[go: up one dir, main page]

KR101973195B1 - 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법 - Google Patents

반사 방지 필름 및 이의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101973195B1
KR101973195B1 KR1020170030172A KR20170030172A KR101973195B1 KR 101973195 B1 KR101973195 B1 KR 101973195B1 KR 1020170030172 A KR1020170030172 A KR 1020170030172A KR 20170030172 A KR20170030172 A KR 20170030172A KR 101973195 B1 KR101973195 B1 KR 101973195B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
functional group
group
photoreactive functional
inorganic nanoparticles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020170030172A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20170106231A (ko
Inventor
변진석
장영래
최희정
김재영
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to PCT/KR2017/002639 priority Critical patent/WO2017155358A1/ko
Priority to CN201780003077.6A priority patent/CN108027453B/zh
Priority to US15/750,352 priority patent/US11046827B2/en
Priority to TW106107976A priority patent/TWI654238B/zh
Publication of KR20170106231A publication Critical patent/KR20170106231A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101973195B1 publication Critical patent/KR101973195B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/22—Esters containing halogen
    • C08F220/24—Esters containing halogen containing perhaloalkyl radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/24—Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C08J7/16—Chemical modification with polymerisable compounds
    • C08J7/18—Chemical modification with polymerisable compounds using wave energy or particle radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
    • G02B6/0035—Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided on the surface of the light guide or in the bulk of it
    • G02B6/004—Scattering dots or dot-like elements, e.g. microbeads, scattering particles, nanoparticles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
    • C08F222/18—Esters containing halogen
    • C08F222/185—Esters containing halogen the ester chains containing seven or more carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2301/00—Characterised by the use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
    • C08J2301/08—Cellulose derivatives
    • C08J2301/10—Esters of organic acids
    • C08J2301/12—Cellulose acetate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2435/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2435/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/002—Physical properties
    • C08K2201/006—Additives being defined by their surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/011—Nanostructured additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
    • C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
    • C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00—Properties
    • C08L2201/04—Antistatic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D135/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least another carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D135/02—Homopolymers or copolymers of esters

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

본 발명은, 하드 코팅층; 및 상기 하드 코팅층의 일면에 형성되며, 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함하는 5 ㎚ 내지 70 ㎚의 직경의 다공성 무기 나노 입자 및 바인더 수지를 포함한 저굴절층;을 포함하는 반사 방지 필름과 상기 반사 방지 필름의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

반사 방지 필름 및 이의 제조 방법{ANTI-REFLECTIVE FILM AND PREPARATION METHOD OF THE SAME}
본 발명은 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 낮은 반사율 및 높은 투광율을 가지면서 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있고 디스플레이 장치의 화면의 선명도를 높일 수 있는 반사 방지 필름 및 상기 반사 방지 필름을 제공하는 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 PDP, LCD 등의 평판 디스플레이 장치에는 외부로부터 입사되는 빛의 반사를 최소화하기 위한 반사 방지 필름이 장착된다.
빛의 반사를 최소화하기 위한 방법으로는 수지에 무기 미립자 등의 필러를 분산시켜 기재 필름 상에 코팅하고 요철을 부여하는 방법(anti-glare: AG 코팅); 기재 필름 상에 굴절율이 다른 다수의 층을 형성시켜 빛의 간섭을 이용하는 방법 (anti-reflection: AR 코팅) 또는 이들을 혼용하는 방법 등이 있다.
그 중, 상기 AG 코팅의 경우 반사되는 빛의 절대량은 일반적인 하드 코팅과 동등한 수준이지만, 요철을 통한 빛의 산란을 이용해 눈에 들어오는 빛의 양을 줄임으로써 저반사 효과를 얻을 수 있다. 그러나, 상기 AG 코팅은 표면 요철로 인해 화면의 선명도가 떨어지기 때문에, 최근에는 AR 코팅에 대한 많은 연구가 이루어지고 있다.
상기 AR 코팅을 이용한 필름으로는 기재 필름 상에 하드 코팅층(고굴절율층), 저반사 코팅층 등이 적층된 다층 구조인 것이 상용화되고 있다. 그러나, 상기와 같이 다수의 층을 형성시키는 방법은 각 층을 형성하는 공정을 별도로 수행함에 따라 층간 밀착력(계면 접착력)이 약해 내스크래치성이 떨어지는 단점이 있다.
또한, 이전에는 반사 방지 필름에 포함되는 저굴절층의 내스크래치성을 향상시키기 위해서는 나노미터 사이즈의 다양한 입자(예를 들어, 실리카, 알루미나, 제올라이트 등의 입자)를 첨가하는 방법이 주로 시도되었다. 그러나, 상기와 같이 나노미터 사이즈의 입자를 사용하는 경우 저굴절층의 반사율을 낮추면서 내스크래치성을 동시에 높이기 어려운 한계가 있었으며, 나노미터의 사이즈의 입자로 인하여 저굴절층 표면이 갖는 방오성이 크게 저하되었다.
이에 따라, 외부로부터 입사되는 빛의 절대 반사량을 줄이고 표면의 내스크래치성과 함께 방오성을 향상시키기 위한 많은 연구가 이루어지고 있으나, 이에 따른 물성 개선의 정도가 미흡한 실정이다.
본 발명은 낮은 반사율 및 높은 투광율을 가지면서 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있고 디스플레이 장치의 화면의 선명도를 높일 수 있는 반사 방지 필름을 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 상술한 특성을 갖는 반사 방지 필름을 제공하는 제조 방법에 관한 것이다.
본 명세서에서는, 하드 코팅층; 및 상기 하드 코팅층의 일면에 형성되며, 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자 및 바인더 수지를 포함한 저굴절층;을 포함하는 반사 방지 필름이 제공된다.
또한, 본 명세서에서는, 광중합성 화합물 또는 이의 (공)중합체, 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물, 광개시제 및 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자를 포함한 저굴절층 형성용 수지 조성물을 하드 코팅층 상에 도포 및 건조하는 단계; 및 상기 수지 조성물의 건조물을 광경화하는 단계;를 포함하는 반사 방지 필름의 제조 방법이 제공된다.
이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 반사 방지 필름 및 반사 방지 필름의 제조 방법에 관하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.
본 명세서에서, 광중합성 화합물은 빛이 조사되면, 예를 들어 가시 광선 또는 자외선의 조사되면 중합 반응을 일으키는 화합물을 통칭한다.
또한, 함불소 화합물은 화합물 중 적어도 1개 이상의 불소 원소가 포함된 화합물을 의미한다.
또한, (메트)아크릴[(Meth)acryl]은 아크릴(acryl) 및 메타크릴레이트(Methacryl) 양쪽 모두를 포함하는 의미이다.
또한, (공)중합체는 공중합체(co-polymer) 및 단독 중합체(homo-polymer) 양쪽 모두를 포함하는 의미이다.
또한, 중공 실리카 입자(silica hollow particles)라 함은 규소 화합물 또는 유기 규소 화합물로부터 도출되는 실리카 입자로서, 상기 실리카 입자의 표면 및/또는 내부에 빈 공간이 존재하는 형태의 입자를 의미한다.
발명의 일 구현예에 따르면, 하드 코팅층; 및 상기 하드 코팅층의 일면에 형성되며, 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자 및 바인더 수지를 포함한 저굴절층;을 포함하는 반사 방지 필름이 제공될 수 있다.
이전에는 반사 방지 필름의 반사율을 낮추기 위해서 굴절율이 낮은 중공 실리카를 과량 사용하는 방법이 알려져 있으나, 중공 실리카를 과량 사용하는 경우 내스크래치성과 방오성이 크게 저하되는 문제점이 있었다.
이에, 본 발명자들은 반사 방지 필름에 관한 연구를 진행하여, 반사 방지 필름에 포함되는 저굴절층 내에서 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자를 분포시키는 경우 기존에 알려진 반사 방지 필름에서 구현하기 어려웠던 수준의 낮은 반사율을 구현할 수 있으며, 아울러 상기 반사 방지 필름이 높은 투광율을 가지면서 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있다는 점을 실험을 통하여 확인하고 발명을 완성하였다.
상술한 바와 같이, 상기 다공성 무기 나노 입자는 0.5㎚ 내지 10 ㎚, 또는 1㎚ 내지 8 ㎚, 또는 2㎚ 내지 6 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함할 수 있다.
상기 다공성 무기 나노 입자가 상술한 직경의 미세 기공을 포함함에 따라서, 통상적으로 알려진 무기 입자를 사용하는 경우에 비하여 상기 반사 방지 필름이 보다 낮은 굴절율과 보다 향상된 표면의 기계적 물성을 확보할 수 있게 한다. 이에 따라, 상기 다공성 무기 나노 입자를 사용하는 경우, 이전에 알려진 솔리드형 무기 나노 입자 또는 중공형 무기 나노 입자를 포함한 저굴절층을 적용한 반사 방지 필름에 비하여 현저히 낮아진 반사율, 예를 들어 0.40%이하의 반사율을 구현할 수 있으며, 아울러 크게 향상된 표면 강도를 구현할 수 있고, 아울러 보다 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 반사 반지 필름은 380㎚ 내지 780㎚의 가시 광선 파장대 영역에서 0.40% 이하, 또는 0.10% 내지 0.40%, 또는 0.15% 내지 0.35%, 또는 0.20% 내지 0.30%, 또는 0.21 내지 0.29%의 평균 반사율을 나타낼 수 있다.
상기 다공성 무기 나노 입자에 형성되는 미세 기공의 크기는 TEM 또는 SEM 등의 장치 또는 BET 분석법 등을 통하여 확인 가능하다. 예를 들어, 상기 미세 기공의 크기는 정량적으로 측정 및 정의될 수 있는데, 시료 표면에 흡착된 질소 가스의 양을 BET(Brunaur, Emutte, Teller) 측정법을 통해서 시표의 BET표면적을 측정하고, 이를 Barrett-Joyner-Halendar(BJH) 분석에 근거하여 상기 미세 기공의 크기를 측정 및 정의할 수 있다. 상기 미세 기공의 직경은 상기 다공성 무기 나노 입자의 단면에서 확인되는 상기 미세 기공의 최장 직경을 의미할 수 있다.
또한, 상기 다공성 무기 나노 입자에 형성되는 미세 기공의 형상 또한 크게 한정되는 것은 아니며, 상기 다공성 무기 나노 입자에 형성되는 미세 기공의 단면은 원, 타원 또는 다각형 등의 형상을 가질 수 있다.
상기 다공성 무기 나노 입자는 0.5㎚ 내지 10 ㎚, 1㎚ 내지 8 ㎚ 의 직경을 갖는 미세 기공을 포함할 수 있으며, 아울러 0.5㎚ 미만의 직경을 갖는 기공 및/또는 10 ㎚ 초과의 직경을 갖는 미세 기공 또한 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 다공성 무기 나노 입자는 0.5㎚ 내지 10 ㎚, 1㎚ 내지 8 ㎚ 의 직경을 갖는 미세 기공을 전체 기공 중 75부피%이상, 또는 90부피%이상으로 포함할 수 있다.
상기 다공성 무기 나노 입자는 0.5㎚ 내지 10 ㎚, 1㎚ 내지 8 ㎚ 의 직경을 갖는 기공을 포함하며, BET 표면적이 250 내지 2,000 ㎡/g 일 수 있다.
상기 다공성 무기 나노 입자는 5㎚ 내지 100 ㎚, 또는 5 ㎚ 내지 70 ㎚, 또는 10 ㎚ 내지 60 ㎚ 의 직경을 가질 수 있다. 상기 다공성 무기 나노 입자의 직경은 상기 다공성 무기 나노 입자의 단면에서 확인되는 최장 직경을 의미할 수 있다.
상기 다공성 무기 나노 입자의 직경이 너무 큰 경우, 상기 제조되는 저굴절층이나 반사 방지 필름의 평균 반사율이나 헤이즈 값이 크게 높아지거나, 상기 반사 방지 필름의 백탁 현상이 발생할 수 있다.
또한, 상기 다공성 무기 나노 입자의 직경이 너무 작은 경우, 상기 다공성 무기 나노 입자에 미세 기공이 충분히 형성되기 어렵기 때문에 상대적으로 높은 굴절율을 갖게 되며, 이에 따라 상기 저굴절층의 굴절율이 높아지고 상기 반사 방지 필름의 평균 반사율이 과도하게 높아지게 된다. 아울러, 상기 다공성 무기 나노 입자의 직경이 너무 작으면, 상기 저굴절층에서 다공성 무기 입자가 균일하게 분포하지 못하기 쉬우며, 이에 따라 상기 저굴절층이나 이를 포함한 반사 방지 필름의 기계적 물성이 저하될 수 있다.
한편, 상기 다공성 무기 나노 입자의 표면에는 광반응성 작용기가 도입되거나 광반응성 작용기를 포함한 화합물이 결합될 수 있다. 상기 광반응성 작용기는 빛의 조사에 의하여 중합 반응에 참여할 수 있는 것으로 알려진 다양한 작용기를 포함할 수 있으며, 이의 구체적인 예로는 (메트)아크릴레이트기, 에폭사이드기, 비닐기(Vinyl) 또는 싸이올기(Thiol)를 들 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 다공성 무기 나노 입자의 표면에는 상술한 광반응성 작용기를 포함한 실란 화합물, 또는 수산화 화합물 등이 결합될 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 실란 화합물의 예로는, 비닐클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, p-스티릴트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드, 3-이소시아네이토프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 다공성 무기 나노 입자의 표면에는 광반응성 작용기가 도입됨에 따라서, 상기 저굴절층의 형성 과정에서 상기 광반응성 작용기가 상기 바인더 수지와 가교 결합을 형성할 수 있으며, 이에 따라 최종 제조된 저굴절층 및 반사 방지 필름의 표면의 기계적 물성이 향상될 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 저굴절층은 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자 및 바인더 수지를 포함하며, 상기 저굴절층 중 상기 다공성 무기 나노 입자의 함량은 15 내지 80중량%, 또는 20 내지 65중량%일 수 있다. 상기 다공성 무기 나노 입자는 상대적으로 높은 함량으로 상기 저굴절층에 포함되어도, 상기 반사 방지 필름의 반사율을 크게 낮출 수 있고 보다 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있다.
한편, 상기 저굴절층에는 다공성 무기 나노 입자 이외의 무기 입자를 더 포함할 수 있으며, 저굴절층 또는 반사 방지 필름의 특성 등을 고려하여 통상적으로 알려진 무기 입자를 더 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 저굴절층은 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 무기 나노 입자를 더 포함할 수 있다. 상기 저굴절층 중 상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 무기 나노 입자의 함량은 1 내지 60 중량%, 또는 5 내지 50중량%일 수 있다.
상기 솔리드형 무기 나노 입자는 100 ㎚미만의 최대 직경을 가지며 그 내부에 빈 공간이 존재하지 않는 형태의 입자를 의미한다. 상기 솔리드형 무기 나노 입자는 0.5 내지 100㎚, 또는 1 내지 30㎚ 의 직경을 가질 수 있다.
또한, 상기 중공형 무기 나노 입자는 200 ㎚미만의 최대 직경을 가지며 그 표면 및/또는 내부에 빈 공간이 존재하는 형태의 입자를 의미한다. 상기 중공형 무기 나노 입자는 1 내지 200㎚, 또는 10 내지 100㎚ 의 직경을 가질 수 있다.
상기 솔리드형 무기 나노 입자 및 상기 중공형 무기 나노 입자 각각의 직경은 각각의 나노 입자의 단면에서 확인되는 최장 직경을 의미할 수 있다.
상기 솔리드형 무기 나노 입자 및 상기 중공형 무기 나노 입자 각각은 표면에 (메트)아크릴레이트기, 에폭사이드기, 비닐기(Vinyl) 및 싸이올기(Thiol)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 반응성 작용기를 함유할 수 있다.
한편, 상술한 저굴절층은 광중합성 화합물, 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물, 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자 및 광개시제를 포함한 광경화성 코팅 조성물로부터 제조될 수 있다.
이에 따라, 상기 저굴절층에 포함되는 바인더 수지는 광중합성 화합물의 (공)중합체 및 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 간의 가교 (공)중합체를 포함할 수 있다.
상기 구현예의 광경화성 코팅 조성물에 포함되는 광중합성 화합물은 제조되는 저굴절층의 바인더 수지의 기재를 형성할 수 있다. 구체적으로, 상기 광중합성 화합물은 (메트)아크릴레이트 또는 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 광중합성 화합물은 (메트)아크릴레이트 또는 비닐기를 1이상, 또는 2이상, 또는 3이상 포함하는 단량체 또는 올리고머를 포함할 수 있다.
상기 (메트)아크릴레이트를 포함한 단량체 또는 올리고머의 구체적인 예로는, 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨 헵타(메트)아크릴레이트, 트릴렌 디이소시아네이트, 자일렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 폴리에톡시 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리메타크릴레이트, 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 부탄디올 디메타크릴레이트, 헥사에틸 메타크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트 또는 이들의 2종 이상의 혼합물이나, 또는 우레탄 변성 아크릴레이트 올리고머, 에폭사이드 아크릴레이트 올리고머, 에테르아크릴레이트 올리고머, 덴드리틱 아크릴레이트 올리고머, 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 이때 상기 올리고머의 분자량은 1,000 내지 10,000인 것이 바람직하다.
상기 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머의 구체적인 예로는, 디비닐벤젠, 스티렌 또는 파라메틸스티렌을 들 수 있다.
상기 광경화성 코팅 조성물 중 상기 광중합성 화합물의 함량이 크게 한정되는 것은 아니나, 최종 제조되는 저굴절층이나 반사 방지 필름의 기계적 물성 등을 고려하여 상기 광경화성 코팅 조성물의 고형분 중 상기 광중합성 화합물의 함량은 20중량% 내지 80중량%일 수 있다. 상기 광경화성 코팅 조성물의 고형분은 상기 광경화성 코팅 조성물 중 액상의 성분, 예들 들어 후술하는 바와 같이 선택적으로 포함될 수 있는 유기 용매 등의 성분을 제외한 고체의 성분만을 의미한다.
한편, 상기 광중합성 화합물은 상술한 단량체 또는 올리고머 이외로 불소계 (메트)아크릴레이트계 단량체 또는 올리고머를 더 포함할 수 있다. 상기 불소계 (메트)아크릴레이트계 단량체 또는 올리고머를 더 포함하는 경우, 상기 (메트)아크릴레이트 또는 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머에 대한 상기 불소계 (메트)아크릴레이트계 단량체 또는 올리고머의 중량비는 0.1% 내지 10%일 수 있다.
상기 불소계 (메트)아크릴레이트계 단량체 또는 올리고머의 구체적인 예로는 하기 화학식 1 내지 5로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 들 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112017023732650-pat00001
상기 화학식 1에서, R1은 수소기 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, a는 0 내지 7의 정수이며, b는 1 내지 3의 정수이다.
[화학식 2]
Figure 112017023732650-pat00002
상기 화학식 2에서, c는 1 내지 10의 정수이다.
[화학식 3]
Figure 112017023732650-pat00003
상기 화학식 3에서, d는 1 내지 11의 정수이다.
[화학식 4]
Figure 112017023732650-pat00004
상기 화학식 4에서, e는 1 내지 5의 정수이다.
[화학식 5]
Figure 112017023732650-pat00005
상기 화학식 5에서, f는 4 내지 10의 정수이다.
한편, 상기 저굴절층에는 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물로부터 유래한 부분이 포함될 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물에는 1이상의 광반응성 작용기가 포함 또는 치환될 수 있으며, 상기 광반응성 작용기는 빛의 조사에 의하여, 예를 들어 가시 광선 또는 자외선의 조사에 의하여 중합 반응에 참여할 수 있는 작용기를 의미한다. 상기 광반응성 작용기는 빛의 조사에 의하여 중합 반응에 참여할 수 있는 것으로 알려진 다양한 작용기를 포함할 수 있으며, 이의 구체적인 예로는 (메트)아크릴레이트기, 에폭사이드기, 비닐기(Vinyl) 또는 싸이올기(Thiol)를 들 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 각각은 2,000 내지 200,000, 바람직하게는 5,000 내지 100,000의 중량평균분자량(GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량)을 가질 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물의 중량평균분자량이 너무 작으면, 상기 광경화성 코팅 조성물에서 함불소 화합물들이 표면에 균일하고 효과적으로 배열하지 못하고 최종 제조되는 저굴절층의 내부에 위치하게 되는데, 이에 따라 상기 저굴절층의 표면이 갖는 방오성이 저하되고 상기 저굴절층의 가교 밀도가 낮아져서 전체적인 강도나 내크스래치성 등의 기계적 물성이 저하될 수 있다.
또한, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물의 중량평균분자량이 너무 높으면, 상기 광경화성 코팅 조성물에서 다른 성분들과의 상용성이 낮아질 수 있고, 이에 따라 최종 제조되는 저굴절층의 헤이즈가 높아지거나 광투과도가 낮아질 수 있으며, 상기 저굴절층의 강도 또한 저하될 수 있다.
구체적으로, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 i) 하나 이상의 광반응성 작용기가 치환되고, 적어도 하나의 탄소에 1이상의 불소가 치환된 지방족 화합물 또는 지방족 고리 화합물; ii) 1 이상의 광반응성 작용기로 치환되고, 적어도 하나의 수소가 불소로 치환되고, 하나 이상의 탄소가 규소로 치환된 헤테로(hetero) 지방족 화합물 또는 헤테로(hetero)지방족 고리 화합물; iii) 하나 이상의 광반응성 작용기가 치환되고, 적어도 하나의 실리콘에 1이상의 불소가 치환된 폴리디알킬실록산계 고분자(예를 들어, 폴리디메틸실록산계 고분자); iv) 1 이상의 광반응성 작용기로 치환되고 적어도 하나의 수소가 불소로 치환된 폴리에테르 화합물, 또는 상기 i) 내지 iv) 중 2이상의 혼합물 또는 이들의 공중합체를 들 수 있다.
상기 광경화성 코팅 조성물은 상기 광중합성 화합물 100중량부에 대하여 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 20 내지 300중량부를 포함할 수 있다.
상기 광중합성 화합물 대비 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물이 과량으로 첨가되는 경우 상기 구현예의 광경화성 코팅 조성물의 코팅성이 저하되거나 상기 광경화성 코팅 조성물로부터 얻어진 저굴절층이 충분한 내구성이나 내스크래치성을 갖지 못할 수 있다. 또한, 상기 광중합성 화합물 대비 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물의 양이 너무 작으면, 상기 광경화성 코팅 조성물로부터 얻어진 저굴절층이 충분한 방오성이나 내스크래치성 등의 기계적 물성을 갖지 못할 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 규소 또는 규소 화합물을 더 포함할 수 있다. 즉, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 선택적으로 내부에 규소 또는 규소 화합물을 함유할 수 있고, 구체적으로 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 중 규소의 함량은 0.1 중량% 내지 20중량%일 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물에 포함되는 규소는 상기 구현예의 광경화성 코팅 조성물에 포함되는 다른 성분과의 상용성을 높일 수 있으며 이에 따라 최종 제조되는 굴절층에 헤이즈(haze)가 발생하는 것을 방지하여 투명도를 높이는 역할을 할 수 있다. 한편, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 중 규소의 함량이 너무 커지면, 상기 광경화성 코팅 조성물에 포함된 다른 성분과 상기 함불소 화합물 간의 상용성이 오히려 저하될 수 있으며, 이에 따라 최종 제조되는 저굴절층이나 반사 방지 필름이 충분한 투광도나 반사 방지 성능을 갖지 못하여 표면의 방오성 또한 저하될 수 있다.
상기 저굴절층은 상기 광중합성 화합물의 (공)중합체 100중량부 대비 상기 중공형 무기 나노 입자 10 내지 400 중량부 및 상기 솔리드형 무기 나노 입자 10 내지 400중량부를 포함할 수 있다.
상기 저굴절층 중 상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자의 함량이 과다해지는 경우, 상기 저굴절층 제조 과정에서 상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자 간의 상분리가 충분히 일어나지 않고 혼재되어 반사율이 높아질 수 있으며, 표면 요철이 과다하게 발생하여 방오성이 저하될 수 있다. 또한, 상기 저굴절층 중 상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자의 함량이 과소한 경우, 상기 하드 코팅층 및 상기 저굴절층 간의 계면으로부터 가까운 영역에 상기 솔리드형 무기 나노 입자 중 다수가 위치하기 어려울 수 있으며, 상기 저굴절층의 반사율은 크게 높아질 수 있다.
상기 저굴절층은 1㎚ 내지 300 ㎚, 또는 50㎚ 내지 200 ㎚의 두께를 가질 수 있다.
한편, 상기 하드 코팅층으로는 통상적으로 알려진 하드 코팅층을 큰 제한 없이 사용할 수 있다.
상기 하드 코팅층의 일 예로서, 광경화성 수지를 포함하는 바인더 수지 및 상기 바인더 수지에 분산된 유기 또는 무기 미립자;를 포함하는 하드 코팅층을 들 수 있다.
상기 하드코팅층에 포함되는 광경화형 수지는 자외선 등의 광이 조사되면 중합 반응을 일으킬 수 있는 광경화형 화합물의 중합체로서, 당업계에서 통상적인 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 광경화성 수지는 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 에폭사이드 아크릴레이트 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트, 및 폴리에테르 아크릴레이트로 이루어진 반응성 아크릴레이트 올리고머 군; 및 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 하이드록시 펜타아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸렌 프로필 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세롤 트리아크릴레이트, 트리메틸프로판 에톡시 트리아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세로 트리아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 및 에틸렌글리콜 디아크릴레이트로 이루어진 다관능성 아크릴레이트 단량체 군에서 선택되는 1 종 이상을 포함할 수 있다.
상기 유기 또는 무기 미립자는 입경의 구체적으로 한정되는 것은 아니나, 예들 들어 유기 미립자는 1 내지 10 ㎛의 입경을 가질 수 있으며, 상기 무기 입자는 1 ㎚ 내지 500 ㎚, 또는 1㎚ 내지 300㎚의 입경을 가질 수 있다. 상기 유기 또는 무기 미립자는 입경은 부피 평균 입경으로 정의될 수 있다.
또한, 상기 하드 코팅 필름에 포함되는 유기 또는 무기 미립자의 구체적인 예가 한정되는 것은 아니나, 예를 들어 상기 유기 또는 무기 미립자는 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 에폭사이드 수지 및 나일론 수지로 이루어진 유기 미립자이거나 산화규소, 이산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화지르코늄 및 산화아연으로 이루어진 무기 미립자일 수 있다.
상기 하드 코팅층의 바인더 수지는 중량평균분자량 10,000 이상의 고분자량 (공)중합체를 더 포함할 수 있다.
상기 고분자량 (공)중합체는 셀룰로스계 폴리머, 아크릴계 폴리머, 스티렌계 폴리머, 에폭사이드계 폴리머, 나일론계 폴리머, 우레탄계 폴리머, 및 폴리올레핀계 폴리머로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상일 수 있다.
한편, 상기 하드 코팅 필름의 또 다른 일 예로서, 광경화성 수지의 바인더 수지; 및 상기 바인더 수지에 분산된 대전 방지제를 포함하는 하드 코팅 필름을 들 수 있다.
상기 하드코팅층에 포함되는 광경화형 수지는 자외선 등의 광이 조사되면 중합 반응을 일으킬 수 있는 광중합성 화합물의 중합체로서, 당업계에서 통상적인 것일 수 있다. 다만, 바람직하게는, 상기 광중합성 화합물은 다관능성 (메트)아크릴레이트계 단량체 또는 올리고머일 수 있고, 이때 (메트)아크릴레이트계 관능기의 수는 2 내지 10, 바람직하게는 2 내지 8, 보다 바람직하게는 2 내지 7인 것이, 하드코팅층의 물성 확보 측면에서 유리하다. 보다 바람직하게는, 상기 광중합성 화합물은 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헵타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨 헵타(메트)아크릴레이트, 트릴렌 디이소시아네이트, 자일렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 및 트리메틸올프로판 폴리에톡시 트리(메트)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.
상기 대전 방지제는 4급 암모늄염 화합물; 피리디늄염; 1 내지 3개의 아미노기를 갖는 양이온성 화합물; 설폰산 염기, 황산 에스테르 염기, 인산 에스테르 염기, 포스폰산 염기 등의 음이온성 화합물; 아미노산계 또는 아미노 황산 에스테르계 화합물 등의 양성 화합물; 이미노 알코올계 화합물, 글리세린계 화합물, 폴리에틸렌 글리콜계 화합물 등의 비이온성 화합물; 주석 또는 티타늄 등을 포함한 금속 알콕사이드 화합물 등의 유기 금속 화합물; 상기 유기 금속 화합물의 아세틸아세토네이트 염 등의 금속 킬레이트 화합물; 이러한 화합물들의 2종 이상의 반응물 또는 고분자화물; 이러한 화합물들의 2종 이상의 혼합물일 수 있다. 여기서, 상기 4급 암모늄염 화합물은 분자 내에 1개 이상의 4급 암모늄염기를 가지는 화합물일 수 있으며, 저분자형 또는 고분자형을 제한 없이 사용할 수 있다.
또한, 상기 대전 방지제로는 도전성 고분자와 금속 산화물 미립자도 사용할 수 있다. 상기 도전성 고분자로는 방향족 공액계 폴리(파라페닐렌), 헤테로고리식 공액계의 폴리피롤, 폴리티오펜, 지방족 공액계의 폴리아세틸렌, 헤테로 원자를 함유한 공액예의 폴리아닐린, 혼합 형태 공액계의 폴리(페닐렌 비닐렌), 분자중에 복수의 공액 사슬을 갖는 공액계인 복쇄형 공액계 화합물, 공액 고분자 사슬을 포화 고분자에 그래프트 또는 블록 공중합시킨 도전성 복합체 등이 있다. 또한, 상기 금속 산화물 미립자로는 산화 아연, 산화 안티몬, 산화 주석, 산화 세륨, 인듐 주석 산화물, 산화 인듐, 산화 알루니뮴, 안티몬 도핑된 산화 주석, 알루미늄 도핑된 산화 아연 등을 들 수 있다.
상기 광경화성 수지의 바인더 수지; 및 상기 바인더 수지에 분산된 대전 방지제를 포함하는 하드 코팅 필름은 알콕시 실란계 올리고머 및 금속 알콕사이드계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 포함할 수 있다.
상기 알콕시 실란계 화합물은 당업계에서 통상적인 것일 수 있으나, 바람직하게는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라이소프로폭시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메타크릴록시프로필트리메톡시실란, 글리시독시프로필 트리메톡시실란, 및 글리시독시프로필 트리에톡시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물일 수 있다.
또한, 상기 금속 알콕사이드계 올리고머는 금속 알콕사이드계 화합물 및 물을 포함하는 조성물의 졸-겔 반응을 통해 제조할 수 있다. 상기 졸-겔 반응은 전술한 알콕시 실란계 올리고머의 제조 방법에 준하는 방법으로 수행할 수 있다.
다만, 상기 금속 알콕사이드계 화합물은 물과 급격하게 반응할 수 있으므로, 상기 금속 알콕사이드계 화합물을 유기용매에 희석한 후 물을 천천히 드로핑하는 방법으로 상기 졸-겔 반응을 수행할 수 있다. 이때, 반응 효율 등을 감안하여, 물에 대한 금속 알콕사이드 화합물의 몰비(금속이온 기준)는 3 내지 170인 범위 내에서 조절하는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 금속 알콕사이드계 화합물은 티타늄 테트라-이소프로폭사이드, 지르코늄 이소프로폭사이드, 및 알루미늄 이소프로폭사이드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물일 수 있다.
상기 하드 코팅층은 0.1㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다.
상기 하드 코팅층의 다른 일면에 결합된 기재를 더 포함할 수 있다. 상기 기재의 구체적인 종류나 두께는 크게 한정되는 것은 아니며, 저굴절층 또는 반사 방지 필름의 제조에 사용되는 것으로 알려진 기재를 큰 제한 없이 사용할 수 있다.
한편, 발명의 다른 구현예에 따르면, 광중합성 화합물 또는 이의 (공)중합체, 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물, 광개시제 및 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자를 포함한 저굴절층 형성용 수지 조성물을 하드 코팅층 상에 도포 및 건조하는 단계; 및 상기 수지 조성물의 건조물을 광경화하는 단계;를 포함하는 반사 방지 필름의 제조 방법 이 제공될 수 있다.
이러한 반사 방지 필름의 제조 방법을 통하여 상술한 일 구현예의 반사 방지 필름이 제공될 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 반사 방지 필름에 포함되는 저굴절층 내에서 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자를 분포시키는 경우 기존에 알려진 반사 방지 필름에서 구현하기 어려웠던 수준의 낮은 반사율을 구현할 수 있으며, 아울러 상기 반사 방지 필름이 높은 투광율을 가지면서 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있다.
보다 상세하게는, 상기 제조 방법에 따라 제공되는 반사 방지 필름은 하드 코팅층; 및 상기 하드 코팅층의 일면에 형성되며, 바인더 수지와 상기 바인더 수지에 분산된 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자를 포함하는 저굴절층;을 포함한다.
상기 저굴절층은 광중합성 화합물 또는 이의 (공)중합체, 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물, 광개시제, 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자를 포함한 저굴절층 형성용 수지 조성물을 하드 코팅층 상에 도포하고 35 ℃ 내지 100 ℃, 또는 40 ℃ 내지 80 ℃의 온도에서 건조함으로서 형성될 수 있다.
상기 하드 코팅층 상에 도포된 저굴절층 형성용 수지 조성물을 건조하는 온도가 35℃ 미만이면, 상기 형성되는 저굴절층이 갖는 방오성이 크게 저하될 수 있다. 또한, 상기 하드 코팅층 상에 도포된 저굴절층 형성용 수지 조성물을 건조하는 온도가 100℃ 초과이면, 상기 저굴절층 제조 과정에서 기재의 침식이 일어나서 상기 저굴절층의 내스크래치성 및 방오성이 저하될 뿐만 아니라 최종 제조된 반사 방지 필름에 헤이즈가 발생할 수도 있다.
한편, 상기 하드 코팅층 상에 도포된 저굴절층 형성용 수지 조성물을 35 ℃ 내지 100 ℃의 온도에서 건조하는 단계는 10초 내지 5분간, 또는 30초 내지 4분간 수행될 수 있다.
상기 건조 시간이 너무 짧은 경우, 상술한 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자의 분산이 충분히 일어나지 않을 수 있다. 이에 반하여, 상기 건조 시간이 너무 긴 경우, 상기 형성되는 저굴절층이 하드 코팅층을 침식할 수 있다.
한편, 상기 저굴절층은 광중합성 화합물 또는 이의 (공)중합체, 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물, 중공형 무기 나노 입자, 솔리드형 무기 나노 입자 및 광개시제를 포함한 광경화성 코팅 조성물로부터 제조될 수 있다.
상기 저굴절층은 상기 광경화성 코팅 조성물을 소정의 기재 상에 도포하고 도포된 결과물을 광경화함으로써 얻어질 수 있다. 상기 기재의 구체적인 종류나 두께는 크게 한정되는 것은 아니며, 저굴절층 또는 반사 방지 필름의 제조에 사용되는 것으로 알려진 기재를 큰 제한 없이 사용할 수 있다.
상기 광경화성 코팅 조성물을 도포하는데 통상적으로 사용되는 방법 및 장치를 별 다른 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들어, Meyer bar 등의 바 코팅법, 그라비아 코팅법, 2 roll reverse 코팅법, vacuum slot die 코팅법, 2 roll 코팅법 등을 사용할 수 있다.
상기 저굴절층은 1㎚ 내지 300 ㎚, 또는 50㎚ 내지 200 ㎚의 두께를 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 소정의 기재 상에 도포되는 상기 광경화성 코팅 조성물의 두께는 약 1㎚ 내지 300 ㎚, 또는 50㎚ 내지 200 ㎚일 수 있다.
상기 광경화성 코팅 조성물을 광경화 시키는 단계에서는 200~400nm파장의 자외선 또는 가시 광선을 조사할 수 있고, 조사시 노광량은 100 내지 4,000 mJ/㎠ 이 바람직하다. 노광 시간도 특별히 한정되는 것이 아니고, 사용 되는 노광 장치, 조사 광선의 파장 또는 노광량에 따라 적절히 변화시킬 수 있다.
또한, 상기 광경화성 코팅 조성물을 광경화 시키는 단계에서는 질소 대기 조건을 적용하기 위하여 질소 퍼징 등을 할 수 있다.
상기 광중합성 화합물, 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함한 다공성 무기 나노 입자 및 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물에 관한 구체적인 내용은 상기 일 구현예의 반사 방지 필름에 관하여 상술한 내용을 포함한다.
상기 저굴절층 형성용 수지 조성물은 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 무기 나노 입자를 더 포함할 수 있다. 상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자 에 관한 구체적인 내용은 상기 일 구현예의 반사 방지 필름에 관하여 상술한 내용을 포함한다.
상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자 각각은 소정의 분산매에 분산된 콜로이드상으로 조성물에 포함될 수 있다. 상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자를 포함하는 각각의 콜로이드상은 분산매로 유기 용매를 포함할 수 있다.
상기 광경화성 코팅 조성물 중 상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자 각각의 함량 범위나 상기 광경화성 코팅 조성물의 점도 등을 고려하여 상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자 각각의 콜로이드 상 중 함량이 결정될 수 있으며, 예를 들어 상기 콜로이드상 중 상기 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자 각각의 고형분 함량은 5중량% 내지 60중량%일 수 있다.
여기서, 상기 분산매 중 유기 용매로는 메탄올, 이소프로필알코올, 에틸렌글리콜, 부탄올 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드. 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류; 초산에틸, 초산부틸, 감마부틸로락톤 등의 에스테르류; 테트라하이드로퓨란, 1,4-디옥산 등의 에테르류; 또는 이들의 혼합물이 포함될 수 있다.
상기 광중합 개시제로는 광경화성 수지 조성물에 사용될 수 있는 것으로 알려진 화합물이면 크게 제한 없이 사용 가능하며, 구체적으로 벤조 페논계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 광중합성 화합물 100중량부에 대하여, 상기 광중합 개시제는 1 내지 100중량부의 함량으로 사용될 수 있다. 상기 광중합 개시제의 양이 너무 작으면, 상기 광경화성 코팅 조성물의 광경화 단계에서 미경화되어 잔류하는 물질이 발행할 수 있다. 상기 광중합 개시제의 양이 너무 많으면, 미반응 개시제가 불순물로 잔류하거나 가교 밀도가 낮아져서 제조되는 필름의 기계적 물성이 저하되거나 반사율이 크게 높아질 수 있다.
한편, 상기 광경화성 코팅 조성물은 유기 용매를 더 포함할 수 있다.
상기 유기 용매의 비제한적인 예를 들면 케톤류, 알코올류, 아세테이트류 및 에테르류, 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
이러한 유기 용매의 구체적인 예로는, 메틸에틸케논, 메틸이소부틸케톤, 아세틸아세톤 또는 이소부틸케톤 등의 케톤류; 메탄올, 에탄올, 디아세톤알코올, n-프로판올, i-프로판올, n-부탄올, i-부탄올, 또는 t-부탄올 등의 알코올류; 에틸아세테이트, i-프로필아세테이트, 또는 폴리에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 등의 아세테이트류; 테트라하이드로퓨란 또는 프로필렌글라이콜 모노메틸에테르 등의 에테르류; 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
상기 유기 용매는 상기 광경화성 코팅 조성물에 포함되는 각 성분들을 혼합하는 시기에 첨가되거나 각 성분들이 유기 용매에 분산 또는 혼합된 상태로 첨가되면서 상기 광경화성 코팅 조성물에 포함될 수 있다. 상기 광경화성 코팅 조성물 중 유기 용매의 함량이 너무 작으면, 상기 광경화성 코팅 조성물의 흐름성이 저하되어 최종 제조되는 필름에 줄무늬가 생기는 등 불량이 발생할 수 있다. 또한, 상기 유기 용매의 과량 첨가시 고형분 함량이 낮아져, 코팅 및 성막이 충분히 되지 않아서 필름의 물성이나 표면 특성이 저하될 수 있고, 건조 및 경화 과정에서 불량이 발생할 수 있다. 이에 따라, 상기 광경화성 코팅 조성물은 포함되는 성분들의 전체 고형분의 농도가 1중량% 내지 50중량%, 또는 2 내지 20중량%가 되도록 유기 용매를 포함할 수 있다.
상기 하드 코팅층은 반사 방지 필름에 사용할 수 있는 것으로 알려진 재질이면 큰 제한 없이 사용할 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 하드 코팅층의 일 예로서, 광경화성 수지를 포함하는 바인더 수지 및 상기 바인더 수지에 분산된 유기 또는 무기 미립자;를 포함하는 하드 코팅층을 들 수 있다.
이에 따라, 상기 반사 방지 필름의 제조 방법은 광중합성 화합물 또는 이의 (공)중합체, 광개시제 및 유기 또는 무기 미립자를 포함한 하드 코팅층 형성용 고분자 수지 조성물을 기재 상에 도포하고 광경화하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 상기 단계를 통하여 하드 코팅층을 형성할 수 있다.
또한, 상기 하드 코팅 필름의 또 다른 일 예로서, 광경화성 수지의 바인더 수지; 및 상기 바인더 수지에 분산된 대전 방지제를 포함하는 하드 코팅 필름을 들 수 있다.
이에 따라, 상기 반사 방지 필름의 제조 방법은 광중합성 화합물 또는 이의 (공)중합체, 광개시제 및 대전 방지제를 포함한 하드 코팅층 형성용 고분자 수지 조성물을 기재 상에 도포하고 광경화하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 상기 단계를 통하여 하드 코팅층을 형성할 수 있다.
상기 하드 코팅층 형성에 사용되는 성분에 관해서는 상기 일 구현예의 반사 방지 필름에 관하여 상술한 바와 같다.
또한, 상기 하드 코팅층 형성용 고분자 수지 조성물은 알콕시 실란계 올리고머 및 금속 알콕사이드계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 포함할 수 있다.
상기 하드 코팅층 형성용 고분자 수지 조성물을 도포하는데 통상적으로 사용되는 방법 및 장치를 별 다른 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들어, Meyer bar 등의 바 코팅법, 그라비아 코팅법, 2 roll reverse 코팅법, vacuum slot die 코팅법, 2 roll 코팅법 등을 사용할 수 있다.
상기 하드 코팅층 형성용 고분자 수지 조성물을 광경화 시키는 단계에서는 200~400nm파장의 자외선 또는 가시 광선을 조사할 수 있고, 조사시 노광량은 100 내지 4,000 mJ/㎠ 이 바람직하다. 노광 시간도 특별히 한정되는 것이 아니고, 사용 되는 노광 장치, 조사 광선의 파장 또는 노광량에 따라 적절히 변화시킬 수 있다. 또한, 상기 하드 코팅층 형성용 고분자 수지 조성물을 광경화 시키는 단계에서는 질소 대기 조건을 적용하기 위하여 질소 퍼징 등을 할 수 있다.
본 발명에 따르면, 낮은 반사율 및 높은 투광율을 가지면서 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있고 디스플레이 장치의 화면의 선명도를 높일 수 있는 반사 방지 필름 및 상기 반사 방지 필름의 제조 방법이 제공될 수 있다.
발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
< 제조예 >
제조예 : 하드 코팅 필름의 제조
KYOEISHA사 염타입의 대전 방지 하드 코팅액(고형분 50중량%, 제품명:LJD-1000)을 트리아세틸 셀루로스 필름에 #10 mayer bar로 코팅하고 90℃에서 1분 건조한 이후, 150 mJ/㎠의 자외선을 조사하여 약 5 내지 6㎛의 두께를 갖는 하드 코팅 필름을 제조하였다.
< 실시예 1 내지 5: 반사 방지 필름의 제조>
실시예 1
(1) 저굴절층 제조용 광경화성 코팅 조성물의 제조
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 (PETA) 25.5 중량%, 함불소 화합물 (RS-537, DIC사) 5중량%, 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 4.5중량%, 다공성 무기 나노 입자(BJH 분석에 의한 미세 기공의 크기 약 4.1 ㎚, BET 표면적: 약 917.5 ㎡/g, 입자의 직경 약 20 ㎚, 3-메타크릴로일옥시프로필디메톡시실란으로 표면 처리됨) 65 중량%를 포함한 고형분을 MIBK(methyl isobutyl ketone) 에 고형분 농도 3.2 중량%가 되도록 희석하였다.
(2) 저굴절층 및 반사 방지 필름의 제조
상기 제조예의 하드 코팅 필름 상에, 상기에서 얻어진 광경화성 코팅 조성물을 #4 mayer bar로 두께가 약 110 내지 120㎚가 되도록 코팅하고, 60 ℃의 온도에서 1분간 건조 및 경화하였다. 상기 경화시에는 질소 퍼징하에서 상기 건조된 코팅물에 252 mJ/㎠의 자외선을 조사하였다.
실시예 2
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 (PETA) 27중량%, 함불소 화합물 (RS-537, DIC사) 5중량%, 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 4.5중량%, 다공성 무기 나노 입자(BJH 분석에 의한 미세 기공의 크기 약 4.5 ㎚, BET 표면적: 약 941.7 ㎡/g, 입자의 직경 약 23 ㎚, 3-메타크릴로일옥시프로필디메톡시실란으로 표면 처리됨) 65 중량%를 포함한 고형분을 MIBK(methyl isobutyl ketone) 에 고형분 농도 3.2 중량%가 되도록 희석하였다.
그리고, 실시예1과 동일한 방법으로 저굴절층 및 반사 방지 필름의 제조하였다.
실시예 3
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 (PETA) 20중량%, 함불소 화합물 (RS-537, DIC사) 5중량%, 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 4.5중량%, 다공성 무기 나노 입자(BJH 분석에 의한 미세 기공의 크기 약 3.9 ㎚, BET 표면적: 약 933.1 ㎡/g, 입자의 직경 약 21 ㎚, 3-메타크릴로일옥시프로필디메톡시실란으로 표면 처리됨) 70.5 중량%를 포함한 고형분을 MIBK(methyl isobutyl ketone) 에 고형분 농도 3.2 중량%가 되도록 희석하였다.
그리고, 실시예1과 동일한 방법으로 저굴절층 및 반사 방지 필름의 제조하였다.
실시예 4
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 (PETA) 30중량%, 함불소 화합물 (RS-537, DIC사) 5중량%, 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 4.5중량%, 다공성 무기 나노 입자(BJH 분석에 의한 미세 기공의 크기 약 4.2 ㎚, BET 표면적: 약 923.3 ㎡/g, 입자의 직경 약 22 ㎚, 3-메타크릴로일옥시프로필디메톡시실란으로 표면 처리됨) 60.5 중량%를 포함한 고형분을 MIBK(methyl isobutyl ketone) 에 고형분 농도 3.2 중량%가 되도록 희석하였다.
그리고, 실시예1과 동일한 방법으로 저굴절층 및 반사 방지 필름의 제조하였다.
< 비교예 : 반사 방지 필름의 제조>
비교예1
상기 실시예1에서 사용한 다공성 무기 나노 입자 65 중량% 대신에 중공형 실리카 나노 입자(직경: 약 50 내지 60 ㎚, 밀도: 1.96 g/㎤, JSC catalyst and chemicals사 제품) 65 중량%를 사용한 점을 제외하고, 상기 실시예1과 동일한 방법으로 저굴절층 제조용 광경화성 코팅 조성물을 제조하고, 실시예1과 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다.
비교예2
상기 실시예1에서 사용한 다공성 무기 나노 입자 65 중량% 대신에 중공형 실리카 나노 입자(직경: 약 60 내지 70 ㎚, JSC catalyst and chemicals사 제품) 65 중량%를 사용한 점을 제외하고, 상기 실시예1과 동일한 방법으로 저굴절층 제조용 광경화성 코팅 조성물을 제조하고, 실시예1과 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다.
비교예3
상기 실시예1에서 사용한 다공성 무기 나노 입자 65 중량% 대신에 다공성 무기 나노 입자(BJH 분석에 의한 미세 기공의 크기 약 4.8 ㎚, BET 표면적: 약 945.5 ㎡/g, 입자의 직경 약 85 ㎚) 65 중량%를 사용한 점을 제외하고, 상기 실시예1과 동일한 방법으로 저굴절층 제조용 광경화성 코팅 조성물을 제조하고, 실시예1과 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다.
< 실험예 : 반사 방지 필름의 물성 측정>
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름에 대하여 다음과 같은 항목의 실험을 시행하였다.
1. 반사 방지 필름의 평균 반사율 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름이 가시 광선 영역(380 내지 780㎚)에서 나타내는 평균 반사율을 Solidspec 3700(SHIMADZU) 장비를 이용하여 측정하였다.
2. 방오성 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 표면에 검은색 네임펜으로 5 ㎝길이의 직선을 그리고, 무진천을 이용하여 문질렀을 때 지워지는 횟수를 확인하여 방오성을 측정하였다.
<측정 기준>
O: 지워지는 시점이 10회 이하
△: 지워지는 시점이 11회 내지 20회
X: 지워지는 시점이 20회 초과
3. 내스크래치성 측정
상기 스틸울에 하중을 걸고 27 rpm의 속도로 10회 왕복하며 실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 표면을 문질렀다. 육안으로 관찰되는 1cm이하의 스크래치 1개 이하가 관찰되는 최대 하중을 측정하였다.
4. 헤이즈 측정
HM-150 장비를 이용하여 A 광원을 통해서 JIS K7105 규격으로 실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 헤이즈를 측정하였다.
평균반사율(%) 내스크래치성(g) 방오성 헤이즈 (%)
실시예1 0.27 300 0 0.2
실시예2 0.28 300 0 0.2
실시예3 0.21 300 0 0.2
실시예4 0.29 300 0 0.2
비교예1 0.60 50 X 0.2
비교예2 0.50 50 X 0.2
비교예3 0.4 50 X 0.6
　상기 표1에서 확인되는 바와 같이, 실시예 1내지 4의 반사 방지 필름은 기존에 알려진 반사 방지 필름이 구현하는 수준의 반사율에 비하여 크게 낮아진 반사율, 구체적으로 0.30%이하의 낮은 반사율을 나타낸다는 점이 확인되었다. 아울러, 상기 실시예 1 내지 4의 반사 방지 필름을 상술한 낮은 반사율과 함께 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있다는 점이 확인되었다.
이에 반해서, 비교예 1 내지 3의 반사 방지 필름 상대적으로 높은 평균 반사율을 보이면서 낮은 내스크레치성 및 방오성을 나타내며, 비교예 3의 반사 방지 필름의 경우 상대적으로 높은 헤이즈 값을 나타낸다는 점이 확인되었다.

Claims (20)

  1. 하드 코팅층; 및
    상기 하드 코팅층의 일면에 형성되며, 0.5㎚ 내지 10 ㎚의 직경을 갖는 미세 기공을 포함하는 5 ㎚ 내지 70 ㎚의 직경의 다공성 무기 나노 입자 및 바인더 수지를 포함한 저굴절층;을 포함하고,
    상기 저굴절층에 포함되는 바인더 수지는 광중합성 화합물의 (공)중합체 및 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 간의 가교 (공)중합체를 포함하고,
    상기 다공성 무기 나노 입자의 BET 표면적이 917.5 내지 2,000 ㎡/g이고,
    상기 저굴절층 중 상기 다공성 무기 나노 입자의 함량이 15 내지 80중량%이고,
    상기 다공성 무기 나노 입자의 표면에는 광반응성 작용기를 포함한 실란 화합물 또는 광반응성 작용기를 포함한 수산화 화합물이 결합되며,
    380㎚ 내지 780㎚의 가시 광선 파장대 영역에서 0.40% 이하의 평균 반사율을 나타내는, 반사 방지 필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 다공성 무기 나노 입자는 10 ㎚ 내지 60 ㎚의 직경을 갖는, 반사 방지 필름.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 저굴절층은 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 무기 나노 입자를 더 포함하는, 반사 방지 필름.
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서,
    상기 광중합성 화합물은 (메트)아크릴레이트 또는 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머를 포함하는, 반사 방지 필름.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 각각 2,000 내지 200,000의 중량평균분자량을 갖는, 반사 방지 필름.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 바인더 수지는 상기 광중합성 화합물의 (공)중합체 100중량부에 대하여 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물을 20 내지 300중량부로 포함하는, 반사 방지 필름.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 함불소 화합물에 포함되는 광반응성 작용기는 (메트)아크릴레이트기, 에폭사이드기, 비닐기(Vinyl) 및 싸이올기(Thiol)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 반사 방지 필름.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 i) 하나 이상의 광반응성 작용기가 치환되고, 적어도 하나의 탄소에 1이상의 불소가 치환된 지방족 화합물 또는 지방족 고리 화합물; ii) 1 이상의 광반응성 작용기로 치환되고, 적어도 하나의 수소가 불소로 치환되고, 하나 이상의 탄소가 규소로 치환된 헤테로(hetero) 지방족 화합물 또는 헤테로(hetero)지방족 고리 화합물; iii) 하나 이상의 광반응성 작용기가 치환되고, 적어도 하나의 실리콘에 1이상의 불소가 치환된 폴리디알킬실록산계 고분자; 및 iv) 1 이상의 광반응성 작용기로 치환되고 적어도 하나의 수소가 불소로 치환된 폴리에테르 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는,
    반사 방지 필름.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 하드 코팅층은 광경화성 수지를 포함한 바인더 수지; 및 상기 바인더 수지에 분산된 대전 방지제를 포함하는, 반사 방지 필름.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 하드 코팅층은 알콕시 실란계 올리고머 및 금속 알콕사이드계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 포함하는, 반사 방지 필름.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 광반응성 작용기를 포함한 실란 화합물은 비닐클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, p-스티릴트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드 및 3-이소시아네이토프로필트리에톡시실란으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는,
    반사 방지 필름.
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 삭제
KR1020170030172A 2016-03-11 2017-03-09 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법 Active KR101973195B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/KR2017/002639 WO2017155358A1 (ko) 2016-03-11 2017-03-10 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
CN201780003077.6A CN108027453B (zh) 2016-03-11 2017-03-10 减反射膜及其制备方法
US15/750,352 US11046827B2 (en) 2016-03-11 2017-03-10 Anti-reflective film and preparation method of the same
TW106107976A TWI654238B (zh) 2016-03-11 2017-03-10 抗反射膜及其製備方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160029338 2016-03-11
KR20160029338 2016-03-11

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190045686A Division KR102093950B1 (ko) 2016-03-11 2019-04-18 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170106231A KR20170106231A (ko) 2017-09-20
KR101973195B1 true KR101973195B1 (ko) 2019-04-26

Family

ID=60034175

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170030172A Active KR101973195B1 (ko) 2016-03-11 2017-03-09 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR1020190045686A Active KR102093950B1 (ko) 2016-03-11 2019-04-18 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190045686A Active KR102093950B1 (ko) 2016-03-11 2019-04-18 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11046827B2 (ko)
KR (2) KR101973195B1 (ko)
CN (1) CN108027453B (ko)
TW (1) TWI654238B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240008995A (ko) * 2022-07-12 2024-01-22 도레이첨단소재 주식회사 가스 배리어성을 갖는 반사방지필름

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100617590B1 (ko) * 2000-05-18 2006-09-04 주식회사 케이씨씨 왕겨를 이용한 고강도 복합판재 조성물과 이를 이용한복합판재의 제조방법
KR102267503B1 (ko) 2017-12-22 2021-06-21 주식회사 엘지화학 저반사 실리카 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 광학 부재
KR102267594B1 (ko) 2018-01-24 2021-06-18 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102257923B1 (ko) 2018-01-24 2021-05-27 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
US11201227B2 (en) * 2018-04-27 2021-12-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Gate structure with barrier layer and method for forming the same
KR102363073B1 (ko) 2020-04-14 2022-02-14 대구가톨릭대학교산학협력단 표면개질된 다공성 입자를 포함하는 광경화형 접착제 조성물
CN112127169B (zh) * 2020-08-18 2022-12-13 浙江科峰有机硅股份有限公司 含树莓状分级结构乳胶粒减反射涂层液的制备方法及应用
CN113201162B (zh) * 2021-03-25 2022-11-18 宁波惠之星新材料科技股份有限公司 一种耐刮擦的抗反射膜
CN113372744B (zh) * 2021-05-21 2022-07-19 武汉工程大学 一种高折射率丙烯酸类光学材料及其制备方法和用途
CN114620947B (zh) 2022-03-10 2023-03-17 福耀玻璃工业集团股份有限公司 车辆用憎水减反玻璃及其制造方法与夹层玻璃
WO2023198743A1 (en) 2022-04-14 2023-10-19 Optitune Oy Flexible multi-layered polysiloxane hard coating
WO2023198746A1 (en) 2022-04-14 2023-10-19 Optitune Oy Flexible multi-layered polysiloxane hard coating
WO2023198747A1 (en) 2022-04-14 2023-10-19 Optitune Oy Flexible monolayered polysiloxane hard coating

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005292646A (ja) * 2004-04-02 2005-10-20 Nitto Denko Corp 反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム
JP2006017870A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
JP2013001840A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Kao Corp 塗料組成物
JP2013231955A (ja) * 2012-04-06 2013-11-14 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板及びこれを用いた画像表示装置

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3862413B2 (ja) 1998-05-12 2006-12-27 富士フイルムホールディングス株式会社 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
WO2002000550A1 (fr) * 2000-06-26 2002-01-03 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Particules inorganiques fines et poreuses
JP5064649B2 (ja) 2003-08-28 2012-10-31 大日本印刷株式会社 反射防止積層体
JP4632403B2 (ja) 2004-03-26 2011-02-16 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム
JP5242883B2 (ja) 2005-01-20 2013-07-24 リンテック株式会社 反射防止フィルム
JP4887013B2 (ja) * 2005-03-18 2012-02-29 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム及びそれを用いたディスプレイ装置
US20080032053A1 (en) 2006-08-04 2008-02-07 Kostantinos Kourtakis Low refractive index composition
JP2009069317A (ja) 2007-09-12 2009-04-02 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム
US20100265580A1 (en) 2007-11-13 2010-10-21 Hansik Yun Coating composition for antireflection, antireflection film and method for preparing the same
JP2011503658A (ja) 2007-11-13 2011-01-27 エルジー・ケム・リミテッド 反射防止コーティング組成物、反射防止フィルムおよびその製造方法
JP5114438B2 (ja) 2008-02-13 2013-01-09 富士フイルム株式会社 光学フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置
JP5313587B2 (ja) 2008-07-31 2013-10-09 学校法人慶應義塾 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP5629973B2 (ja) 2009-01-26 2014-11-26 凸版印刷株式会社 低屈折率組成物および反射防止材の製造方法
JP2010196014A (ja) 2009-02-27 2010-09-09 Sony Corp 反射防止フィルム、及び紫外線硬化性樹脂材料組成物塗液
CN102471425B (zh) 2009-07-29 2015-03-04 日本化药株式会社 感光性树脂组合物、使用了该感光性树脂组合物的防反射膜和防反射硬涂膜
CN102576095B (zh) * 2009-10-16 2014-07-23 大日本印刷株式会社 光学薄膜以及显示面板
EP2514718A4 (en) 2009-12-18 2013-09-04 Kao Corp METHOD FOR PRODUCING MESOPOROUS SILICONE ARTICLES
GB201014024D0 (en) * 2010-08-20 2010-10-06 Oxford Energy Technologies Ltd Optical coating
JP5733564B2 (ja) 2011-02-24 2015-06-10 Dic株式会社 反射防止膜用組成物、それを用いた物品及び反射防止フィルム
KR101445437B1 (ko) 2011-02-28 2014-09-26 동국대학교 산학협력단 반사방지필름 및 그의 제조방법
US20130196140A1 (en) 2012-01-30 2013-08-01 Guardian Industries Corp. Coated article with antireflection coating including porous nanoparticles, and/or method of making the same
JP6307830B2 (ja) 2013-10-10 2018-04-11 日立化成株式会社 低屈折率膜及びその製造方法、反射防止膜及びその製造方法、並びに低屈折率膜用コーティング液セット
KR101781197B1 (ko) 2014-08-11 2017-09-22 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005292646A (ja) * 2004-04-02 2005-10-20 Nitto Denko Corp 反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム
JP2006017870A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
JP2013001840A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Kao Corp 塗料組成物
JP2013231955A (ja) * 2012-04-06 2013-11-14 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板及びこれを用いた画像表示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240008995A (ko) * 2022-07-12 2024-01-22 도레이첨단소재 주식회사 가스 배리어성을 갖는 반사방지필름
KR102809627B1 (ko) * 2022-07-12 2025-05-19 도레이첨단소재 주식회사 가스 배리어성을 갖는 반사방지필름

Also Published As

Publication number Publication date
US20180231690A1 (en) 2018-08-16
TWI654238B (zh) 2019-03-21
US11046827B2 (en) 2021-06-29
KR20170106231A (ko) 2017-09-20
CN108027453B (zh) 2019-12-27
CN108027453A (zh) 2018-05-11
KR102093950B1 (ko) 2020-03-27
TW201802169A (zh) 2018-01-16
KR20190042541A (ko) 2019-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101907652B1 (ko) 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR101973195B1 (ko) 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR101936370B1 (ko) 반사 방지 필름
KR101916943B1 (ko) 반사 방지 필름
KR102216567B1 (ko) 반사 방지 필름
KR101991928B1 (ko) 반사 방지 필름
JP6690808B2 (ja) 反射防止フィルムおよびその製造方法
KR20180102041A (ko) 저굴절층 형성용 광경화성 코팅 조성물
KR20180043687A (ko) 반사 방지 필름
WO2017078428A1 (ko) 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR101977933B1 (ko) 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR102361621B1 (ko) 반사 방지 필름
KR102340255B1 (ko) 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR101916944B1 (ko) 반사 방지 필름
WO2017155358A1 (ko) 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20170309

A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20170310

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20170309

Comment text: Patent Application

PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20180223

Patent event code: PE09021S01D

AMND Amendment
E90F Notification of reason for final refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Final Notice of Reason for Refusal

Patent event date: 20180725

Patent event code: PE09021S02D

AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
PE0601 Decision on rejection of patent

Patent event date: 20190114

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PE06012S01D

Patent event date: 20180725

Comment text: Final Notice of Reason for Refusal

Patent event code: PE06011S02I

Patent event date: 20180223

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event code: PE06011S01I

AMND Amendment
PX0901 Re-examination

Patent event code: PX09011S01I

Patent event date: 20190114

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PX09012R01I

Patent event date: 20180927

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event code: PX09012R01I

Patent event date: 20180423

Comment text: Amendment to Specification, etc.

PX0701 Decision of registration after re-examination

Patent event date: 20190322

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event code: PX07013S01D

Patent event date: 20190318

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event code: PX07012R01I

Patent event date: 20190114

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PX07011S01I

Patent event date: 20180927

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event code: PX07012R01I

Patent event date: 20180423

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event code: PX07012R01I

X701 Decision to grant (after re-examination)
A107 Divisional application of patent
PA0107 Divisional application

Comment text: Divisional Application of Patent

Patent event date: 20190418

Patent event code: PA01071R01D

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20190422

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20190422

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20220401

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20240320

Start annual number: 6

End annual number: 6