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KR102058263B1 - 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물, 경화물 및 그 경화물을 사용한 광학 렌즈, 광학 렌즈용 시트 또는 필름 - Google Patents

광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물, 경화물 및 그 경화물을 사용한 광학 렌즈, 광학 렌즈용 시트 또는 필름 Download PDF

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KR102058263B1
KR102058263B1 KR1020157023433A KR20157023433A KR102058263B1 KR 102058263 B1 KR102058263 B1 KR 102058263B1 KR 1020157023433 A KR1020157023433 A KR 1020157023433A KR 20157023433 A KR20157023433 A KR 20157023433A KR 102058263 B1 KR102058263 B1 KR 102058263B1
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meth
acrylate
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가즈노리 요시다
유 사카이
게이이치로우 이노우에
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산요가세이고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 목적은 흠집의 회복성, 플라스틱 기재와의 밀착성, 경화시의 투명성이 우수한 경화물을 부여하는 활성 에너지선 경화성 조성물을 제공하는 것으로서, 본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물은, 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 200 도를 초과하는 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (A), 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 -15 도 미만인 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 를 2 개 이상 갖는 모노머 (C), 및 광 중합 개시제 (E) 를 필수 성분으로서 함유하는 것을 특징으로 한다.

Description

광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물, 경화물 및 그 경화물을 사용한 광학 렌즈, 광학 렌즈용 시트 또는 필름{ACTIVE-ENERGY-RAY-CURABLE COMPOSITION FOR OPTICAL MEMBERS, CURED ARTICLE, AND OPTICAL LENS AND SHEET OR FILM FOR OPTICAL LENSES EACH PRODUCED USING SAID CURED ARTICLE}
본 발명은 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물, 및 그 경화물과 경화물로부터 얻어지는 광학 부품에 관한 것이다.
종래부터 액정 디스플레이에 사용되는 프리즘 시트나 확산 시트, 프로젝션 TV 에 사용되는 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈와 같은 광학 렌즈는, 열가소성 수지의 사출 성형 혹은 열 프레스 성형에 의해서 제조되는 것이 일반적이었다.
이들의 제조 방법에서는, 제조시의 가열 및 냉각에 장시간을 필요로 하기 때문에 생산성이 낮고, 또 광학 렌즈의 열수축으로 인하여 미세 구조의 재현성이 나쁘다는 문제점이 있었다.
이들 문제점을 해결하기 위해서, 금형 내면에 투명 수지 기재가 세트된 형 내에 활성 에너지선 경화성 조성물을 흘려 넣고, 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는 방법이 실시되고 있다.
최근, 디스플레이의 고휘도화에 수반하여, 광학 렌즈의 휘도를 향상시킨다는 시도가 이루어지고 있고, 이 목적을 위해서 예를 들어 방향 고리의 함유량을 높인 고굴절률의 렌즈를 성형하는 기술 (특허문헌 1) 이 검토되고 있다.
그러나, 특허문헌 1 의 방향 고리의 함유량을 높인 고굴절률 타입의 활성 에너지선 경화형 조성물의 경화물은 강직해지기 때문에, 경화 성형 후의 광학 렌즈의 미세한 형상이 변형되거나 파괴되어 흠집이 되고, 시간이 지나도 그 흠집이 원래 상태로 회복되지 않는다. 그 결과로서, 투과율이나 휘도 등의 광학 특성이 저하된다는 문제가 있었다.
또, 견고하고, 미세한 요철 형상을 갖는 광학 렌즈가 다른 부재와 접촉하면, 다른 부재에 흠집을 내 버린다는 문제가 있었다.
경화물이 견고하고, 미세한 요철 형상이기 때문에 구조가 파손되어 버린다, 또 다른 부재에 흠집을 내 버린다는 문제점을 해결하는 수법으로서, 광학 렌즈의 형상 자체를 연구하여, 광학 렌즈의 미세한 형상을 잘 파손시키지 않는 방법 (예를 들어 특허문헌 2) 이 제안되어 있다.
또, 흠집이 쉽게 회복되도록 하기 위해서 렌즈 형상의 변형량을 적게 하는 방법이 있는데, 예를 들어, 실리콘 오일 등의 슬립제를 첨가하여 렌즈 표면의 마찰 계수를 낮추는 방법 (예를 들어 특허문헌 3) 이 제안되어 있다.
일본 공개특허공보 2008-094987호 일본 공개특허공보 2006-309248호 일본 공개특허공보 평07-070219호
그러나, 특허문헌 2 의 방법에서는 미세한 요철 형상의 렌즈에 생긴 흠집이 쉽게 회복되는 것 (흠집의 회복성) 이 불충분하다는 문제가 있다.
또, 특허문헌 3 의 방법에서는, 흠집의 회복성은 향상되기는 했지만, 슬립제가 블리드 아웃되어 밀착성 및 광학 렌즈의 투명성을 저하시킨다는 문제가 있다.
그래서, 본 발명의 과제는 흠집의 회복성, 플라스틱 기재와의 밀착성, 경화시의 투명성이 우수한 경화물을 부여하는 활성 에너지선 경화성 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해서 검토한 결과, 본 발명에 도달하였다.
즉, 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 200 ℃ 를 초과하는 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (A), 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 -15 ℃ 미만인 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 를 2 개 이상 갖는 모노머 (C), 및 광 중합 개시제 (E) 를 필수 성분으로서 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물 ; 상기한 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물이 활성 에너지선에 의해서 경화되어 이루어지는 경화물 ; 그리고 상기한 경화물을 사용한 광학 렌즈, 광학 렌즈용 시트 또는 필름 ; 이다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물은 흠집의 회복성이 우수하다. 또한, 플라스틱 기재와의 밀착성, 경화시의 투명성이 우수한 경화물을 부여한다.
또한, 본 명세서에 있어서,「(메트)아크릴레이트」란「아크릴레이트 또는 메타크릴레이트」를,「(메트)아크릴로일기」란「아크릴로일기 또는 메타크릴로일기」를 의미한다.
또, n (2 이상의 정수 (整數)) 관능 이상이란 라디칼 중합 반응성 기 (x) 의 수가 n 개 이상인 것을 의미하고, 이하 동일한 기재법을 이용한다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물은 중합성 모노머로서, 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 200 ℃ 를 초과하는 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (A), 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 -15 ℃ 미만인 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 를 2 개 이상 갖는 모노머 (C) 를 병용함으로써, 또 슬립제 (D) 를 첨가하는 경우에 있어서도 플라스틱 기재와의 밀착성이나 경화시의 투명성이 우수한 경화물이 얻어진다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의 제 1 필수 성분인 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (A) 는, 투명성 확보의 관점에서 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 200 ℃ 를 초과하는 것이다. (A) 로서 바람직하게는 201 ℃ 이상의 유리 전이 온도를 갖거나 유리 전이 온도가 관측되지 않는 것이고, 더욱 바람직하게는 230 ℃ 이상의 유리 전이 온도를 갖거나 유리 전이 온도가 관측되지 않는 것이다.
여기서, 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도란, 그 모노머를 단독 중합시킨 경화물의 동적 점탄성을 하기 방법으로 측정했을 때의, 손실 탄젠트 (tanδ) 가 최대치를 나타내는 온도를 말한다.
<테스트 피스의 제조>
개시제로서, 예를 들어 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 [상품명「이르가큐어 184」, BASF 사 제조] 를, 모노머에 대해서 3 중량% 첨가한 후, 자외선 조사 장치에 의해서 자외선을 1000 mJ/㎠ 조사하고 경화시켜, 세로폭 40 ㎜, 가로폭 5 ㎜, 두께 1 ㎜ 의 테스트 피스를 제조한다.
<동적 점탄성 측정 방법>
이 테스트 피스를 사용하여, 동적 점탄성 측정 장치 (예를 들어, Rheogel-E4000, UBM 사 제조) 에 의해서, 주파수 : 10 ㎐, 승온 속도 : 4 ℃/분의 조건에서 측정한다.
라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (A) 는, 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 상기한 범위이면 특별히 그 화학 구조는 한정되지 않지만, 분자 내의 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 기의 수가 2 ∼ 6 개, 바람직하게는 4 ∼ 6 개이고, 분자 내의 옥시알킬렌기의 수가 0 ∼ 5 개인 모노머 (A1) 이 바람직하다.
라디칼 중합 반응성 기 (x1) 로는 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 비닐옥시기, 프로페닐옥시기 및 알릴옥시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기이며, 더욱 바람직하게는 아크릴레이트기이다.
상기 옥시알킬렌기로는 탄소수가 2 ∼ 4 인 것이 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 3 의 것이 더욱 바람직하다.
구체적으로는 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기 등을 들 수 있다.
이하에 기재된 옥시알킬렌기에 대해서도 동일하다.
라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 2 개 갖는 모노머 (A11) 로는, 구체적으로는 비스페녹시플루오렌디아크릴레이트를 들 수 있다.
라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 3 개 갖는 모노머 (A12) 로는, 구체적으로는 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리비닐에테르, 펜타에리트리톨트리비닐에테르 등을 들 수 있다. 이 중에서 바람직한 것은 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트이다.
라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 4 개 갖는 모노머 (A13) 로는, 구체적으로는 펜타에리트리톨, 펜타에리트리톨의 에틸렌옥사이드 (이하 EO 로 기재) 2 몰 부가물, 펜타에리트리톨의 EO 4 몰 부가물, 디트리메틸올프로판의 EO 4 몰 부가물, 및 디펜타에리트리톨의 EO 4 몰 부가물인 각 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라비닐에테르 등을 들 수 있다. 이 중 바람직한 것은 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 및 펜타에리트리톨의 EO 2 몰 부가물인 테트라(메트)아크릴레이트이다.
라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 5 개 갖는 모노머 (A14) 로는, 구체적으로는 디펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨의 EO 2 몰 부가물, 및 디펜타에리트리톨의 EO 4 몰 부가물인 각 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타비닐에테르 등을 들 수 있다. 이 중 바람직한 것은 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 및 디펜타에리트리톨의 EO 2 몰 부가물인 펜타(메트)아크릴레이트이다.
라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 6 개 갖는 모노머 (A15) 로는, 구체적으로는 디펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨의 EO 2 몰 부가물, 및 디펜타에리트리톨의 EO 4 몰 부가물인 각 헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사비닐에테르 등을 들 수 있다. 이 중 바람직한 것은 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 및 디펜타에리트리톨의 EO 2 몰 부가물인 헥사(메트)아크릴레이트이다.
이 (A1) 중에서도 더욱 바람직하게는, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 및 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트이다.
흠집 회복성 및 투명성의 관점에서, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의, 이 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (A) 의 함유량은, (A) 및 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 -15 ℃ 미만인 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 를 2 개 이상 갖는 모노머 (C) 의 합계 중량에 기초하여 바람직하게는 3 ∼ 50 중량%, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 50 중량% 이다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의 제 2 필수 성분인 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 를 2 개 이상 갖는 모노머 (C) 는, 흠집 회복성의 관점에서 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 -15 ℃ 미만이다. 바람직하게는 -50 ∼ -20 ℃ 이다.
이 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 를 2 개 이상 갖는 모노머 (C) 는, 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 상기한 범위이면 특별히 그 화학 구조는 한정되지 않지만, 분자 내의 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 의 수가 2 ∼ 6 개이고, 분자 내에 6 ∼ 40 개의 옥시알킬렌기를 갖는 모노머 (C1) 가 바람직하다.
라디칼 중합 반응성 기 (x2) 로는, 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 비닐옥시기, 프로페닐옥시기 및 알릴옥시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기이며, 더욱 바람직하게는 아크릴레이트기이다.
(x2) 가 비닐옥시기인 모노머의 예로는 폴리에틸렌글리콜디비닐에테르 등을 들 수 있다.
분자 내의 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 의 수가 2 ∼ 6 개이고, 분자 내에 6 ∼ 40 개의 옥시알킬렌기를 갖는 모노머 (C1) 로는 이하의 (x2) 를 2 개 갖는 모노머 (C11), (x2) 를 3 개 갖는 모노머 (C12), (x2) 를 4 개 갖는 모노머 (C13), (x2) 를 5 개 갖는 모노머 (C14) 및 (x2) 를 6 개 갖는 모노머 (C15) 를 들 수 있다.
(C11) 로는, 구체적으로는 이하의 (C111) 및 (C112) 를 들 수 있다.
폴리알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트 (C111)
폴리에틸렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트 및 폴리테트라메틸렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
2 가 페놀 화합물의 알킬렌옥사이드 (6 ∼ 40 몰) 부가물인 디(메트)아크릴레이트 (C112)
2 가 페놀 화합물 [단고리 페놀 (카테콜, 레조르시놀, 하이드로퀴논 등), 축합 다고리 페놀 (디하이드록시나프탈렌 등), 비스페놀 화합물 (비스페놀 A, -F 및 -S 등)] 의 알킬렌옥사이드 부가물인 디(메트)아크릴레이트, 예를 들어, 카테콜의 EO8 몰 부가물인 디(메트)아크릴레이트, 디하이드록시나프탈렌의 프로필렌옥사이드 (이하 PO 로 기재) 10 몰 부가물인 디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 의 EO 10 몰 부가물인 디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 의 EO 20 몰 부가물인 디(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
(C12) 로는, 구체적으로는 트리메틸올프로판의 EO 6 몰 부가물, 트리메틸올프로판의 EO 9 몰 부가물, 트리메틸올프로판의 EO 15 몰 부가물, 트리메틸올프로판의 EO 20 몰 부가물, 트리메틸올프로판의 PO 9 몰 부가물, 글리세린의 EO 6 몰 및 PO 3 몰 부가물, 펜타에리트리톨의 EO 6 몰 부가물인 각 트리(메트)아크릴레이트, 각 트리비닐에테르 등을 들 수 있다.
(C13) 으로는, 구체적으로는 펜타에리트리톨의 EO 10 몰 부가물, 펜타에리트리톨의 EO 20 몰 부가물, 펜타에리트리톨의 EO 35 몰 부가물, 디트리메틸올프로판의 EO 10 몰 부가물, 디펜타에리트리톨의 EO 10 몰 부가물인 각 테트라(메트)아크릴레이트, 각 테트라비닐에테르 등을 들 수 있다.
(C14) 로는, 구체적으로는 디펜타에리트리톨의 EO 10 몰 부가물, 디펜타에리트리톨의 EO 15 몰 부가물인 각 펜타(메트)아크릴레이트, 각 펜타비닐에테르 등을 들 수 있다.
(C15) 로는, 구체적으로는 디펜타에리트리톨의 EO 10 몰 부가물, 디펜타에리트리톨의 EO 15 몰 부가물인 각 헥사(메트)아크릴레이트, 각 헥사비닐에테르 등을 들 수 있다.
또, 모노머 (C) 가 하기 일반식 (1) 로 나타내는 다관능 (메트)아크릴레이트인 것도 바람직하다.
[화학식 1]
Figure 112015083605697-pct00001
[화학식 2]
Figure 112015083605697-pct00002
[화학식 3]
Figure 112015083605697-pct00003
[일반식 (1) 중, X 는 수산기, 메틸기, (메트)아크릴로일옥시기, 일반식 (2) 로 나타내는 기, 또는 일반식 (3) 으로 나타내는 기를 나타낸다. R1 ∼ R3 및 R 은 수소 원자 또는 메틸기로서, 동일하거나 상이하여도 된다. Y1 ∼ Y5 는 탄소수 2 ∼ 4 의 옥시알킬렌기로서, 동일하거나 상이하여도 된다. a, b, c, d 및 e 는 각각 독립적으로 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다. 단 a + b + c + d + e 는 6 ∼ 40 이다.]
또한, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 다관능 (메트)아크릴레이트에는, 모노머 (C1) 로서 예시한 모노머 중에서 일반식 (1) 을 만족하는 것이 포함된다.
또, 모노머 (C) 가 하기 일반식 (4) 로 나타내는 2 관능 (메트)아크릴레이트인 것도 바람직하다.
[화학식 4]
Figure 112015083605697-pct00004
(일반식 (4) 중, R4, R5 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기, m 및 n 은 각각 독립적으로 3 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.)
또한, 상기 일반식 (4) 로 나타내는 2 관능 (메트)아크릴레이트에는, 모노머 (C1) 로서 예시한 모노머 중에서 일반식 (4) 를 만족하는 것이 포함된다.
흠집 회복성 및 투명성의 관점에서, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의, 이 모노머 (C) 의 함유량은, 모노머 (A) 및 (C) 의 합계 중량에 기초하여 바람직하게는 50 ∼ 97 중량%, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 90 중량%, 특히 바람직하게는 30 ∼ 80 중량% 이다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의 제 3 필수 성분인 광 중합 개시제 (E) 로는, 포스핀옥사이드계 화합물 (E1), 벤조일포르메이트계 화합물 (E2), 티오크산톤계 화합물 (E3), 옥심에스테르계 화합물 (E4), 하이드록시벤조일계 화합물 (E5), 벤조페논계 화합물 (E6), 케탈계 화합물 (E7), 1,3α아미노알킬페논계 화합물 (E8) 등을 들 수 있다.
포스핀옥사이드계 화합물 (E1) 로는, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다.
벤조일포르메이트계 화합물 (E2) 로는 메틸벤조일포르메이트 등을 들 수 있다.
티오크산톤계 화합물 (E3) 으로는 이소프로필티오크산톤 등을 들 수 있다.
옥심에스테르계 화합물 (E4) 로는 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-,2-(O-벤조일옥심)], 에탄온,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(0-아세틸옥심) 등을 들 수 있다.
하이드록시벤조일계 화합물 (E5) 로는 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조인알킬에테르, 2-하이드록시-1-{4-[4-(2-하이드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]-페닐}-2-메틸-프로판-1-온 등을 들 수 있다.
벤조페논계 화합물 (E6) 로는 벤조페논 등을 들 수 있다.
케탈계 화합물 (E7) 로는 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.
1,3α아미노알킬페논계 화합물 (E8) 로는 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논 등을 들 수 있다.
최근, 투명성의 관점에서 투명 플라스틱 기재로서 트리아세틸셀룰로오스를 사용하는 경우가 많아지고 있다.
트리아세틸셀룰로오스 기재는 가요성, 내황변성의 관점에서 일반적으로 가소제 및 자외선 흡수제에 사용되고 있다. 이 자외선 흡수제를 함유하기 때문에, 상기 서술한 성형 프로세스에 있어서 400 ㎚ 이하의 자외선으로 활성 에너지선 경화 수지를 경화시키는 것은 곤란하다.
그래서 최근, 400 ㎚ 이상의 가시 광선 영역에 휘선을 갖는 램프, 예를 들어 퓨전 UV 시스템즈 (주) 제조의 V 밸브를 사용하여 성형하는 프로세스가 택해지고 있다.
광 중합 개시제 (E) 중에서, 400 ㎚ 이상에서 흡수 파장을 갖는 것이 바람직하고, 400 ∼ 450 ㎚ 에서 흡수 파장을 갖는 것이 더욱 바람직하다.
이들 광 중합 개시제 (E) 중에서, 400 ㎚ 이상의 가시 광선 영역에서의 경화성 및 경화물의 착색 방지 관점에서 바람직한 것은, 포스핀옥사이드계 화합물 (E1) 이고, 더욱 바람직하게는 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드이다.
본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의 광 중합 개시제 (E) 의 함유량은, (A) 및 (C) 의 합계 중량에 기초하여 바람직하게는 0.5 ∼ 10 중량% 이고, 더욱 바람직하게는 0.8 ∼ 9 중량%, 특히 바람직하게는 1 ∼ 8 중량% 이다.
0.5 중량% 이상이면 광 경화 반응성이 양호하고, 10 중량% 이하이면 활성 에너지선 조사에 의해서 경화시킨 경화물의 유리 전이 온도가 저하되지 않아 바람직하다.
본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물은, 추가로 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 -15 ℃ 이상 100 ℃ 이하인 라디칼 중합 반응성 기 (x3) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (B) 를 함유하고 있어도 된다.
라디칼 중합 반응성 기 (x3) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (B) 는, 흠집 회복성 및 투명성의 관점에서 그 호모 폴리머의 유리 전이점 온도가 -15 ∼ 100 ℃ 이다. 바람직하게는 -12 ∼ 70 ℃, 더욱 바람직하게는 -10 ∼ 30 ℃ 이다.
라디칼 중합 반응성 기 (x3) 으로는 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 비닐옥시기, 프로페닐옥시기 및 알릴옥시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기이며, 더욱 바람직하게는 아크릴레이트기이다.
이 라디칼 중합 반응성 기 (x3) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (B) 는, 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 상기한 범위이면 특별히 그 화학 구조는 한정되지 않지만, 분자 내의 라디칼 중합 반응성 기 (x3) 의 수가 2 ∼ 6 개이고, 일반식 (5) 로 나타내는 유기기 (b) 를 분자 내에 1 ∼ 15 개 갖는 모노머 (B1) 이 바람직하다.
[화학식 5]
Figure 112015083605697-pct00005
[일반식 (5) 중의 p 는 4 또는 5 를 나타낸다.]
분자 내의 모노머 (B1) 로는, 이하의 (x3) 을 4 개 갖는 모노머 (B11), (x3) 을 5 개 갖는 모노머 (B12) 및 (x3) 을 6 개 갖는 모노머 (B13) 을 들 수 있다.
모노머 (B1) 은, 일반식 (5) 로 나타내는 유기기 (b) 중에서, p 가 5 인 경우에는 2 ∼ 6 가의 다가 알코올에 ε-카프로락톤을, p 가 4 인 경우에는 2 ∼ 6 가의 다가 알코올에 δ-발레로락톤을 부가 반응시키고, 추가로 아크릴산 또는 메타크릴산에 의해서 (메트)아크릴로일화 (에스테르화), 또는 알칼리 금속 알코올레이트 촉매의 존재 하에서 아세틸렌에 부가시킴으로써 생성한다.
모노머 (B11) 로는, 4 가의 알코올에 ε-카프로락톤 또는 δ-발레로락톤이 1 ∼ 15 몰 개환 부가되고, 추가로 (메트)아크릴산에 의해서 에스테르화, 또는 알칼리 금속 알코올레이트 촉매의 존재 하에서 아세틸렌에 부가된 화합물을 들 수 있으며, 구체적으로는 펜타에리트리톨의 δ-발레로락톤 4 몰 부가물인 테트라(메트)아크릴레이트, 테트라비닐에테르를 들 수 있다.
모노머 (B12) 로는, 5 가의 알코올에 ε-카프로락톤 또는 δ-발레로락톤이 1 ∼ 15 몰 개환 부가되고, 추가로 (메트)아크릴산에 의해서 에스테르화, 또는 알칼리 금속 알코올레이트 촉매의 존재 하에서 아세틸렌에 부가된 화합물을 들 수 있으며, 구체적으로는 디펜타에리트리톨의 ε-카프로락톤 6 몰 부가물인 펜타(메트)아크릴레이트, 펜타비닐에테르를 들 수 있다.
모노머 (B13) 으로는, 6 가의 알코올에 ε-카프로락톤 또는 δ-발레로락톤이 1 ∼ 15 몰 개환 부가되고, 추가로 (메트)아크릴산에 의해서 에스테르화, 또는 알칼리 금속 알코올레이트 촉매의 존재 하에서 아세틸렌에 부가된 화합물을 들 수 있으며, 구체적으로는 디펜타에리트리톨의 ε-카프로락톤 6 몰 부가물인 헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨의 ε-카프로락톤 12 몰 부가물인 헥사(메트)아크릴레이트, 헥사비닐에테르를 들 수 있다.
본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물이 (B) 를 함유하는 경우에는, 그 조성물에 있어서의, 이 모노머 (B) 의 함유량은 흠집 회복성 및 밀착성의 관점에서, 모노머 (A), (B), 및 (C) 의 합계 중량에 기초하여 바람직하게는 5 ∼ 40 중량%, 더욱 바람직하게는 8 ∼ 30 중량%, 특히 바람직하게는 10 ∼ 25 중량% 이다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물은 활성 에너지선 조사에 의해서 경화시키고, 그 경화물의 유리 전이 온도는 -50 ∼ 80 ℃ 가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 -40 ∼ 75 ℃ 이고, 보다 바람직하게는 -40 ∼ 70 ℃, 특히 바람직하게는 -40 ∼ 60 ℃ 이다. -50 ℃ 이상이면 투명성이 보다 양호하고, 80 ℃ 이하이면 흠집 회복성이 보다 향상된다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물은 추가로, 슬립제 (D) 를 함유하는 것이 바람직하다. 슬립제로는 실리콘계 슬립제 (D1) 과 불소계 슬립제 (D2) 를 들 수 있다. 또 (D) 는 라디칼 중합 반응성 기를 함유하고 있어도 된다.
슬립제 (D) 로는 본 발명에서 사용하는 모노머 (A) 및 모노머 (C) 와 상용 (相容) 하는 것이 바람직하다. 이 상용성의 지표로서 용해도 파라미터 (SP) 로 나타낼 수 있고, 슬립제 (D) 의 용해도 파라미터는 바람직하게는 8.0 ∼ 9.0 이며, 더욱 바람직하게는 8.1 ∼ 8.8 이다.
또한, 여기서 용해도 파라미터 (SP) 의 값은 다음의 식으로 구해지는 것이다.
SP = (ΔH/V)1/2
단, 식 중, ΔH 는 몰 증발열 (cal/몰), V 는 몰 체적 (㎤/몰) 을 나타낸다. 또, ΔH 및 V 는「POLYMER ENGINEERING ANDSCIENCE, February, 1974, Vol.14, No.2, Robert F. Fedors. (147 ∼ 154 페이지)」에 기재된 원자단의 몰 증발열 (△ei) 의 합계 (ΔH) 와, 몰 체적 (△vi) 의 합계 (V) 를 사용할 수 있다.
슬립제 (D) 는 분자 내에 2 ∼ 100 개의 옥시알킬렌기를 갖는 것이 바람직하다.
옥시알킬렌기를 2 개 이상 함유하는 슬립제 (D) 은 활성 에너지선 경화성 조성물을 구성하는 다른 원료와의 상용성이 양호하고, 옥시알킬렌기가 100 개 이하인 슬립제 (D) 는 경화물의 동마찰 계수가 작아져 바람직하다.
실리콘계 슬립제 (D1) 로는, 예를 들어 폴리에테르 변성 폴리디알킬실록산을 들 수 있고, 말단이 알킬렌옥사이드로 변성된 폴리디알킬실록산 (D11), 측사슬이 알킬렌옥사이드로 변성된 폴리디알킬실록산 (D12), 및 이들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 또한, (D11) 및 (D12) 는 추가로 라디칼 중합 반응성 기가 함유된 것이어도 된다.
(D11) 로는, 말단이 EO 로 변성된 폴리디메틸실록산, 말단이 EO 및 PO 로 변성된 폴리디메틸실록산, 말단이 EO 로 변성된 폴리디에틸실록산, 및 이들의 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
(D12) 로는, 측사슬이 PO 로 변성된 폴리디메틸실록산, 측사슬이 EO 및 부틸렌옥사이드로 변성된 폴리디메틸실록산, 측사슬이 EO 및 PO 로 변성된 폴리디메틸실록산, 및 이들의 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
이들 폴리에테르 변성 폴리디알킬실록산 중에서 흠집 회복성의 관점에서 바람직한 것은 (D12) 이고, 더욱 바람직하게는 측사슬이 EO 및 PO 로 변성된 폴리디메틸실록산이다.
불소계 슬립제 (D2) 로는, 예를 들어, 퍼플루오로알킬에틸렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있고, 말단이 알킬렌옥사이드로 변성된 퍼플루오로 화합물 (D21), 측사슬이 알킬렌옥사이드로 변성된 퍼플루오로 화합물 (D22), 및 이들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 또한, (D21) 및 (D22) 는 추가로 라디칼 중합 반응성 기가 함유된 것이어도 되고, 예를 들어, 플루오로기 함유 아크릴로일 변성 올리고머 등이어도 된다.
슬립제 (D) 의 수 평균 분자량 (Mn) 의 바람직한 범위는 300 ∼ 50,000 이다.
슬립제 (D) 의 Mn 이 300 이상이면 플라스틱 기재와의 밀착성이 양호하다. 또, 50,000 이하에서는 수지와의 상용성이 양호하여 바람직하다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의 슬립제 (D) 의 함유량은, (A) 및 (C) 의 합계 중량에 기초하여 바람직하게는 0.5 ∼ 10 중량%, 더욱 바람직하게는 0.8 ∼ 5 중량% 이다. 함유량이 0.5 중량% 이상이면 경화물의 흠집 회복성이 보다 양호하여, 경화물 본래의 성능을 발휘할 수 있다. 또 10 중량% 이하이면 플라스틱 필름에 대한 밀착성이 보다 양호하다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물은 모노(메트)아크릴레이트 (F) 를 함유해도 된다.
모노(메트)아크릴레이트 (F) 로는 이하의 (F1) ∼ (F4) 를 들 수 있다.
1 가 알코올 (지방족, 지환식 및 방향 지방족) 의 (메트)아크릴레이트 (F1)
라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐에틸(메트)아크릴레이트, o-, m-, 또는 p-페닐페놀의 모노(메트)아크릴레이트, 3,3'-디페닐-4,4'-디하이드록시비페닐의 모노(메트)아크릴레이트, 2.5 몰의 스티렌이 페놀에 부가된 스티렌화 페놀의 모노(메트)아크릴레이트 등
1 가 알코올의 알킬렌옥사이드 부가물인 (메트)아크릴레이트 (F2)
상기 (F1) 에 있어서의 1 가 알코올의 알킬렌옥사이드 부가물인 (메트)아크릴레이트, 예를 들어 라우릴알코올의 EO 2 몰 부가물인 (메트)아크릴레이트, 라우릴알코올의 PO 3 몰 부가물인 (메트)아크릴레이트 등
알킬페놀의 알킬렌옥사이드 부가물인 (메트)아크릴레이트 (F3)
페놀의 EO 1 몰 부가물인 (메트)아크릴레이트, 페놀의 EO 2 몰 부가물인 (메트)아크릴레이트, 트리브로모페놀의 EO 1 몰 부가물인 (메트)아크릴레이트, 노닐페놀의 EO 1 몰 부가물인 (메트)아크릴레이트, o-, m-, 또는 p-페닐페놀의 알킬렌옥사이드 부가물인 모노(메트)아크릴레이트, 3,3'-디페닐-4,4'-디하이드록시비페닐의 알킬렌옥사이드 부가물인 모노(메트)아크릴레이트, 2.5 몰의 스티렌이 페놀에 부가된 스티렌화 페놀의 알킬렌옥사이드 부가물인 모노(메트)아크릴레이트, 3 몰의 스티렌이 페놀에 부가된 스티렌화 페놀의 알킬렌옥사이드 부가물인 모노(메트)아크릴레이트 등
아크릴아미드 및 아크릴로일모르폴린 (F4)
디메틸아크릴아미드, 디에틸아크릴아미드, 하이드록시에틸아크릴아미드 및 아크릴로일모르폴린 등
또, 본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물은 대전 방지제 (G) 를 함유해도 된다.
대전 방지제 (G) 로는 이하의 (G1) ∼ (G3) 을 들 수 있다.
고리형 구조를 갖지 않는 3 급 아민염 화합물 (G1)
트리에틸아민과 도데실벤젠술폰산의 염, 디메틸스테아릴아민과 파라톨루엔술폰산의 염, 디메틸아미노에틸아크릴레이트와 도데실벤젠술폰산의 염 등
고리형 아미딘염 화합물 (G2)
도데실벤젠술폰산과 1,8-디아자비시클로(5,4,0)-운데센-7 의 염, 도데실벤젠술폰산과 1-메틸-3-에틸이미다졸의 염, 벤조산과 1,5-디아자비시클로(4,3,0)-노넨 5 의 염 등
유기 리튬염 화합물 (G3)
파라톨루엔술폰산의 리튬염, 트리플루오로메탄술폰산의 리튬염, 트리플루오로메탄술포닐이미드의 리튬염, 고분자형 리튬염 등
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 필요에 따라서 여러 가지 첨가제를 함유시켜도 된다.
첨가제에는 가소제, 유기 용제, 분산제, 소포제, 틱소트로피성 부여제 (증점제), 산화 방지제, 힌더드아민계 광 안정제 및 자외선 흡수제를 들 수 있다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 추가로 도포시의 점도 조정을 위해서 여러 가지 용제를 함유시켜도 된다.
용제에는 메틸에틸케톤, 아세트산에틸, 메틸이소부틸케톤, 이소프로판올, 톨루엔, 메탄올 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물을 사용한 성형체의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어 다음의 방법으로 도포, 성형할 수 있다. 즉, 본 발명의 조성물을 미리 20 ∼ 50 ℃ 로 온도 조정하고, 성형체 형상 (예를 들어 광학 렌즈 형상) 이 얻어지는 금형 (형온은 통상적으로 20 ∼ 50 ℃, 바람직하게는 25 ∼ 40 ℃) 에 디스펜서 등을 사용하여, 경화 후의 두께가 50 ∼ 150 ㎛ 가 되도록 도포 (또는 충전) 하고, 도포막 상으로부터 투명 기재 (투명 필름을 포함한다) 를 공기가 들어가지 않도록 가압 적층하고, 또한 그 투명 기재 상으로부터, 후술하는 활성 에너지선을 조사하여 그 도포막을 경화시킨 후, 형으로부터 이형하여 성형체 (렌즈 시트) 를 얻는다.
상기 투명 기재 (투명 필름을 포함한다) 로는, 메틸메타크릴레이트 (공)중합물, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리트리아세틸셀룰로오스, 폴리시클로올레핀 등의 수지로 이루어지는 것을 들 수 있다.
본 발명에 있어서의 활성 에너지선에는 자외선, 전자선, X 선, 적외선 및 가시 광선이 포함된다. 이들 활성 에너지선 중에서 경화성과 수지 열화의 관점에서 바람직한 것은 자외선과 전자선이다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물을 자외선에 의해서 경화시키는 경우에는, 여러 가지의 자외선 조사 장치 예를 들어, 자외선 조사 장치 [형번「VPS/l600」, 퓨전 UV 시스템즈 (주) 제조] 를 사용할 수 있다. 사용하는 램프로는, 예를 들어 고압 수은등, 메탈할라이드 램프 등을 들 수 있다. 자외선의 조사량 (mJ/㎠) 은 조성물의 경화성 및 경화물의 가요성 관점에서 바람직하게는 10 ∼ 10,000, 더욱 바람직하게는 100 ∼ 5,000 이다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물을 경화시킨 경화물의 동마찰 계수는, 흠집 회복성의 관점에서 바람직하게는 0.05 ∼ 0.5 이고, 더욱 바람직하게는 0.07 ∼ 0.4, 특히 바람직하게는 0.08 ∼ 0.3 이다.
동마찰 계수의 측정은 후술하는 방법에 의한다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물을 경화시킨 경화물의 손실 탄성률 E”는, 흠집 회복성의 관점에서 바람직하게는 5 × 107 ㎩ 이하이고, 더욱 바람직하게는 1 × 107 ㎩ 이하이다.
손실 탄성률 E”의 측정은 후술하는 방법에 의한다.
본 발명의 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물을 경화시킨 경화물은, 광학 렌즈, 광학 렌즈용 시트 또는 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예에 의해서 본 발명을 추가로 설명하지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 이하, 특별히 정하지 않는 한, % 는 중량%, 부는 중량부를 나타낸다.
실시예 1 ∼ 19 및 비교예 1 ∼ 3
표 1 에 기재된 각 성분과 배합량에 따라서 일괄적으로 배합하고, 디스퍼저로 균일해질 때까지 혼합 교반하여, 실시예 1 ∼ 19 및 비교예 1 ∼ 3 의 활성 에너지선 경화성 조성물을 얻었다.
Figure 112015083605697-pct00006
모노머 (A-1) ∼ (A-3), (A-5) 의 각 호모 폴리머의 Tg 는 관측되지 않고, 각 호모 폴리머는 200 ℃ 이상의 분해 온도를 갖는다. 분해 온도를 Tg 로 간주할 수 있기 때문에 모노머 (A-1) ∼ (A-3), (A-5) 의 각 호모 폴리머의 Tg 는 200 ℃ 이상으로 간주하였다.
또한, 표 1 중에 기재된 화합물의 기호는 이하의 화합물을 나타낸다.
(A-1) : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 [상품명「카야라드 DPHA」, 닛폰 화약 (주) 제조]
(A-2) : 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 [상품명「네오마 EA-300」, 산요 화성 공업 (주) 제조]
(A-3) : 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 [상품명「SR-350」, 아르케마 (주) 제조]
(A-4) : 비스페녹시플루오렌디아크릴레이트 [상품명「A-BPEF」, 신나카무라화학 공업 (주) 제조]
(A-5) : 트리메틸올프로판트리비닐에테르[닛폰 카바이드 공업 (주) 제조]
(B-1) : 디펜타에리트리톨의 ε-카프로락톤 12 몰 부가물인 헥사아크릴레이트 [상품명「카야라드 DPCA-120」, 닛폰 화약 (주) 제조]
(C-1) : 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트 [상품명「라이트 아크릴레이트 9EG-A」, 쿄에이샤 화학 (주) 제조]
(C-2) : 트리메틸올프로판의 EO 15 몰 부가물인 트리아크릴레이트 [상품명「SR-9035」, 아르케마 (주) 제조]
(C-3) : 비스페놀 A 의 EO 20 몰 부가물인 디아크릴레이트 [상품명「뉴프론티아 BPE-20」, 다이이치 공업 제약 (주) 제조]
(C-4) : 펜타에리트리톨의 EO 35 몰 부가물인 테트라아크릴레이트 [상품명「ATM-35E」, 신나카무라화학 공업 (주) 제조]
(C-5) : 트리메틸올프로판의 EO 9 몰 부가물인 트리아크릴레이트 [상품명「SR-502」, 아르케마 (주) 제조]
(C-6) : 비스페놀 A 의 EO 10 몰 부가물인 디아크릴레이트 [상품명「SR-480」, 아르케마 (주) 제조]
(C-7) : 폴리에틸렌글리콜디비닐에테르 [상품명「TDVE」, 마루젠 석유 화학 (주) 제조]
(C'-1) : 디시클로펜타디엔디아크릴레이트 [상품명「라이트 아크릴레이트 DCP-A」, 쿄에이샤 화학 (주) 제조]
또한, 각각의 호모 폴리머의 유리 전이 온도 (Tg) 를 표 1 에 기재하였다.
(D1-1) : 폴리에테르 변성 폴리디메틸실록산 [상품명「BYK-333」, 빅크케미·재팬 (주) 제조, SP 치 8.7]
(D1-2) : 폴리에테르 변성 폴리디메틸실록산 [상품명「BYK-349」, 빅크케미·재팬 (주) 제조, SP 치 8.4]
(D1-3) : 폴리에테르 변성 폴리디메틸실록산의 아크릴레이트 [상품명「BYK-UV3500」, 빅크케미·재팬 (주) 제조, SP 치 8.5]
(D2-1) : 퍼플루오로알킬에틸렌옥사이드 부가물 [상품명「F-444」, DⅠC (주) 제조]
(D2-2) : 플루오로기 함유 아크릴로일 변성 올리고머 [상품명「RS-75」, DⅠC (주) 제조]
(E-1) : 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 [상품명「루시린 TPO」, BASF 사 제조]
(E-2) : 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드 [상품명「이르가큐어 819」, BASF 사 제조]
(E-3) : 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 [상품명「이르가큐어 184」, BASF 사 제조]
(E-4) : 2-하이드록시-1-4-[4-(2-하이드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]-페닐}-2-메틸-프로판-1-온 [상품명「이르가큐어 127」, BASF 사 제조]
(G-1) : 트리플루오로메탄술포닐이미드의 리튬염 [상품명「산코놀 A600-50R」, 산코 화학 (주) 제조]
(G-2) : 고분자형 리튬염 [상품명「PC-686」, 마루비시 유화 공업 (주) 제조]
(G-3) : 고분자형 리튬염 [상품명「PC-3662」, 마루비시 유화 공업 (주) 제조]
<호모 폴리머의 유리 전이 온도 (Tg)>
<테스트 피스의 제조>
개시제로서, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 [상품명「이르가큐어 184」, BASF 사 제조] 을 모노머에 대해서 3 중량% 첨가한 후, 자외선 조사 장치에 의해서 자외선을 1000 mJ/㎠ 조사하고 경화시켜, 세로폭 40 ㎜, 가로폭 5 ㎜, 두께 1 ㎜ 의 테스트 피스를 제조한다.
<동적 점탄성 측정 방법>
이 테스트 피스를 사용하여, 동적 점탄성 측정 장치, Rheogel-E4000, UBM 사 제조에 의해서, 주파수 : 10 ㎐, 승온 속도 : 4 ℃/분의 조건에서 측정한다.
본 측정 방법에 의한 Tg 의 측정 상한치는 400 ℃ 이다.
본 발명 및 비교를 위한 활성 에너지선 경화성 조성물의 동마찰 계수, 흠집의 회복성, 밀착성, 경화물의 전광선 투과를 하기 방법으로 측정하였다.
그 결과를 표 1 에 나타낸다.
<테스트 피스의 제조>
활성 에너지선 경화성 조성물을, 유리판의 편면에 두께가 100 ㎛ 가 되도록 어플리케이터로 도포한 후, 두께 100 ㎛ 의 폴리에스테르 필름을 수지측에 첩부 (貼付) 하고, 롤러를 위로부터 굴려서 공기를 압출하였다. 폴리에스테르 필름측으로부터 자외선 조사 장치에 의해서 자외선을 1000 mJ/㎠ 조사하여 경화시켰다. PET 필름에 밀착된 경화물을 유리판으로부터 박리하여 테스트 피스를 제조하였다.
<동마찰 계수>
ASTM D 1894 의 방법에 따라서, 표면성 측정기 [상품명「트라이보기어 TYPE : 14FW」신토 과학 (주) 제조] 를 사용하여 측정하였다. 측정은 하기 순서로 실시하였다.
(1) 경화막면이 위가 되도록, 상기한 테스트 피스용의 경화막을 셀로판 테이프로 표면성 측정기의 대좌에 고정시켰다.
(2) 부속된 스테인리스판을 표면성 측정기의 봉의 하부에 장착하여, 그것을 경화막의 표면에 놓고, 봉의 상부에는 200 g 의 분동을 실었다.
(3) 200 ㎜/분의 속도로 테스트 피스를 첩부한 대좌를 이동시키고, 스테인리스판에 대한 경화막 표면의 동마찰 계수를 측정하였다.
손실 탄성률 E”의 측정
동적 점탄성 측정 장치, Rheogel-E4000, UBM 사 제조에 의해서, 주파수 : 10 ㎐, 승온 속도 : 4 ℃/분의 조건에서 실시하고, 25 ℃ 에서의 손실 탄성률 E”를 측정하였다.
<흠집 회복성의 평가>
(1) 홈의 깊이가 50 ㎛ 이고 피치폭을 20 ㎛ 로 평행선을 새겨넣어 미세하게 요철 처리한 스테인리스제의 금형을 준비한다.
(2) 활성 에너지선 경화성 조성물을, 이 금형의 편면에 두께가 100 ㎛ 가 되도록 어플리케이터로 도포한 후, 두께 100 ㎛ 의 폴리에스테르 필름 [상품명「코스모샤인 A4300」토요 방적 (주) 제조] 을 수지측에 첩합하고, 롤러를 위로부터 굴려서 공기를 압출하였다. 폴리에스테르 필름측으로부터 자외선 조사 장치 [형번「VPS/l600」, 퓨전 UV 시스템즈 (주) 제조] 에 의해서, 자외선을 1000 mJ/㎠ 조사하고 경화시켜, 경화막을 제조하였다.
(3) 경화막의 표면을, 크롬 캡을 장착한 연필로 JIS K 5600-5-4 에 준거하여 스크래치 시험을 실시하였다.
(4) 10 분간 방치 후에 육안으로 관찰하고, 스크래치 흠집이 완전히 소실된 것을 ○, 스크래치 흠집의 일부가 남아 있는 것을 △, 스크래치 흠집이 모두 남아 있는 것을 × 로 판정하였다.
<밀착성의 평가>
상기 테스트 피스를 23 ℃, 상대 습도 50 % 의 환경 하에서 24 시간 가만히 정지시킨 후, JIS K 5600-5-6 에 준거하여, 1 ㎜ 폭으로 커터 나이프로 칼집을 넣어 바둑판 눈 (10 × 10 개) 을 만들고, 그 바둑판 눈 위에 셀로판 점착 테이프를 첩부하여 90 도 박리를 실시하여, PET 필름으로부터의 경화물의 박리 상태를 육안으로 관찰하고, 평가하였다.
하기의 기준으로 판정하였다.
○ : 100 개의 바둑판 눈 중에서 90 개 이상이 박리되지 않고 기재에 남아 있음
△ : 100 개의 바둑판 눈 중에서 10 ∼ 89 개가 박리되지 않고 기재에 남아 있음
× : 100 개의 바둑판 눈 중에서 9 개 이하가 박리되지 않고 기재에 남아 있음
<경화물의 투명성 평가>
상기 테스트 피스를, JⅠS-K 7105 에 준거하여, 전광선 투과율 측정 장치 [상품명「haze-garddual」, BYK gardner (주) 제조] 를 사용하여 전광선 투과율 (%) 을 측정하였다.
표 1 의 결과로부터, 본 발명의 광학 부품 활성 에너지선 경화성 조성물을 경화시킨 경화 필름은, 흠집의 회복성, 밀착성, 경화물의 투명성 모두가 우수한 것을 알 수 있다.
한편, 2 관능 이상의 (메트)아크릴레이트 (C) 를 함유하지 않은 비교예 1 및 비교예 3 은 흠집의 회복성이 나쁘다.
또, 유리 전이 온도가 200 ℃ 를 초과하는 2 관능 이상의 (메트)아크릴레이트 (A) 를 함유하지 않은 비교예 2 는 투명성이 나쁘다.
산업상 이용가능성
본 발명의 광학 부품 활성 에너지선 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 본 발명의 경화물은 흠집의 회복성, 기재 밀착성, 투명성이 우수하기 때문에 광학 부재, 전기·전자 부재로서도 유용하다. 또, 본 발명의 경화물을 사용한 광학 부품은, 광학 렌즈 (프리즘 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 마이크로 렌즈, 프레넬 렌즈, 시야각 향상 렌즈 등), 광학 렌즈용 시트 또는 필름 (광학 보상 필름, 위상차 필름), 프리즘, 광섬유, 플렉시블 프린트 배선용 솔더 레지스트, 도금 레지스트, 다층 프린트 배선판용 층간 절연막, 감광성 광도파로로서 유용하다.

Claims (19)

  1. (I) 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 200 ℃ 를 초과하는 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (A), 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 -15 ℃ 미만인 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 를 2 개 이상 갖는 모노머 (C), 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 -15 ℃ 이상 100 ℃ 이하인 라디칼 중합 반응성 기 (x3) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (B) 및 광 중합 개시제 (E) 를 필수 성분으로서 함유하고,
    모노머 (A), 모노머 (B) 및 모노머 (C) 의 합계 중량에 기초하여, (B) 를 5 ∼ 40 중량% 함유하고,
    모노머 (A) 및 모노머 (C) 의 합계 중량에 기초하여, (A) 를 3 ~ 50 중량% 함유하는, 또는,
    (II) 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 200 ℃ 를 초과하는 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 2 개 이상 갖는 모노머 (A), 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 -15 ℃ 미만인 라디칼 중합 반응성 기 (x2) 를 2 개 이상 갖는 모노머 (C), 및 광 중합 개시제 (E) 를 필수 성분으로서 함유하고,
    상기 모노머 (C) 가 하기 일반식 (1) 로 나타내는 다관능 (메트)아크릴레이트 및 하기 일반식 (4) 로 나타내는 2 관능 (메트)아크릴레이트를 함유하고,
    모노머 (A) 및 모노머 (C) 의 합계 중량에 기초하여, (A) 를 3 ~ 50 중량% 함유하는
    것을 특징으로 하는 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물.
    [화학식 1]
    Figure 112019068662620-pct00012

    [화학식 2]
    Figure 112019068662620-pct00013

    [화학식 3]
    Figure 112019068662620-pct00014

    [일반식 (1) 중, X 는 수산기, 메틸기, (메트)아크릴로일옥시기, 일반식 (2) 로 나타내는 기, 또는 일반식 (3) 으로 나타내는 기를 나타낸다. R1 ∼ R3 및 R 은 수소 원자 또는 메틸기로서, 동일하거나 상이하여도 된다. Y1 ∼ Y5 는 탄소수 2 ∼ 4 의 옥시알킬렌기로서, 동일하거나 상이하여도 된다. a, b, c, d 및 e 는 각각 독립적으로 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다. 단 a + b + c + d + e 는 6 ∼ 40 이다.]
    [화학식 4]
    Figure 112019068662620-pct00015

    (일반식 (4) 중, R4, R5 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기, m 및 n 은 각각 독립적으로 3 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.)
  2. 제 1 항에 있어서,
    모노머 (A) 가 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 4 개 이상 갖는 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    라디칼 중합 반응성 기 (x1) ∼ (x2) 가 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 비닐옥시기, 프로페닐옥시기 및 알릴옥시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기인 조성물.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    모노머 (A) 가 라디칼 중합 반응성 기 (x1) 을 4 ∼ 6 개 갖고, 옥시알킬렌기를 0 ∼ 5 개 갖는 조성물.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 (I) 에 있어서의 모노머 (C) 가 옥시알킬렌기를 6 ∼ 40 개 갖는 조성물.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 (I) 에 있어서의 모노머 (C) 가 상기 일반식 (1) 로 나타내는 다관능 (메트)아크릴레이트인 조성물.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 (I) 에 있어서의 모노머 (C) 가 상기 일반식 (4) 로 나타내는 2 관능 (메트)아크릴레이트인 조성물.
  8. 삭제
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    추가로 슬립제 (D) 를 함유하는 조성물.
  10. 제 9 항에 있어서,
    슬립제 (D) 가 실리콘계 슬립제 (D1) 및/또는 불소계 슬립제 (D2) 인 조성물.
  11. 제 9 항에 있어서,
    슬립제 (D) 가 분자 내에 2 ∼ 100 개의 옥시알킬렌기를 갖는 조성물.
  12. 삭제
  13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    모노머 (B) 가 라디칼 중합 반응성 기 (x3) 을 2 ∼ 6 개 갖고, 하기 일반식 (5) 로 나타내는 유기기 (b) 를 분자 내에 1 ∼ 15 개 갖는 (메트)아크릴레이트인 조성물.
    [화학식 5]
    Figure 112019068662620-pct00011

    [일반식 (5) 중의 p 는 4 또는 5 를 나타낸다.]
  14. 삭제
  15. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    라디칼 중합 반응성 기 (x3) 이 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 비닐옥시기, 프로페닐옥시기 및 알릴옥시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기인 조성물.
  16. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광학 부품용 활성 에너지선 경화성 조성물이 활성 에너지선에 의해서 경화되어 이루어지는 경화물.
  17. 제 16 항에 있어서,
    동마찰 계수가 0.05 ∼ 0.5 인 경화물.
  18. 제 16 항에 있어서,
    손실 탄성률 E”가 5 × 107 ㎩ 이하인 경화물.
  19. 제 16 항에 기재된 경화물을 사용한 광학 렌즈, 광학 렌즈용 시트 또는 필름.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7021856B2 (ja) * 2016-03-14 2022-02-17 中国塗料株式会社 光硬化性樹脂組成物、硬化被膜、被膜付き基材およびその製造方法、ならびに基材に対する防曇処理方法
WO2017170668A1 (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 日産化学工業株式会社 高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物
KR102079623B1 (ko) * 2017-03-03 2020-02-20 (주)엘지하우시스 무광 데코시트용 조성물, 무광 데코 시트
JP7152273B2 (ja) * 2017-11-17 2022-10-12 三洋化成工業株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012116923A (ja) * 2010-11-30 2012-06-21 Sanyo Chem Ind Ltd 紫外線硬化型樹脂組成物
JP2012242464A (ja) * 2011-05-17 2012-12-10 Nippon Kayaku Co Ltd 光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物
JP2013008825A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Mitsubishi Rayon Co Ltd ナノ凹凸構造用樹脂組成物、およびそれを用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05214044A (ja) * 1992-02-05 1993-08-24 Kuraray Co Ltd 組成物
JPH05255462A (ja) * 1992-03-10 1993-10-05 Kuraray Co Ltd 組成物
JPH0770219A (ja) 1993-09-03 1995-03-14 Dainippon Ink & Chem Inc 紫外線硬化性組成物の硬化方法
JPH10241206A (ja) * 1997-02-28 1998-09-11 Toray Ind Inc 光記録媒体および光記録媒体の製造方法
JP3826145B2 (ja) * 2004-07-16 2006-09-27 株式会社クラレ 集光フィルム、液晶パネルおよびバックライト並びに集光フィルムの製造方法
JP3904027B2 (ja) * 2004-12-24 2007-04-11 Jsr株式会社 光学部材用放射線硬化性樹脂組成物及び光学部材
JP4703180B2 (ja) * 2004-12-28 2011-06-15 リンテック株式会社 コーティング用組成物、ハードコートフィルムおよび光記録媒体
JP4831464B2 (ja) * 2005-08-26 2011-12-07 大日本印刷株式会社 高屈折率ハードコート層
JP4376848B2 (ja) 2005-10-06 2009-12-02 日産自動車株式会社 硬化型溶剤系クリア塗料
JP2006309248A (ja) 2006-05-08 2006-11-09 Mitsubishi Rayon Co Ltd レンズシートおよびそれを用いた面光源素子ならびに液晶表示装置
JP2008094987A (ja) 2006-10-13 2008-04-24 Nippon Kayaku Co Ltd 光学材料用高屈折率樹脂組成物およびその硬化物
KR101496481B1 (ko) * 2007-03-27 2015-02-26 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 시트 형상 광학 부재
JP2008286845A (ja) * 2007-05-15 2008-11-27 Konica Minolta Opto Inc 防眩性光学フィルム、防眩性光学フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置
JP5155018B2 (ja) 2007-05-31 2013-02-27 三洋化成工業株式会社 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
JP2011063698A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Idemitsu Kosan Co Ltd 光学部品用樹脂原料組成物および光学部品
JP5710356B2 (ja) 2011-04-18 2015-04-30 日本化薬株式会社 光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物
JP5930758B2 (ja) * 2012-02-15 2016-06-08 三洋化成工業株式会社 感光性組成物
JP2013228729A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Sanyo Chem Ind Ltd 光学部品用活性エネルギー線硬化性組成物
WO2013151119A1 (ja) 2012-04-06 2013-10-10 東亞合成株式会社 光学層形成用活性エネルギー線硬化型組成物
JP2014114402A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性組成物および成型品

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012116923A (ja) * 2010-11-30 2012-06-21 Sanyo Chem Ind Ltd 紫外線硬化型樹脂組成物
JP2012242464A (ja) * 2011-05-17 2012-12-10 Nippon Kayaku Co Ltd 光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物
JP2013008825A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Mitsubishi Rayon Co Ltd ナノ凹凸構造用樹脂組成物、およびそれを用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材

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