KR100966453B1 - 액정표시소자 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (8)
- 기판상에 게이트라인과 게이트전극 및 공통전극을 형성하는 단계;상기 기판전체에 게이트절연막과 액티브층 및 도전층을 차례로 적층하는 단계;상기 도전층 상에 감광막을 형성하는 단계;상기 감광막을 선택적으로 패터닝하여 감광막패턴을 형성하는 단계;상기 감광막패턴을 차단막으로 상기 액티브층 및 도전층을 패터닝하여 액티브층패턴 및 도전층패턴을 형성하는 단계;상기 감광막패턴을 애싱하여 상기 도전층패턴을 노출시키는 단계;상기 애싱된 감광막패턴을 차단막으로 상기 노출된 도전층패턴을 식각하여 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스전극과 연결된 데이터라인을 형성하는 단계;상기 애싱된 감광막패턴을 제거하고, 상기 기판 전체에 보호층을 형성하는 단계;상기 보호층을 선택적으로 패터닝하여 상기 드레인전극을 노출시키는 콘택홀과, 상기 데이터라인 및 상기 데이터라인 하부 측면으로 돌출된 액티브층패턴을 노출시키는 개구부를 형성하는 단계;상기 데이터라인을 차단막으로 하여 상기 데이터라인 하부 측면으로 돌출된 액티브층패턴을 제거하는 단계;상기 보호층 상에 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인전극과 접촉하는 화소전극과, 상기 개구부를 통해 데이터라인을 덮는 도전막 패턴을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 액정표시소자 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 액티브층 및 도전층을 패터닝하는 단계는 회절노광마스크를 이용하여 회절노광공정을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 데이터라인의 폭은 그 아래의 액티브층패턴의 폭보다 크거나 동일한 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
- 제1기판상에 게이트라인과 게이트전극 및 공통전극을 형성하는 단계;상기 제1기판 전체에 게이트절연막과 액티브층 및 도전층을 차례로 적층하는 단계;상기 도전층 상에 감광막을 형성하는 단계;상기 감광막을 선택적으로 패터닝하여 감광막패턴을 형성하는 단계;상기 감광막패턴을 차단막으로 상기 액티브층 및 도전층을 패터닝하여 액티브층패턴 및 도전층패턴을 형성하는 단계;상기 감광막패턴을 애싱하여 상기 도전층패턴을 노출시키는 단계;상기 애싱된 감광막패턴을 차단막으로 상기 노출된 도전층패턴을 식각하여 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스전극과 연결된 데이터라인을 형성하는 단계;상기 애싱된 감광막패턴을 제거하고, 상기 제1기판 전체에 보호층을 형성하는 단계;상기 보호층을 패터닝하여 상기 드레인전극을 노출시키는 콘택홀과, 상기 데이터라인 및 상기 데이터라인 하부 측면으로 돌출된 액티브층패턴을 노출시키는 개구부를 형성하는 단계;상기 데이터라인을 차단막으로 하여 상기 데이터라인 하부 측면으로 돌출된 액티브패턴을 제거하는 단계;상기 보호층 상에 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인전극과 접촉하는 화소전극과, 상기 개구부를 통해 상기 데이터라인을 덮는 도전막 패턴을 형성하는 단계;제2기판에 블랙매트릭스와 컬러필터층을 형성하는 단계;상기 제2기판과 제1기판을 합착시키는 단계; 및상기 제2기판과 제1기판사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 액정표시소자 제조방법.
- 제5항에 있어서, 상기 액티브층 및 도전층을 패터닝하는 단계는 회절노광마스크를 이용하여 회절노광공정을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
- 삭제
- 제5항에 있어서, 상기 데이터라인의 폭은 그 아래의 액티브층패턴의 폭보다 크거나 동일한 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
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