KR101081718B1 - 전도 노이즈 억제 구조체 및 배선 회로 기판 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 전도 노이즈 억제 구조체의 제2의 실시 형태를 나타내는 단면 사시도이다.
도 3은 저항층의 표면을 관찰한 원자간력 현미경상이다.
도 4는 실시예 1에 있어서의 전도 노이즈 억제 구조체의 사시도이다.
도 5는 비교예 1에 있어서의 양면 기판의 사시도이다.
도 6은 실시예 1, 비교예 1에 있어서의 전도 노이즈 억제 효과 (S21)을 나타내는 그래프이다.
도 7은 실시예 1, 비교예 1에 있어서의 근단(近端) 혼선 (S31)을 나타내는 그래프이다.
도 8은 실시예 1, 비교예 1에 있어서의 원단(遠端) 혼선 (S41)을 나타내는 그래프이다.
도 9는 본 발명의 전도 노이즈 억제 구조체의 제3의 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 전도 노이즈 억제 구조체의 제3의 실시 형태를 나타내는 상면도이다.
도 11은 본 발명의 전도 노이즈 억제 구조체의 제4의 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 12는 본 발명의 전도 노이즈 억제 구조체의 제4의 실시 형태를 나타내는 상면도이다.
도 13은 본 발명의 전도 노이즈 억제 구조체의 제5의 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 14는 본 발명의 전도 노이즈 억제 구조체의 제6의 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 15는 실시예 2에 있어서의 전도 노이즈 억제 구조체의 단면도이다.
도 16은 실시예 2에 있어서의 전도 노이즈 억제 구조체의 상면도이다.
도 17은 비교예 2에 있어서의 양면 기판의 단면도이다.
도 18은 실시예 2, 비교예 2에 있어서의 전도 노이즈 억제 효과 (S21)을 나타내는 그래프이다.
도 19는 실시예 2, 비교예 2에 있어서의 근단 혼선 (S31)을 나타내는 그래프이다.
도 20은 실시예 2, 비교예 2에 있어서의 원단 혼선 (S41)을 나타내는 그래프이다.
도 21은 실시예 3에 있어서의 전도 노이즈 억제 구조체의 단면도이다.
도 22는 실시예 3에 있어서의 전도 노이즈 억제 구조체의 상면도이다.
도 23은 비교예 3에 있어서의 양면 기판의 단면도이다.
도 24는 실시예 3, 비교예 3에 있어서의 전도 노이즈 억제 효과 (S21)을 나타내는 그래프이다.
도 25는 실시예 3, 비교예 3에 있어서의 근단 혼선 (S31)을 나타내는 그래프이다.
도 26은 실시예 3, 비교예 3에 있어서의 원단 혼선 (S41)을 나타내는 그래프이다.
11 전원 선로
12 신호 전송 선로
13 그라운드층(ground layer)
14 저항층
15 절연층
16 그라운드 선로
20 전도 노이즈 억제 구조체
30,40 전도 노이즈 억제 구조체
22 신호 전송 선로
24, 44 저항층
115 간극
18 제3의 절연층
19 제4의 절연층
19a 제1의 절연층
19b 제2의 절연층
Claims (9)
- 동일면 상에 서로 이간하여 설치된 전원 선로 및 신호 전송 선로와,
상기 전원 선로 및 상기 신호 전송 선로와 이간하여 대향 배치된 그라운드층과,
상기 전원 선로 및 상기 그라운드층과 이간하여 대향 배치된 저항층을 가지고,
상기 저항층이 상기 전원 선로와 대향하고 있는 영역 (I) 및 상기 전원 선로와 대향하고 있지 않은 영역 (II)를 가지고,
상기 전원 선로의 폭 방향에 있어서, 상기 저항층과 상기 신호 전송 선로가 이간하여 있는 전도 노이즈 억제 구조체. - 제1항에 있어서,
상기 전원 선로의 폭 방향에 있어서의 상기 전원 선로의 폭(W1)과, 상기 전원 선로의 폭 방향에 있어서의 상기 저항층의 폭(W2)이 하기 식 (1-1)을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도 노이즈 억제 구조체.
W1<W2···(1-1) - 제1항에 있어서,
상기 전원 선로의 폭 방향에 있어서의 상기 전원 선로의 폭(W1)과, 상기 전원 선로의 폭 방향에 있어서의 상기 저항층의 폭(W2)이 하기 식 (1-2)를 만족하는 것을 특징으로 하는 전도 노이즈 억제 구조체.
W1≥W2···(1-2) - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
서로 이웃하는 상기 전원 선로와 상기 신호 전송 선로 사이에 설치된 그라운드 선로를 더 가지고,
상기 전원 선로의 폭 방향에 있어서의 상기 저항층과 상기 신호 전송 선로의 간극의 폭(D)과, 상기 전원 선로의 폭 방향에 있어서의 상기 그라운드 선로와 상기 신호 전송 선로의 선간 거리(L2)가 하기 식 (2)를 만족하는 것을 특징으로 하는 전도 노이즈 억제 구조체.
D>L2 ···(2) - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전원 선로의 폭 방향에 있어서의 상기 저항층과 상기 신호 전송 선로의 간극의 폭(D)과, 상기 전원 선로의 두께 방향에 있어서의 상기 전원 선로와 상기 저항층의 거리(T)와, 상기 전원 선로의 폭(W1)과, 상기 전원 선로의 폭 방향에 있어서의 상기 전원 선로와 상기 신호 전송 선로의 거리(L)가 하기 식 (3)을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도 노이즈 억제 구조체.
3T≤D<(L+W1)···(3) - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 저항층이 상기 전원 선로와 상기 그라운드층 사이에 설치되고,
상기 전원 선로의 두께 방향에 있어서의 상기 전원 선로와 상기 저항층의 거리(T)와, 상기 전원 선로의 두께 방향에 있어서의 상기 그라운드층과 상기 저항층의 거리(Tg)가 하기 식 (4)를 만족하는 것을 특징으로 하는 전도 노이즈 억제 구조체.
T<Tg···(4) - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전원 선로의 두께 방향에 있어서의 상기 전원 선로와 상기 저항층의 거리(T)가 2~100μm인 것을 특징으로 하는 전도 노이즈 억제 구조체. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 저항층이 물리적 증착에 의해 형성된 두께 5~300nm의 층인 것을 특징으로 하는 전도 노이즈 억제 구조체. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 전도 노이즈 억제 구조체를 구비하는 배선 회로 기판.
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10163636A (ja) | 1996-12-02 | 1998-06-19 | Nec Corp | 多層プリント基板及びその製造方法 |
JPH10190237A (ja) * | 1996-12-20 | 1998-07-21 | Nec Corp | プリント回路基板 |
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JPH10190237A (ja) * | 1996-12-20 | 1998-07-21 | Nec Corp | プリント回路基板 |
JP2001068801A (ja) * | 1999-08-27 | 2001-03-16 | Sony Corp | プリント配線板 |
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