[go: up one dir, main page]

KR100942512B1 - Array substrate for improving image quality, manufacturing method thereof and liquid crystal display including the same - Google Patents

Array substrate for improving image quality, manufacturing method thereof and liquid crystal display including the same Download PDF

Info

Publication number
KR100942512B1
KR100942512B1 KR1020030036810A KR20030036810A KR100942512B1 KR 100942512 B1 KR100942512 B1 KR 100942512B1 KR 1020030036810 A KR1020030036810 A KR 1020030036810A KR 20030036810 A KR20030036810 A KR 20030036810A KR 100942512 B1 KR100942512 B1 KR 100942512B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
data line
length
floating gate
width
array substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
KR1020030036810A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20040105435A (en
Inventor
박진석
김동환
추교섭
양용호
문지혜
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020030036810A priority Critical patent/KR100942512B1/en
Priority to US10/854,850 priority patent/US7372528B2/en
Priority to TW093115513A priority patent/TWI401512B/en
Priority to JP2004171152A priority patent/JP2005004207A/en
Priority to CN2009102085022A priority patent/CN101685232B/en
Priority to CNA2004100493931A priority patent/CN1573487A/en
Publication of KR20040105435A publication Critical patent/KR20040105435A/en
Priority to US12/039,121 priority patent/US7859616B2/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100942512B1 publication Critical patent/KR100942512B1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D30/00Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
    • H10D30/67Thin-film transistors [TFT]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

어레이 기판과, 어레이 기판의 제조방법과 이러한 어레이 기판을 포함한 액정 표시장치가 개시된다. 본 발명의 실시 예에 따른 어레이 기판의 제조 방법은 플로팅 게이트를 형성하고, 상기 플로팅 게이트 내부를 제거하여 제 1 길이의 폭을 갖는 개구를 형성한 후, 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리만큼 이격된 상부에 제 2 길이의 폭을 갖는 데이터 라인을 형성하고, 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리 보다 큰 제 2 거리만큼 이격된 상부에 화소 전극을 형성한다. 본 발명은 기판의 각 화소에 배치된 박막 트랜지스터에 화소전압을 인가하는 데이터 라인과 컬러 필터간의 경계면 부위를 차단하기 위한 플로팅 게이트간의 누화(Cross-talk)를 차단하여 화질을 향상시키는 효과가 있다. 또한 데이터 라인과 플로팅 게이트 간에 발생하는 기생 커패시터를 감소시킴으로써 액정 표시장치의 소비전력을 감소시키는 효과가 있다.
An array substrate, a method of manufacturing the array substrate, and a liquid crystal display including the array substrate are disclosed. According to an embodiment of the present invention, a method of manufacturing an array substrate includes forming a floating gate, removing an inside of the floating gate to form an opening having a width of a first length, and then spaced apart from the floating gate by a first distance. A data line having a width of a second length is formed on the pixel, and a pixel electrode is formed on the floating gate and spaced apart by a second distance greater than a first distance. The present invention improves image quality by blocking cross-talk between floating gates for blocking an interface between a data line applying a pixel voltage to a thin film transistor disposed in each pixel of a substrate and a color filter. In addition, the parasitic capacitor generated between the data line and the floating gate may be reduced to reduce power consumption of the liquid crystal display.

액정 표시장치, 누화, 데이터 라인, 플로팅 게이트, 개구Liquid Crystal Display, Crosstalk, Data Line, Floating Gate, Opening

Description

화질 향상을 위한 어레이 기판, 이의 제조방법 및 이를 포함한 액정 표시장치{ARRAY SUBSTRATE FOR ENHANCING DISPLAY QUALITY, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME} ARRAY SUBSTRATE FOR ENHANCING DISPLAY QUALITY, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME}             

도 1은 종래 어레이 기판의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional array substrate.

도 2는 액정표시장치의 구동 원리를 설명하기 위한 개략도이다.2 is a schematic diagram illustrating a driving principle of a liquid crystal display device.

도 3a는 본 발명의 일 실시예에 의한 어레이 기판의 개략적인 단면도이다.3A is a schematic cross-sectional view of an array substrate according to an embodiment of the present invention.

도 3b는 플로팅 게이트 상에 형성된 개구의 일 실시예를 도시하는 평면도이다.3B is a plan view illustrating one embodiment of an opening formed on a floating gate.

도 3c는 플로팅 게이트 상에 형성된 개구의 다를 실시예를 도시하는 평면도이다.3C is a plan view illustrating another embodiment of an opening formed on a floating gate.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치의 어레이 기판을 도시하는 레이아웃이다.4 is a layout illustrating an array substrate of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 A-A'의 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 4.

도 6은 도 4의 B-B'의 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 4.

<도면의 주요부분에 대한 간단한 설명><Brief description of the main parts of the drawing>

101, 301: 플로팅 게이트 102: 데이터 라인 101, 301: floating gate 102: data line                 

103: 화소 전극 201: 박막 트랜지스터103: pixel electrode 201: thin film transistor

202: 스토리지 커패시터 203: 게이트 라인202: storage capacitor 203: gate line

302: 개구 501: 컬러필터 기판302: opening 501: color filter substrate

502: 어레이 기판 503: 제 1 유리기판502: array substrate 503: first glass substrate

504: 컬러필터 505: 평탄화막504: color filter 505: planarization film

506: 액정층 507: 제 3 절연층506 liquid crystal layer 507 third insulating layer

508: 제 2 절연층 509: 제 1 절연층508: second insulating layer 509: first insulating layer

510: 절연막 511: 제 2 유리기판510: insulating film 511: second glass substrate

512: 공통전극 513: 콘택
512: common electrode 513: contact

본 발명은 어레이 기판, 이의 제조방법 및 이를 포함한 액정 표시장치에 관한 것으로, 보다 상세히 설명하면 어레이 기판의 각 화소에 배치된 박막 트랜지스터에 화소전압을 인가하는 데이터 라인과 컬러 필터 간의 경계면 부위를 차단하기 위한 플로팅 게이트간의 누화(Cross-talk)를 차단하여 화질을 향상시킨 어레이 기판, 이의 제조방법 및 이를 포함한 액정 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an array substrate, a method of manufacturing the same, and a liquid crystal display including the same. More specifically, the present invention relates to blocking an interface between a data line and a color filter applying a pixel voltage to a thin film transistor disposed in each pixel of the array substrate. The present invention relates to an array substrate having improved image quality by blocking cross-talk between floating gates, a method of manufacturing the same, and a liquid crystal display including the same.

액정 표시장치는 액정을 이용하여 영상을 표시하는 장치이다. 액정 표시장치는 가볍고, 두께가 얇아서 그 사용범위가 점차 확대되고 있다. A liquid crystal display device is a device that displays an image using a liquid crystal. Liquid crystal displays are light and thin, and their range of use is gradually expanding.                         

액정 표시장치는 크게 액정 표시 패널과 백 라이트 어셈블리를 포함한다. 백 라이트 어셈블리는 액정 표시 패널 하부에 배치되어 액정 표시 패널에 광을 공급한다.The liquid crystal display largely includes a liquid crystal display panel and a backlight assembly. The backlight assembly is disposed under the liquid crystal display panel to supply light to the liquid crystal display panel.

액정 표시패널은 컬러필터 기판, 어레이 기판 및 컬러필터 기판과 어레이 기판 사이에 게재된 액정층을 포함한다. 컬러필터 기판에는 레드 컬러필터, 그린 컬러필터 및 블루 컬러필터를 포함하는 컬러필터가 매트릭스 형태로 배열되어 있다.The liquid crystal display panel includes a color filter substrate, an array substrate, and a liquid crystal layer interposed between the color filter substrate and the array substrate. The color filter substrate includes a color filter including a red color filter, a green color filter, and a blue color filter in a matrix form.

어레이 기판은 박막 트랜지스터, 스토리지 커패시터 및 화소 전극을 포함한다. 이러한 박막 트랜지스터, 스토리지 커패시터 및 화소 전극은 컬러필터 기판의 컬러필터와 대향한다.The array substrate includes a thin film transistor, a storage capacitor and a pixel electrode. The thin film transistor, the storage capacitor, and the pixel electrode face the color filter of the color filter substrate.

또한 어레이 기판은 데이터 라인 및 게이트 라인을 포함한다. 데이터 라인 및 게이트 라인은 컬러필터의 경계면을 향한다.The array substrate also includes data lines and gate lines. The data line and the gate line face the interface of the color filter.

데이터 라인은 상기 박막 트랜지스터의 소스(source)와 전기적으로 연결되고, 게이트 라인은 박막 트랜지스터의 게이트(gate)와 전기적으로 연결되어 있다. 박막 트랜지스터의 드레인(drain)은 화소 전극과 전기적으로 연결되어 있다.The data line is electrically connected to a source of the thin film transistor, and the gate line is electrically connected to a gate of the thin film transistor. The drain of the thin film transistor is electrically connected to the pixel electrode.

게이트 라인에 전압이 인가되면, 게이트 라인과 전기적으로 연결된 박막 트랜지스터가 턴 온 (Turn on) 되고, 데이터 라인의 전압이 화소 전극에 인가된다. 화소 전극에 화소 전압이 인가되면, 어레이 기판의 화소 전극과 컬러필터 기판의 공통 전극사이에 전계가 형성되고, 이러한 전계에 의해 어레이 기판과 컬러필터 기판 사이에 위치한 액정층의 액정 분자 배열이 변하게 되어, 액정 분자의 광학적 성질이 변하게 된다. When a voltage is applied to the gate line, the thin film transistor electrically connected to the gate line is turned on, and the voltage of the data line is applied to the pixel electrode. When the pixel voltage is applied to the pixel electrode, an electric field is formed between the pixel electrode of the array substrate and the common electrode of the color filter substrate, and the liquid crystal molecular arrangement of the liquid crystal layer positioned between the array substrate and the color filter substrate is changed by the electric field. The optical properties of the liquid crystal molecules change.                         

이렇게 변화된 액정을 통과하는 빛에 의해 영상이 표시된다.The image is displayed by the light passing through the changed liquid crystal.

또한 어레이 기판은 플로팅 게이트를 포함한다. 플로팅 게이트는 박막 트랜지스터의 게이트와 동시에 형성되지만, 박막 트랜지스터의 게이트 와는 달리 전기적으로 연결되지 않는다. 플로팅 게이트는 백라이트 어셈블리를 통과한 빛이 컬러필터 사이로 새어나가는 것을 방지하는 기능만을 수행하기 때문이다.The array substrate also includes a floating gate. The floating gate is formed simultaneously with the gate of the thin film transistor, but unlike the gate of the thin film transistor, it is not electrically connected. This is because the floating gate only serves to prevent light passing through the backlight assembly from leaking between the color filters.

도 1은 종래 어레이 기판의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional array substrate.

도 1을 참조하면, 플로팅 게이트(101)는 데이터 라인(102)과 마찬가지로 컬러 필터(도시안됨)의 경계면에 대향하며 상기 데이터 라인(102)의 하부에 위치한다.Referring to FIG. 1, the floating gate 101, like the data line 102, faces an interface of a color filter (not shown) and is located below the data line 102.

플로팅 게이트(101)는 각 컬러필터의 경계면에 형성됨으로써 각 컬러필터 사이로 누출되는 빛을 차단하고, 수직 대비비(Contrast ratio)를 향상시킨다. 컬러필터 사이로 누출되는 빛을 차단하기 위해서 화소 전극(103)은 플로팅 게이트(101)와 제 1 거리 d1 만큼 오버랩(Overlap)된다.The floating gate 101 is formed at an interface of each color filter to block light leaking between each color filter and to improve a vertical contrast ratio. In order to block light leaking between the color filters, the pixel electrode 103 overlaps the floating gate 101 by a first distance d 1 .

그런데, 플로팅 게이트와 데이터 라인이 서로 마주 보고 있으므로 제 2 거리 d2 만큼 오버랩되어 플로팅 게이트와 데이터 라인간에 기생 커패시턴스가 발생되고, 이로 인하여 누화(cross-talk)가 발생함으로써 액정 표시장치의 화질을 저하시키는 문제점이 있었다. 또한 기생 커패시턴스로 인하여 액정 표시장치의 소비전력을 증가시키는 문제점이 있었다.
However, since the floating gate and the data line face each other, parasitic capacitance is generated between the floating gate and the data line by overlapping by the second distance d 2, and thus cross-talk occurs, thereby degrading the image quality of the liquid crystal display. There was a problem letting. In addition, there is a problem of increasing power consumption of the liquid crystal display due to parasitic capacitance.

따라서 본 발명의 제 1 목적은 데이터 라인과 플로팅 게이트 사이의 누화를 감소시켜 화질을 향상시키는 어레이 기판을 제공하는 것이다.It is therefore a first object of the present invention to provide an array substrate which improves image quality by reducing crosstalk between data lines and floating gates.

또한 본 발명의 제 2 목적은 이러한 어레이 기판을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.It is also a second object of the present invention to provide a method of manufacturing such an array substrate.

또한 본 발명의 제 3 목적은 이러한 어레이 기판을 포함하여 화질이 향상된 액정표시장치를 제공하는 것이다.
In addition, a third object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having an improved image quality including the array substrate.

이러한 목적을 달성하기 위한 이러한 목적을 달성하기 위한, 본 발명의 실시예에 따른 어레이 기판의 제조 방법은 플로팅 게이트를 형성하고, 상기 플로팅 게이트의 길이방향을 따라 제 1 길이의 폭을 제거한 후, 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리만큼 이격된 상부에 제 2 길이의 폭을 갖는 데이터 라인을 형성하고, 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리 보다 큰 제 2 거리만큼 이격된 상부에 화소 전극을 형성한다.In order to achieve this object, a method of manufacturing an array substrate according to an exemplary embodiment of the present invention includes forming a floating gate, removing a width of a first length along a length direction of the floating gate, and A data line having a width of a second length is formed at an upper portion spaced apart from the floating gate by a first distance, and a pixel electrode is formed at an upper portion spaced apart from the floating gate by a second distance greater than the first distance.

또한 본 발명의 실시예에 의한 어레이 기판의 제조방법은 유리기판위에 금속층을 증착하고, 상기 금속층을 식각하여 게이트와 제 1 길이의 폭으로 내부가 식각된 플로팅 게이트를 형성하고, 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리만큼 이격된 상부에 제 2 길이의 폭을 갖는 데이터 라인을 형성한 후, 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리 보다 큰 제 2 거리만큼 이격된 상부에 화소 전극을 형성한다. In addition, in the method of manufacturing an array substrate according to an embodiment of the present invention, a metal layer is deposited on a glass substrate, and the metal layer is etched to form a gate and a floating gate etched with a width of a first length. After forming a data line having a width of a second length on an upper portion spaced by one distance, a pixel electrode is formed on the upper portion spaced by a second distance greater than a first distance from the floating gate.                     

또한, 본 발명의 실시예에 따른 어레이 기판은 화소 전극, 스위칭 소자, 게이트 라인, 데이터 라인 및 플로팅 게이트를 포함한다. 화소 전극에는 화소 전압이 인가된다. 스위칭 소자는 게이트 전극, 드레인 전극, 소스 전극을 포함하며, 상기 드레인 전극은 상기 화소 전극에 전기적으로 연결된다. 상기 게이트 라인은 상기 스위칭 소자의 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자를 턴온/턴오프 시킨다. 상기 데이터 라인은 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극에 상기 화소 전압을 인가한다. 상기 플로팅 게이트는 상기 데이터 라인 하부에 배치되고, 데이터 라인과 마주보는 영역이 제거되어 있다.In addition, the array substrate according to the embodiment of the present invention includes a pixel electrode, a switching element, a gate line, a data line, and a floating gate. The pixel voltage is applied to the pixel electrode. The switching element includes a gate electrode, a drain electrode, and a source electrode, and the drain electrode is electrically connected to the pixel electrode. The gate line is electrically connected to the gate electrode of the switching device to turn on / off the switching device. The data line is electrically connected to the source electrode to apply the pixel voltage to the pixel electrode. The floating gate is disposed under the data line, and an area facing the data line is removed.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 어레이 기판은 i) 제 1 평면위에 형성된 복수의 화소 전극과, ii)상기 화소 전극 사이에 위치하고, 상기 제 1 평면과 제 1 수직거리 이격된 제 2 평면상에 제 1 길이의 폭을 갖도록 형성된 데이터 라인, 및 iii)상기 데이터 라인 하부에 위치하고, 상기 제 1 평면과 제 2 수직거리 이격된 제 3 평면상에 형성되고, 제 2 길이의 폭을 갖는 영역이 제거된 형성된 플로팅 게이트를 포함한다.In addition, the array substrate according to the embodiment of the present invention comprises: i) a plurality of pixel electrodes formed on the first plane, and ii) a second plane positioned between the pixel electrodes and spaced apart from the first plane by a first vertical distance. A data line formed to have a width of a first length, and iii) an area formed under the data line and formed on a third plane spaced apart from the first plane and spaced apart from the first plane by a second vertical distance, wherein the region having a width of the second length is removed. Formed floating gates.

또한 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시장치는 a)제 1 유리기판, 상기 유리기판에 형성된 다수의 컬러필터, 상기 컬러필터 상에 형성된 공통전극을 포함하는 컬러필터 기판, b)i)상기 컬러필터와 대향하게 배치된 화소 전압이 인가되는 화소 전극, ii) 게이트 전극, 드레인 전극, 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 화소 전극에 전기적으로 연결된 스위칭 소자, iii) 상기 스위칭 소자의 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소 자를 턴온/턴오프 시키기 위한 게이트라인, iv) 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극에 상기 화소 전압을 인가하기 위한 데이터 라인, 및 v) 상기 데이터 라인 하부에 배치되고, 데이터 라인과 마주보는 개구가 형성된 플로팅 게이트를 포함하는 어레이 기판, 및 c)상기 컬러필터 기판과 상기 어레이 기판 사이에 개개된 액정층을 포함한다.In addition, the liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is a) a first color glass substrate, a plurality of color filters formed on the glass substrate, a color filter substrate comprising a common electrode formed on the color filter, b) i) a pixel electrode to which a pixel voltage disposed opposite the color filter is applied, ii) a switching element comprising a gate electrode, a drain electrode and a source electrode, wherein the drain electrode is electrically connected to the pixel electrode, iii) A gate line electrically connected to the gate electrode of the switching element to turn on / off the switching element, iv) a data line electrically connected to the source electrode to apply the pixel voltage to the pixel electrode, and v An array substrate disposed below the data line and including a floating gate having an opening facing the data line; c) a liquid crystal layer separated between the color filter substrate and the array substrate.

또한 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시장치는 a)제 1 유리기판, 상기 유리기판에 형성된 다수의 컬러필터, 상기 컬러필터 상에 형성된 공통전극을 포함하는 컬러필터 기판, b)i) 상기 컬러 필터와 대향하도록 제 1 평면위에 형성된 복수의 화소 전극, ii)상기 화소 전극 사이에 위치하고, 상기 제 1 평면과 제 1 수직거리 이격된 제 2 평면상에 제 1 길이의 폭을 갖도록 형성된 데이터 라인, 및 iii)상기 데이터 라인 하부에 위치하고, 상기 제 1 평면과 제 2 수직거리 이격된 제 3 평면상에 형성되고, 제 2 길이의 폭을 갖는 영역이 제거된 플로팅 게이트를 포함하는 어레이 기판, 및 c)상기 컬러필터 기판과 상기 어레이 기판 사이에 개개된 액정층을 포함한다.In addition, the liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is a) a first color glass substrate, a plurality of color filters formed on the glass substrate, a color filter substrate comprising a common electrode formed on the color filter, b) i) a plurality of pixel electrodes formed on a first plane facing the color filter, ii) a width of a first length on a second plane located between the pixel electrodes and spaced apart from the first plane by a first vertical distance Iii) a floating gate formed under the data line, formed on a third plane spaced apart from the first plane, and spaced apart from the first plane by a second vertical distance, and having a region having a width of a second length. An array substrate, and c) a liquid crystal layer interposed between the color filter substrate and the array substrate.

이하, 도면을 중심으로 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 액정표시장치의 구동 원리를 설명하기 위한 개략도이다.2 is a schematic diagram illustrating a driving principle of a liquid crystal display device.

도 2를 참조하면, 어레이 기판위에는 복수의 데이터 라인(102)이 제 1 방향으로 일정 거리만큼 이격되어 형성되고, 복수의 게이트 라인(203)이 상기 제 1방향과 수직한 제 2 방향으로 일정 거리만큼 이격되어 형성된다. 데이터 라인(102)과 게이트 라인(203)은 어레이 기판으로부터 서로 다른 높이에 형성되어 있다. Referring to FIG. 2, a plurality of data lines 102 are formed on the array substrate to be spaced apart by a predetermined distance in a first direction, and the plurality of gate lines 203 are a predetermined distance in a second direction perpendicular to the first direction. It is formed by spaced apart. The data line 102 and the gate line 203 are formed at different heights from the array substrate.                     

각 데이터 라인(102)과 각 게이트 라인(203)으로 둘러쌓인 영역에 의해 하나의 화소가 정의된다. 하나의 화소는 박막 트랜지스터(201), 스토리지 커패시터(202) 및 액정 커패시터(화소전극과 공통전극간에 형성되는 커패시터)를 포함한다.One pixel is defined by an area surrounded by each data line 102 and each gate line 203. One pixel includes a thin film transistor 201, a storage capacitor 202, and a liquid crystal capacitor (a capacitor formed between a pixel electrode and a common electrode).

박막 트랜지스터(201)는 게이트 전극(G), 소오스 전극(S), 및 드레인 전극(D)를 포함한다. 박막 트랜지스터(201)의 게이트 전극(D)은 게이트 라인(203)에 전기적으로 연결되어 있다. 박막 트랜지스터(201)의 소오스 전극(S)은 데이터 라인(102)에 전기적으로 연결되어 있다. 또한 박막 트랜지스터(201)의 드레인 전극(D)은 스토리지 커패시터(202) 및 화소 전극(102)과 전기적으로 연결되어 있다.The thin film transistor 201 includes a gate electrode G, a source electrode S, and a drain electrode D. FIG. The gate electrode D of the thin film transistor 201 is electrically connected to the gate line 203. The source electrode S of the thin film transistor 201 is electrically connected to the data line 102. In addition, the drain electrode D of the thin film transistor 201 is electrically connected to the storage capacitor 202 and the pixel electrode 102.

게이트 전극(G)에 게이트 전압이 인가되면, 박막 트랜지스터(201)가 턴온(turn on)된다. 박막 트랜지스터(201)가 턴온되면, 데이터 라인(102)의 화소전압이 박막 트랜지스터(201)를 통해서 스토리지 커패시터(202) 및 화소 전극(103)에 인가된다.When a gate voltage is applied to the gate electrode G, the thin film transistor 201 is turned on. When the thin film transistor 201 is turned on, the pixel voltage of the data line 102 is applied to the storage capacitor 202 and the pixel electrode 103 through the thin film transistor 201.

스토리지 커패시터(202)는 데이터 입력이 끝난 후, 주변의 전압이 변할 때 화소 전극에 인가된 화소전압이 변하는 것을 방지해 준다.The storage capacitor 202 prevents the pixel voltage applied to the pixel electrode from changing after the data input is finished.

화소 전극(103)은 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide:ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide)를 포함한다. 인듐 틴 옥사이드 및 인듐 징크 옥사이드는 투명한 물질로서 양호한 도전성을 갖는다.The pixel electrode 103 includes indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide. Indium tin oxide and indium zinc oxide have good conductivity as transparent materials.

도 3a는 본 발명의 일 실시예에 의한 어레이 기판의 개략적인 단면도이다.3A is a schematic cross-sectional view of an array substrate according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 어레이 기판은 화소 전극(103), 데이터 라인(102) 및 플로팅 게이트(301)를 포함한다.Referring to FIG. 3, an array substrate according to an embodiment of the present invention includes a pixel electrode 103, a data line 102, and a floating gate 301.

플로팅 게이트(301)의 상부에는 데이터 라인(102)이 위치한다.The data line 102 is positioned on the floating gate 301.

플로팅 게이트(301)에는 개구(302)가 형성된다. 상기 개구(302)의 폭은 데이터 라인의 폭 d2보다 작다. 개구(302)의 폭이 데이터 라인(102)의 폭 d2보다 큰 경우 백라이트 어셈블리를 통과한 빛이 개구(302)와 데이터 라인(102) 사이 공간으로 새어나가므로 대비비(Contrast Ratio)를 약화시키고 화질의 불량을 유발하기 때문이다.An opening 302 is formed in the floating gate 301. The width of the opening 302 is smaller than the width d 2 of the data line. If the width of the opening 302 is greater than the width d 2 of the data line 102, light passing through the backlight assembly leaks into the space between the opening 302 and the data line 102, thereby weakening the contrast ratio. This is because the image quality is bad.

이러한 개구(302)는 데이터 라인(102)의 길이방향(지면 상부나 하부)으로 길게 연장되거나 또는 복수의 개구들이 형성되어 데이터 라인(102)의 길이 방향으로 배열될 수 있음은 당연하다.Naturally, the opening 302 may be extended in the longitudinal direction (upper or lower surface) of the data line 102 or a plurality of openings may be formed and arranged in the longitudinal direction of the data line 102.

도 3b는 플로팅 게이트 상에 형성된 개구의 일 실시예를 도시하는 평면도이고, 도 3c는 플로팅 게이트 상에 형성된 개구의 다를 실시예를 도시하는 평면도이다.3B is a plan view showing one embodiment of an opening formed on a floating gate, and FIG. 3C is a plan view showing a different embodiment of an opening formed on a floating gate.

도 3b와 도 3c를 참조하면, 플로팅 게이트(301)에 형성되는 개구(302)의 형상은 플로팅 게이트(301)의 길이 방향으로 길게 연장될 수 있고, 또한 복수의 개구(302)가 플로팅 게이트(301)의 길이방향으로 배열될 수도 있다. 개구(302)의 형상은 데이터 라인과의 오버랩 면적을 줄이는 한 어떠한 형태로도 변형이 가능함은 주지의 사실이다.3B and 3C, the shape of the opening 302 formed in the floating gate 301 may extend in the longitudinal direction of the floating gate 301, and the plurality of openings 302 may include a floating gate ( 301 may be arranged in the longitudinal direction. It is well known that the shape of the opening 302 can be modified in any form as long as the area of overlap with the data line is reduced.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치의 어레이 기판을 도시하는 레이아웃이다.4 is a layout illustrating an array substrate of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 다수의 화소 전극(103)이 형성되어 있고, 각 화소 전극(103) 사이의 공간에 플로팅 게이트(301)이 형성되어 있다. 플로팅 게이트(301)에는 개구(302)가 형성되어 있다. 도 4에는 개구(302)는 플로팅 게이트(301)의 길이 방향으로 길게 연장된 모습이 도시되어 있으나, 개구는 다수개 형성되어, 다수의 개구는 플로팅 게이트(301)의 길이 방향으로 배열될 수도 있다. 플로팅 게이트(301)의 상부에는 데이터 라인(102)이 형성되는데, 데이터 라인(102)의 일부가 돌출되어 트랜지스터(201)의 소오스 전극(S)을 형성한다. 게이트 라인(203)의 일부가 돌출되어 트랜지스터(201)의 게이트 전극(G)를 형성한다. 트랜지스터(201)의 드레인(D)은 화소 전극(103)과 전기적으로 연결되어 있다.Referring to FIG. 4, a plurality of pixel electrodes 103 are formed, and a floating gate 301 is formed in a space between each pixel electrode 103. An opening 302 is formed in the floating gate 301. In FIG. 4, the opening 302 is elongated in the longitudinal direction of the floating gate 301, but a plurality of openings are formed, and the plurality of openings may be arranged in the longitudinal direction of the floating gate 301. . A data line 102 is formed on the floating gate 301. A portion of the data line 102 protrudes to form a source electrode S of the transistor 201. A portion of the gate line 203 protrudes to form the gate electrode G of the transistor 201. The drain D of the transistor 201 is electrically connected to the pixel electrode 103.

도 5는 도 4의 A-A'의 단면도이고, 도 6은 도 4의 B-B'의 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 4, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 4.

도 5 및 도 6을 참조하면, 제 2 유리기판(511)에는 게이트 전극(G) 및 플로팅 게이트(301)가 형성되어 있다. 게이트 전극(G) 및 플로팅 게이트(301)은 동일한 물질로 형성될 수 있으며, 동시에 형성될 수 있다. 즉 제 2 유리기판(511)에 알루미늄 등을 포함하는 금속 막을 도포한 후, 식각하여 게이트 전극(G) 및 플로팅 게이트(301)를 형성한다. 플로팅 게이트(301)의 개구(302)는 이러한 식각으로 게이트 전극(G) 및 플로팅 게이트(301)을 형성하는 과정에서 동시에 형성될 수도 있고, 플로팅 게이트(301)을 형성하고 난 후, 식각하여 형성될 수도 있다.5 and 6, a gate electrode G and a floating gate 301 are formed on the second glass substrate 511. The gate electrode G and the floating gate 301 may be formed of the same material and may be simultaneously formed. That is, the metal film including aluminum or the like is coated on the second glass substrate 511 and then etched to form the gate electrode G and the floating gate 301. The opening 302 of the floating gate 301 may be simultaneously formed in the process of forming the gate electrode G and the floating gate 301 by such etching, or may be formed by etching after forming the floating gate 301. May be

상기 게이트 전극(G)과 플로팅 게이트(301) 위에 절연막(510)이 형성되어 있다. 상기 절연막(510) 위, 게이트 전극(G) 형성부위에는 아몰퍼스 실리콘 막(a- Si:H)이 형성되고 그 위로 소오스 전극(S)과 드레인 전극(D)이 형성되어 있다.An insulating layer 510 is formed on the gate electrode G and the floating gate 301. An amorphous silicon film (a-Si: H) is formed on the insulating layer 510 and the gate electrode G forming portion, and a source electrode S and a drain electrode D are formed thereon.

그 상부에는 다시 제 1 절연층(509)이 형성된다. 상기 제 1 절연층(509)에는 데이터 라인(102)이 형성된다.The first insulating layer 509 is formed on the upper portion again. The data line 102 is formed on the first insulating layer 509.

데이터 라인(102)은 앞에서 설명한 바와 같이, 플로팅 게이트(301) 상부에 플로팅 게이트(301)의 개구(302)를 덮는다. 어레이 기판(502) 하부의 백라이트 어셈블리(도시안됨)에서 발생하여 개구(302)를 통과한 빛은 플로팅 게이트(301)에 의해서 차단되며, 플로팅 게이트(301)에 개구(302)를 형성하여 플로팅 게이트(301)와 데이터 라인(102)의 오버랩(overlap)되는 부분이 최소화됨으로써, 플로팅 게이트(301)와 데이터 라인(102)의 기생 커패시턴스가 감소 됨으로써, 전력손실이 감소한다. 또한 플로팅 게이트(301)과 데이터 라인(102)의 누화(cross-talk)가 감소되어 보다 양호한 화질의 액정 표시장치를 구현할 수 있게 된다.As described above, the data line 102 covers the opening 302 of the floating gate 301 on the floating gate 301. Light generated in the backlight assembly (not shown) under the array substrate 502 and passed through the opening 302 is blocked by the floating gate 301, and forms the opening 302 in the floating gate 301 to form the floating gate. By overlapping the overlapped portion of the 301 and the data line 102, parasitic capacitances of the floating gate 301 and the data line 102 are reduced, thereby reducing power loss. In addition, cross-talk between the floating gate 301 and the data line 102 is reduced, so that a liquid crystal display device having better image quality can be realized.

데이터 라인(102)의 상부에는 제 2 절연층(508)이 형성되어 있고, 제 2 절연층(508) 상부에 화소 전극(103)이 형성되어 있다. 데이터 라인(102)와 소오스 전극(S)의 연결은 콘택을 통하지만 본 도면에서는 생략한다.The second insulating layer 508 is formed on the data line 102, and the pixel electrode 103 is formed on the second insulating layer 508. The connection between the data line 102 and the source electrode S is via a contact, but is omitted in this drawing.

화소 전극(103)은 인듐틴옥사이드(Indium Tin Oxide: ITO) 또는 인듐징크옥사이드(Indium Zinc Oxide: IZO)을 포함하며, 인듐틴옥사이드 및 인듐징크옥사이드는 우수한 도전성을 갖고 투명하고, 열적으로 안정하므로 전극 패턴의 가공성이 우수하다. 화소 전극(103)은 콘택(513)에 의해 트랜지스터(201)의 드레인 전극과 전기적으로 연결된다.The pixel electrode 103 includes indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), and indium tin oxide and indium zinc oxide have excellent conductivity, are transparent, and thermally stable. The workability of the electrode pattern is excellent. The pixel electrode 103 is electrically connected to the drain electrode of the transistor 201 by a contact 513.

화소 전극(103) 상부에는 제 3 절연층(507)이 형성된다. 이상으로 어레이 기판(502)을 설명하였다. 다음으로 컬러필터 기판(501)을 설명한다.The third insulating layer 507 is formed on the pixel electrode 103. The array substrate 502 has been described above. Next, the color filter substrate 501 will be described.

또한 제 1 유리기판(503)에는 다수의 컬러필터가 형성된다. 컬러필터는 레드 컬러필터(R), 그린 컬러필터(G) 및 블루 컬러필터(B)를 포함한다.In addition, a plurality of color filters are formed on the first glass substrate 503. The color filter includes a red color filter (R), a green color filter (G), and a blue color filter (B).

각 컬러필터들(R, G, B)은 각각 하나의 화소 전극(103)에 대향하도록 형성된다.Each of the color filters R, G, and B is formed to face one pixel electrode 103, respectively.

컬러필터의 배열방식으로는 스트라이프형, 모자이크형, 트라이앵글형 4화소 배치형 등이 있는데, 본 발명에서는 스트라이프 형을 예시적으로 도시 하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.The arrangement of the color filter includes a stripe type, a mosaic type, and a triangle type 4 pixel arrangement type. In the present invention, the stripe type is exemplarily illustrated, but the present invention is not limited thereto.

평탄화막(505)는 이러한 컬러필터를 커버하여, 이러한 컬러필터들(R, B, B)를 보호하고, 단차를 감소시켜서 평탄성을 향상시킨다. 평탄화막(505)은 아크릴 수지(Acryl resin) 또는 폴리이미드 수지(Polyimide resin)을 포함한다.The flattening film 505 covers such color filters, thereby protecting these color filters R, B, and B, and reducing the level to improve flatness. The planarization layer 505 includes an acrylic resin or a polyimide resin.

공통전극(512)은 평탄화막(505) 상부에 형성된다.The common electrode 512 is formed on the planarization layer 505.

공통전극(512)는 인듐틴옥사이드(Indium Tin Oxide: ITO) 또는 인듐징크옥사이드(Indium Zinc Oxide: IZO)을 포함한다. 공통전극(512)은 공통전압(일반적으로 접지전압)이 인가된다. 구동시 공통전극(512)과 화소 전압이 인가되는 화소 전극(103)사이에는 전기장이 형성된다. 이상으로 컬러 필터 기판(501)을 설명하였다.The common electrode 512 includes indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). The common electrode 512 is applied with a common voltage (generally, a ground voltage). An electric field is formed between the common electrode 512 and the pixel electrode 103 to which the pixel voltage is applied during driving. The color filter substrate 501 has been described above.

컬러 필터 기판(501)과 어레이 기판(502)사이에는 액정층(506)이 개재된다. 액정이란 결정 또는 고체와 같은 성질을 갖는 액체상태의 물질을 말한다. 액정에 인가되는 전기장의 크기에 따라 액정의 배열이 변화하게 되어 빛이 투과하는 양이 달라진다.The liquid crystal layer 506 is interposed between the color filter substrate 501 and the array substrate 502. Liquid crystal refers to a liquid substance having properties such as crystal or solid. The arrangement of the liquid crystals varies according to the magnitude of the electric field applied to the liquid crystals, and thus the amount of light transmitted varies.

화소 전극(103)과 공통전극(512) 사이에 형성되는 전기장의 변화에 따라서 화소 전극(103)과 공통전극(512) 사이에 위치한 액정의 배열이 달라지고, 그에 따라 컬러필터 기판(501),액정층(506) 및 어레이 기판(502)를 포함하는 액정표시패널 상부로 출사되는 광량이 달라진다.According to the change in the electric field formed between the pixel electrode 103 and the common electrode 512, the arrangement of the liquid crystal positioned between the pixel electrode 103 and the common electrode 512 is changed, and accordingly, the color filter substrate 501, The amount of light emitted to the upper portion of the liquid crystal display panel including the liquid crystal layer 506 and the array substrate 502 is changed.

게이트 구동회로(도시안됨)가 매트릭스 형태로 배열된 다수의 박막 트랜지스터(201) 중 하나에 게이트 구동신호 전압을 인가하면 해당 박막 트랜지스터(201)는 턴온되고, 데이터 구동회로(도시안됨)에서 해당 박막 트랜지스터(201)의 소오스 전극에 화소 전압을 인가하면, 인가된 화소 전압은 드레인 전극을 통해서 화소 전극(103)에 인가된다. 따라서 화소 전극(103)과 공통전극(512) 사이에 위치한 액정의 배열이 변화된다. 따라서 영상을 디스플레이한다.
When the gate driving signal voltage is applied to one of the plurality of thin film transistors 201 in which the gate driving circuit (not shown) is arranged in a matrix form, the thin film transistor 201 is turned on and the thin film is turned on in the data driving circuit (not shown). When the pixel voltage is applied to the source electrode of the transistor 201, the applied pixel voltage is applied to the pixel electrode 103 through the drain electrode. Therefore, the arrangement of the liquid crystal positioned between the pixel electrode 103 and the common electrode 512 is changed. Therefore, the image is displayed.

본 발명은 기판의 각 화소에 배치된 박막 트랜지스터에 화소전압을 인가하는 데이터 라인과 컬러 필터 간의 경계면 부위를 차단하기 위한 플로팅 게이트간의 누화(Cross-talk)를 차단하여 화질을 향상시키는 효과가 있다.The present invention improves image quality by blocking cross-talk between floating gates for blocking an interface between a data line and a color filter applying a pixel voltage to thin film transistors disposed in each pixel of a substrate.

또한 데이터 라인과 컬러 필터 간에 발생하는 기생 커패시터를 감소시킴으로써 액정 표시장치의 소비전력을 감소시키는 효과가 있다.In addition, the parasitic capacitor generated between the data line and the color filter reduces the power consumption of the liquid crystal display.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영 역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the above has been described with reference to the preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and modified within the scope of the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. It will be appreciated that it can be changed.

Claims (24)

플로팅 게이트를 형성하는 단계;Forming a floating gate; 상기 플로팅 게이트의 길이 방향으로 제 1 길이의 폭을 제거하는 단계;Removing a width of a first length in a longitudinal direction of the floating gate; 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리만큼 이격된 상부에 제 2 길이의 폭을 갖는 데이터 라인을 상기 플로팅 게이트 길이 방향으로 형성하는 단계; 및Forming a data line having a width of a second length in an upper portion of the floating gate in a lengthwise direction from the floating gate by a first distance; And 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리 보다 큰 제 2 거리만큼 이격된 상부에 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제거된 제1 길이의 폭은 개구를 형성하고, 상기 개구는 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장되거나 배열된 것을 특징으로 하는 어레이 기판의 제조 방법.Forming a pixel electrode at an upper portion spaced apart from the floating gate by a second distance greater than a first distance, wherein the width of the removed first length forms an opening, and the opening is in a length direction of the data line. Method of manufacturing an array substrate characterized in that it is extended or arranged along the length. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 길이는 상기 제 2 길이 보다 작도록 형성하여 상기 데이터 라인은 상기 플로팅 게이트의 상기 제거된 제 1 길이의 폭을 커버함으로써 상기 제거된 제 1길이의 폭을 통과한 광이 상기 데이터 라인에 의해 차단되는 것을 특징으로 하는 어레이 기판의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the first length is formed to be smaller than the second length such that the data line passes through the width of the removed first length by covering the width of the removed first length of the floating gate. Wherein light is blocked by said data line. 제 1 항에 있어서, 상기 제거된 제 1 길이의 폭은 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장된 것을 특징으로 하는 어레이 기판의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the width of the removed first length extends along a length direction of the data line. 제 1 항에 있어서, 상기 제거된 제 1길이의 폭은 복수의 개구를 형성하고, 상기 복수개의 개구는 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 배열된 것을 특징으로 하는 어레이 기판의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the width of the removed first length forms a plurality of openings, and the plurality of openings are arranged along a length direction of the data line. 화소 전압이 인가되는 화소 전극;A pixel electrode to which a pixel voltage is applied; 게이트 전극, 드레인 전극, 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 화소 전극에 전기적으로 연결된 스위칭 소자;A switching element including a gate electrode, a drain electrode, and a source electrode, wherein the drain electrode is electrically connected to the pixel electrode; 상기 스위칭 소자의 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자를 턴온/턴오프 시키기 위한 게이트라인;A gate line electrically connected to the gate electrode of the switching device to turn on / off the switching device; 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극에 상기 화소 전압을 인가하기 위한 데이터 라인; 및A data line electrically connected to the source electrode to apply the pixel voltage to the pixel electrode; And 상기 데이터 라인 하부에 상기 데이터 라인 연장 방향으로 배치되고, 데이터 라인과 마주보는 영역이 제거된 플로팅 게이트를 포함하고, 상기 제거된 제1 길이의 폭은 개구를 형성하며, 상기 개구는 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장되거나 배열된 것을 특징으로 하는 어레이 기판.A floating gate disposed below the data line in an extension direction of the data line, the floating gate having an area facing the data line removed, wherein the width of the removed first length defines an opening, the opening of the data line An array substrate, characterized in that it is elongated or arranged along the longitudinal direction. 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, 상기 플로팅 게이트의 제거된 마주보는 영역의 폭은 상기 데이터 라인의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 어레이 기판.And the width of the removed opposite area of the floating gate is less than the width of the data line. 제 5 항에 있어서, 상기 플로팅 게이트의 제거된 마주보는 영역은 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장된 것을 특징으로 하는 어레이 기판.6. The array substrate of claim 5, wherein the removed facing area of the floating gate extends along the length of the data line. 제 5 항에 있어서, 상기 제거된 제 1길이의 폭은 복수의 개구를 형성하고, 상기 복수개의 개구는 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 배열된 것을 특징으로 하는 어레이 기판.6. The array substrate of claim 5, wherein the width of the removed first length forms a plurality of openings, the plurality of openings arranged along a length direction of the data line. 제 1 평면위에 형성된 복수의 화소 전극;A plurality of pixel electrodes formed on the first plane; 상기 화소 전극 사이에 위치하고, 상기 제 1 평면과 제 1 수직거리 이격된 제 2 평면상에 제 1 길이의 폭을 갖도록 형성된 데이터 라인; 및A data line disposed between the pixel electrodes and formed to have a width of a first length on a second plane spaced apart from the first plane by a first vertical distance; And 상기 데이터 라인 하부에 상기 데이터 라인 연장 방향으로 위치하고, 상기 제 1 평면과 제 2 수직거리 이격된 제 3 평면상에 형성되고, 제 2 길이의 폭을 갖는 영역이 제거된 플로팅 게이트를 포함하고, 상기 제거된 제1 길이의 폭은 개구를 형성하며, 상기 개구는 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장되거나 배열된 것을 특징으로 하는 어레이 기판.A floating gate positioned below the data line in the data line extension direction and formed on a third plane spaced apart from the first plane by a second vertical distance, and having a region having a width of a second length; Wherein the width of the first length removed forms an opening, wherein the opening extends or is arranged long along the length of the data line. 제 9 항에 있어서, 상기 제 1 수직거리는 상기 제 2 수직거리보다 작은 것을 특징으로 하는 어레이 기판.10. The array substrate of claim 9, wherein the first vertical distance is less than the second vertical distance. 제 9 항에 있어서, 상기 제 1 길이는 상기 제 2 길이보다 큰 것을 특징으로 하는 어레이 기판.10. The array substrate of claim 9, wherein said first length is greater than said second length. 제 9 항에 있어서, 상기 플로팅 게이트의 일부분은 상기 화소 전극과 오버랩되는 것을 특징으로 하는 어레이 기판.10. The array substrate of claim 9, wherein a portion of the floating gate overlaps the pixel electrode. 제 1 유리기판, 상기 제 1 유리기판에 형성된 다수의 컬러필터, 상기 컬러필터 상에 형성된 공통전극을 포함하는 컬러필터 기판;A color filter substrate including a first glass substrate, a plurality of color filters formed on the first glass substrate, and a common electrode formed on the color filter; i)상기 컬러필터와 대향하게 배치된 화소 전압이 인가되는 화소 전극, ii) 게이트 전극, 드레인 전극, 소스 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극이 상기 화소 전극에 전기적으로 연결된 스위칭 소자, iii) 상기 스위칭 소자의 게이트 전극과 전기적으로 연결되어 상기 스위칭 소자를 턴온/턴오프 시키기 위한 게이트라인, iv) 상기 소스 전극과 전기적으로 연결되어 상기 화소 전극에 상기 화소 전압을 인가하기 위한 데이터 라인, 및 v) 상기 데이터 라인 하부에 상기 데이터 라인 연장 방향으로 배치되고, 데이터 라인과 마주보는 영역이 제거된 플로팅 게이트를 포함하는 어레이 기판; 및i) a pixel electrode to which the pixel voltage disposed opposite the color filter is applied, ii) a switching element including a gate electrode, a drain electrode, and a source electrode, wherein the drain electrode is electrically connected to the pixel electrode, iii) the switching A gate line electrically connected to a gate electrode of an element to turn on / off the switching element, iv) a data line electrically connected to the source electrode to apply the pixel voltage to the pixel electrode, and v) the An array substrate disposed below the data line in an extension direction of the data line and including a floating gate from which an area facing the data line is removed; And 상기 컬러필터 기판과 상기 어레이 기판 사이에 개개된 액정층을 포함하고, 상기 제거된 제1 길이의 폭은 개구를 형성하며, 상기 개구는 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장되거나 배열된 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.And a liquid crystal layer separated between the color filter substrate and the array substrate, wherein the width of the removed first length forms an opening, and the opening extends or is arranged long along the length direction of the data line. Liquid crystal display device. 제 13 항에 있어서, The method of claim 13, 상기 제거된 플로팅 게이트의 영역의 폭은 상기 데이터 라인의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.And a width of an area of the removed floating gate is smaller than a width of the data line. 제 13 항에 있어서, 상기 제거된 플로팅 게이트 영역은 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장된 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 13, wherein the removed floating gate region extends along a length direction of the data line. 제 13 항에 있어서, 상기 제거된 플로팅 게이트의 영역은 복수개의 개구를 형성하고, 상기 복수개의 개구는 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 배열된 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 13, wherein the removed floating gate region defines a plurality of openings, and the plurality of openings are arranged along a length direction of the data line. 제 1 유리기판, 상기 제 1 유리기판에 형성된 다수의 컬러필터, 상기 컬러필터 상에 형성된 공통전극을 포함하는 컬러필터 기판;A color filter substrate including a first glass substrate, a plurality of color filters formed on the first glass substrate, and a common electrode formed on the color filter; i) 상기 컬러 필터와 대향하도록 제 1 평면위에 형성된 복수의 화소 전극, ii)상기 화소 전극 사이에 위치하고, 상기 제 1 평면과 제 1 수직거리 이격된 제 2 평면상에 제 1 길이의 폭을 갖도록 형성된 데이터 라인, 및iii)상기 데이터 라인 하부에 위치하고, 상기 제 1 평면과 제 2 수직거리 이격된 제 3 평면상에 상기 데이터 라인 연장 방향으로 형성되고, 제 2 길이의 폭을 갖는 영역이 제거된 플로팅 게이트를 포함하는 어레이 기판; 및i) a plurality of pixel electrodes formed on a first plane so as to face the color filter; ii) a width of a first length on a second plane located between the pixel electrodes and spaced apart from the first plane by a first vertical distance. A data line formed below the data line, and iii) a region having a width of a second length formed on the third plane below the data line and spaced apart from the first plane and spaced apart from the first plane by a second vertical distance. An array substrate comprising a floating gate; And 상기 컬러필터 기판과 상기 어레이 기판 사이에 개개된 액정층을 포함하며, 상기 제2 길이의 폭은 개구를 형성하며, 상기 개구는 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장되거나 배열된 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.And a liquid crystal layer separated between the color filter substrate and the array substrate, wherein the width of the second length defines an opening, and the opening extends or is arranged in a length direction of the data line. Liquid crystal display. 제 17 항에 있어서, 상기 제 1 수직거리는 상기 제 2 수직거리보다 작은 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.18. The liquid crystal display of claim 17, wherein the first vertical distance is smaller than the second vertical distance. 제 17 항에 있어서, 상기 제 1 길이는 상기 제 2 길이보다 큰 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.18. The liquid crystal display device according to claim 17, wherein the first length is larger than the second length. 제 17 항에 있어서, 상기 플로팅 게이트의 일부분은 상기 화소 전극과 오버랩되는 것을 특징으로 하는 액정 표시장치.18. The liquid crystal display of claim 17, wherein a portion of the floating gate overlaps the pixel electrode. 유리기판위에 금속층을 증착하는 단계;Depositing a metal layer on the glass substrate; 상기 금속층을 식각하여 게이트와 제 1 길이의 폭의 영역이 제거된 플로팅 게이트를 형성하는 단계;Etching the metal layer to form a floating gate from which a gate and a region of a first length are removed; 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리만큼 이격된 상부에 제 2 길이의 폭을 갖는 데이터 라인을 상기 플로팅 게이트 길이 방향으로 형성하는 단계; 및Forming a data line having a width of a second length in an upper portion of the floating gate in a lengthwise direction from the floating gate by a first distance; And 상기 플로팅 게이트와 제 1 거리 보다 큰 제 2 거리만큼 이격된 상부에 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제거된 제1 길이의 폭은 개구를 형성하며, 상기 개구는 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장되거나 배열된 것을 특징으로 하는 어레이 기판의 제조 방법.Forming a pixel electrode at an upper portion spaced apart from the floating gate by a second distance greater than a first distance, wherein the width of the removed first length forms an opening, and the opening is in a length direction of the data line. Method of manufacturing an array substrate characterized in that it is extended or arranged along the length. 제 21 항에 있어서, 상기 제 1 길이는 상기 제 2 길이 보다 작도록 형성하여 상기 데이터 라인은 상기 플로팅 게이트의 상기 제거된 영역을 커버함으로써 상기 개구를 통과한 광이 상기 플로팅 게이트에 의해 차단되는 것을 특징으로 하는 어레이 기판의 제조 방법.22. The method of claim 21, wherein the first length is formed to be less than the second length such that the data line covers the removed region of the floating gate such that light passing through the opening is blocked by the floating gate. The manufacturing method of the array substrate characterized by the above-mentioned. 제 21 항에 있어서, 상기 제거된 플로팅 게이트의 영역은 상기 데이터 라인의 길이 방향을 따라 길게 연장된 것을 특징으로 하는 어레이 기판의 제조 방법.22. The method of claim 21, wherein the region of the removed floating gate extends along the length of the data line. 제 21 항에 있어서, 상기 금속층은 알루미늄을 포함하는 것을 특징으로 하는 어레이 기판의 제조 방법.22. The method of claim 21, wherein the metal layer comprises aluminum.
KR1020030036810A 2003-06-09 2003-06-09 Array substrate for improving image quality, manufacturing method thereof and liquid crystal display including the same Expired - Fee Related KR100942512B1 (en)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030036810A KR100942512B1 (en) 2003-06-09 2003-06-09 Array substrate for improving image quality, manufacturing method thereof and liquid crystal display including the same
US10/854,850 US7372528B2 (en) 2003-06-09 2004-05-27 Array substrate, method of manufacturing the same and liquid crystal display apparatus having the same
TW093115513A TWI401512B (en) 2003-06-09 2004-05-31 Array substrate, method of manufacturing the same and liquid crystal display apparatus having the same
CN2009102085022A CN101685232B (en) 2003-06-09 2004-06-09 Array substrate, method of manufacturing the same and liquid crystal display apparatus having the same
JP2004171152A JP2005004207A (en) 2003-06-09 2004-06-09 Array substrate, array substrate manufacturing method, and liquid crystal display device.
CNA2004100493931A CN1573487A (en) 2003-06-09 2004-06-09 Array substrate, method of manufacturing the same and liquid crystal display apparatus having the same
US12/039,121 US7859616B2 (en) 2003-06-09 2008-02-28 Liquid crystal display apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030036810A KR100942512B1 (en) 2003-06-09 2003-06-09 Array substrate for improving image quality, manufacturing method thereof and liquid crystal display including the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040105435A KR20040105435A (en) 2004-12-16
KR100942512B1 true KR100942512B1 (en) 2010-02-16

Family

ID=37380491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030036810A Expired - Fee Related KR100942512B1 (en) 2003-06-09 2003-06-09 Array substrate for improving image quality, manufacturing method thereof and liquid crystal display including the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100942512B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100884465B1 (en) 2007-09-14 2009-02-20 삼성모바일디스플레이주식회사 Liquid crystal display

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980035300A (en) * 1996-11-13 1998-08-05 김광호 Liquid Crystal Display and Manufacturing Method Thereof
KR20010057017A (en) * 1999-12-17 2001-07-04 구본준, 론 위라하디락사 Liquid Crystal Display Device and Method of Fabricating the Same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980035300A (en) * 1996-11-13 1998-08-05 김광호 Liquid Crystal Display and Manufacturing Method Thereof
KR20010057017A (en) * 1999-12-17 2001-07-04 구본준, 론 위라하디락사 Liquid Crystal Display Device and Method of Fabricating the Same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040105435A (en) 2004-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100563466B1 (en) Color Filter Array Substrate And Fabricating Method Thereof
US7372528B2 (en) Array substrate, method of manufacturing the same and liquid crystal display apparatus having the same
US7830477B2 (en) Liquid crystal display device
CN103869554B (en) Display panels
US7298430B2 (en) Liquid crystal display device
US8531641B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US8405807B2 (en) Liquid crystal display
US20110292331A1 (en) Pixel structure and display panel having the same
KR100959367B1 (en) Transverse electric field type liquid crystal display device
US7342626B2 (en) Display device
KR100955382B1 (en) LCD and its manufacturing method
US8373828B2 (en) Display apparatus
WO2010103676A1 (en) Active matrix substrate, display panel, display device, and electronic device
US20090303405A1 (en) Display Substrate, Method of Manufacturing the Display Substrate and Display Device Having the Display Substrate
KR100978949B1 (en) Transflective Liquid Crystal Display
KR102178887B1 (en) Array substrate and liquid crystal display device inluding the same
KR102420997B1 (en) Display device
KR100942512B1 (en) Array substrate for improving image quality, manufacturing method thereof and liquid crystal display including the same
US11537012B2 (en) Substrate for display device and display device
KR20120007323A (en) Liquid crystal display device having high aperture ratio and manufacturing method thereof
KR101446300B1 (en) Electrophoretic display device and manufacturing method thereof
KR101254743B1 (en) Thin film transistor array substrate, and manufacturing method thereof
CN100412670C (en) Pixel structure and liquid crystal display panel
US12353103B2 (en) Display device
KR20070082244A (en) Display panel and display device having same

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20030609

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20080506

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20030609

Comment text: Patent Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20090814

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20100122

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20100208

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20100209

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee