KR101161032B1 - 가식 시트와 가식 성형품 및 사출성형 동시 가식 방법 - Google Patents
가식 시트와 가식 성형품 및 사출성형 동시 가식 방법 Download PDFInfo
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Abstract
투명 수지 기재 시트 시트(1)의 이면에 광휘성층(2)이 적층되고, 투명 수지 기재 시트(1)의 표면은 고광택 영역(H)과 저광택 영역(L)으로 구획되어 있다. 투명 수지 기재 시트(1)의 두께는 고광택 영역에서 두껍고, 저광택 영역에서 얇게 되어 있어, 고광택 영역 및 저광택 영역에 대응한 요철모양을 시각적으로 발현시키게 된다. 이 투명 수지 기재 시트(1)는 결정성 수지(11)와 비결정성 수지(12)의 2층 구조로 되어 있다. 이 가식 시트를 수지 성형품(5)에 적층해서 가식 성형품(Pd)이 얻어지게 된다.
Description
본 발명은, 요철(凹凸)모양의 입체 의장감을 가진 가식(加飾) 시트와 이를 이용한 가식 성형품 및 가식 성형품을 성형하는 사출성형 동시 가식 방법에 관한 것이다.
피착체로서의 수지성형물 표면에 가식 시트를 일체화함으로써 가식한 가식 성형품이 각종 용도로 사용되고 있다. 이와 같은 가식 성형품을 얻는 대표적인 방법으로는, 수지성형물의 성형과 동시에 가식 시트를 적층시켜 일체화하는 사출성형 동시 가식 방법이 있다(특허문헌 1 ~ 6 참조).
또, 사출성형 동시 가식 방법에서, 가식 성형품의 표면에 예컨대 나뭇결 모양 홈과 같은 요철모양을 형성시켜 입체 의장감을 부여하는 경우에는, 예컨대 다음의 (1) ~ (4)와 같이 하고 있다.
(1) 사출성형 몰드의 캐비티면에 부형용 요철모양을 형성시켜, 사출성형 후의 가식 성형품의 표면(가식 시트 표면)에 요철모양을 부형(賦形)한다.
(2) 가식 시트의 기재 시트에 아크릴계 수지 등의 열가소성 수지의 수지 시트를 이용해서, 당해 기재 시트에 열압(熱壓)을 가하는 엠보씽가공을 실시해서 요 철모양을 부형해 놓은 가식 시트를 사용한다.
(3) 스크린 인쇄 등에 의한 인쇄로 요철모양을 표현한다.
(4) 자외선 경화성 수지 등의 경화성 수지 잉크에 의한 돋을 인쇄로 가식 시트에 요철모양을 부여해 놓는다. 예컨대, 전리방사선 경화성 수지 잉크를 롤 요판(부형판, 성형판 동체(胴體)라고도 부름)의 적어도 오목부에 충전함과 더불어 당해 잉크에 수지 시트를 접촉시켜, 당해 잉크가 수지 시트와 롤 요판 사이에 보유되어 있는 상태에서 전리방사선을 조사해서 당해 잉크를 경화시킨다. 그 후, 수지 시트를 롤 요판에서 박리(剝離)함으로써, 수지 시트 상에 당해 잉크의 경화물로 된 요철모양을 부여한다(특허문헌 3 ~ 6 참조).
특허문헌 1 : 일본국 특공소 50-19132호 공보
특허문헌 2 : 일본국 특공소 43-27488호 공보
특허문헌 3 : 일본국 특개소 57-87318호 공보
특허문헌 4 : 일본국 특공소 57-22755호 공보
특허문헌 5 : 일본국 특공소 63-50066호 공보
특허문헌 6 : 일본국 특개평 7-32476호 공보
그러나, 상기 (1) ~ (4)의 방법에서는 다음의 같은 결점이 있었다. 즉, (1)의 성형품을 사출성형할 때 사출성형 몰드로 엠보씽을 실시하는 방법으로는, 엠보씽 면이 성형품 표면에 한정되어버려, 내부에 요철모양을 부여할 수가 없다. 더구나, 사출성형 몰드의 캐비티면을 부형 몰드로 해서 요철면으로 해 놓을 필요가 있기 때문에, 요철모양의 의장을 변경할 때는, 성형품의 형상이 같더라도 고가인 사 출성형 몰드마다 교환을 해야만 하게 되어, 요철모양을 자유로이 바꿀 수가 없었다.
다음, (2)의 기재 시트에 열가소성 수지 시트를 이용하는 경우에는, 성형품의 입체면을 가식하기 위해, 사출성형 공정에 앞서 진공성형 공정으로 가식 시트를 예비성형을 할 때, 가식 시트를 예비성형하는 열에 의해 엠보씽된 요철모양의 요철형상이 원래대로 되돌려지게 되고 만다는 문제가 있었다.
다음, (3)의 스크린 인쇄 등의 인쇄 수법으로 요철모양을 부형하는 경우에는, 잉크의 전이량(轉移量)에 한도가 있고, 그것이 적기 때문에, 엠보씽에 의한 요철모양만큼 입체감이 얻어지지 않게 된다.
그리고, (4)의 롤 요판 같은 것을 사용한 자외선 경화성 수지 등에 의한 돋을 인쇄에 의한 경우에는, 상기 (3)의 인쇄 수법에 비해 보다 입체감이 뛰어난 요철모양을 부형할 수 있게 된다. 그러나, 일반적으로 수지 시트 측에서 자외선을 조사해서 요철모양을 경화 형성하는 관계상, 수지 시트에 투명 시트를 사용하지 않으면 요철모양을 부여할 수가 없게 된다. 또, 가식 시트에 통상적인 인쇄에 의한 장식층을 형성하는 경우, 인쇄보다도 앞에 요철모양을 부여하면, 그 요철모양에 의해 인쇄시에 인쇄누락이라고 하는 인쇄불량이 발생하기 쉬웠다.
본 발명은, 요철모양의 입체 의장감을 가진 가식 시트를 제공하는 것이다. 보다 상세하게는, 가식 시트를 진공성형 등으로 열성형(熱成形)하더라도, 시트 표면 및 내면에 설치된 요철로 표현되는 요철모양의 입체 의장감이 소실되기 어려운 가식 시트를 제공하는 것이다. 또, 이와 같은 가식 시트를 이용한 가식 성형품을 제공하는 것이다. 또한, 이와 같은 가식 성형품이 쉽게 얻어지는 사출성형 동시 가식 방법을 제공하는 것으로, 그 진공성형에 의한 예비성형 또는 사출성형 후에도, 가식 시트 단계의 요철모양의 입체 의장감이 소실되지 않는 가식 방법을 제공하는 것이다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 가식 시트는, 투명 수지 기재(基材) 시트와, 이 투명 수지 기재 시트의 이면에 설치된 광휘성층(光輝性層)을 갖추어 이루어지되, 상기 투명 수지 기재 시트의 표면이, 상대적으로 주위보다 광택이 높은 고광택 영역과, 상대적으로 상기 고광택 영역보다 광택이 낮은 저광택 영역으로 구획되고, 상기 투명 수지 기재 시트의 두께가, 고광택 영역에서는 상대적으로 주위보다 두껍고, 저광택 영역에서는 상대적으로 상기 고광택 영역보다 얇게 되어 있어서, 이들 고광택 영역의 두께 및 저광택 영역의 두께에 대응한 요철모양이 시각적으로 발현되도록 되어 있는 것을 특징으로 한다.
이와 같이 구성됨으로써, 표면의 고저광택 영역과 이에 대응한 시트 내부의 요철에 의해, 요철모양을 시각적으로 느끼게 하는 입체 의장감이 얻어지게 된다.
또, 본 발명은 투명 수지 기재 시트와 광휘성층(luster layer) 사이에 광휘성층의 광휘성을 완전히 은폐시키지 않을 정도의 장식층이 설치된 것을 특징으로 하는 가식 시트이다.
이와 같이 구성됨으로써, 보다 높은 의장(意匠)의 가식 시트를 실현할 수 있게 된다.
또 본 발명은 광휘성층의 이면에 열가소성 수지로 된 뒷받침 시트가 설치된 것을 특징으로 하는 가식 시트이다.
이와 같이 구성됨으로써, 용도와, 성형성, 의장성 등의 점에서, 뒷받침 시트 없이는 가식 시트 전체로서의 시트 총 두께가 불충분한 경우에, 이 뒷받침 시트로 가식 시트 총 두께를 보충할 수가 있게 된다. 또, 가식 시트의 이면 측의 층이 가식 시트의 피착체인 수지성형물 등과의 밀착성이 불충분한 경우에, 당해 수지성형물 등의 피착체와의 밀착성이 좋은 수지로 뒷받침 시트를 구성시켜 밀착성의 향상을 도모할 수 있게 된다.
또 본 발명은 투명 수지 기재 시트의 이면(裏面) 중 고광택 영역에 대응한 부분에 이면방향을 향해 볼록하게 된 볼록부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 가식 시트이다.
이 구성은, 투명 수지 기재 시트의 두께를 표면의 고광택 영역을 저광택 영역보다 상대적으로 두껍게 하기 위한 구체적 구성의 한 예를 명시한 구성이다.
또 본 발명은 투명 수지 기재 시트가, 표면 측에 위치하는 제1 투명 수지 기재 시트와, 이면 측에 위치하는 제2 투명 수지 기재 시트를 갖되, 제1 투명 수지 기재 시트는 결정성 수지로 되는 한편, 제2 투명 수지 기재 시트는 비결정성 수지로 되고, 제1 투명 수지 기재 시트의 융점이 제2 투명 수지 기재 시트의 연화온도 보다 높게 되어 있는 것을 특징으로 하는 가식 시트이다.
이와 같이 구성됨으로써, 사출성형 동시 가식법 등으로 가식 시트가 가열 형성되는 경우, 표면의 미소(微小) 요철의 유무에 따라 부여되는 고광택 영역 및 저광택 영역이 가열 성형시에 소실되지 않아, 가식 시트의 성형성(내지 형상추종성)도 만족시킬 수가 있다. 즉, 미소 요철을 포함한 투명 수지 기재 시트의 요철을 엠보씽가공으로 부여하는 경우에, 엠보씽가공은 제1 투명 수지 기재 시트의 융점 이상의 온도에서 실행하고, 가식 시트를 진공성형 등의 가열 성형으로 성형할 때는, 제1 투명 수지 기재의 융점 미만이면서 제2 투명 수지 기재 시트의 연화온도 이상인 온도에서 실행함으로써, 당해 요철의 유지와 성형성을 양립시킬 수 있게 된다. 그 결과, 사출성형 동시 가식 방법을 실행할 때, 가식 시트의 진공성형 공정 후 또는 사출성형 공정 후에도, 요철이 관여하는 요철모양의 시각적인 입체 의장감이 소실되지 않게 된다.
또한 본 발명은 가식 시트와, 이 가식 시트의 이면 측에 설치된 수지성형물을 구비한 가식 성형품에서, 상기 가식 시트가, 투명 수지 기재 시트와, 이 투명 수지 기재 시트의 이면에 설치된 광휘성층을 갖되, 상기 투명 수지 기재 시트의 표면이, 상대적으로 광택이 높은 고광택 영역과, 상대적으로 광택이 낮은 저광택 영역으로 구획되고, 투명 수지 기재 시트의 두께가, 고광택 영역에서는 상대적으로 두껍고, 저광택 영역에서는 상대적으로 얇게 되어 있어, 이들 고광택 영역의 두께 및 저광택 영역의 두께에 대응한 요철모양이 시각적으로 발현되도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 가식 성형품이다.
또 본 발명은 투명 수지 기재 시트의 고광택 영역에서, 이면에 볼록부가 설치되는 한편, 표면 측은 평탄면으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 가식 성형품이다.
이 구성은, 가식 시트 부분에서 그 투명 수지 기재 시트의 두께를 표면의 고광택 영역을 저광택 영역보다도 상대적으로 두껍게 하기 위한 구체적 구성의 한 예를 명시한 구성이다. 이 구성에서는, 고광택 영역의 표면부분이 평탄한 형상으로 되어, 요철모양을 시각적으로 느끼게 하는 입체 의장감이 얻어지게 된다.
또 본 발명은 투명 수지 기재 시트의 고광택 영역에서, 이면에 볼록부가 형성되는 한편, 표면 측에는 볼록형상이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 가식 성형품이다.
이 구성도, 가식 시트 부분에서 그 투명 수지 기재 시트의 두께를 표면의 고광택 영역을 저광택 영역보다 상대적으로 두껍게 하기 위한 구체적 구성의 한 예를 명시한 구성이다. 이와 같은 구성에서는, 고광택 영역의 표면부분의 형상과, 시각효과에 의한 의사(擬似)요철감이 어우러져 요철모양을 시각적으로 느끼게 하는 입체 의장감이 얻어지게 된다.
또한 본 발명은 수지성형물을 성형할 때, 이 수지성형물의 표면에 가식 시트를 일체로 형성시켜 가식 성형품을 얻는 사출성형 동시 가식 방법에서, (A) 투명 수지 기재 시트와 광휘성층을 포함한 적층체를 가열하고, 적층체에 엠보씽가공을 실시해서 투명 수지 기재 시트의 표면에 상대적으로 광택이 높은 고광택 영역과 상대적으로 광택이 낮은 저광택 영역을 형성함과 더불어, 투명 기재 시트의 두께를 고광택 영역에서 상대적으로 두껍고 저광택 영역에서는 상대적으로 얇아지는 가식 시트를 만드는 시트 제작 공정과, (B) 가식 시트를 가열 연화시켜 소망하는 형상의 가식 성형품에 대응하는 형상으로 진공성형하는 진공성형 공정 및, (C) 진공성형된 가식 시트를 사출성형 몰드 내에 그 표면 측이 사출성형 몰드 내면을 향하도록 배치하고서, 이 사출성형 몰드 내부에 수지를 사출해서 이 수지를 고화시켜 수지 성형품을 성형함과 더불어, 수지 성형품의 표면에 가식 시트를 일체로 설치해서 가식 성형품을 얻는 사출성형 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 사출성형 동시 가식 방법이다.
이와 같은 구성의 가식 방법으로 함으로써, 요철모양을 시각적으로 느낄 수 있는 가식 시트의 효과가 사출성형 동시 가식 방법에서 이루어질 수 있고, 얻어지는 가식 성형품에서도 역시 이 효과가 얻어질 수 있게 된다.
또 본 발명은 적층체의 투명 수지 기재 시트가, 표면 측에 위치하는 제1 투명 수지 기재 시트와, 이면 측에 위치하는 제2 투명 수지 기재 시트를 갖되, 제1 투명 수지 기재 시트는 결정성 수지로 되는 한편, 제2 투명 수지 기재 시트는 비결정성 수지로 이루어지고, 제1 투명 수지 기재 시트의 융점이 제2 투명 수지 기재 시트의 연화온도보다 높게 되어 있음을 특징으로 하는 사출성형 동시 가식 방법이다.
또 본 발명은 시트 제작 공정에서, 제1 투명 수지 기재 시트의 융점 이상의 온도에서 엠보씽가공을 실행하는 것을 특징으로 하는 사출성형 동시 가식 방법이다.
또 본 발명은 진공성형 공정에서, 제2 투명 수지 기재 시트의 연화점 이상이고 제1 투명 수지 기재 시트의 융점 미만인 온도에서 진공성형하는 것을 특징으로 하는 사출성형 동시 가식 방법이다.
이와 같은 구성의 가식 방법으로 함으로써, 투명 수지 기재 시트가 특정한 2층 적층체로 되기 때문에, 요철모양을 시각적으로 느끼게 하는 효과가 확실히 사출성형 동시 가식 방법(및 그에 의해 얻어지는 가식 성형품)에서 얻어질 수 있다. 따라서, 진공성형 공정 또는 사출성형 공정 후에도 가식 시트 단계에서의 요철모양의 시각적인 입체 의장감이 소실되지 않게 된다.
본 발명의 가식 시트에 의하면, 표면이 평탄한 경우에도, 시각적으로 요철모양을 느낄 수 있는 입체 의장감이 얻어지게 된다. 또, 투명 수지 기재 시트와 광휘성층 사이에 장식층을 설치된 구성으로 하면, 보다 높은 의장성을 얻을 수가 있다. 또, 광휘성층 이면에 뒷받침 시트를 설치한 구성으로 하면, 가식 시트의 총 두께의 확보나 수지성형물 등의 피착체와의 밀착성 향상 등이 도모된다. 또, 표면의 고광택 영역에 대응하는 부분의 투명 수지 기재 시트 이면이 이면방향으로 볼록해지는 구성으로 하면, 그 부분의 당해 시트 두께가 다른 부분 보다도 상대적으로 두껍기 때문에, 그 부분의 표면이 예컨대 평탄면이더라도 시각적으로 요철모양을 느끼게 하는 입체 의장감이 얻어지게 된다.
또, 본 발명의 가식 성형품에 의하면, 요철모양을 시각적으로 느끼게 하는 입체 의장감이 얻어지게 된다.
또한, 본 발명의 사출성형 동시 가식 방법에 의하면, 요철모양을 시각적으로 느끼게 하는 가식 성형품이 얻어지게 된다. 이때, 사용하는 가식 시트에 그 투명 수지 기재 시트가 특정한 2층 적층체로 된 것을 쓰게 되면, 가식 시트 단계에서의 요철모양의 시각적인 입체 의장감을 잃지 않게 된다.
도 1의 (A) ~ (C)는, 본 발명의 가식 시트의 몇 가지 예를 예시한 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 가식 시트의 별개의 예를 예시한 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 가식 시트의 별개의 예를 예시한 단면도이다.
도 4의 (A)는, 본 발명의 가식 성형품의 어떤 형태예를 예시하는 단면도이고, (B)는, 도 4의 (A)의 B부분 확대도이다.
도 5의 (A)와 (B)는, 투명 수지 기재 시트 표면의 고저광택 영역과, 이에 대응하는 이면의 볼록부를 형성하는 방법을 설명하는 단면도이다.
도 6의 (A) ~ (C)는, 본 발명에 의한 사출성형 동시 가식 방법을 설명하는 개념도이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시예를 설명한다.
개요 :
도 1은, 본 발명의 가식 시트(S)에 대해, 그 기본적 구성의 3가지 예를 나타낸 단면도이다. 한편, 각종 형태의 가식 시트(S1, S2, S3 또는 S4 등)의 가식 시트(Sn; n은 정수)를 총칭해서 단순히 가식 시트(S)라고도 표기한다.
먼저, 도 1의 (A)에 도시된 가식 시트(S1)는, 투명 수지 기재 시트(1)와 이 투명 수지 기재 시트(1)의 이면에 설치된 광휘성층(2)을 구비하고 있다. 투명 수지 기재 시트(1)의 표면은, 상대적으로 주위보다도 저광택(예컨대 광택소실)으로 된 저광택 영역(L)과, 상대적으로 상기 저광택 영역(L)보다도 고광택(예컨대 광택있음)으로 된 고광택 영역(H; Hf)으로 구획되어 있다. 도 1의 (A)의 경우, 고광택 영역(H)의 면은 평탄한(flat) 면으로 되어 있어, 이를 고광택 영역(Hf)으로 나타낸다. 또, 투명 수지 기재 시트(1)의 두께는, 상대적으로 고광택 영역(Hf) 부분의 두께가 주위보다 두꺼운 반면, 저광택 영역(L)의 부분의 두께는 상기 고광택 영역(Hf)보다 얇게 되어 있다. 또한, 고광택 영역(Hf)에서, 투명 수지 기재 시트(1)의 이면은 이면방향을 향해 돌출해서 볼록부(p)를 형성하도록 되어 있다. 또, 투명 수지 기재 시트(1)의 표면은 저광택 영역(L)에서는 평탄하게 되어 있다.
한편, 고광택 영역(H)의 형상은, 도 1의 (A) ~ (C)의 각 단면도에 도시된 것과 같이 3가지이다. 즉, 이미 설명한 도 1의 (A)와 같이 평탄한 경우(고광택 영역(Hf))나, 도 1의 (B)에 도시된 것과 같은 오목형상부(recess)를 이루는 경우(고광택 영역(Hr)), 또는 도 1의 (C)에 도시된 것과 같이 볼록형상부(protrude)를 이루는 경우(고광택 영역(Hp))이다. 본 발명에서는, 이들 고광택 영역(Hf, Hr, Hp)을 총칭해서 단순히 고광택 영역(H)으로도 표기한다.
한편, 「표면」,「이면」의 의미는, 본 명세서에서 「표면」이란, 가식 시트(S)의 투명 수지 기재 시트(1) 쪽 방향(가식 시트의 관찰자 쪽 방향)을 의미한다. 도 1의 (A) ~ (C)에서는 위쪽이 표면 측으로 된다. 한편, 「이면」이란, 가식 시트의 광휘성층(2) 쪽 방향(가식 시트의 관찰자 쪽과는 반대방향이고, 피착체 방향이기도 함)을 의미한다. 도 1의 (A) ~ (C)에서는 아래쪽이 이면 측으로 된다.
한편, 본 발명의 가식 시트는, 다시 필요에 따라 도 2와 같이 투명 수지 기재 시트(1)와 광휘성층(2) 사이에 장식층(3)을 형성한다거나, 광휘성층(2)의 이면 에 뒷받침 시트(4)를 설치하거나, 도시는 생략하였지만 최이면(最裏面)에 피착체와의 접착성을 부여하기 위해 접착제층을 설치할 수 있다. 또, 이들 장식층(3), 뒷받침 시트(4), 접착제층은 기본적으로는 어느 것도 필요에 따라 설치하는 층으로서, 이들은 어느 1층만 설치하거나 임의의 2층을 조합시켜 설치할 수 있다.
그리고, 상기와 같은 가식 시트(S)를 피착체에 대한 각종 적층법, 예컨대 사출성형 동시 가식 방법 등으로 수지성형물(5)의 표면에 적층하면, 본 발명의 가식 성형품(Pd)으로 된다(도 4의 (A)와 (B)).
또, 그 적층법으로 적합한 것으로는 본 발명의 사출성형 동시 가식 방법이 있다. 또, 그 사출성형 동시 가식 방법에서는, 가식 시트로서 그 투명 수지 기재 시트가 특정의 2층 적층체로 된 것을 채용하는 것이 바람직하다. 이는, 가식 시트가 작성단계에서 엠보씽가공을 이용한 요철모양의 시각적인 입체 의장감을, 진공성형 공정 또는 사출성형 공정 후에도 소실되지 않도록 해서, 확실히 가식 성형품에 부여할 수 있기 때문이다. 이 경우, 요철모양의 확실한 부여와 가식 시트 성형성을 양립시키기 위해, 보다 바람직하기로는 가식 시트에 대한 엠보씽가공을 실행하는 제1 투명 수지 기재 시트의 융점 이상에서 실행하고, 사출성형 동시 가식의 진공성형 공정을 실행할 때는, 제2 투명 수지 기재 시트의 연화온도 이상이고 제1 투명 수지 기재 시트의 융점 미만인 온도에서 실행한다.
가식 시트 :
먼저, 가식 시트의 구성부터 설명한다.
〔투명 수지 기재 시트〕
재료 : 투명 수지 기재 시트(1)의 재료로는, 투명한 열가소성 수지 중에서 투명성, 엠보씽가공 적성, 가식 시트를 가열 연화시켜 진공성형 등의 성형 가공을 실행하는 성형적성과 엠보씽가공의 내구성(엠보씽 소실 방지)과의 양립성 등을 고려한 다음, 적의 선정한다.
상기와 같은 열가소성 수지의 재료로는, 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리브텐, 올레핀계 열가소성 엘라스토머 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리에틸렌 텔레프탈레이트, 폴리부틸렌 텔레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 테레프탈산-이소프탈산-에틸렌글리콜 공중합체, 테레프탈산-에틸렌글리콜-1,4시크로헥산 디메타놀 공중합체, 폴리에스텔계 열가소성 엘라스토머 등의 폴리에스텔, 나일론 6, 나일론 9, 나일론 6,6 등의 폴리아미드 수지, 폴리불화비닐, 폴리불화비니리덴, 폴리3불화비니리덴, 에틸렌-4불화에틸렌 공중합체, 폴리4불화에틸렌 등의 불소계 수지, 아크릴계 수지, 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 폴리카보네이트 수지 등을 들 수 있다.
한편, 상기 아크릴계 수지로는, 예컨대 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리레틸(메타)아크릴레이트, 폴리부틸(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트-부틸(메타)아크릴레이트 공중합체, 에틸(메타)아크릴레이트-부틸(메타)아크릴레이트 공중합체, 메틸(메타)아크릴레이트-스틸렌 공중합체 등의 수지(단, (메타)아크릴레이트라 함은 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트의 의미)를 단체(單體) 또는 2종 이상의 혼합물로 사용하게 된다.
두께 : 투명 수지 기재 시트의 두께(적층체 구성의 경우는 총 두께)는 50 ~ 400㎛ 정도이다.
첨가제 : 또, 투명 수지 기재 시트 중에는, 필요에 따라 적의 첨가제를 첨가할 수 있다. 첨가제로는, 투명성, 표면 광택, 융점 등의 열적 거동에 지장을 초래하지 않는 범위에서 각종 첨가제를 적당량 첨가할 수 있다. 예컨대 벤조트리아졸계, 벤조페논계 등의 자외선 흡수제, 힌다드아민계 래디칼보촉제 등의 광 안정제, 실리콘 수지, 왁스 등의 윤활제, 착색제, 가소제, 열 안정제, 항균제, 방휘제, 대전방지제 등을 첨가할 수가 있다.
층 구성 : 또, 투명 수지 기재 시트의 층 구성은, 단층 또는 이종(異種)의 수지를 2층 이상 적층한 적층체이어도 좋다. 단, 가식 시트를 진공성형 이나 몰드 내에서의 사출성형 동시 가식 방법 등의 가열 성형 공정에 적용하는 경우는, 투명 수지 기재 시트(1)에는 투명 수지 기재 시트 그 자체의 성형성(내지는 형상추종성)과, 표면에 미소 요철을 형성시켜 얻어진 고광택 영역 및 저광택 영역의 소실방지라고 하는 서로 모순되는 양 조건을 양립시켜야만 한다.
성형성과, 고광택 영역 및 저광택 영역의 소실방지를 양립시키는 조건은, 부형조건, 성형조건의 가감, 수지재료의 선정 등으로 해결할 수도 있다. 양 조건을 안정되게 양립시킬 수 있는 가장 바람직한 형태로는, 도 3과 같이, 투명 수지 기재 시트(1)를 표면 측에 위치하는 제1 투명 수지 기재 시트(11)와, 이면 측에 위치하는 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 2층 구조로 하고, 제1 투명 수지 기재 시트(11)를 융점을 가진 결정성 수지로 하는 한편, 제2 투명 수지 기재 시트(12)를 융점을 갖지 않는 비결정성 수지로 하는 것이다. 더구나, 제1 투명 수지 기재 시트의 융점 은 제2 투명 수지 기재 시트의 연화온도보다 높게 한다. 한편, 연화온도로는 VICAT 연화온도(규격 DIN-ENTW. 53,460 규정)를 지표로 한다.
상기와 같은 특정한 온도물성을 가진 2층 구조의 투명 수지 기재 시트(1)로 함으로써, 투명 수지 기재 시트(1)의 표면에 요철을 엠보씽가공으로 형성할 때, 특히 미소 요철을 가열에 의해 엠보씽가공으로 형성할 때, 제1 투명 수지 기재 시트의 융점 이상 온도에서 엠보씽가공을 실행한다. 이때, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 결정성 수지는 그 결정 구조가 녹아 요철형상이 부형되는바, 엠보씽가공 후 온도가 저하되면, 이 당해 수지는 재결정화해서 요철형상이 고정되게 된다. 더구나, 사출성형 동시 가식의 진공성형 등의 가열 성형시에 가식 시트를 재차 가열할 때는, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점 미만이고 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 VICAT 연화온도 이상인 온도로 하면, 결정 구조가 유지되기 때문에, 가식 시트 전체로서의 성형성은 비결정성 수지인 제2 투명 수지 기재 시트(12) 주체로 확보되면서도 미소 요철의 형상이 유지되기 쉽게 된다. 그리고, 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 이면 측 요철에 대해서는, 가식 시트를 피착체(5) 자체 또는 피착체에 접착하기 위한 접착제 중에, 피착체(5)가 유동상태로 있는 도중에 가식 시트의 이면 측 요철을 매몰시켜줌으로써, 가식 시트의 이면 측 요철을 유지시킬 수가 있게 된다. 예컨대, 가식 시트를 진공성형 공정을 거쳐 사출성형 동시 가식하는 경우에는, 먼저 진공성형에서 가식 시트를 성형품 형상으로 예비성형한다. 이때는 통상적으로 가식 시트 표면 측이 진공성형 몰드측에 눌려지게 되는바, 이면 측 요철은 자유상태이기 때문에 이면 측 요철의 소실이 방지될 수 있게 된다. 다음, 사출성형 몰드 중에서는 가식 시트가 그 표면 측이 사출성형 몰드면에 압압되지만, 이면 측 요철은 유동상태의 사출수지로 충전되기 때문에 당해 이면 측 요철은 수지성형물 중에 유지되게 된다.
상기와 같은 제1 투명 수지 기재 시트(11)와 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 조합은 구체적으로는 다음과 같다. 사출성형 동시 가식법의 예비성형으로서 진공성형을 이용한 경우, 가식 시트에 가해지는 온도는 100 ~ 170℃의 범위이기 때문에, 제2 투명 수지 기재 시트(12)로는 아크릴계 수지(폴리메틸(메타)아크릴레이트의 경우 VICAT 연화온도 120℃), 폴리카보네이트 수지(VICAT 연화온도 155℃), 또는 폴리스티렌(VICAT 연화온도 103℃) 등을 이용하고, 제1 투명 수지 기재 시트(11)로는 폴리불화비니리덴(융점 160℃ 이상), 폴리4불화에틸렌(융점 327℃), 폴리3불화에틸렌(융점 205 ~ 220℃) 등의 불소계 수지를 이용한다. 이 경우, 엠보씽가공 온도를 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점 이상의 온도에서 실행하고, 진공성형 온도를 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점 미만이면서 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 연화온도 이상이 되는 조합을 선택할 수가 있다.
또, 상기 제1 및 제2 투명 수지 기재 시트(11, 12)의 2층 구조의 수지의 구체적인 조합예로는, 불소계 수지(보다 구체적으로는 예컨대 불화비니리덴 수지)를 제1 투명 수지 기재 시트(11)에 이용하고, 아크릴계 수지를 제2 투명 수지 기재 시트(12)에 이용한 구성이 바람직한 구성의 한 가지이다. 불소계 수지 중에서도 특히 불화비니리덴 수지는 비용면에서 지나치게 비싸지 않고, 적당한 융점 등의 관점에서 보아 바람직하다. 한편, 아크릴계 수지는 시트 가열시의 성형 적성 온도 범위를 넓힐 수 있는 경향이 있어 바람직하고, 내후성이나 투명성이 뛰어나다는 점에서도 바람직하다.
그런데, 사출성형 동시 가식법의 예비성형으로서의 진공성형(진공압공성형도 포함)시의 가식 시트의 가열온도는, 진공성형 몰드를 사출성형 몰드와 겸용해서 사출성형 몰드 상에서 실행하는 인라인(in line) 예비성형인 경우에는 100 ~ 120℃ 정도가 된다. 또 가식 시트의 가열온도는, 진공성형을 사출성형 몰드와는 별개의 몰드로, 즉 사출성형기 밖에서 미리 실행하는 오프라인(off line) 예비성형의 경우에는 140 ~ 170℃이다. 따라서, 이들의 관점에서 제1 투명 수지 기재 시트의 수지는 그 융점이 인라인 예비성형으로 한정한다면 120℃ 이상, 바람직하기는 130℃ 이상이고, 오프라인 예비성형도 포함해서 생각한다면 150℃ 이상, 내지는 170℃ 이상으로 되는 수지를 선정하는 것이 바람직하다.
한편, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 두께는, 표면을 저광택으로 하기 위한 요철형상의 깊이에 대응한 것으로 하면 좋다. 한편, 가식 시트 전체로서의 진공성형성은, 제2투명 수지 기재 시트(12)와 같은 다른 층에서 주체적으로 담당토록 할 수가 있다. 따라서, 통상적으로 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 두께는 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 두께보다 얇게 한다. 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 두께의 구체적인 예로는 5 ~ 50㎛ 정도이다.
한편, 제2 투명 수지 기재 시트(12)는, 가식 시트로서의 진공성형성을 확보하기 위한, 또는 투명 수지 기재 시트의 이면 측 요철을 나타내기 위한 층이다. 또, 제2 투명 수지 기재 시트(12)는, 일반적으로 제1 투명 수지 기재 시트(11)보다도 주체적으로 가식 시트로서의 총 두께를 담당하는 층으로 된다. 따라서, 제2 투명 수지 기재 시트(12)에는 제1 투명 수지 기재 시트(11)보다도 진공성형성이 좋은 수지를 이용한다. 이와 같은 점에서, 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 두께를 통상적으로 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 두께보다 두껍게 한다. 예컨대, 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 두께의 구체적인 예로는 50 ~ 200㎛ 정도가 된다. 한편, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 두께 및 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 두께의 관계는 이에 한정되지 않는다.
한편, 제1 투명 수지 기재 시트(11)와 제2 투명 수지 기재 시트(12)를 적층할 때, 이들 제1 및 제2 투명 수지 기재 시트(11, 12)를 준비하고 양 투명 수지 기재 시트(11, 12)를 접착제를 매개로 적층하여도 좋다. 생산성이나 비용 등의 점에서 바람직하기는, 투명 수지 기재 시트(11, 12)를 2층 모두 압출로 성형하거나, 한쪽은 수지 필름을 미리 준비하고 나서 다른 쪽을 이에 용융압출로 도공(塗工)해서 제1 및 제2 투명 수지 기재 시트(11, 12)를 성형하여도 좋다. 2층 모두 압출이나 용융압출 도공으로 제1 및 제2 투명 수지 기재 시트(11, 12)를 적층하는 경우에는, 그동안 불가능하였던 얇은 투명 수지 기재 시트를 형성할 수가 있게 된다. 그 중에서도, 2층 공압출(共壓出)은 제1 및 제2 투명 수지 기재 시트(11, 12)를 밀착시킬 수 있다는 점에서 한층 더 바람직하다.
고광택 영역과 저광택 영역 : 투명 수지 기재 시트(1)의 표면을 상대적으로 광택에 차이를 갖는 2종의 고광택 영역(H)과 저광택 영역(L)으로 구획한다. 그리고, 이 고광택 영역(H)과 저광택 영역(L)에 대응한 투명 수지 기재 시트(1)의 막 두께 및, 투명 수지 기재 시트(1)와 광휘성층(2)의 광반사성 계면의 이면 요철에 의해 시각적 요철감을 얻을 수가 있다.
고광택 영역(H)과 저광택 영역(L)에 대응해서 형성되는 모양(이 모양은 시각적인 요철감을 수반하기 때문에 요철모양이라 칭함)으로는, 요구되는 의장 표현에 맞는 것으로 하면 좋고 특히 한정되지는 않는다. 요철모양은 예컨대 나무무늬 도관 홈, 나무 나이테 모양, 모래 무늬, 배 껍질 무늬, 헤어라인, 만선 모양 홈, 화강암 절개면 요철모양, 옷감의 표면 텍스처, 가죽 무늬, 타일 붙임이나 벽돌 쌓기 홈, 문자, 기하학 모양 등이다.
특히, 외관상 시각적으로 오목부를 표현해야 할 영역을 고광택 영역(H)에 대응시키고, 시각적으로 볼록부를 표현해야 할 영역을 저광택 영역(L)에 대응시킨다. 한편, 종래 표면의 광택 차이에 의한 모양에 의해 의사적(擬似的)인 요철모양을 느끼게 하는 기술이 알려져 있는바, 거기서는 시각적으로 요철부를 표현해야 할 영역을, 단지 표면 광택 차이의 시각적 효과만을 응용하는 데에 그치지, 본 발명과 같이 투명 수지 기재 시트 이면의 광휘성층과 투명 수지 기재 시트의 두께 차이와의 시각적 상호작용을 이용하지 않고 있기 때문에, 본 발명과는 구성이 다르게 된다. 그 결과, 고광택 영역(H)이 볼록부에, 저광택 영역(L)이 오목부에 대응하는 결과로 되어, 본 발명과는 광택의 고저가 전혀 반대로 된다.
고광택 영역(H)과 저광택 영역(L)의 광택 차이는, 눈으로 보아 그 광택 차이가 인식될 수 있으면 좋은바, 통상 JIS Z8741 규정의 60°경면 광택도 Gs(60°)로 5 이상, 보다 바람직하기로는 20 이상이 되도록 한다. 저광택 영역(L)은 고광택 영 역(H)보다도 미소 요철의 형성에 의해 상대적으로 조면(粗面)으로 되고, 고광택 영역(H)은 저광택 영역(L)에 비해 상대적으로 표면의 평활성을 높게 한다. 예컨대, 고광택 영역(H)에서는, 투명 수지 기재 시트(1) 표면의 표면 거칠기를 JIS B0601 규정의 중심선 평균 거칠기(Ra)가 1㎛ 미만이고, 경면 광택도 Gs(60°)가 80 이상이 되도록 한다. 또, 저광택 영역(L)에서는, 투명 수지 기재 시트(1) 표면의 중심선 평균 거칠기(Ra)가 4㎛ 이상이고, 경면 광택도 Gs(60℃)가 40 이하가 되도록 한다.
한편, 이상과 같은 광택 차이를 내기 위한 미소 요철(조면)의 정도 차이의 형성은, 공지의 방법인 예컨대 엠보씽가공 등에 의하면 형성될 수 있다.
두께 차이 : 투명 수지 기재 시트(1)의 두께는, 상대적으로 고광택 영역(H)에서는 두껍고, 저광택 영역(L)에서는 얇아지도록 형성한다. 이에 의한 두께 차이는 통상적으로 10 ~ 100㎛ 정도가 된다. 고광택 영역(H) 직하의 후막부(厚膜部)에서는, 도 1의 (A) ~ (C)에 도시된 것과 같이, 투명 수지 기재 시트(1)와 광휘성층(2)의 계면(界面; 광반사성 계면이라고도 함)은, 이면방향으로 볼록(팽출)해져 볼록부(p)를 이루도록 부형되게 된다. 이 볼록부(p)의 형상은, 바람직하게는 적어도 횡단면 형상이 이면방향으로 볼록해지는 곡선으로 되는 것이 좋다. 예컨대, 원이나 타원, 포물선, 쌍곡선, 정현 곡선, 타원함수 곡선, 벳셀함수 곡선, 사이클로이드 및 이들에 근사한 곡선이다. 종단면 형상은, 이면방향으로 볼록하게 되는 곡선이어도 좋고, 이면방향으로 볼록하게 되는 직선형상 등 다른 형상이어도 좋다. 이와 같은 형상으로 상기 광반사성 계면을 이면방향으로 볼록해지게 함으로써, 당해 광반 사성 계면은 오목거울과 같이 기능을 하게 되어, 조명광(照明光)을 일단 초점(초점선)에 수속(收束)시킨 후 그곳으로부터 발산시킨다. 그 때문에, 볼록부(p)의 깊이와 형상이 보다 명료하게 강조되어 보이게 된다. 이에 더해, 당해 볼록부(p)의 측면부에는 경사방향에서 입사한 조명광에 대해 음영을 생기게 해서, 볼록부의 윤곽을 강조하는(엣지 강화) 효과도 나타내게 된다. 그리고, 볼록부의 직상부를 고광택 영역(H)으로 하고, 그 주위를 상대적으로 저광택 영역(L)으로 함으로써, 볼록부(표면에서 보면 오목부)의 깊이와 형상을 주위보다도 강조하는 효과가 더해지게 된다. 그 결과, 투명 수지 기재 시트(1) 표면이 평탄하거나 조금 볼록하더라도 시각적으로는 충분한 요철감이 재현될 수 있게 된다.
고저의 광택 영역과 이면 볼록부의 형성법 : 투명 수지 기재 시트(1)에 앞에서 설명한 것과 같은 고광택 영역(H)과 저광택 영역(L) 및 이와 위치 동조(位置同調)한 이면의 볼록부(p)를 형성하는 방법으로는, 엠보씽가공법 등 종래의 공지된 부형방법을 적의 채용하면 좋다. 단, 투명 수지 기재 시트로서, 결정성 수지의 제1 투명 수지 기재 시트(11)와 비결정성 수지의 제2 투명 수지 기재 시트(12)로 구성하고, 제1 투명 수지 기재 시트의 융점이 제2 투명 수지 기재 시트의 연화온도보다 높게 한 2층 구조의 구성의 시트를 이용하는 경우는, 일반적으로 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 엠보씽가공 온도가 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 용융온도 이상으로 된다. 이 경우, 양 투명 수지 기재 시트 모두가 유동상태로 된다. 이와 같은 상황 하에서 엠보씽가공을 실행하기 위해서는, 예컨대 다음 (A), (B)의 가공방법 등이 가능하다. 또, 제1 투명 수지 기재 시트(11)를 그 융점 이상으로 가열하고, 제2 투명 수지 기재 시트(12)를 그 용융온도 미만으로 가열해서 엠보씽하는 데에는 (C)의 가공방법 등이 가능하다. 한편, 엠보씽가공방법이나 기계 자체는 공지된 것이다.
(A) 양 투명 수지 기재 시트(11, 12)를 낱장의 시트로 하고, 이를 낱장 열프레스기로 엠보씽가공한다.
(B) 양 투명 수지 기재 시트(11, 12)를 연속적인 대상(帶狀) 시트로 하고서, 이를 엔드리스 벨트 상의 엠보씽 판 및, 엔드리스 벨트 형상의 압압롤러 사이에서 협지 가압하여, 양 엔드리스 벨트를 시트 주행속도에 동기시켜 구동함으로써, 유동상태의 양 투명 수지 기재 시트에 장력을 실질적으로 인가하지 않고 엠보씽가공한다.
(C) 양 투명 수지 기재 시트(11, 12)를 연속 대상 시트로 하고서, 이를 적층상태에서 윤전식 엠보씽기를 사용해서 엠보씽가공한다. 단, 제2 투명 수지 기재 시트(12) 쪽은 가열 드럼으로부터의 열전도에 의해 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 용융온도 미만으로 가열하는 한편, 제1 투명 수지 기재 시트(11) 쪽은 적외선 복사 히터로 표면 근방의 제1 투명 수지 기재 시트(11)만 국부적으로 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점 이상이 되도록 가열해서 엠보씽가공한다.
다음에는, 상기 2층 적층체 구성인 경우의 형성방법으로서 바람직한 방법 중 하나를 도 5의 (A)와 (B)를 참조해서 설명한다.
먼저, 각각 모두 평탄하고 균일한 막 두께를 가진 제1 투명 수지 기재 시트(11)와 제2 투명 수지 기재 시트(12) 및 광휘성층(2)을 준비한다. 도 5의 (A)와 (B)에서는, 표면 측의 제1 투명 수지 기재 시트(11)와 이면 측의 제2 투명 수지 기재 시트(12)가 미리 적층되어 있고, 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 이면에는 인쇄법 등에 의해 광휘성층(2)이 적층되어 있다. 한편, 3층도 별개의 층으로 해서 준비하여, 엠보씽가공과 동시에 적층하여도 좋다. 또, 제1 수지 기재 시트(11)는 결정성 수지로, 제2 투명 수지 기재 시트(12)는 비결정성 수지로 이루어지고, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점은 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 연화온도보다도 높게 되어 있다.
다음, 도 5의 (A)에 도시된 것과 같이, 제1 및 제2 투명 수지 기재 시트(11, 12)와 광휘성층(2)을 고무 압압롤러(C)와 금속 엠보싱판(E) 사이에 삽입한다. 고무 압압롤러(C)의 표면은 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 표면에 부형해야 할 조면에 대응한 조면(Fr)으로 되어 있다. 고무 압압롤러(C)는 적어도 그 표면이 실리콘 고무 등의 고무로 되어 있으나, 중심부분은 철 등의 강체(剛體)로 된 심재(芯材)로 되어 있어도 좋다. 또, 금속 엠보씽 판(E)은 철, 동과 같은 금속으로 이루어지고서, 표면에는 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 이면에 부형해야 할 요철에 대응한 요철면이 형성되어 있다. 한편, 고무 압압롤러(C) 및 금속 엠보씽 판(E)은 평판형상이어도 좋고 원통형상이어도 좋다.
그리고, 제1 투명 수지 기재 시트(11), 제2 투명 수지 기재 시트(12) 및 광휘성층(2)을 가열 연화시켜, 도 5의 (B)에 도시된 것과 같이, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 표면 측이 고무 압압롤러(C) 측에 닿는 한편, 광휘성층(2)의 이면 측이 금속 엠보씽 판(E)에 닿도록 해서, 제1 및 제2 투명 수지 기재 시트(11, 12)와 광 휘성층(2)을 고무 압압롤러(C)와 금속 엠보씽 판(E)으로 압압한다(이른바 엠보씽가공). 가열할 때, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 표면 측은 적외선 복사 히터(도시되지 않음)로 가열하고, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 표면 부근을 융점 이상으로 가열하도록 한다. 한편, 제2 투명 수지 기재 시트(12) 측은 가열드럼(도시되지 않음)으로부터의 열전도로 가열하고, 제2 투명 수지 기재 시트(12)는 연화온도 이상에는 도달하지만 용융온도에는 도달하지 않도록 가열한다.
도 5의 (B)에 도시된 것과 같이, 엠보씽가공을 할 때 금속 엠보씽 판(E)의 볼록부(ep)로 압압되는 고엠보씽압 영역(B)에서는 각 층과도 강하게 압압되어 양 투명 수지 기재 시트(11, 12)의 두께는 상대적으로 얇아지게 된다. 그와 동시에, 고무 압압롤러(C) 표면의 조면(Fr)도 완전히 부형되어, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 표면이 저광택 영역(L)으로 된다. 한편, 금속 엠보씽 판(E)의 오목부(er)에서 투명 수지 기재 시트(11, 12)의 두께는 상대적으로 두껍게 된다. 그와 동시에, 고무 압압롤러(C) 표면의 조면(Fr)의 부형도 불완전하게 되어, 제1 투명 수지 기재 시트(11) 표면이 고광택 영역(H)으로 된다. 그리고, 각 층을 냉각한 후 또는 냉각하기 전에, 고무 압압롤러(C)와 금속 엠보씽 판(E)을 압압으로부터 개방함으로써, 각 층이 적층되고 부형되어, 도 3에 도시된 본 발명의 가식 시트(S5)가 얻어지게 된다.
〔광휘성층〕
광휘성층(2)은 투명 수지 기재 시트(1)의 이면에 설치된다(적층된다). 광휘성층의 재료 및 형성방법 등은 종래 공지된 것이어도 좋다. 예컨대 광휘성층은, 광 휘성 안료를 투명한 결합제(바인더) 중에 분산시킨 광휘성 잉크층이나 금속 장막층 등으로 되어 있다. 한편, 광휘성 잉크층 바인더의 수지로는, 아크릴수지, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 염소화 폴리프로필렌, 폴리에스텔, 폴리우레탄 수지 등을 이용한다. 광휘성 안료로는, 알루미늄, 유기 등의 금속분말 또는 인편 등의 금속 안료, 2산화티탄피복 운모의 분말 또는 인편 등의 진주광택(펄) 안료 등을 이용한다. 또, 광휘성 잉크층의 형성법은, 롤 코팅, 콤마 코팅, 슬릿 리버스 코팅, 커튼 플로우 코팅 등의 도공법, 그라비아 인쇄, 실크 스크린 인쇄 등에 의한 전면 베타 인쇄 등에 의하면 좋다. 또, 광휘성 안료 외에 착색 안료 등의 착색제를 첨가해서 착색 금속광택(컬러 메탈릭)으로 하여도 좋다. 한편, 광휘성 잉크층의 두께는 통상 1 ~ 50㎛ 정도이다. 한편, 금속 박막층은, 예컨대 알루미늄, 크롬, 주석, 인디움 등의 금속을 증착, 스퍼터링, 무전해 도금 등으로 형성시킨다. 또, 투명 수지 기재 시트(1) 중에 착색제를 첨가하거나, 투명 수지 기재 시트(1)와 금속 박막층의 사이에 착색 투명 잉크층을 설치해서, 광휘성층에 의한 광휘성도 착색금속광택(컬러 메탈릭)으로 하여도 좋다. 한편, 금속 박막층의 두께는 통상 0.1 ~ 1㎛ 정도이다.
〔장식층〕
장식층(3)은 가식 시트를 보다 좋은 의장으로 하기 위해 필요에 따라 설치하는 층이다. 장식층(3)은, 광휘성층(2)의 광휘성 및 거기에 기해 시각적 요철감을 저해하지 않도록 부분적으로 설치하거나, 투명 착색잉크 등의 투명성을 가진 것으로 형성한다. 장식층(3)을 형성하기 위해 사용하는 잉크로는, 공지인 것 중에서 적의 선택 사용하면 좋다. 예컨대 잉크의 바인더의 수지로는, 아크릴수지, 염화비닐- 초산비닐 공중합체, 염소화 폴리프로필렌, 폴리에스텔 수지, 폴리우레탄 수지 등을 이용한다. 또, 잉크에 함유시키는 착색제로는 예컨대, 티탄 백색, 아연신, 카본 블랙, 철흑, 레드 옥사이드, 카드뮴 레드, 군청, 코발트 블루, 황연, 티탄 옐로우 등의 무기안료, 프타로시아닌 블루, 인더스렌 블루, 이소인돌리논 옐로우, 퀴나크리돈 레드, 페릴렌 레드 등의 유기안료, 혹은 염료 등이 쓰일 수 있다. 한편, 장식층(3)의 도안은 예컨대, 나무결 모양, 돌결 모양, 모래결 모양, 옷감무늬 모양, 가죽무늬 모양, 타일 붙이기 모양, 벽돌 쌓기 모양, 기하학 도형, 문자, 기호, 혹은 전면 베타 등이다. 또, 장식층으로는, 나무결 등의 무늬의장의 표현 이외에, 자성체층, 도전성층 등의 기능성 층이어도 좋다. 즉, 가식 내지 장식이라 함은, 이와 같은 기능성 부여도 포함한다.
〔뒷받침 시트〕
뒷받침 시트(4)는 주로 가식 시트로서의 총 두께의 조정(확보) 등을 위해 적의 설치된다. 또, 뒷받침 시트(4)는 피착체와의 밀착성 향상을 도모하기 위해 설치되는 것도 있다. 이와 같은 뒷받침 시트는, 광휘성층의 이면 측에 열가소성 수지 시트를 적층함으로써 형성할 수가 있다. 당해 열가소성 수지로는, 폴리프로필렌 등의 각종 폴리올레핀계 수지, 염화폴리올레핀계 수지, ABS 수지, 또는 예컨대 폴리올레핀계 수지와 ABS 수지의 혼합수지 등과 이종 수지끼리의 혼합수지를 피착체의 재료 등에 대응해서 적의 채용하면 된다. 특히 가식 시트를 진공성형 가공하는 경우에는, 성형성을 저해하지 않도록 투명 수지 기재 시트로, 또는 그것이 2층 적층체인 경우에는 그 제2 투명 수지 기재 시트와 마찬가지 수지로 구성하는 것이 바람 직하다.
뒷받침 시트(4)를 적층하는 데에는, 미리 열가소성 수지 시트로서 준비한 수지 시트를 우레탄 수지 등과 같은 공지의 접착제를 써서, 드라이 라미네이션법 과 같은 공지의 적층법으로 광휘성층(2)에 목적에 맞게 적층하면 된다. 구체적으로는, 예컨대 투명 수지 기재 시트(1)와 광휘성층(2)의 적층체인 광휘성층(2) 면에 대해, 접착제로 열가소성 수지 시트를 첩합(貼合)시키면 된다. 한편, 뒷받침 시트(4)의 열가소성 수지 시트는, 당해 열가소성 수지의 용융압출 도공으로 성막과 동시에 적층하여도 좋다. 한편, 뒷받침 시트(4)의 두께는, 총 두께의 확보나 피착체와의 밀착성 향상 등 그 목적에 따라 다르지만, 총 두께의 확보를 도모하는 점에서는 통상적으로는 20 ~ 500㎛ 정도가 된다.
또, 뒷받침 시트(4)는, 그에 의해 피착체를 은폐하는 은폐성 보강기능도 담당하게 된다. 즉, 광휘성층(2)이 박막이어서 상기 은폐성이 부족한 경우, 또는 가식 시트를 성형했을 때에, 부분적으로 광휘성층(2)이 늘려져 박막화되거나, 파열이 되거나 해서 은폐성이 저하될 수가 있다. 이를 뒷받침 시트(4)로 보완할 수가 있다. 뒷받침 시트(4)를 은폐성으로 하는 데에는, 그 열가소성 수지 중에 은폐성 부여를 위해 고은폐성 안료를 첨가하면 된다. 고은폐성 안료로는 티탄 백색, 카본 블랙(먹) 등을 들 수 있다. 이 경우, 필요에 따라 적의 다른 착색제를 첨가하여도 좋다.
한편, 뒷받침 시트(4)의 유무에도 불구하고, 가식 시트의 최이면(最裏面)에는 필요에 따라 적의 공지의 접착제층을 설치할 수가 있다. 접착제층으로는, 예컨 대 아크릴계 수지, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 염소화 폴리올레핀 수지, 우레탄 수지, 고무계 수지 등이 쓰이게 된다.
〔가식 시트의 피착체〕
본 발명의 가식 시트는, 여러 가지 피착체(5)에 적층해서 그를 가식하는 용도로 사용할 수 있는바, 그 피착체(被着體)로는 특히 제한은 없다. 예컨대, 피착체의 재료나 형상은 임의이다. 예컨대, 그 재료로는 수지, 목질 재료, 금속, 비금속 무기재료, 종이, 직포 등이 있다. 또, 그 형상도 시트(내지 필름), 판, 입체물 등으로 임의이다.
가식 성형품 :
본 발명의 가식 성형품은, 피착체로서 수지성형물(5)과, 이 수지성형물(5)의 표면에 설치되어 그 투명 수지 기재 시트(1) 측이 표면 측에 위치하도록 해서 적층된 가식 시트(S)를 구비하고 있다. 가식 시트(S)는 고광택 영역에서는, 예컨대 투명 수지 기재 시트(1)의 이면 측이 이면방향을 향해 볼록하게 되어 있고, 그 부분의 표면 측은 평탄면 또는 표면방향을 향해 오목하게 되어 있다.
한편, 상기 가식 시트 자체로는 그 피착체로서 특히 제한은 없지만, 가식 시트(S)가 그 효과를 나타내는 점에서, 바람직한 피착체 및 그에다 적층하는 방법에서는 피착체가 수지성형물인 것이 좋다. 적층방법은, 수지성형물 표면에 대해 가식 시트를 진공성형으로 소망하는 성형품 형상으로 예비성형한 후, 사출성형 몰드 내에서 수지성형물 표면에 가식 시트를 적층해서 일체화시키는 이른바 사출성형 동시 가식법으로 하는 것이 좋다. 이 경우, 본 발명의 가식 시트는, 그 시트 표면이 평 탄 내지 대략 평탄하더라도, 시각적 효과에서 요철모양의 입체 의장감이 발현되기 때문에, 진공성형시나 사출성형시에 엠보씽가공에 의한 실재의 요철형상의 소실 우려가 없어, 양호한 요철모양이 시각적으로 부여될 수 있게 된다.
투명 수지 기재 시트(1)를, 표면 측에 위치하는 제1 투명 수지 기재 시트(11) 및 이면 측에 위치하는 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 2층 구조로 하고, 제1 투명 수지 기재 시트(11)를 결정성 수지로 구성함과 더불어 제2 투명 수지 기재 시트(12)를 비결정성 수지로 구성하고, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점을 제2 투명 수지 기재 시트의 연화온도보다 높게 한 경우, 양호한 효과를 나타낸다.
여기서, 수지성형물(5)을 피착체로 하고서, 그 표면에 상기와 같이 본 발명의 가식 시트(S)를 적층한 구성으로 된 가식 성형품(Pd)의 한 예를 도 4의 (A)의 일부 절결 단면도로 도시하고, 그 일부 확대도를 도 4의 (B)로 도시하였다. 이와 같은 가식 성형품의 대표적 제조방법 중 하나가 사출성형 동시 가식법이다.
한편, 도 4의 (B)에서는, 투명 수지 기재 시트(1)가 제1 투명 수지 기재 시트(11)와 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 2층 구조로 되어 있다. 한편, 가식 성형품(Pd)의 형상은, 표면이 요철면 등의 비평면 또는 평면인 입체물이다. 또, 가식 성형품의 형상은, 판 형상(평판, 곡면판 등), 주상, 3차원 입체물 등으로 임의이다.
한편, 수지성형물(5)로 되는 사출수지로는, 기본적으로는 특히 제한은 없고, 공지의 수지로 하여도 좋다. 즉, 제품의 요구 물성이나 비용 등에 대응해서 선정하면 된다. 열가소성 수지라면, ABS(아크릴로니트릴-부타디엔-스틸렌 공중합체) 수 지, 스틸렌 수지, 아크릴 수지, 염화비닐 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리올레핀계 수지 등이 쓰이게 된다. 또, 경화성 수지라면, 2액 경화형 수지인, 예컨대 우레탄 수지, 불포화 폴리에스텔 수지, 에폭시 수지 등의 미경화 수지액 등이 쓰이게 된다. 열가소성 수지는 가열 용융해서 유동상태로 사출하고, 경화성 수지는(그 미경화물을) 실온 또는 적의 가열해서 유동상태로 사출한다. 또, 사출수지에는 용도에 맞춰 착색제, 충전제, 안정제, 윤활제 등의 공지의 각종 첨가제를 적절히 함유시킨다.
사출성형 동시 가식 방법 :
본 발명에 의한 사출성형 동시 가식 방법은, 가식 시트의 시트 작성 공정을, 보다 바람직하기로는 당해 가식 시트의 예비성형으로서의 진공 형성 공정을 포함하고 있다. 이하, 사출성형 동시 가식 방법에 대해 시트 작성 공정, 진공 성형 공정, 사출성형 공정의 순으로 설명한다.
〔시트 작성 공정〕
시트 작성 공정은, 앞에서 설명한 것과 같이 가식 시트를 만들어 준비하는 공정이다.
따라서, 본 발명에 의한 시트 작성 공정에서는, 가식 시트의 층 및 그의 수지 조성과 융점이나 연화온도, 또는 요철부형의 엠보씽가공 온도 등을 특정한 시트 작성 공정으로 이루어진다. 즉, 시트 작성 공정에서는, 가식 시트로서 적어도 가식 성형품의 상태로 바깥쪽에 위치시키는 투명 수지 기재 시트(1)와 광휘성층(2)을 포함한 적층체를 가열한다. 다음, 엠보씽가공으로 투명 수지 기재 시트(1) 표면의 고 광택 영역과 저광택 영역 및, 당해 고광택 영역과 저광택 영역에 대응해서 투명 수지 기재 시트(1)의 두께를 변화시켜 가식 시트(S)를 준비한다. 이때, 바람직하게는, 이후의 특정한 진공성형 공정과 조합시키는 구성으로서, 투명 수지 기재 시트(1)가, 표면 측에 위치하는 제1 투명 수지 기재 시트(11)와, 이면 측에 위치하는 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 2층 구조로 구성되도록 한다. 제1 투명 수지 기재 시트(11)는 결정성 수지로 이루어지는 한편, 제2 투명 수지 기재 시트(12)는 비결정성 수지로 이루어지고, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점은 제2 투명수지 기재 시트(12)의 연화온도보다 높도록 한다. 한편, 당해 가식 시트의 적합한 구체적인 예를 들자면, 앞에서 설명한 바와 같이, 제1 투명 수지 기재 시트(11)가 불화 비니리덴 수지를 포함하고, 제2 투명 수지 기재 시트(12)가 아크릴계 수지를 포함하게 된다.
〔진공성형 공정〕
본 발명에서는, 이상과 같이 가식 시트(S)를 이용해서 시트 예비성형을 갖는 형태로 사출성형 동시 가식하게 된다. 이때, 투명 수지 기재 시트(1)가 상기 특정한 2층 구조의 가식 시트를 이용하는 경우에는, 시트 예비성형을 위한 진공성형 공정으로 하고, 시트 가열온도는, 바람직하기는 그 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 연화온도 이상이고 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점 미만인 온도로 한다. 이에 따라, 시트 예비성형을 위한 진공성형시의 성형성을 확보함과 더불어 진공성형 후의 요철형상을 유지할 수가 있게 된다.
가식 시트를 예비성형하기 위한 진공성형 공정(진공압공성형도 포함하는)은 대별해서, 진공성형 몰드를 사출성형 몰드와 겸용해서 당해 사출성형 몰드 상에서 진공성형을 실행하는 인라인 예비성형 형태와, 진공성형 몰드를 사출성형 몰드와는 별도의 몰드로 하고서 사출성형기 밖에서 진공성형을 실행하는 오프라인 예비성형 형태가 있다. 한편, 오프라인 예비성형은 인라인 예비성형에 비해, 일반적으로 가식 성형품 사이즈가 큰 경우 또는 시트 두께가 두꺼운 경우에 적합하다.
그리고, 진공성형시의 시트 가열온도는, 통상적으로는 인라인 예비성형에서는 100 ~ 120℃ 정도, 오프라인 예비성형에서는 140 ~ 170℃ 정도로 된다. 따라서, 예컨대 투명 수지 기재 시트(1)가 특정한 2층 구조를 가진 가식 시트를 이용하는 경우에는, 제1 투명 수지 기재 시트(11)에 불화비니리덴 수지를 이용하고, 제2 투명 수지 기재 시트(12)에 아크릴계 수지를 이용한 구성 등의 가식 시트에서는, 통상적인 인라인 예비성형이나 오프라인 예비 형성의 어느 형태에도 적용될 수 있다. 한편, 상기 예비성형 온도는 일반적인 온도를 나타낸 것으로, 가식 시트에 이용한 수지에 맞춰 상기 범위 외의 온도에서 실행하여도 좋다.
〔사출성형 공정〕
사출성형 공정에서는, 상기와 같이 진공성형 공정에서 예비성형된 가식 시트를 사출성형 몰드 내에 장전한 상태로 암수 1쌍의 사출성형 몰드를 몰드조임한다. 그 후, 사출성형 몰드의 캐비티 내로 유동상태의 수지를 사출해서 충전하여 고화시켜 수지성형물 표면에다 가식 시트를 일체화시킨다. 그리고, 수지가 고화된 후 몰드를 개방해서, 목적으로 하는 가식 성형품을 끄집어낸다. 당해 가식 성형품에는, 앞에서 설명한 바와 같이 가식 시트에 의해 요철모양을 시각적으로 느끼게 하는 입 체 의장감이 부여되어 있다.
한편, 사출성형 몰드 내로 사출하는 사출수지는, 통상적으로는 가열 용융되어 유동상태로 되어 있고, 그 온도는 200℃ 이상에 이르는 것이 있으나, 이와 같은 고온의 사출수지이더라도 가식 시트가 가진 요철형상은 유지되게 된다. 즉, 사출성형시의 사출수지의 열이 진공성형시와 같이 영향을 끼치는 일은 없다. 예컨대, 사출수지가 ABS 수지인 경우, 가식 시트는 사출수지의 온도가 200 ~ 240℃ 정도, 또 사출성형 몰드의 온도가 60℃ 정도의 온도 조건하에서 말려지지만, 그때의 열이 가식 시트에 가해지는 것은 일순간이어서, 진공성형 공정에서 요철형상이 견딜 수 있으면 기본적으로는 가식 성형품 상에서는 요철형상이 남아있을 수 있기 때문이다.
〔기타〕
여기서, 도 6의 (A) ~ (C)의 개념도를 이용해서, 이른바 사출성형 동시 가식 방법에 대해 개략적으로 설명한다. 한편, 여기서 설명하는 형태는 사출성형 몰드 상에서 진공성형 공정을 실행하는 인라인 예비성형의 형태이다.
먼저, 도 6의 (A)에 도시된 것과 같이, 사출성형 몰드로는, 사출 노즐과 연통하는 탕도(湯道; 런너) 및 탕구(湯口; 게이트)를 가진 몰드(Ma)와, 캐비티면에 흡인구멍(41)을 갖고서 가식 시트의 진공성형 공정용 예비성형 몰드를 겸용하는 몰드(Mb)의 1쌍의 성형몰드를 이용한다. 이들 몰드는 철 등의 금속 또는 세라믹으로 되어 있다. 몰드 개방상태에서 양 몰드(Ma, Mb) 사이에 가식 시트(S)를 공급하여, 몰드(Mb)에 가식 시트(S)를 평면에서 보아 프레임형상의 시트 클램프(42)로 압압하는 등으로 해서 고정한다. 이때, 가식 시트의(투명 수지 기재 시트에 대한) 광휘성 층 측의 이면 측은 도면 오른쪽의 사출수지 측으로 된다.
다음, 도 6의 (B)에 도시된 것과 같이, 몰드 외부(도면에서는 몰드 상방)의 퇴피위치로 퇴피시켜 놓은 히터(43)를 적의 이동시켜 양 몰드 사이에 삽입하여, 히터(43)로 가식 시트를 가열 연화(軟化)시킨다. 이 경우의 가열 공정은 예컨대 비접촉의 복사가열을 포함하지만, 접촉에 의한 전도 가열이어도 좋다. 그리고, 흡인구멍(41)으로 가식 시트(S)를 흡인해서 진공성형하여 가식 시트를 몰드(Mb)의 캐비티면에 따르도록 해서 예비성형한다.
다음, 히터(43)를 양 몰드 사이로부터 퇴피시켜 도 6의 (C)와 같이 양 몰드를 몰드조임해서, 양 몰드에서 형성되는 캐비티에 가열 용융상태 등의 유동상태인 수지(Pm)를 충전한다. 그리고, 수지가 냉각 등에 의해 고화된 후 몰드를 개방해서 성형물을 취출한다. 그리고, 가식 시트의 불필요한 부분을 적의 트리밍함으로써, 도 4의 (A)와 (B)에 도시된 것과 같이, 수지성형물(5)에 가식 시트(S)가 적층되어 가식된 가식 성형품(Pd)이 얻어지게 된다. 그리고, 본 발명에서는, 가식 시트에 의해 요철모양을 시각적으로 느끼게 하는 입체 의장감의 표현이 가식 성형품에서도 가능해진다.
실시예
1
도 3에 도시된 가식 시트(S5)를 다음과 같이 해서 만들었다. 먼저, 결정성 수지의 불소계 수지인 불화비니리덴 수지(융점(Tm) 160℃)와, 비결정성 수지인 아크릴계 수지(VICAT 연화온도(Ts) 118℃)를 2층 공압출해서, 두께 8㎛의 제1 투명 수지 기재 시트(11)와 두께 72㎛의 제2 투명 수지 기재 시트(12)가 적층된 투명 수 지 기재 시트(1)를 만들었다.
다음, 상기 투명 수지 기재 시트(1)의 제2 투명 수지 기재 시트(12) 측의 면에, 아크릴계 수지를 바인더 수지로 하고, 광휘성 안료로서 알루미늄의 인편상 박편(평균입경 14 ㎛)을 첨가한 실버 잉크에 의한 그라비아 인쇄로 두께(건조시) 2㎛의 광휘성층(2)을 형성하였다. 다시, 아크릴계 수지와 염화 비닐-초산비닐 공중합체가 1 : 1 질량비의 혼합수지로 된 잉크를 그라비아 인쇄로 2회 인쇄해서 두께(건조시) 4㎛의 접착제층(도시되지 않음)을 형성시켜 가식 시트를 얻었다.
다음, 앞에서 설명한 것과 같이 도 5의 (A)와 (B)에 도시된 것과 같은 엠보씽가공에 의해, 불화비니리덴 수지의 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 표면에, 중심선 평균 거칠기(Ra) 5㎛의 미소 요철의 조면으로 표면에서 보아 평탄한 저광택 영역(L)과, 중심선 평균 거칠기(Ra) 0.1㎛의 평활면으로 표면에서 보아 오목부로 된 고광택 영역(Hr)을 형성시켰다. 오목부와 볼록부의 고저 차는 10㎛이었다. 또, 저광택 영역(L) 및 고광택 영역(H)은 각각 폭이 100 ~ 200㎛의 가늘고 긴 호상 영역(縞狀領域)으로서, 양 영역이 교대로 배열됨으로써 전체로서 헤어라인 모양으로 되어 있다. 한편, 아크릴계 수지의 제2 투명 수지 기재 시트(12) 및 광휘성층(2)에 대해서는, 저광택 영역(L)에 대향하는 부분에 오목부 영역을 형성하고, 고광택 영역(H)에 대향하는 부분에 볼록부 영역(P)을 형성하였다. 양 영역의 고저 차는 80㎛이었다.
한편, 엠보씽가공시의 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 표면온도는, 적외선 복사 히터의 가열에 의해 180℃로 하였다. 또, 제2 투명 수지 기재 시트(12)는, 표 면온도 150℃의 가열 금속 드럼으로부터의 전도열로 가열하였다.
다음, 상기에서 얻은 가식 시트(S)를 사출성형 동시 가식 장치에다, 광휘성층(2) 측이 사출 성형몰드의 숫몰드의 게이트 측을 향하도록 해서 장착시켰다. 다음, 진공성형 몰드로 되는 사출성형 몰드의 암몰드 상에서, 시트 가열온도 120℃의 조건으로 가식 시트를 히터에 의한 비접촉 가열로 가열 연화시킨 후, 사출성형 몰드 측에서 진공 흡인하여 가식 시트를 당해 사출 성형의 몰드 형상으로 진공성형하였다. 진공성형 후의 가식 시트에 대해, 요철모양의 상황을 확인하였더니 그 요철형상은 남아있었다.
그 후, 사출성형 몰드를 몰드조임 해서 ABS 수지를 사출성형하였다. 한편, 사출성형 몰드의 몰드 온도는 60℃, 사출수지 온도는 ±240℃의 조건에서 가식 성형품(Pd)을 꺼내, 당해 성형품에서 요철모양이 잔존하는 상황을 확인하였더니, 가식 성형품(Pd)에는 그 표면의 미소한 요철도 포함해서 요철은 남아 있고, 요철모양을 시각적으로 느끼게 하는 입체적 의장감이 표현되어, 고의장의 성형품으로 되어 있었다.
이상과 같이 본 발명에 의하면, 가식 시트를 진공성형 등으로 열성형하더라도, 시트 표면 및 내면에 설치된 요철로 표현되는 요철모양의 입체 의장감이 소실되기 어려운 가식 시트와, 이와 같은 가식 시트를 이용한 가식 성형품 및, 이와 같은 가식 성형품이 쉽게 얻어지는 사출성형 동시 가식 방법을 제공하게 된다.
Claims (12)
- 투명 수지 기재 시트(1)와,이 투명 수지 기재 시트(1)의 이면에 설치된 광휘성층(2)을 갖되,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 표면이, 상대적으로 주위보다도 광택이 높은 고광택 영역(H)과, 상대적으로 상기 고광택 영역(H)보다 광택이 낮은 저광택 영역(L)으로 구획되고,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 두께는, 고광택 영역(H)에서는 상대적으로 주위보다도 두껍고, 저광택 영역(L)에서는 상대적으로 상기 고광택 영역(H)보다 얇게 되어 있어서, 상기 고광택 영역(H)의 두께 및 저광택 영역(L)의 두께에 대응한 요철모양이 시각적으로 발현되고,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 이면 중, 상기 고광택 영역(H)에 대응한 부분에, 이면방향으로 볼록해지는 볼록부(p)가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 가식 시트.
- 투명 수지 기재 시트(1)와,이 투명 수지 기재 시트(1)의 이면에 설치된 광휘성층(2)을 갖되,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 표면이, 상대적으로 주위보다도 광택이 높은 고광택 영역(H)과, 상대적으로 상기 고광택 영역(H)보다 광택이 낮은 저광택 영역(L)으로 구획되고,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 두께는, 고광택 영역(H)에서는 상대적으로 주위보다도 두껍고, 저광택 영역(L)에서는 상대적으로 상기 고광택 영역(H)보다 얇게 되어 있어서, 상기 고광택 영역(H)의 두께 및 저광택 영역(L)의 두께에 대응한 요철모양이 시각적으로 발현되고,상기 투명 수지 기재 시트(1)는, 표면 측에 위치하는 제1 투명 수지 기재 시트(11)와 이면 측에 위치하는 제2 투명 수지 기재 시트(12)를 갖되,상기 제1 투명 수지 기재 시트(11)는 결정성 수지로 이루어지는 한편, 제2 투명 수지 기재 시트(12)는 비결정성 수지로 이루어지고, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점은 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 연화온도보다 높게 되어 있는 것을 특징으로 하는 가식 시트.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 투명 수지 기재 시트(1)와 광휘성층(2) 사이에, 광휘성층의 광휘성을 완전히 은폐시키지 않을 정도의 장식층(3)이 설치된 것을 특징으로 하는 가식 시트.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광휘성층(2)의 이면에, 열가소성 수지로 된 뒷받침 시트(4)가 설치된 것을 특징으로 하는 가식 시트.
- 삭제
- 삭제
- 가식 시트와, 이 가식 시트의 이면 측에 설치된 수지성형물을 구비한 가식 성형품에 있어서,상기 가식 시트(S)가,투명 수지 기재 시트(1)와,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 이면에 설치된 광휘성층(2)을 구비하되,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 표면이, 상대적으로 주위보다도 광택이 높은 고광택 영역(H)과, 상대적으로 상기 고광택 영역(H)보다 광택이 낮은 저광택 영역(L)으로 구획되고,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 두께는, 고광택 영역(H)에서는 상대적으로 주위보다도 두껍고, 저광택 영역에서는 상대적으로 상기 고광택 영역(L)보다 얇게 되어 있어서, 상기 고광택 영역(H)의 두께 및 저광택 영역(L)의 두께에 대응한 요철모양이 시각적으로 발현되고,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 고광택 영역(H)에서는, 이면에 볼록부(p)가 형성되고, 표면 측은 평탄면(Hf)으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 가식 성형품.
- 가식 시트와, 이 가식 시트의 이면 측에 설치된 수지성형물을 구비한 가식 성형품에 있어서,상기 가식 시트(S)가,투명 수지 기재 시트(1)와,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 이면에 설치된 광휘성층(2)을 구비하되,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 표면이, 상대적으로 주위보다도 광택이 높은 고광택 영역(H)과, 상대적으로 상기 고광택 영역(H)보다 광택이 낮은 저광택 영역(L)으로 구획되고,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 두께는, 고광택 영역(H)에서는 상대적으로 주위보다도 두껍고, 저광택 영역에서는 상대적으로 상기 고광택 영역(L)보다 얇게 되어 있어서, 상기 고광택 영역(H)의 두께 및 저광택 영역(L)의 두께에 대응한 요철모양이 시각적으로 발현되고,상기 투명 수지 기재 시트(1)의 고광택 영역(H)에서는, 이면에 볼록부(p)가 형성되고, 표면 측에는 볼록형상부(Hp)가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 가식 성형품.
- 수지성형물을 성형할 때, 이 수지성형물의 표면에 가식 시트를 일체로 설치해서 가식 성형품을 얻는 사출성형 동시 가식 방법에 있어서,(A) 투명 수지 기재 시트(1)와 광휘성층(2)을 포함한 적층체를 가열하고, 적층체에 엠보씽가공을 실시해서, 투명 수지 기재 시트(1)의 표면에 상대적으로 주위보다도 광택이 높은 고광택 영역(H)과, 상대적으로 상기 고광택 영역(H)보다 광택이 낮은 저광택 영역(L)을 형성함과 더불어, 투명 기재 시트(1)의 두께를 고광택 영역(H)에서는 상대적으로 주위보다도 두껍고, 저광택 영역(L)에서는 상대적으로 상기 고광택 역역(H)보다 얇은 가식 시트(S)를 만드는 시트 제작 공정과,(B) 가식 시트(S)를 가열 연화시켜, 소망하는 형상의 가식 성형품(Pd)에 대응하는 형상으로 진공성형하는 진공성형 공정 및,(C) 진공성형이 된 가식 시트(S)를 사출성형 몰드 내에 그 표면 측이 사출성형 몰드 내면을 향하도록 배치하고서, 이 사출성형 몰드 내부에 수지를 사출해서 이 수지를 고화시켜 수지 성형품을 성형함과 더불어, 수지 성형품의 표면에 가식 시트를 일체로 설치해서 가식 성형품을 얻는 사출성형 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 사출성형 동시 가식 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 적층체의 투명 수지 기재 시트(S)가, 표면 측에 위치하는 제1 투명 수지 기재 시트(11)와, 이면 측에 위치하는 제2 투명 수지 기재 시트(12)를 갖되, 상기 제1 투명 수지 기재 시트(11)는 결정성 수지로 이루어지는 한편, 제2 투명 수지 기재 시트(12)는 비결정성 수지로 이루어지고, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점이 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 연화온도보다 높게 되어 있는 것을 특징으로 하는 사출성형 동시 가식 방법.
- 제10항에 있어서, 상기 시트 제작 공정에서, 제1 투명 수지 기재 시트(11)의 융점 이상의 온도에서 엠보씽가공을 실행하는 것을 특징으로 하는 사출성형 동시 가식 방법.
- 제10항에 있어서, 상기 진공성형 공정에서, 제2 투명 수지 기재 시트(12)의 연화점 이상이고 제1 투명수지 기재 시트의 융점 미만인 온도에서 진공성형 하는 것을 특징으로 하는 사출성형 동시 가식 방법.
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