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KR101036945B1 - Cleaning Structure and Method of Ultra High Pressure Disperser - Google Patents

Cleaning Structure and Method of Ultra High Pressure Disperser Download PDF

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KR101036945B1
KR101036945B1 KR1020110011154A KR20110011154A KR101036945B1 KR 101036945 B1 KR101036945 B1 KR 101036945B1 KR 1020110011154 A KR1020110011154 A KR 1020110011154A KR 20110011154 A KR20110011154 A KR 20110011154A KR 101036945 B1 KR101036945 B1 KR 101036945B1
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South Korea
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high pressure
ultra
raw material
line
interaction chamber
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김태영
김현효
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(주)일신오토클레이브
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Abstract

본 발명은 초고압 분산기의 세척 구조 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 인터액션 챔버에서 막힘 발생 시 원료를 바이패스 라인을 통해 역류 시켜 인터액션 챔버를 세척하되 초고압에서 적용될 수 있는 초고압 분산기의 세척 구조 및 방법에 관한 것이다.
상기와 같은 구성에 의한 본 발명의 초고압 분산기의 세척 구조 및 방법은 인터액션 챔버의 세척을 위해 부품을 분리 및 재조립 과정이 필요치 않아 세척 공정이 간단하여 작업 공정을 단축시키고, 비숙련자도 부품의 손상 없이 작업이 가능해지는 효과가 있다.The present invention relates to a washing structure and method of an ultra-high pressure disperser, and more particularly, a washing structure and method of an ultra-high pressure disperser which can be applied at ultra high pressure while washing the interaction chamber by refluxing raw materials through a bypass line when a blockage occurs in the interaction chamber. It is about.
The cleaning structure and method of the ultra-high pressure disperser of the present invention according to the above configuration does not need to separate and reassemble the parts for washing the interaction chamber, so the cleaning process is simple, shortening the working process, and even unskilled workers are damaged. Work is possible without the effect.

Figure R1020110011154
Figure R1020110011154

Description

초고압 분산기의 세척 구조 및 방법{Cleaning Structure for Nano disperser and Method of the same}Cleaning structure for nano disperser and method of the same

본 발명은 초고압 분산기의 세척 구조 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 인터액션 챔버에서 막힘 발생 시 원료를 바이패스 라인을 통해 역류 시켜 인터액션 챔버를 세척하되 초고압에서 적용될 수 있는 초고압 분산기의 세척 구조 및 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a washing structure and method of an ultra-high pressure disperser, and more particularly, a washing structure and method of an ultra-high pressure disperser which can be applied at ultra high pressure while washing the interaction chamber by refluxing raw materials through a bypass line when a blockage occurs in the interaction chamber. It is about.

유체를 초고압으로 가압한 상태에서 미세 오리피스 모듈을 통과시키면 압력의 급격한 저하에 따른 초음파 유속이 형성된다. 이때 유체 내의 입자에 충격, 캐비테이션(Cavitation), 난류 및 전단력이 작용하여 유체는 세포파괴, 미립화, 유화, 분산, 리포좀 등이 일어나게 된다. 상기와 같은 원리를 이용하는 초고압 분산기는 기존의 호모믹서, 초음파, 볼밀 등을 이용하는 타 기술에 비해 높은 효율을 가지고 있으며, 특히 분산이 제품의 품질 및 불량에 미치는 영향이 커지면서 초고압 분산 공정은 전기/전자 재료, 생명공학, 제약, 식품, 섬유, 도료, 화장품 산업 등에 이르기까지 광범위한 분야에서 적용되고 있다.Passing the micro orifice module in a state where the fluid is pressurized to ultra high pressure forms an ultrasonic flow rate due to a sudden drop in pressure. In this case, impact, cavitation, turbulence, and shear force act on the particles in the fluid, and the fluid may cause cell destruction, atomization, emulsification, dispersion, liposomes, and the like. The ultra high pressure dispersion machine using the above principle has higher efficiency than other technologies using conventional homomixers, ultrasonic waves, ball mills, and the like. In particular, the ultra high pressure dispersion process is highly effective in distributing electric / electronic products due to the influence of dispersion on product quality and defects. It is applied in a wide range of fields from materials, biotechnology, pharmaceuticals, food, textiles, paints and cosmetics industries.

고압 분산 공정은 플런저 작동으로 발생한 고압의 유체가 챔버에 있는 작은 틈새 또는 노즐을 고속으로 통과하면서 압력의 급격한 저하에 따른 고속 유속의 발생을 이용한다. 도 1은 기존의 초고압 분산기를 도시한 개략도이다. 도면에 도시된 바와 같이 고압펌프(10)를 통해 원료(1)가 고압으로 가압되고, 가압된 원료(1)는 고압 원료라인(L1)을 통해 인터액션 챔버(20)에 공급되고, 인터액션 챔버(20)의 내부를 통과하면서 파쇄 및 분산이 진행된다. 분산된 원료(1)는 최종적으로 열교환기(30)를 거쳐 제품(2)으로 생산된다.The high pressure dispersion process takes advantage of the high velocity flow rate resulting from the rapid drop in pressure as the high pressure fluid generated by the plunger operation passes at high speed through a small gap or nozzle in the chamber. 1 is a schematic diagram illustrating a conventional ultrahigh pressure disperser. As shown in the drawing, the raw material 1 is pressurized to high pressure through the high pressure pump 10, and the pressurized raw material 1 is supplied to the interaction chamber 20 through the high pressure raw material line L1, and the interaction chamber ( 20) Crushing and dispersion proceed while passing through the interior. The dispersed raw material 1 is finally produced as the product 2 via the heat exchanger 30.

이때, 상기 인터액션 챔버(20) 내의 작은 노즐은 파쇄되지 않거나 통과할 수 있는 크기보다 큰 입자가 유입되면 막히게 된다. 막힌 노즐을 뚫기 위해서는 연결되어 있는 인터액션 챔버를 분리 및 재조립이 요구되기 때문에 사용에 불편함을 주는 문제점이 발생한다. 특히 초고압을 다루기 때문에 분리 및 재조립을 위해서는 고압 장비의 보수에 대한 노하우가 필요하며, 숙련된 전문가가 아닌 경우 부상이나 부품의 손상을 야기할 수 있어 이를 개선하기 위한 기술의 개발이 요구되고 있다.At this time, the small nozzle in the interaction chamber 20 is clogged if the particles larger than the size that can not be broken or passed through. In order to puncture the clogged nozzle, it is necessary to separate and reassemble the connected interaction chamber, which causes inconvenience in use. In particular, because it deals with ultra-high pressure, know-how of repairing high-pressure equipment is required for separation and reassembly, and if not an expert, it may cause injury or damage to parts, and thus, development of technology for improving it is required.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서 본 발명의 목적은, 초고압 분산기의 인터액션 챔버가 이물질로 인해 막힐 경우 유로를 역방향으로 구성하여 인터액션 챔버를 세척하게 되는 세척 구조 및 방법을 제공함에 있다. 특히 초고압을 다루는 초고압 분산기에 있어서, 초고압을 유지하고 압력의 손실을 최소화 하는 바이패스 및 밸브 구조를 적용하게 되는 세척 구조 및 방법을 제공함에 있다.
The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention, to provide a cleaning structure and method for cleaning the interaction chamber by configuring the flow path in the reverse direction when the interaction chamber of the ultra-high pressure disperser is blocked by foreign matter. have. In particular, in the ultra-high pressure disperser to deal with ultra-high pressure, to provide a cleaning structure and method to apply a bypass and valve structure to maintain the ultra-high pressure and minimize the pressure loss.

본 발명의 초고압 분산기의 세척 구조는 내부에 원료(1)가 고압 상태로 유동되는 원료라인(L10)과, 상기 원료라인(L10)의 전단에 구비되는 고압펌프(100)와, 상기 원료라인(L10) 상의 상기 고압펌프(100) 후단에 구비되는 인터액션 챔버(200)를 포함하는 초고압 분산기에 있어서, 상기 초고압 분산기는, 일단이 상기 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 전단에 연통되고, 타단이 상기 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 후단에 연통되는 바이패스라인(L20); 상기 바이패스라인(L20) 상에 구비되며 상기 바이패스라인(L20)을 개방 또는 밀폐하는 바이패스밸브(510); 상기 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 전단에 구비되며, 상기 원료라인(L10)을 개방 또는 밀폐하는 유입밸브(520); 및 상기 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 후단에 구비되며, 상기 원료라인(L10)을 개방 또는 밀폐하는 유출밸브(530); 를 포함하는 것을 특징으로 한다.The washing structure of the ultrahigh pressure disperser according to the present invention includes a raw material line (L10) in which the raw material (1) flows in a high pressure state, a high pressure pump (100) provided at the front end of the raw material line (L10), and the raw material line ( In the ultra-high pressure disperser comprising an interaction chamber 200 provided at the rear end of the high-pressure pump 100 on the L10, the ultra-high pressure disperser, one end is in communication with the front end of the interaction chamber 200 on the raw material line (L10) A bypass line L20 having the other end communicated with a rear end of the interaction chamber 200 on the raw material line L10; A bypass valve 510 provided on the bypass line L20 to open or close the bypass line L20; An inlet valve 520 provided at a front end of the interaction chamber 200 on the raw material line L10 to open or close the raw material line L10; And an outlet valve 530 provided at a rear end of the interaction chamber 200 on the raw material line L10 and for opening or closing the raw material line L10. Characterized in that it comprises a.

또한, 상기 초고압 분산기는, 일단이 상기 원료라인(L10) 상의 상기 유입밸브(520)와 인터액션 챔버(200)의 전단 사이에 연통되고, 타단이 외부로 노출되는 배출라인(L30); 및 상기 배출라인(L30) 상에 구비되며 상기 배출라인(L30)을 개방 또는 밀폐하는 배출밸브(540); 를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the ultra-high pressure disperser, one end is in communication with the inlet valve 520 on the raw material line (L10) and the front end of the interaction chamber 200, the other end is discharge line (L30) exposed to the outside; And a discharge valve 540 provided on the discharge line L30 to open or close the discharge line L30. It characterized in that it further comprises.

이때, 상기 유입밸브(520)는, 상기 바이패스라인(L20)의 일단과 상기 인터액션 챔버(200) 사이에 구비되는 것을 특징으로 한다.In this case, the inlet valve 520 is characterized in that it is provided between one end of the bypass line (L20) and the interaction chamber 200.

또한, 상기 유출밸브(530)는, 상기 바이패스라인(L20) 타단의 후단에 구비되는 것을 특징으로 한다.In addition, the outlet valve 530 is characterized in that it is provided at the rear end of the other end of the bypass line (L20).

또한, 상기 초고압 분산기는, 상기 배출라인(L30) 일단과 인터액션 챔버(200) 사이에 설치되는 매쉬필터(미도시)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the ultra-high pressure spreader, characterized in that it further comprises a mesh filter (not shown) installed between one end of the discharge line (L30) and the interaction chamber 200.

본 발명의 초고압 분산기의 세척 방법은, 배출밸브를 여는 제1 단계(S1); 유출밸브를 닫는 제2 단계(S2); 바이패스밸브를 여는 제3 단계(S3); 및 유입밸브를 닫는 제4 단계(S4); 를 통해 초고압 분산기를 세척하는 것을 특징으로 한다.The washing method of the ultra-high pressure dispersion device of the present invention, the first step of opening the discharge valve (S1); Closing the outlet valve (S2); A third step S3 of opening the bypass valve; And a fourth step S4 of closing the inlet valve. It is characterized by washing the ultrahigh pressure dispersion through.

또한, 유입밸브를 여는 제5 단계(S5); 바이패스밸브를 닫는 제6 단계(S6); 유출밸브를 여는 제7 단계(S7); 및 배출밸브를 닫는 제8 단계(S8); 를 통해 초고압 분산기의 작동을 재개하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the fifth step (S5) of opening the inlet valve; A sixth step S6 of closing the bypass valve; A seventh step S7 of opening the outlet valve; And an eighth step S8 of closing the discharge valve; It is characterized by resuming the operation of the ultra-high pressure spreader through.

상기와 같은 구성에 의한 본 발명의 초고압 분산기의 세척 구조 및 방법은 인터액션 챔버의 세척을 위해 부품을 분리 및 재조립 과정이 필요치 않아 세척 공정이 간단하여 작업 공정을 단축시키고, 비숙련자도 부품의 손상 없이 작업이 가능해지는 효과가 있다.
The cleaning structure and method of the ultra-high pressure disperser of the present invention according to the above configuration does not need to separate and reassemble the parts for washing the interaction chamber, so the cleaning process is simple, shortening the working process, and even unskilled workers are damaged. Work is possible without the effect.

도 1은 종래의 초고압 분산기 개략도
도 2는 본 발명의 초고압 분산기 개략도 (작동 시)
도 3은 본 발명의 초고압 분산기 개략도 (세척 시)
도 4는 본 발명의 초고압 분산기 세척 방법 순서도 (세척 시)
도 5는 본 발명의 초고압 분산기 세척 방법 순서도 (작동 재개 시)1 is a schematic view of a conventional ultrahigh pressure disperser
2 is a schematic diagram of the ultrahigh pressure disperser of the present invention (in operation);
Figure 3 is a schematic diagram of the ultrahigh pressure disperser of the present invention (when washing)
Figure 4 is a flow chart of the ultrahigh pressure disperser cleaning method of the present invention (when washing)
5 is a flow chart of the ultra-high pressure disperser cleaning method of the present invention (at operation resume)

본 발명의 초고압 분산기의 세척 구조가 적용되는 초고압 분산기의 구조에 대해 알아보면, 상기 초고압 분산기는 원료가 유동되는 원료라인(L10)과, 상기 원료라인(L10)의 전단에 연통되는 고압펌프(100)와, 상기 원료라인(L10) 상의 상기 고압펌프(100) 후단에 설치되는 인터액션 챔버(200)와, 상기 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200)의 후단에 설치되는 열교환기(300)로 구성된다.Looking at the structure of the ultra-high pressure dispersion to which the washing structure of the ultra-high pressure dispersion of the present invention is applied, the ultra-high pressure dispersion is a high pressure pump 100 in communication with the raw material line (L10) and the front end of the raw material line (L10) flows the raw material ), An interaction chamber 200 installed at the rear end of the high pressure pump 100 on the raw material line L10, and a heat exchanger 300 installed at the rear end of the interaction chamber 200 on the raw material line L10. It consists of.

작동 원리를 간단히 설명하면, 고압펌프(100)로 공급되는 원료(1)가 초고압으로 원료라인(L10)을 통해 인터액션 챔버(200)에 공급되며, 공급된 원료(1)는 인터액션 챔버(200) 내부에서 분산과정을 거치게 되고, 열교환기(300)를 통해 최종 제품(2)으로 공급 된다.
Briefly describing the operating principle, the raw material 1 supplied to the high pressure pump 100 is supplied to the interaction chamber 200 through the raw material line L10 at a very high pressure, and the supplied raw material 1 is the interaction chamber 200. Through the dispersion process in the interior, it is supplied to the final product (2) through the heat exchanger (300).

이하, 상기와 같은 본 발명의 초고압 분산기의 세척 구조 일실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the washing structure of the ultrahigh pressure dispersion machine of the present invention as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 초고압 분산기는 상술된 구성이외에 바이패스라인(L20), 배출라인(L30), 바이패스밸브(510), 유입밸브(520), 유출밸브(530), 배출밸브(540)가 포함된다.2 and 3, in addition to the above-described configuration, the ultra-high pressure disperser of the present invention bypass line (L20), discharge line (L30), bypass valve 510, inlet valve 520, outlet valve 530 , Discharge valve 540 is included.

상기 바이패스라인(L20)은 일단이 상기 원료라인(L10) 상에 연통되되, 상기 인터액션 챔버(200)의 전단에 위치하도록 설치되고, 타단이 상기 원료라인(L10) 상에 연통되되, 상기 인터액션 챔버(200)의 후단에 위치하도록 설치된다. 상기 바이패스라인(L20)은 본 발명의 핵심 구성으로 인터액션 챔버(200)의 일단으로 공급되는 초고압 유체를 바이패스 시켜 인터액션 챔버(200)의 후단으로 공급하기 위한 구성이다. 상기 바이패스라인(L20) 상에는 상기 바이패스라인(L20)을 개방 또는 밀폐하기 위한 바이패스밸브(510)가 구비된다.One end of the bypass line (L20) is communicated on the raw material line (L10), is installed to be located in front of the interaction chamber 200, the other end is communicated on the raw material line (L10), the interaction It is installed to be located at the rear end of the chamber 200. The bypass line (L20) is a configuration for supplying to the rear end of the interaction chamber 200 by bypassing the ultra-high pressure fluid supplied to one end of the interaction chamber 200 as a core configuration of the present invention. On the bypass line (L20) is provided with a bypass valve 510 for opening or closing the bypass line (L20).

상기 유입밸브(520)는 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 전단에 위치하도록 설치된다. 상기 유입밸브(520)는 상기 원료라인(L10)을 개방 또는 밀폐하도록 구성되며, 상기 유입밸브(520)는 상기 인터액션 챔버(200)로 공급되는 초고압 유체를 공급 또는 차단시키기 위해 구성된다. 이때, 상기 유입밸브(520)는 상기 바이패스라인(L20)의 일단과 상기 인터액션 챔버(200) 사이에 위치되도록 설치될 수 있다. 이는 세척 공정 시 초고압을 유지 시킨 상태에서 세척 공정을 수행하기 위함으로 후술되는 세척 방법에서 상세 설명하기로 한다.The inlet valve 520 is installed to be located in front of the interaction chamber 200 on the raw material line (L10). The inlet valve 520 is configured to open or close the raw material line (L10), the inlet valve 520 is configured to supply or block the ultra-high pressure fluid supplied to the interaction chamber 200. In this case, the inlet valve 520 may be installed to be positioned between one end of the bypass line (L20) and the interaction chamber 200. This will be described in detail in the washing method described below to perform the washing process in a state where ultra-high pressure is maintained during the washing process.

상기 유출밸브(530)는 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 후단에 위치하도록 설치된다. 상기 유출밸브(530)는 상기 원료라인(L10)을 개방 또는 밀폐하도록 구성되며, 상기 유출밸브(530)는 상기 인터액션 챔버(200)로부터 배출되는 분산된 초고압 유체를 후단으로 공급 또는 차단시키기 위해 구성된다. 이때, 상기 유출밸브(530)는 상기 바이패스라인(L20) 타단의 후단에 위치되도록 설치될 수 있다. 이는 세척 공정 시 초고압을 유지 시킨 상태에서 세척 공정을 수행하기 위함으로 후술되는 세척 방법에서 상세 설명하기로 한다.The outlet valve 530 is installed to be located at the rear end of the interaction chamber 200 on the raw material line (L10). The outlet valve 530 is configured to open or close the raw material line L10, and the outlet valve 530 is configured to supply or block the dispersed ultra high pressure fluid discharged from the interaction chamber 200 to the rear end. do. At this time, the outlet valve 530 may be installed to be located at the rear end of the other end of the bypass line (L20). This will be described in detail in the washing method described below to perform the washing process in a state where ultra-high pressure is maintained during the washing process.

상기 배출라인(L30)은 일단이 상기 원료라인(L10) 상에 연통되되, 유입밸브(520)와 인터액션 챔버(200) 사이에 위치하도록 설치된다. 상기 배출라인(L30)의 타단은 외부로 개방되며, 인터액션 챔버(200)의 세척을 위해 인터액션 챔버(200)의 타단으로 공급되어 일단으로 배출되는 초고압 유체를 외부로 배출시키기 위한 구성이다. 상기 배출라인(L30) 상에는 상기 배출라인(L30)을 개방 또는 밀폐하기 위한 배출밸브(540)가 구비된다.
One end of the discharge line (L30) is communicated on the raw material line (L10), it is installed so as to be located between the inlet valve 520 and the interaction chamber 200. The other end of the discharge line (L30) is opened to the outside, and is configured to discharge the ultra-high pressure fluid supplied to the other end of the interaction chamber 200 to be discharged to one end for cleaning the interaction chamber 200 to the outside. On the discharge line (L30) is provided with a discharge valve 540 for opening or closing the discharge line (L30).

이하에서는 상기와 같이 구성된 본 발명의 세척 구조의 세척 방법에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 인터액션 챔버(200)의 세척 시에는 원료를 포함하는 유체 또는 세척용 유체를 사용한다. 또한 본 발명의 초고압 분산기는 액체 상태로 운용되기 때문에 유체의 상태는 액체이어야 한다.Hereinafter will be described with reference to the drawings for the washing method of the washing structure of the present invention configured as described above. When washing the interaction chamber 200, a fluid containing a raw material or a washing fluid is used. In addition, since the ultra-high pressure disperser of the present invention is operated in a liquid state, the state of the fluid must be liquid.

도 4를 참조하면, 막힘 발생 시 본 발명의 세척 방법은 고압펌프(100)의 작동을 유지 또는 운전을 정지시킨 상태에서 세척 과정을 수행하기 위해 다음과 같은 순서로 세척을 진행한다.Referring to Figure 4, when the clogging occurs, the cleaning method of the present invention proceeds to the washing in the following order to perform the cleaning process in the state of maintaining the operation or stop the operation of the high-pressure pump (100).

우선 초고압 분산기가 작동되는 상태에서는 유입밸브(520)와 유출밸브(530)가 개방되고, 바이패스밸브(510)와 배출밸브(540)는 밀폐된다.First, the inlet valve 520 and the outlet valve 530 are opened and the bypass valve 510 and the outlet valve 540 are closed in the state where the ultrahigh pressure disperser is operated.

세척을 위해 배출밸브(540)를 오픈하여 초고압 하중을 외부로 분산시키는 제1 단계(S1)를 수행한다. 다음으로 유출밸브(530)를 클로즈 하여 인터액션 챔버(200) 타단부를 밀폐하는 제2 단계(S2)를 수행한다. 다음으로 바이패스밸브(510)를 오픈하여 바이패스유로(L20)를 통해 초고압 유체가 인터액션 챔버(200)의 타단으로 공급되는 제3 단계(S3)를 수행한다. 최종적으로 유입밸브(520)를 클로즈 하여 초고압 유체 공급라인의 막힘없이 세척 과정이 진행되도록 하는 제4 단계(S4)를 수행한다.Opening the discharge valve 540 for cleaning to perform a first step (S1) to distribute the ultra-high pressure load to the outside. Next, a second step S2 of closing the outlet valve 530 to seal the other end of the interaction chamber 200 is performed. Next, the bypass valve 510 is opened to perform a third step S3 in which the ultra high pressure fluid is supplied to the other end of the interaction chamber 200 through the bypass flow path L20. Finally, the inlet valve 520 is closed to perform the fourth step S4 of performing the washing process without clogging the ultra-high pressure fluid supply line.

이하 세척 후 초고압 분산기의 작동 재개 방법에 대해 도면을 참조하여 설명하도록 한다.Hereinafter, a method of resuming the operation of the ultrahigh pressure dispersion machine after washing will be described with reference to the accompanying drawings.

도 5를 참조하면, 우선 유입밸브(520)를 오픈하는 제5 단계(S5)를 수행한다. 다음으로 바이패스밸브(510)를 클로즈 하여 바이패스유로(L20)를 차단하는 제6 단계(S6)를 수행한다. 다음으로 유출밸브(530)를 오픈하여 원료라인(L10)을 활성화 시키는 제7 단계(S7)를 수행한다. 마지막으로 배출밸브(540)를 클로즈 하여 세척 작업을 종료함과 동시에 분산기의 작동이 재개되는 제8 단계(S8)를 수행한다. 상기 과정 역시 고압 증폭기의 작동을 유지 또는 운전을 정지시킨 상태에서 세척 과정을 수행하여 장비의 분리 조립을 진행하지 않고 세척을 진행할 수 있다는 장점이 있다.
Referring to FIG. 5, first, a fifth step S5 of opening the inlet valve 520 is performed. Next, a sixth step S6 of closing the bypass valve 510 to block the bypass flow path L20 is performed. Next, the seventh step S7 of activating the raw material line L10 is performed by opening the outlet valve 530. Finally, the closing operation of the disperser is completed by closing the discharge valve 540 and performing an eighth step (S8). The above process also has the advantage that the cleaning can be carried out without proceeding to separate assembly of the equipment by performing the cleaning process in a state in which the operation or stop operation of the high-pressure amplifier.

아울러 본 발명의 초고압 분산기의 운전을 정지하고 상기 단계를 진행할 때에는 상기 제1 단계(S1) 또는 제5 단계(S5)를 수행하기 전에 운전 정지가 필요하며, 상기 제4 단계(S4) 또는 제8 단계(S8) 이후 운전을 재개할 수 있다.
In addition, when stopping the operation of the ultra-high pressure disperser of the present invention and proceeding with the step, the operation stop is required before performing the first step (S1) or the fifth step (S5), the fourth step (S4) or the eighth Operation can be resumed after step S8.

본 발명의 상기한 실시 예에 한정하여 기술적 사상을 해석해서는 안된다. 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당업자의 수준에서 다양한 변형 실시가 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 당업자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 된다.
The technical spirit should not be interpreted as being limited to the above embodiments of the present invention. Various modifications may be made at the level of those skilled in the art without departing from the spirit of the invention as claimed in the claims. Therefore, such improvements and modifications fall within the protection scope of the present invention, as will be apparent to those skilled in the art.

L10 : 원료라인 L20 : 바이패스라인
L30 : 배출라인
100 : 고압펌프 200 : 인터액션 챔버
300 : 열교환기
510 : 바이패스밸브 520 : 유입밸브
530 : 유출밸브 540 : 배출밸브L10: Raw material line L20: Bypass line
L30: discharge line
100: high pressure pump 200: interaction chamber
300: heat exchanger
510: bypass valve 520: inlet valve
530: outlet valve 540: discharge valve

Claims (7)

내부에 원료(1)가 고압 상태로 유동되는 원료라인(L10)과, 상기 원료라인(L10)의 전단에 구비되는 고압펌프(100)와, 상기 원료라인(L10) 상의 상기 고압펌프(100) 후단에 구비되는 인터액션 챔버(200)를 포함하는 초고압 분산기에 있어서,
상기 초고압 분산기는,
일단이 상기 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 전단에 연통되고, 타단이 상기 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 후단에 연통되는 바이패스라인(L20);
상기 바이패스라인(L20) 상에 구비되며 상기 바이패스라인(L20)을 개방 또는 밀폐하는 바이패스밸브(510);
상기 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 전단에 구비되며, 상기 원료라인(L10)을 개방 또는 밀폐하는 유입밸브(520); 및
상기 원료라인(L10) 상의 상기 인터액션 챔버(200) 후단에 구비되며, 상기 원료라인(L10)을 개방 또는 밀폐하는 유출밸브(530);
를 포함하는 것을 특징으로 하는 초고압 분산기의 세척 구조.
The raw material line L10 in which the raw material 1 flows in a high pressure state therein, the high pressure pump 100 provided at the front end of the raw material line L10, and the high pressure pump 100 on the raw material line L10. In the ultra-high pressure disperser including an interaction chamber 200 provided at the rear end,
The ultra high pressure disperser,
A bypass line (L20) having one end communicating with a front end of the interaction chamber (200) on the raw material line (L10) and the other end communicating with a rear end of the interaction chamber (200) on the raw material line (L10);
A bypass valve 510 provided on the bypass line L20 to open or close the bypass line L20;
An inlet valve 520 provided at a front end of the interaction chamber 200 on the raw material line L10 and for opening or closing the raw material line L10; And
An outlet valve 530 provided at a rear end of the interaction chamber 200 on the raw material line L10 and for opening or closing the raw material line L10;
Washing structure of the ultra-high pressure dispersion, characterized in that it comprises a.
제 1항에 있어서,
상기 초고압 분산기는,
일단이 상기 원료라인(L10) 상의 상기 유입밸브(520)와 인터액션 챔버(200)의 전단 사이에 연통되고, 타단이 외부로 노출되는 배출라인(L30); 및
상기 배출라인(L30) 상에 구비되며 상기 배출라인(L30)을 개방 또는 밀폐하는 배출밸브(540);
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초고압 분산기의 세척 구조.
The method of claim 1,
The ultra high pressure disperser,
A discharge line L30 having one end communicating between the inlet valve 520 on the raw material line L10 and the front end of the interaction chamber 200 and having the other end exposed to the outside; And
A discharge valve 540 provided on the discharge line L30 to open or close the discharge line L30;
Washing structure of the ultra-high pressure dispersion, characterized in that it further comprises.
제 2항에 있어서,
상기 유입밸브(520)는,
상기 바이패스라인(L20)의 일단과 상기 인터액션 챔버(200) 사이에 구비되는 것을 특징으로 하는 초고압 분산기의 세척 구조.
The method of claim 2,
The inlet valve 520,
Washing structure of the ultra-high pressure spreader, characterized in that provided between one end of the bypass line (L20) and the interaction chamber (200).
제 3항에 있어서,
상기 유출밸브(530)는,
상기 바이패스라인(L20) 타단의 후단에 구비되는 것을 특징으로 하는 초고압 분산기의 세척 구조.
The method of claim 3, wherein
The outlet valve 530,
Washing structure of the ultra-high pressure disperser, characterized in that provided at the rear end of the other end of the bypass line (L20).
제 2항에 있어서,
상기 초고압 분산기는,
상기 배출라인(L30) 일단과 인터액션 챔버(200) 사이에 설치되는 매쉬필터(미도시)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초고압 분산기의 세척 구조.
The method of claim 2,
The ultra high pressure disperser,
Washing structure of the ultra-high pressure disperser, characterized in that it further comprises a mesh filter (not shown) installed between one end of the discharge line (L30) and the interaction chamber (200).
초고압 분산기의 세척 방법에 있어서,
배출밸브를 여는 제1 단계(S1);
유출밸브를 닫는 제2 단계(S2);
바이패스밸브를 여는 제3 단계(S3); 및
유입밸브를 닫는 제4 단계(S4);
를 통해 초고압 분산기를 세척하는 것을 특징으로 하는 초고압 분산기의 세척 방법.
In the washing method of the ultrahigh pressure disperser,
A first step of opening the discharge valve (S1);
Closing the outlet valve (S2);
A third step S3 of opening the bypass valve; And
A fourth step S4 of closing the inlet valve;
Washing method of ultra-high pressure dispersion, characterized in that for washing the ultra-high pressure dispersion through.
제 6항에 있어서,
유입밸브를 여는 제5 단계(S5);
바이패스밸브를 닫는 제6 단계(S6);
유출밸브를 여는 제7 단계(S7); 및
배출밸브를 닫는 제8 단계(S8);
를 통해 초고압 분산기의 작동을 재개하는 것을 특징으로 하는 초고압 분산기의 세척 방법.The method of claim 6,
A fifth step S5 of opening the inlet valve;
A sixth step S6 of closing the bypass valve;
A seventh step S7 of opening the outlet valve; And
An eighth step S8 of closing the discharge valve;
Method of cleaning the ultra-high pressure dispersion, characterized in that to resume the operation of the ultra-high pressure dispersion through.
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