같은 유리한 효과가 있다.Subsequently, an annealing process is further performed on the laminated quartz with full adhesion, so that the laminated quartz, the laminated quartz manufacturing system, and the laminated quartz manufacturing method according to an embodiment of the present invention have the following advantageous effects compared to the conventional technology. .
반도체 공정에서 불투명 쿼츠(OPQ)는 열 전달 및 열 복사를 차단하는 장점에도 불구하고, 고온 에칭 공정시 불투명 쿼츠로부터 파티클이 발생되고, 이 과정에서, 불투명 쿼츠의 기포에 포함된 이물질이 반도체 공정에 방해가 될 수 있는 문제가 있었다. 하지만, 본 발명의 일 실시예에서는 적층되는 복수의 쿼츠 사이를 진공으로 형성시키고, 특히 불투명 쿼츠로 형성되는 중간 쿼츠에 포함되는 기포를 제거시켜 상기와 같은 문제를 해결할 수 있다.In the semiconductor process, opaque quartz (OPQ) generates particles from the opaque quartz during a high temperature etching process, despite the advantages of blocking heat transfer and heat radiation, and in this process, foreign substances contained in the bubbles of the opaque quartz are transferred to the semiconductor process. There was a problem that could interfere. However, in one embodiment of the present invention, the above-described problem can be solved by forming a vacuum between the plurality of quartz layers to be stacked, and removing bubbles contained in the intermediate quartz formed of opaque quartz.
이상에서 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 본 발명의 사상은 본 명세서에 제시되는 실시 예에 제한되지 아니하며, 본 발명의 사상을 이해하는 당해 기술분야의 평균적인 기술자는 동일한 사상의 범위 내에서, 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 추가 등에 의해서 다른 실시 예를 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 권리범위에 속한다고 할 것이다.Although one embodiment of the present invention has been described above, the spirit of the present invention is not limited to the embodiments presented herein, and an average person skilled in the art to understand the spirit of the present invention is within the scope of the same spirit In, other embodiments may be easily proposed by adding, changing, deleting, adding components, etc., but it will also be said to be within the scope of the present invention.
1: 적층형 쿼츠 12: 제 1 쿼츠 부재
14: 중간 쿼츠 부재 16: 제 2 쿼츠 부재
20: 진공 펌프 22: 유체 흡입관1: Stacked quartz 12: No 1st quartz
14: No intermediate quartz 16: No second quartz
20: vacuum pump 22: fluid suction pipe
Claims (17)
판형의 제 1 몸체 및 상기 제 1 몸체의 테두리 외측으로 돌출 형성되는 제 1 돌출부가 형성되는 제 1 쿼츠 부재;
상기 제 1 쿼츠 부재와 마주보도록 배치되는 판형의 제 2 몸체 및 상기 제 2 몸체의 테두리 외측으로 돌출 형성되는 제 2 돌출부가 형성되는 제 2 쿼츠 부재; 및
상기 제 1 쿼츠 부재와 상기 제 2 쿼츠 부재 사이에 배치되는 판형의 중간 쿼츠 부재;를 포함하고,
상기 제 1 돌출부와 상기 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 쿼츠 부재와 상기 제 2 쿼츠 부재의 서로 마주보도록 대응되는 위치에 형성되고,
상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부를 관통하는 흡입홀을 구비하고,
상기 흡입홀은 상기 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재와 상기 중간 쿼츠 부재 사이의 내부 공간과 연통되어, 상기 내부 공간에 위치한 유체가 상기 흡입홀을 통해 배출될 수 있으며,
상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 중심부로부터 반경 외측 방향으로 단면적이 감소하도록 형성되는 적층형 쿼츠.A laminated quartz in which a plurality of quartz are stacked,
A first quartz member in which a plate-shaped first body and a first protrusion formed to protrude outside the rim of the first body are formed;
A second quartz member having a plate-shaped second body disposed to face the first quartz member and a second protrusion formed to protrude outside the rim of the second body; And
Including; a plate-shaped intermediate quartz member disposed between the first quartz member and the second quartz member;
The first protrusion and the second protrusion are respectively formed at corresponding positions of the first quartz member and the second quartz member to face each other,
The first protrusion and the second protrusion respectively have suction holes penetrating the first protrusion and the second protrusion,
The suction hole is in communication with the inner space between the first quartz member and the second quartz member and the intermediate quartz member, so that the fluid located in the inner space can be discharged through the suction hole,
The first protrusion and the second protrusion are stacked quartz formed so that the cross-sectional area decreases from the center of the first quartz member and the second quartz member in a radially outward direction, respectively.
상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재는 투명한 재질로 형성되는 적층형 쿼츠.According to claim 1,
The first quartz member and the second quartz member are laminated quartz formed of a transparent material.
상기 중간 쿼츠 부재는 불투명한 재질로 형성되는 적층형 쿼츠.According to claim 1,
The intermediate quartz member is a laminated quartz formed of an opaque material.
상기 중간 쿼츠 부재의 일면은 상기 제 1 쿼츠 부재의 타면과 접촉되고, 상기 중간 쿼츠 부재의 타면은 상기 제 2 쿼츠 부재의 일면과 접촉되는 적층형 쿼츠.According to claim 1,
A layered quartz in which one surface of the intermediate quartz member is in contact with the other surface of the first quartz member, and the other surface of the intermediate quartz member is in contact with one surface of the second quartz member.
상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 중심부로부터 반경 외측 방향으로 연장된 사다리꼴 형상 또는 삼각 형상으로 이루어지는 적층형 쿼츠.According to claim 1,
The first protrusion and the second protrusion are stacked quartz having a trapezoidal shape or a triangular shape extending radially outward from the centers of the first quartz member and the second quartz member, respectively.
상기 제 1 돌출부 및 제 2 돌출부는 각각 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재와 별도로 제작된 후 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재에 결합되는 부재이거나 또는 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재와 일체로 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 일측에 형성되는 적층형 쿼츠.The method of claim 5,
The first protrusion and the second protrusion are respectively manufactured separately from the first quartz member and the second quartz member, and are members coupled to the first quartz member and the second quartz member, or the first quartz member and the A laminated quartz formed integrally with a second quartz member and formed on one side of the first quartz member and the second quartz member.
상기 제 1 돌출부 및 상기 제 2 돌출부는 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 반경 외측 방향으로 갈수록 단면적이 작아지도록 형성되는 적층형 쿼츠.The method of claim 5,
The first protruding portion and the second protruding portion are laminated quartz formed so that the cross-sectional area becomes smaller toward the radially outward direction of the first quartz member and the second quartz member.
상기 내부 공간이 밀폐되도록, 상기 제 1 쿼츠 부재, 상기 제 2 쿼츠 부재 및 상기 중간 쿼츠 부재의 테두리가 압착되는 적층형 쿼츠.According to claim 1,
A laminated quartz in which the edges of the first quartz member, the second quartz member, and the intermediate quartz member are compressed so that the inner space is sealed.
흡입홀이 형성되는 돌출부를 구비한 제 1 쿼츠 부재 및 제 2 쿼츠 부재를 제공하는 단계;
상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재 사이에 중간 쿼츠 부재를 배치시키는 단계;
상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재 각각의 흡입홀이 서로 연통되도록, 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재를 정렬시키는 단계;
상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 돌출부의 테두리를 가열시켜 접합시키는 단계;
상기 흡입홀에 음압을 인가시켜, 상기 제 1 쿼츠 부재, 상기 중간 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 테두리를 압착시키는 테두리 압착 단계;
상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 상부면을 중심부 방향 및 원주 방향으로 이동하며 가열시키는 제 1 중심부 압착 단계; 및
상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 하부면을 중심부 방향 및 원주 방향으로 이동하며 가열시키는 제 2 중심부 압착 단계;
상기 테두리 압착 단계 및 상기 제 1 및 제 2 중심부 압착 단계는 상기 흡입홀을 통해, 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재 사이의 유체를 배출시키는 진공 형성 단계를 포함하는 적층형 쿼츠 제조 방법.A method for manufacturing a laminated quartz according to any one of claims 1 to 8,
Providing a first quartz member and a second quartz member having protrusions in which suction holes are formed;
Disposing an intermediate quartz member between the first quartz member and the second quartz member;
Aligning the first quartz member and the second quartz member so that the suction holes of each of the first quartz member and the second quartz member communicate with each other;
Heating and bonding the edges of the protrusions of the first quartz member and the second quartz member;
A rim crimping step of applying a negative pressure to the suction hole and crimping the rims of the first quartz member, the intermediate quartz member and the second quartz member;
A first central compression step of heating the first quartz member and the upper surfaces of the second quartz member while moving in a central direction and a circumferential direction; And
A second center pressing step of heating the lower surfaces of the first quartz member and the second quartz member in a central direction and a circumferential direction;
The edge pressing step and the first and second center pressing step include a vacuum forming step of discharging the fluid between the first quartz member and the second quartz member through the suction hole.
상기 테두리 압착 단계는 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 원주 방향을 따라 상기 돌출부의 일측으로부터 상기 돌출부의 타측까지 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 테두리를 가열시키는 적층형 쿼츠 제조 방법.The method of claim 9,
The crimping step of manufacturing a laminated quartz heating the edges of the first quartz member and the second quartz member from one side of the protrusion to the other side of the protrusion along the circumferential direction of the first quartz member and the second quartz member. Way.
상기 중심부 압착 단계에서는, 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 테두리로부터 각각의 중심부 방향으로 화염을 소정 간격 이동시킨 후, 원주 방향으로 가열시키는 적층형 쿼츠 제조 방법.The method of claim 9,
In the step of compressing the central portion, a method of manufacturing a laminated quartz is performed by moving a flame from a rim of the first quartz member and the second quartz member to a respective central direction at predetermined intervals and heating in a circumferential direction.
상기 중심부 압착 단계에서는, 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 테두리로부터 각각의 중심부 방향으로 나선형 경로를 따라 상기 제 1 쿼츠 부재의 상부면 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 하부면을 가열시키는 적층형 쿼츠 제조 방법.The method of claim 9,
In the central compression step, the stacked type of heating the upper surface of the first quartz member and the lower surface of the second quartz member along a spiral path from the rims of the first quartz member and the second quartz member to the respective central directions. How to make quartz.
상기 테두리 압착 단계 및 상기 중심부 압착 단계에서는, 1800도 이상의 산수소 화염을 이용하여 상기 제 1 쿼츠 부재 및 상기 제 2 쿼츠 부재를 가열시키는 적층형 쿼츠 제조 방법.The method of claim 9,
In the crimping step and the center crimping step, a method of manufacturing a laminated quartz in which the first quartz member and the second quartz member are heated using an oxyhydrogen flame of 1800 degrees or more.
상기 진공 형성 단계는, 상기 흡입홀에 2kg/cm^2의 흡입 압력을 인가하여 수행되는 적층형 쿼츠 제조 방법.The method of claim 9,
The vacuum forming step, a stacked quartz manufacturing method is performed by applying a suction pressure of 2kg / cm ^ 2 to the suction hole.
상기 제 2 중심부 압착 단계 이후에 상기 제 1 쿼츠 부재의 상부면 및 상기 제 2 쿼츠 부재의 하부면을 화염 연마시키는 화염 연마 단계를 더 포함하는 적층형 쿼츠 제조 방법.The method of claim 9,
And a flame polishing step of flame polishing the upper surface of the first quartz member and the lower surface of the second quartz member after the second central pressing step.
상기 화염 연마 단계 이후에 상기 화염 연마된 적층형 쿼츠를 열처리하는 열처리 단계를 더 포함하는 적층형 쿼츠 제조 방법.The method of claim 15,
A method of manufacturing a laminated quartz further comprising a heat treatment step of heat-treating the flame-polished laminated quartz after the flame polishing step.
상기 진공 형성 단계 이후에 적층된 쿼츠의 테두리부를 제거하여, 원형의 쿼츠 부재를 획득하는 단계를 더 포함하는 적층형 쿼츠 제조 방법.
The method of claim 9,
The method of manufacturing a laminated quartz further comprising the step of obtaining a circular quartz member by removing the edge of the laminated quartz after the vacuum forming step.
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