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KR101389269B1 - Method for sensing of substrate and Device for sensing of substrate in apparatus for manufacturing of FPD - Google Patents

Method for sensing of substrate and Device for sensing of substrate in apparatus for manufacturing of FPD Download PDF

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KR101389269B1
KR101389269B1 KR1020100139396A KR20100139396A KR101389269B1 KR 101389269 B1 KR101389269 B1 KR 101389269B1 KR 1020100139396 A KR1020100139396 A KR 1020100139396A KR 20100139396 A KR20100139396 A KR 20100139396A KR 101389269 B1 KR101389269 B1 KR 101389269B1
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Abstract

본 발명은 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치 및 기판 감지방법에 관한 것으로서, 서로 이웃하는 챔버 사이에 형성되는 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로에 감지수단이 설치되고, 이 감지수단에 의해 어느 한 챔버 내의 기판이 이웃하는 다른 챔버로 이송하기 위하여 상기 이동통로를 통과할 때, 그 유무 및 파손여부가 감지됨으로써, 기판의 감지거리가 매우 짧아져 기판의 유무 및 파손여부에 대한 감지효율이 향상되는 효과가 제공된다.The present invention relates to a substrate sensing apparatus and a substrate sensing method of a flat panel display device manufacturing apparatus, in which sensing means is installed in a moving passage of a gate valve assembly formed between adjacent chambers, When the substrate passes through the moving passage to be transferred to another adjacent chamber, the presence or absence of the substrate is detected and the detection distance of the substrate is extremely shortened, thereby improving the detection efficiency of presence or absence of the substrate and damage / RTI >

Description

평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치 및 기판 감지방법{Method for sensing of substrate and Device for sensing of substrate in apparatus for manufacturing of FPD}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a substrate detecting apparatus and a substrate detecting method for a flat panel display device manufacturing apparatus,

본 발명은 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치 및 기판 감지방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 평판표시소자 제조장비의 챔버 내로 이송되는 기판의 유무와 파손여부를 감지하기 위한 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치 및 기판 감지방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a substrate detecting apparatus and a substrate detecting method for a flat panel display device manufacturing apparatus, and more particularly, to a flat panel display device manufacturing apparatus for detecting presence or absence of a substrate transferred into a chamber of a flat panel display To a substrate sensing apparatus and a substrate sensing method.

일반적으로, 평판표시소자 제조장비는 내부에 평판표시소자 기판을 반입시키고, 플라즈마 등을 이용하여 식각 등의 처리를 실시하는데 사용된다.In general, the flat panel display device manufacturing equipment is used to carry a flat panel display device substrate therein, and to perform etching or the like using plasma or the like.

평판표시소자(Flat Panel Display)는 액정 표시소자(Liquid Cristal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등을 일컬으며, 이러한 평판표시소자의 제조장치는 기판의 표면처리 등을 위하여 진공처리용 장치를 이용하게 되는데, 일반적으로 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 로드락 챔버(Load Lock Chamber)(10), 반송 챔버(Transfer Chamber)(30) 및 공정 챔버(Process Chamber)(20) 등이 이용되고 있다.The flat panel display may be a liquid crystal display, a plasma display panel, an organic light emitting diode, or the like. As shown in FIGS. 1 and 2, a load lock chamber 10, a transfer chamber 30, and a process chamber 30 are provided. A process chamber 20 and the like are used.

로드락 챔버(10)는, 대기압 상태와 진공 상태를 번갈아 가면서 외부로부터 처리되지 않은 기판을 받아들이거나 처리가 끝난 기판을 외부로 반출하는 역할을 하고, 반송 챔버(30)는 기판을 각 챔버들 간에 반송하기 위한 운송 로봇이 구비되어 있어서 처리가 예정된 기판을 로드락 챔버(10)에서 공정 챔버(20)로 전달하거나, 처리가 완료된 기판을 공정 챔버(20)에서 로드락 챔버(10)로 전달하는 역할을 하며, 공정 챔버(20)는 진공 분위기 하에서 플라즈마를 이용하거나 열에너지를 이용하여 기판 상에 막을 성막하거나 에칭을 수행하는 역할을 한다.The load lock chamber 10 serves to receive the unprocessed substrate from the outside or to take out the processed substrate to the outside while alternating between the atmospheric pressure state and the vacuum state and the transfer chamber 30 is provided between the chambers A transfer robot for transferring a substrate to be processed is transferred from the load lock chamber 10 to the process chamber 20 or the processed substrate is transferred from the process chamber 20 to the load lock chamber 10 And the process chamber 20 serves to form a film on the substrate or perform etching using a plasma in a vacuum atmosphere or by using thermal energy.

이와 같이 구성되는 평판표시소자 제조장비의 작동과정을 설명하면 다음과 같다. 우선 기판수납장치(이하 '카세트'라 함)에 다수 적재된 기판을 운송 수단에 의해 로드락 챔버(10) 내로 반입시키고, 로드락 챔버(10) 내부를 진공으로 만들고 난 후, 운송 로봇을 이용하여 기판을 반송 챔버(30)로 이송시킨다.The operation of the apparatus for manufacturing a flat panel display device will now be described. First, a plurality of substrates stacked on a substrate storage device (hereinafter referred to as a cassette) are transported into the load lock chamber 10 by the transport means, and the inside of the load lock chamber 10 is evacuated, Thereby transferring the substrate to the transfer chamber 30.

다음에, 기판이 이송된 반송 챔버(30)는 진공 상태를 유지하는 다수의 공정 챔버(20)와 게이트 밸브 어셈블리(100)에 의해 연통되어 있는바, 반송 챔버(30)는 운송 로봇을 이용하여 각각의 공정 챔버(20)로 기판을 이송시켜 공정 챔버(20)에서 기판의 처리가 이루어지도록 하고, 처리가 끝난 기판은 다시 운송 로봇에 의해 반송 챔버(30)를 거쳐 로드락 챔버(10)로 이송시키게 되며, 로드락 챔버(10)는 진공상태가 해제되어 대기압 상태로 변환된 후, 운송 수단에 의해 처리가 완료된 기판을 다시 카세트에 적재시키게 된다.Next, the transfer chamber 30 to which the substrate is transferred is communicated with the gate valve assembly 100 by a plurality of process chambers 20 maintaining a vacuum state. The transfer chamber 30 is transferred by using a transfer robot The substrate is transferred to each of the process chambers 20 so that the substrate is processed in the process chamber 20 and the processed substrate is transferred again to the load lock chamber 10 through the transfer chamber 30 by the transfer robot And the load lock chamber 10 is released from the vacuum state to be converted into the atmospheric pressure state, and then the processed substrate is loaded on the cassette again by the transportation means.

한편, 반송 챔버(30)에는 운송 로봇에 의해 처리가 예정된 기판을 로드락 챔버(10)에서 공정 챔버(20)로 전달하거나, 처리가 완료된 기판을 공정 챔버(20)에서 로드락 챔버(10)로 전달하는 과정에서 기판의 유무와 파손여부를 감지하기 위한 감지수단이 설치되어 있다.On the other hand, in the transfer chamber 30, the substrate to be processed by the transfer robot is transferred from the load lock chamber 10 to the process chamber 20, or the processed substrate is transferred from the process chamber 20 to the load lock chamber 10, A sensing means for sensing the presence or absence of a substrate and whether or not the substrate is damaged is provided.

상기 감지수단은, 도 2에 도시된 바와 같이, 반송 챔버(30)의 상부면에 설치되는 레이저 센서(40)와, 반송 챔버(30)의 하부면에 설치되어 상기 레이저 센서(40)로부터 발생되는 레이저 빔을 편광시킨 후, 이를 레이저 센서(40)로 재반사시키는 반사판(50)을 포함하여 구성되어 있다.2, the detection means includes a laser sensor 40 installed on the upper surface of the transport chamber 30, and a sensor 40 mounted on the lower surface of the transport chamber 30, And a reflector 50 for polarizing the laser beam reflected by the laser sensor 40 and reflecting the laser beam to the laser sensor 40.

여기서, 상기 감지수단은 반사판(50)을 통하여 레이저 센서(40)로 재반사되어 온 레이저 빔의 파형을 검출하는 제어부와, 레이저 빔의 파형을 디스플레이 하는 디스플레이부 및 레이저 빔의 파형 변화를 감지하여 파손여부를 외부로 알리기 위한 경보기 등을 포함하기도 한다.
Here, the sensing means includes a control unit for detecting the waveform of the laser beam reflected by the laser sensor 40 through the reflection plate 50, a display unit for displaying the waveform of the laser beam, And an alarm for informing the outside of the damage or the like.

그러나, 최근에는 평판표시소자가 대형화 되고 있는 추세에 따라 기판 자체도 대면적의 것이 적용됨으로써, 반송 챔버(30)의 크기도 커지게 되고, 이에 반송 챔버(30)의 상부면과 하부면 사이의 간격이 멀어지게 된다. However, in recent years, due to the tendency that the flat panel display device is becoming larger, the substrate itself is also applied to a large area, so that the size of the transfer chamber 30 becomes larger, The distance becomes longer.

이에 따라 결국 반송 챔버(30)의 상부면에 설치되는 레이저 센서(40)와 반송 챔버(30)의 하부면에 설치되는 반사판(50)의 간격 또한 멀어지게 되는바, 레이저 빔의 이동거리가 멀어짐에 따라 감지효율이 좋지 못하여 기판의 유무 및 파손여부를 정확하게 감지할 수 없게 되는 문제점이 있었다.As a result, the distance between the laser sensor 40 provided on the upper surface of the transport chamber 30 and the reflector 50 provided on the lower surface of the transport chamber 30 is further distanced, There is a problem in that the detection efficiency is not good and the presence or absence of the substrate can not be accurately detected.

본 발명은 상기와 같은 제반 문제점들에 착안하여 안출된 것으로서, 기판의 유무 및 파손여부를 감지하기 위한 레이저 센서와 반사판의 간격을 최대한 줄임으로써, 상기 기판의 유무 및 파손여부 감지가 보다 확실하게 이루어지도록 한 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치 및 기판 감지방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Disclosure of the Invention The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to minimize the distance between a laser sensor and a reflector for detecting presence or absence of a substrate, And an object of the present invention is to provide a substrate sensing apparatus and a substrate sensing method of a flat panel display device manufacturing equipment.

특히, 본 발명은 로드락 챔버와 반송 챔버 또는 반송 챔버와 공정 챔버가 각각 진공인 상태에서, 게이트 밸브 어셈블리의 기판 이동통로에 감지장치를 설치함으로써, 레이저 센서와 반사판의 간격을 줄여 기판의 유무 및 파손여부 감지가 보다 확실하게 이루어지도록 한 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치 및 기판 감지방법을 제공하는데 목적이 있다.Particularly, the present invention provides a sensing device in the substrate transfer passage of the gate valve assembly in a state where the load lock chamber, the transfer chamber, or the transfer chamber and the process chamber are respectively in vacuum, thereby reducing the distance between the laser sensor and the reflection plate, And more particularly, to a substrate detecting apparatus and a substrate detecting method of a flat panel display device manufacturing apparatus which are capable of more surely detecting damage or breakage.

여기서, 상기 감지장치는 게이트 밸브가 개방되어 이웃하는 양 챔버가 이동통로에 의해 연통된 상태에서만 작동이 이루어지도록 함으로써, 상기 이동통로를 통과하여 기판이 이동할 경우에만 기판의 유무 및 파손여부 감지가 이루어지도록 하는 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치 및 기판 감지방법을 제공하는데 목적이 있다.
Here, the sensing device operates only when the gate valve is opened and the two adjacent chambers are in communication with each other by the moving passage, so that the presence or absence of the substrate is detected only when the substrate moves through the moving passage And a method of detecting a substrate of the flat panel display device manufacturing equipment.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치는, 로드락 챔버와 반송 챔버 또는 반송 챔버와 공정 챔버 사이에 형성되어 기판을 이웃하는 챔버로 이송시키기 위한 이동통로를 갖는 게이트 밸브 어셈블리에 있어서, 상기 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로에 설치되며, 상기 이동통로를 통과하여 어느 한 챔버 내의 기판이 이웃하는 다른 챔버로 이송될 때, 기판의 유무 및 파손여부를 감지하는 감지수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate sensing apparatus for a flat display device, including a load lock chamber, a transfer chamber or a transfer passage formed between a transfer chamber and a process chamber for transferring a substrate to an adjacent chamber, Wherein the gate valve assembly is installed in a moving passage of the gate valve assembly and when the substrate in one chamber is transported to another neighboring chamber through the moving passage, And means for controlling the operation of the apparatus.

이 경우, 상기 감지수단은 상기 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로를 따라 기판이 이송할 때, 상기 기판을 기준으로 어느 한쪽의 밸브 하우징 일측에 설치되는 레이저 센서와; 상기 기판을 기준으로 상기 레이저 센서와 대향되는 다른 한쪽에 설치되되, 수평이동에 따라 상기 레이저 센서와 동일 수직선상에 위치되거나 또는 동일 수직선상에 위치되지 않는 반사판을 포함하는 것이 바람직하다.In this case, the sensing means may include a laser sensor installed at one side of the valve housing with respect to the substrate when the substrate is transferred along the moving path of the gate valve assembly; And a reflection plate that is provided on the other side of the substrate opposite to the laser sensor and is positioned on the same vertical line or not on the same vertical line as the laser sensor according to the horizontal movement.

특히, 상기 반사판은, 승강 및 수평이동에 따라 이웃하는 양 챔버의 게이트 슬릿을 개폐시키게 되는 게이트 밸브의 개폐부에 설치되는 것이 더욱 바람직하다.In particular, it is more preferable that the reflection plate is installed at an opening and closing portion of a gate valve that opens and closes the gate slits of the two chambers adjacent to each other in accordance with the ascending and descending movement.

또한, 상기 감지수단은, 상기 레이저 센서와 상기 반사판이 동일 수직선상에 위치될 경우에만 작동이 이루어지는 것이 바람직하다.It is preferable that the sensing means is operated only when the laser sensor and the reflection plate are positioned on the same vertical line.

여기서, 상기 레이저 센서로부터 발생된 레이저 빔이 반사판을 통하여 레이저 센서로 재반사되었을 때, 상기 재반사되어 온 레이저 빔의 파형을 검출하는 제어부와, 레이저 빔의 파형을 디스플레이 하는 디스플레이부 및 레이저 빔의 파형 변화를 감지하여 파손여부를 외부로 알리기 위한 경보기 중, 어느 하나 이상을 더 포함할 수도 있다.
Here, the control unit detects a waveform of the re-reflected laser beam when the laser beam generated from the laser sensor is reflected again by the laser sensor through the reflection plate, a display unit for displaying the waveform of the laser beam, And an alarm for detecting a change in waveform and informing the outside whether the damage has occurred.

한편, 본 발명에 따른 평판표시소자 제조장비의 기판 감지방법은, 상기한 구성의 기판 감지장치를 이용하는 것으로서, (a) 어느 한 챔버 내에 존재하는 기판을 이웃하는 다른 챔버 내로 이송시키기 위하여 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로가 개방되는 단계; (b) 상기 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로 개방에 따라 기판 감지장치가 작동하는 단계; (c) 상기 기판 감지장치가 상기 이동통로를 통과하여 이웃하는 다른 챔버로 이송되는 기판의 유무 및 파손여부를 감지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
The substrate sensing method of the flat panel display device manufacturing equipment according to the present invention uses the substrate sensing device having the above-described configuration, wherein (a) a gate valve assembly Opening the transfer passage of the cartridge; (b) operating the substrate sensing device in accordance with opening the passage of the gate valve assembly; (c) detecting whether or not the substrate to be transferred to the adjacent chamber passes through the transfer passage and whether the substrate is damaged or not.

이상에서와 같이, 본 발명에 따른 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치 및 감지방법에 의하면, 게이트 밸브 어셈블리의 기판 이동통로에 감지장치가 설치됨으로써, 레이저 센서와 반사판의 간격을 줄어들어 결국 감지거리가 짧아지게 되는바, 기판의 유무 및 파손여부 감지가 보다 확실하게 이루어지게 되는 효과가 제공된다.As described above, according to the substrate sensing device and the sensing method of the flat panel display device manufacturing equipment according to the present invention, since the sensing device is installed in the substrate moving passage of the gate valve assembly, the distance between the laser sensor and the reflector is reduced, As a result, it is possible to more reliably detect the presence or absence of the substrate and whether or not the substrate is damaged.

특히 본 발명은, 게이트 밸브 어셈블리의 게이트 밸브가 개방되어 이웃하는 양 챔버가 이동통로에 의해 연통된 상태에서만 작동이 이루어짐으로써, 상기 이동통로를 통과하여 기판이 이동할 경우에만 기판의 유무 및 파손여부 감지가 이루어지게 되어 더욱 효율적인 감지를 실시할 수 있게 되는 효과가 제공된다.
Particularly, in the present invention, only when the gate valve of the gate valve assembly is opened and both chambers adjacent to each other are communicated with each other by the moving passage, only when the substrate moves through the moving passage, So that more efficient detection can be performed.

도 1은 종래의 일반적인 평판표시소자 제조장비 구성을 도시한 평면도.
도 2는 도 1에서 반송 챔버와 공정 챔버의 연관관계를 나타낸 측면도.
도 3a 내지 도 3c는 도 2의 요부 확대 단면도.1 is a plan view showing a conventional flat panel display device manufacturing equipment configuration.
FIG. 2 is a side view showing the relationship between the transfer chamber and the process chamber in FIG. 1; FIG.
Figs. 3A to 3C are enlarged sectional views of the main part of Fig. 2; Fig.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

평판표시소자의 제조장치는 기판의 표면처리 등을 위하여 진공처리용 장치를 이용하게 되는데, 로드락 챔버(10), 반송 챔버(30) 및 공정 챔버(20) 등이 이용되고 있다.The apparatus for manufacturing a flat panel display device uses a vacuum processing apparatus for surface treatment of a substrate, and a load lock chamber 10, a transfer chamber 30, and a process chamber 20 are used.

로드락 챔버(10)는, 대기압 상태와 진공 상태를 번갈아 가면서 외부로부터 처리되지 않은 기판을 받아들이거나 처리가 끝난 기판을 외부로 반출하는 역할을 하고, 반송 챔버(30)는 기판을 각 챔버들 간에 반송하기 위한 운송 로봇이 구비되어 있어서 처리가 예정된 기판을 로드락 챔버(10)에서 공정 챔버(20)로 전달하거나, 처리가 완료된 기판을 공정 챔버(20)에서 로드락 챔버(10)로 전달하는 역할을 하며, 공정 챔버(20)는 진공 분위기 하에서 플라즈마를 이용하거나 열에너지를 이용하여 기판 상에 막을 성막하거나 에칭을 수행하는 역할을 한다.The load lock chamber 10 serves to receive the unprocessed substrate from the outside or to take out the processed substrate to the outside while alternating between the atmospheric pressure state and the vacuum state and the transfer chamber 30 is provided between the chambers A transfer robot for transferring a substrate to be processed is transferred from the load lock chamber 10 to the process chamber 20 or the processed substrate is transferred from the process chamber 20 to the load lock chamber 10 And the process chamber 20 serves to form a film on the substrate or perform etching using a plasma in a vacuum atmosphere or by using thermal energy.

따라서, 로드락 챔버(10)와 반송 챔버(30) 사이에는, 진공상태를 이루며 기판을 이송시키기 위한 게이트 밸브 어셈블리(100)가 형성되어 있고, 반송 챔버(30)와 공정 챔버(20) 사이에도, 진공상태를 이루며 기판을 이송시키기 위한 게이트 밸브 어셈블리(100)가 형성되어 있다.A gate valve assembly 100 for transferring the substrate in a vacuum state is formed between the load lock chamber 10 and the transfer chamber 30 and a gate valve assembly 100 is provided between the transfer chamber 30 and the process chamber 20. [ , And a gate valve assembly (100) for transferring the substrate in a vacuum state is formed.

도 3a 내지 도 3c는 반송 챔버와 공정 챔버 사이에 형성된 게이트 밸브 어셈블리 구성을 나타낸 단면도서, 이를 참조로 하여 본 발명의 실시 예를 설명하기로 한다.FIGS. 3A-3C are cross-sectional views illustrating the configuration of a gate valve assembly formed between a transfer chamber and a process chamber, and an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 3a는 게이트 밸브가 이웃하는 양 챔버의 게이트 슬릿을 폐쇄한 상태의 단면도이고, 도 3b는 게이트 밸브의 개폐부가 이웃하는 양 챔버의 게이트 슬릿으로부터 수평이동하여 이격된 상태의 단면도이며, 도 3c는 게이트 밸브가 하강하여 이웃하는 양 챔버가 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로에 의해 걸림 없이 연통된 상태의 단면도이다.3A is a cross-sectional view of the gate valve in a state in which the gate slit of the two chambers adjacent to each other is closed, FIG. 3B is a cross-sectional view of the gate valve in which the gate valve is horizontally moved away from the gate slits of the neighboring chambers, Sectional view of the state in which the gate valve is lowered and both neighboring chambers are communicated without being interrupted by the movement passage of the gate valve assembly.

도시된 바와 같이, 반송 챔버(30)와 공정 챔버(20) 사이에는 기판(S)을 이송시키기 위한 게이트 밸브 어셈블리(100)가 형성되어 있다.As shown, a gate valve assembly 100 for transferring the substrate S is formed between the transfer chamber 30 and the process chamber 20.

게이트 밸브 어셈블리(100)는 진공상태를 이루는 일정공간의 이동통로(102)를 갖도록 밸브 하우징(104)에 의해 밀폐된 상태로 이루어지며, 양쪽으로 구비되는 반송 챔버(30)와 공정 챔버(20)의 게이트 슬릿(32,22)을 개폐시키게 된다.The gate valve assembly 100 is closed by the valve housing 104 so as to have a predetermined space travel path 102 in a vacuum state and is connected to the transfer chamber 30 and the process chamber 20, The gate slits 32 and 22 are opened and closed.

즉, 반송 챔버(30)는 그 일측에 형성된 게이트 슬릿(32)에 의해 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)와 개폐되고, 공정 챔버(20) 또한 그 일측에 형성된 게이트 슬릿(22)에 의해 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)와 개폐된다.The transfer chamber 30 is opened and closed by the gate slit 32 formed on one side of the transfer chamber 30 with the transfer passage 102 of the gate valve assembly 100 and the process chamber 20 and the gate slit 22 formed on one side thereof. And is opened / closed by the passage 102 of the gate valve assembly 100.

여기서, 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)에는 상하로 승강됨과 아울러 좌우로 슬라이드 됨에 따라 반송 챔버(30)와 공정 챔버(20)의 각 게이트 슬릿(32,22)을 개폐시키게 되는 게이트 밸브(110)를 포함한다.As the gate valve assembly 100 is moved upward and downward as well as slid to the left and right in the moving passage 102 of the gate valve assembly 100, the gate slits 32 and 22 of the transfer chamber 30 and the process chamber 20 are opened / And a valve 110.

상기 게이트 밸브(110)는, 밸브 하우징(104) 아래쪽에 설치되는 구동부(112)와, 이 구동부(112)의 작동에 의해 밸브 하우징(104) 내부에서 승강하게 되는 승강실린더(114)와, 이 승강실린더(114)의 단부쪽에 대하여 양쪽으로 설치되되, 수평방향으로 직선 이동됨에 따라 반송 챔버(30)와 공정 챔버(20)의 각 게이트 슬릿(32,22)을 개폐시키게 되는 개폐부(120)들을 포함하여 이루어져 있다.The gate valve 110 includes a driving part 112 provided below the valve housing 104 and a lifting cylinder 114 which is lifted and lowered within the valve housing 104 by the operation of the driving part 112, Closing portions 120 which are provided on both sides of the end portion of the lifting cylinder 114 and which open and close the gate slits 32 and 22 of the transfer chamber 30 and the process chamber 20 as they are linearly moved in the horizontal direction ≪ / RTI >

여기서, 승강실린더(114)의 단부와 개폐부(120)들을 신축이 가능한 벨로우즈 타입의 지지커버(122)에 의해 연결되어 있으며, 승강실린더(114)의 로드(116) 또한 벨로우즈 타입의 신축관(118)에 의해 감싸진 형태로 이루어져 있다.The rod 116 of the lifting cylinder 114 is also connected to the expansion and contraction tube 118 of the bellows type by a support cover 122 of a bellows type capable of expanding and contracting, ).

도 3a에 도시된 바와 같이, 게이트 밸브(110)의 개폐부(120)들이 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 차폐시키고 있는 상태에서, 어느 한 챔버 내의 기판(S)을 이웃하는 다른 챔버 내로 이송시키기 위하여 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)를 개방시키고자 할 경우에는, 먼저, 도 5b에 도시된 바와 같이 게이트 밸브(100)의 개폐부(120)들을 안쪽으로 수평이동시켜서 각 개폐부(120)들이 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)으로부터 이격되도록 한다.3A, in a state in which the opening and closing portions 120 of the gate valve 110 shield the gate slits 32 and 22 of the two chambers 30 and 20 adjacent to each other, The opening and closing portions 120 of the gate valve 100 are opened as shown in FIG. 5B, and then the opening / closing portions 120 of the gate valve assembly 100 are opened to open the moving passage 102 of the gate valve assembly 100, So that the opening / closing portions 120 are spaced apart from the gate slits 32 and 22 of the two chambers 30 and 20 adjacent to each other.

다음에, 도 5c에 도시된 바와 같이, 구동부(112)에 의해 승강실린더(114)를 하강시키게 되면, 승강실린더(114)의 로드(116) 단부 및 개폐부(120)들이 아래로 하강하게 됨으로써, 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)들은 수평상으로 걸림 없이 이동통로(102)와 연통된 상태가 된다.5C, when the lifting cylinder 114 is lowered by the driving unit 112, the end of the rod 116 of the lifting cylinder 114 and the opening and closing parts 120 are lowered downward, The gate slits 32 and 22 of the chambers 30 and 20 are communicated with the moving passage 102 without being hung in the horizontal direction.

이 상태에서, 어느 한 챔버 내의 기판(S)을 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)를 통과시켜 다른 챔버 내로 이송시키면 된다.In this state, the substrate S in one chamber may be passed through the moving passage 102 of the gate valve assembly 100 and transferred into another chamber.

한편, 기판(S)의 이송이 완료되어 이웃하는 양 챔버(30,22)를 폐쇄시키고자 할 경우에는, 상기의 역순에 의해 게이트 밸브(100)를 작동시켜 개폐부(120)들로 하여금 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 차폐시키면 된다.On the other hand, when the transfer of the substrate S is completed and the neighboring chambers 30 and 22 are to be closed, the gate valve 100 is operated in the reverse order as described above, The gate slits 32 and 22 of the chambers 30 and 20 may be shielded.

또한, 게이트 밸브 어셈블리(100)의 밸브 하우징(104) 상부에는 레이저 센서(200)가 설치되어 있는데, 이 레이저 센서(200)로부터 발생되는 레이저 빔은 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)로 통과된다.A laser sensor 200 is installed on the valve housing 104 of the gate valve assembly 100. The laser beam emitted from the laser sensor 200 is transmitted to the moving passage 102 of the gate valve assembly 100, .

한편, 게이트 밸브(110)의 개폐부(120) 상면에는 레이저 센서(200)로부터 발생된 레이저 빔을 다시 상기 레이저 센서(200)로 재반사하는 반사판(210)이 설치되어 있다.A reflection plate 210 for reflecting the laser beam generated from the laser sensor 200 back to the laser sensor 200 is provided on the upper surface of the opening and closing part 120 of the gate valve 110.

상기 레이저 센서(200)는, 게이트 밸브(110)가 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 개방시킨 상태, 즉 도 5b 및 5c에 도시된 바와 같이, 게이트 밸브(30,20)의 개폐부(120)들이 안쪽으로 수평이동된 상태에서, 상기 개폐부(120)의 상면에 설치된 반사판(210)과 동일 수직선상을 이루는 위치에 형성되어 있다.The laser sensor 200 is operated in a state in which the gate valve 110 opens the gate slits 32 and 22 of the two chambers 30 and 20 adjacent to each other, that is, as shown in FIGS. 5B and 5C, 30 and 20 are horizontally moved inward and are formed at the same vertical line as the reflector 210 provided on the upper surface of the opening and closing part 120. [

다시 말해서, 도 5a에 도시된 바와 같이, 게이트 밸브(110)의 양 개폐부(120)가 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 차폐시킨 상태에서는, 레이저 센서(200)와 반사판(210)이 동일 수직선상에 위치되지 않고, 게이트 밸브(110)의 양 개폐부(120)가 안쪽으로 수평이동하여 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 개방시킨 상태에서만 레이저 센서(200)와 반사판(210)이 동일 수직선상에 위치하게 된다.5A, in a state in which both opening and closing portions 120 of the gate valve 110 shield the gate slits 32 and 22 of the two chambers 30 and 20 adjacent to each other, the laser sensor 200 And the reflection plate 210 are not positioned on the same vertical line and both opening and closing portions 120 of the gate valve 110 move horizontally inward so that the gate slits 32 and 22 of the two adjacent chambers 30 and 20 The laser sensor 200 and the reflection plate 210 are positioned on the same vertical line only in the opened state.

따라서, 레이저 센서(200)와 반사판(210)을 포함하는 감지수단은, 게이트 밸브(110)가 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 차폐시키고 있는 상태에서는 작동이 이루어지지 않고, 게이트 밸브(110)가 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 개방시킨 상태에서만 작동이 이루어지게 된다.Therefore, the sensing means including the laser sensor 200 and the reflection plate 210 is operated in a state in which the gate valve 110 shields the gate slits 32 and 22 of the two chambers 30 and 20 adjacent thereto The operation is performed only when the gate valve 110 opens the gate slits 32 and 22 of the two chambers 30 and 20 adjacent to each other.

참고로, 별도로 도시되지는 않았지만, 본 발명의 실시 예에 따른 기판 감지장치는, 반사판(210)을 통하여 레이저 센서(200)로 재반사되어 온 레이저 빔의 파형을 검출하는 제어부와, 레이저 빔의 파형을 디스플레이 하는 디스플레이부 및 레이저 빔의 파형 변화를 감지하여 파손여부를 외부로 알리기 위한 경보기 등을 더 포함할 수도 있다.
For reference, although not shown separately, the substrate sensing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a controller for detecting a waveform of a laser beam reflected by the laser sensor 200 through the reflection plate 210, A display unit for displaying a waveform, and an alarm for detecting a change in the waveform of the laser beam and informing the outside of the damage.

상기와 같은 구성으로 이루어진 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치 작동관계 및 그 감지방법을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operation of the substrate sensing apparatus and the sensing method thereof in the flat panel display device manufacturing equipment having the above-described structure will be described.

먼저, 도 5a에 도시된 바와 같이, 게이트 밸브 어셈블리(100)에서 게이트 밸브(110)의 양 개폐부(120)가 서로 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 차폐시키고 있는 상태에서는, 레이저 센서(200)와 반사판(210)이 동일 수직선상에 위치되지 않음으로써, 감지수단이 작동되지 않는다.First, as shown in FIG. 5A, in the gate valve assembly 100, both opening and closing portions 120 of the gate valve 110 shield the gate slits 32 and 22 of the two chambers 30 and 20 adjacent to each other The laser sensor 200 and the reflection plate 210 are not located on the same vertical line, so that the sensing means is not operated.

이 상태에서, 어느 한 챔버 내에 위치하는 기판(S)을 이웃하는 다른 챔버로 이송시키기 위하여 게이트 밸브(110)가 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 개방시키는 상태가 되면 감지수단이 비로소 작동하게 된다.In this state, when the gate valve 110 is in a state of opening the gate slits 32 and 22 of the chambers 30 and 20 in order to transfer the substrate S located in one chamber to another neighboring chamber The sensing means will only operate.

즉, 도 5b에 도시된 바와 같이, 게이트 밸브(110)의 양 개폐부(120)가 안쪽으로 수평이동을 하여 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)으로부터 이격된 상태가 되어, 상기 개폐부(120)의 상면에 설치된 반사판(210)이 밸브 하우징(104)에 설치된 레이저 센서(200)와 동일 수직선상을 이루게 되면, 감지수단이 작동하게 된다.5B, when both the opening and closing parts 120 of the gate valve 110 horizontally move inward, the state of being separated from the gate slits 32 and 22 of the two adjacent chambers 30 and 20 When the reflection plate 210 provided on the upper surface of the opening and closing part 120 is formed in the same vertical line as the laser sensor 200 installed in the valve housing 104, the sensing means operates.

계속해서, 게이트 밸브(110)가 승강실린더(114)의 하강으로 승강실린더 로드(116)의 단부 및 개폐부(120)들이 아래로 하강하게 되어, 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)들이 이동통로(102)와 수평상으로 걸림 없이 연통된 상태에서도 레이저 센서(200)와 반사판(210)은 동일 수직선상을 이룸으로써, 감지수단은 작동이 되며, 이 상태에서, 어느 한 챔버 내의 기판(S)을 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)를 통과시켜 이웃하는 다른 챔버 내로 이송시키면 되면, 이송되는 기판(S)은 감지수단에 의해 그 유무 및 파손여부가 감지된다.Subsequently, the gate valve 110 moves down the lower end of the lifting cylinder rod 116 and the opening and closing portions 120 of the lifting cylinder 114 downward to move the gate slit (not shown) of the adjacent two chambers 30 and 20 32 and 22 are communicated with the moving path 102 without being engaged with each other in the horizontal direction, the laser sensor 200 and the reflecting plate 210 form the same vertical line, so that the sensing means operates. In this state, When the substrate S in one chamber is transported through the moving passage 102 of the gate valve assembly 100 into another chamber adjacent to the substrate S, the transported substrate S is detected by the sensing means, do.

이와 같이, 어느 한 챔버 내의 기판(S)이 게이트 밸브의 개방으로 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)를 통과하여 다른 챔버로 이송될 때, 레이저 센서(200)에서 발생된 레이저 빔은 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)를 지나는 기판(S)을 통과한 후, 이 기판(S)의 아래쪽 즉, 게이트 밸브(110)의 개폐부(120) 상면에 위치하는 반사판(210)에 의해 레이저 센서(200)로 재반사된다. 이때, 레이저 센서(200)는 재반사된 레이저 빔의 파형을 제어부에 송신하고, 제어부는 송신된 파형을 비교,판독하여 기판의 유무 또는 파손여부를 검출하게 되고 검출된 값을 디스플레이부에 디스플레이 시킴과 아울러 예 입력된 기준값과 다를 경우 경보기를 통해 경보음을 발생시켜 이상여부를 외부에 알리게 된다.Thus, when the substrate S in one of the chambers is passed through the moving passage 102 of the gate valve assembly 100 to the other chamber with the opening of the gate valve, the laser beam generated from the laser sensor 200 After passing through the substrate S passing through the moving passage 102 of the gate valve assembly 100, the reflection plate 210 located below the substrate S, that is, on the upper surface of the opening and closing part 120 of the gate valve 110, And is reflected again by the laser sensor 200. At this time, the laser sensor 200 transmits the waveform of the re-reflected laser beam to the control unit, and the control unit compares and reads the transmitted waveform to detect presence or absence of the substrate, and displays the detected value on the display unit And if it is different from the reference value inputted in the example, an alarm sound is generated through the alarm to inform the outside of the abnormality.

한편, 어느 한 챔버로부터 이웃하는 다른 챔버로의 기판 이송이 완료되어, 게이트 밸브(110)가 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)을 차폐시킨 상태에서는, 게이트 밸브(110)의 개폐부(120)가 수평이동하여 레이저 센서(200)와 동일 수직선상에 위치되지 않는바, 레이저 센서(200)에서 레이저 빔이 발생되더라도 반사판(210)에서 재반사가 이루어지지 않아 감지가 이루어지지 않게 되는데, 이 경우에는 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)를 통해 기판이 이송되지 않는 상태이므로 감지가 이루어지지 않아도 무방하다.On the other hand, when the substrate transfer from one chamber to another adjacent chamber is completed and the gate valve 110 shields the gate slits 32 and 22 of the two chambers 30 and 20, The opening and closing part 120 of the laser sensor 200 is horizontally moved and is not located on the same vertical line as the laser sensor 200. Even if a laser beam is generated by the laser sensor 200, In this case, since the substrate is not transferred through the moving passage 102 of the gate valve assembly 100, it is not necessary to detect the substrate.

즉, 본 발명은 게이트 밸브(110)가 개방되어 이웃하는 양 챔버(30,20)의 게이트 슬릿(32,22)이 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)와 연통되고, 이에 따라 기판(S)이 상기 이동통로(102)를 통과하여 이송중일 경우에만 짧은 거리에서 감지수단이 작동하게 되는 것이 특징이라 할 것이다.That is, in the present invention, the gate valve 110 is opened so that the gate slits 32 and 22 of the two adjacent chambers 30 and 20 communicate with the moving passage 102 of the gate valve assembly 100, The sensing means is operated at a short distance only when the moving object S is passing through the moving passage 102 and is being transported.

이상에서와 같이, 게이트 밸브 어셈블리(100)의 이동통로(102)에 감지수단이 설치되되, 이 감지수단을 이루는 레이저 센서(200)가 게이트 밸브 어셈블리(100)의 밸브 하우징(104)에 설치되고, 이에 대응하는 반사판(210)이 게이트 밸브(110)의 개폐부(120) 상면에 설치됨으로써, 레이저 센서(200)와 반사판(210)의 간격이 매우 짧아져 결국 레이저 빔의 이동거리가 단축되는바, 그 감지효율이 매우 향상된다.
As described above, the detecting means is installed in the moving path 102 of the gate valve assembly 100, and the laser sensor 200 constituting the detecting means is installed in the valve housing 104 of the gate valve assembly 100 The gap between the laser sensor 200 and the reflection plate 210 is extremely shortened and the moving distance of the laser beam is shortened because the reflection plate 210 corresponding thereto is provided on the upper surface of the opening and closing part 120 of the gate valve 110 , The detection efficiency is greatly improved.

참고로, 본 발명의 실시 예를 뒷받침하는 실시 도면인 도 3a 내지 도 3c에서, 밸브 하우징(104)의 일측에 하나의 레이저 센서(200)가 설치되고, 이에 대응되도록 양쪽의 개폐부(120) 중, 어느 한 쪽의 개폐부(120) 상면에만 반사판(210)이 설치되어 한 쌍의 감지수단만 설치된 것을 일예로 도시하였으나, 양 개폐부(120) 상면에 각각 반사판(210)이 설치되고, 이에 대응하도록 밸브 하우징(104)에 두 개의 레이저 센서(200)가 설치되어 2단계에 걸쳐 기판의 유무 및 파손여부를 감지하도록 할 수도 있을 것이다.3A to 3C, which illustrate the embodiment of the present invention, one laser sensor 200 is installed on one side of the valve housing 104, and one of the opening / closing portions 120 The reflective plate 210 is provided on only one of the opening and closing portions 120 and only one pair of sensing means is provided. However, the reflective plate 210 is provided on the upper surface of both the opening and closing portions 120, Two laser sensors 200 may be installed in the valve housing 104 to detect whether the substrate is present or damaged in two steps.

또한, 본 발명의 실시 예에서 어느 하나의 챔버는 반송 챔버(30), 다른 하나의 챔버는 공정 챔버(20)인 것을 일예로 들어 설명하였으나, 서로 이웃하는 양 챔버는 로드락 챔버(10)와 반송 챔버(30)일 수도 있고, 이 경우 로드락 챔버(10)와 반송 챔버(30)를 연결하는 게이트 밸브 어셈블리에도 상기와 동일한 구성을 적용하여 동일한 작용효과를 얻을 수 있음은 물론이다.
In the embodiment of the present invention, any one of the chambers is referred to as the transfer chamber 30 and the other chamber is referred to as the process chamber 20. However, the two adjacent chambers are connected to the load lock chamber 10 The same operation and effect can be obtained by applying the same configuration to the gate valve assembly connecting the load lock chamber 10 and the transfer chamber 30 in this case.

이상에서와 같은 본 발명의 실시 예에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수도 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시 예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시 예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
The technical ideas described in the embodiments of the present invention as described above may be performed independently of each other, or may be implemented in combination with each other. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications, and variations will be apparent to those skilled in the art. It is possible. Accordingly, the technical scope of the present invention should be determined by the appended claims.

S : 기판 10 : 로드락 챔버
20 : 공정 챔버 22 : 게이트 슬릿(공정 챔버)
30 : 반송 챔버 32 : 게이트 슬릿(반송 챔버)
100 : 게이트 밸브 어셈블리 102 : 이동통로
104 : 밸브 하우징 110 : 게이트 밸브
120 : 개폐부 200 : 레이저 센서
210 : 반사판S: substrate 10: load lock chamber
20: process chamber 22: gate slit (process chamber)
30: transfer chamber 32: gate slit (transfer chamber)
100: gate valve assembly 102:
104: valve housing 110: gate valve
120: opening and closing part 200: laser sensor
210: reflector

Claims (6)

로드락 챔버와 반송 챔버 또는 반송 챔버와 공정 챔버 사이에 형성되어 기판을 이웃하는 챔버로 이송시키기 위한 이동통로를 갖는 게이트 밸브 어셈블리에 있어서,
상기 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로에 설치되며, 상기 이동통로를 통과하여 어느 한 챔버 내의 기판이 이웃하는 다른 챔버로 이송되기 위하여 상기 이동통로가 개방될 경우에 기판의 유무 및 파손여부를 감지하는 감지수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치.
A gate valve assembly having a load lock chamber and a transfer chamber formed between a transfer chamber and a process chamber for transferring a substrate to an adjacent chamber,
A sensing means installed in a moving passage of the gate valve assembly and sensing whether the substrate is present or damaged when the moving passage is opened so that the substrate in one chamber passes through the moving passage to another adjacent chamber, Wherein the substrate is a flat panel display device.
제 1항에 있어서,
상기 감지수단은,
상기 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로를 따라 기판이 이송할 때, 상기 기판을 기준으로 어느 한쪽의 밸브 하우징 일측에 설치되는 레이저 센서와;
상기 기판을 기준으로 상기 레이저 센서와 대향되는 다른 한쪽에 설치되되, 수평이동에 따라 상기 레이저 센서와 동일 수직선상에 위치되거나 또는 동일 수직선상에 위치되지 않는 반사판을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치.
The method according to claim 1,
Wherein the sensing means comprises:
A laser sensor installed at one side of the valve housing with respect to the substrate when the substrate is transferred along the movement path of the gate valve assembly;
And a reflection plate provided on the other side of the substrate opposite to the laser sensor and positioned on the same vertical line or not on the same vertical line as the laser sensor according to the horizontal movement. Substrate sensing device in manufacturing equipment.
제 2항에 있어서,
상기 반사판은, 승강 및 수평이동에 따라 이웃하는 양 챔버의 게이트 슬릿을 개폐시키게 되는 게이트 밸브의 개폐부에 설치된 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the reflection plate is installed at an opening and closing part of a gate valve that opens and closes a gate slit of adjacent chambers in accordance with elevation and horizontal movement.
제 2항에 있어서,
상기 감지수단은, 상기 레이저 센서와 상기 반사판이 동일 수직선상에 위치될 경우에만 작동이 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the sensing means is operated only when the laser sensor and the reflection plate are positioned on the same vertical line.
제 2항에 있어서,
상기 레이저 센서로부터 발생된 레이저 빔이 반사판을 통하여 레이저 센서로 재반사되었을 때, 상기 재반사되어 온 레이저 빔의 파형을 검출하는 제어부와, 레이저 빔의 파형을 디스플레이 하는 디스플레이부 및 레이저 빔의 파형 변화를 감지하여 파손여부를 외부로 알리기 위한 경보기 중, 어느 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치.
3. The method of claim 2,
A control unit for detecting a waveform of the re-reflected laser beam when the laser beam generated from the laser sensor is re-reflected to the laser sensor through the reflector, a display unit for displaying the waveform of the laser beam, And an alarm for informing the outside of whether or not the substrate is damaged. The apparatus for detecting a substrate of a flat panel display device according to claim 1,
청구항 1 내지 청구항 5 중, 어느 하나의 청구항에 기재된 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치를 이용한 기판 감지방법에 있어서,
(a) 어느 한 챔버 내에 존재하는 기판을 이웃하는 다른 챔버 내로 이송시키기 위하여 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로가 개방되는 단계;
(b) 상기 게이트 밸브 어셈블리의 이동통로 개방에 따라 기판 감지장치가 작동하는 단계;
(c) 상기 기판 감지장치가 상기 이동통로를 통과하여 이웃하는 다른 챔버로 이송되는 기판의 유무 및 파손여부를 감지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장비의 기판 감지방법.A substrate sensing method using a substrate sensing apparatus of a flat panel display device manufacturing equipment according to any one of claims 1 to 5,
(a) opening a travel passage of a gate valve assembly to transfer a substrate present in a chamber into another neighboring chamber;
(b) operating the substrate sensing device in accordance with opening the passage of the gate valve assembly;
(c) detecting whether or not the substrate is transferred to the adjacent chamber through the transfer passage, and whether the substrate is damaged or not.
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