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KR100932873B1 - 광학용 접착성 폴리에스테르 필름 - Google Patents

광학용 접착성 폴리에스테르 필름 Download PDF

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KR100932873B1
KR100932873B1 KR1020037010456A KR20037010456A KR100932873B1 KR 100932873 B1 KR100932873 B1 KR 100932873B1 KR 1020037010456 A KR1020037010456 A KR 1020037010456A KR 20037010456 A KR20037010456 A KR 20037010456A KR 100932873 B1 KR100932873 B1 KR 100932873B1
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고지 구보
신지 야노
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Abstract

방향족 폴리에스테르 및 자외선흡수제를 함유하여 이루어지는 폴리에스테르 필름층 (A) 및 폴리에스테르 필름 (A) 의 적어도 편면 상에 형성된 피막 (B) 로 이루어지는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름. 상기 피막 (B) 는 유리전이점이 40∼100℃ 의 범위에 있는 피막용 폴리에스테르 및 유리전이점이 20∼80℃ 의 범위에 있는 아크릴 폴리머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 폴리머를, 피막에 대해 50∼95 중량% 로 함유한다. 상기 필름은 플라스마 디스플레이의 전면에 배치하여 외부로부터의 자외선을 차단한다.

Description

광학용 접착성 폴리에스테르 필름 {ADHESIVE POLYESTER FILM FOR OPTICAL USE}
본 발명은 광학용 접착성 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에 접착성 도막을 형성한, 우수한 접착성, 투명성을 갖고, 내후성이 우수한 광학용 접착성 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.
폴리에스테르 필름, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈렌디카르복실레이트의 이축연신필름은, 우수한 기계적성질, 내열성, 내약품성을 갖기 때문에, 자기 테이프, 강자성 박막 테이프, 사진 필름, 포장용 필름, 전자부품용 필름, 전기절연필름, 금속판 라미네이트용 필름, 유리디스플레이 등의 표면에 붙이는 필름, 각종 부재의 보호용 필름 등의 소재로서 널리 사용되고 있다. 최근 특히 각종 광학용 필름이 많이 사용되어, 액정표시장치의 부재인 프리즘 렌즈 시트, 터치 패널, 백라이트 등의 베이스 필름이나 반사방지용 필름의 베이스 필름이나 디스플레이의 방폭용 베이스 필름 등의 용도가 있다. 이와 같은 광학용 필름에 사용되는 베이스필름은 우수한 투명성과 프리즘렌즈, 하드코팅, 점착제, 반사방지처리 등에 대한 우수한 접착성이 요구된다.
또한 노트형 PC 나, PDA 등, 옥외에서 사용되는 용도의 경우, 어느 필름이나 내후성이 떨어지기 때문에, 필름의 강도가 저하되거나, 투명도가 저하되는 등, 장기간의 사용에 견딜 수 있는 것은 아니었다. 한편 컬러 텔레비젼으로 대표되는 영상기기에 있어서는, 비춰지는 영상의 고정세화와 대화면화와 같은 시장요구에 의해, 종래의 CRT 를 사용한 직시형 텔레비젼에 추가하여, 플라스마 디스플레이 등을 사용한 발광형 패널방식, 액정 디스플레이 등을 사용한 비발광형 패널 방식, 영상 프로젝터가 내장된 리어프로젝션방식 등의 텔레비젼이 계속 나오고 있다. 그 중에서도, 발광형 패널 방식의 플라스마 디스플레이는, 광원 혹은 방전부를 구성하는 각각의 화소부분의 구조적 요인에 의해, 가시광영역부터 적외선 파장영역에 걸쳐, 컬러영상의 3원색 (적, 녹, 청색) 의 파장대 이외의 광선이 발해지고, 예를 들어 파장이 820㎚, 880㎚, 980㎚ 근방 등에 강한 근적외선의 방사가 측정된다. 그리고 이 근적외선 방사에 의해 주변기기에 오작동 등의 문제가 생기고 있다. 이것은 예를 들어 텔레비젼, 비디오나 냉방장치의 리모트 컨트롤러, 휴대통신, 퍼스콤 등의 근적외선 통신기기 등에 사용되고 있는 근적외선의 작동파장과 합치되어 있기 때문이다.
일본 공개특허공보 평10-156991호에는, 상기 서술한 바와 같은 근적외선에 의한 주변기기로의 오작동 방지기능과 동시에 외광반사 방지기능을 겸비하고, 영상기기 표시장치의 전면(前面) 패널용으로 바람직하게 사용할 수 있는 외광반사 방지성 필름이 제안되어 있다. 이 외광반사 방지성 필름의 근적외선에 의한 주변기기로의 오작동을 방지하기 위해 근적외선 흡수제 함유층을 형성할 필요가 있으나, 이 근적외선 흡수제는 자외선에 대해 약한 성질이 있기 때문에, 또한 자외선흡수제 를 함유하는 층까지 별도로 형성할 필요가 있어 제조비용면에서 과제가 있었다.
상기와 같은 문제로부터 자외선흡수작용이 있는 광학용 폴리에스테르 필름의 개발이 요망되었다.
본 발명의 목적은, 각종 광학용도로 사용되는 층과의 접착성, 투명성이 우수하고, 게다가 내후성이 우수한 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 다른 목적은 옥외 사용 디스플레이나 플라스마 디스플레이 등의 영상표시 패널면에 바람직하게 사용할 수 있는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은, 자외선흡수제의 블리드 아웃이 억제되고 또한 상기와 같은 제반 성능을 구비한 광학용 접착성 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 또 다른 목적 및 이점은 이하의 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 발명에 의하면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은,
(A) 방향족 폴리에스테르 및 자외선흡수제를 함유하여 이루어지는 폴리에스테르 필름층 그리고
(B) 그 폴리에스테르 필름의 적어도 편면 상에 형성된 피막 (여기에서 이 피막은 유리전이점이 40∼100℃ 의 범위에 있는 피막용 폴리에스테르 및 유리전이점이 20∼80℃ 의 범위에 있는 아크릴 폴리머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 폴리머를, 피막에 대해 50∼95 중량%로 함유한다)
으로 이루어지는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름에 의해 달성된다.
본 발명의 광학용 접착성 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르 필름층 (A) 가 단층이어도, 적층된 복수층으로 이루어져도 된다. 이하 폴리에스테르 필름층 (A) 가 단층으로 이루어지는 경우에 대해 먼저 설명한다.
방향족 폴리에스테르 및 폴리에스테르 필름층 (A)
본 발명에서의 폴리에스테르 필름층 (A) 를 구성하는 방향족 폴리에스테르로서는, 예를 들어 테레프탈산, 이소프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 4,4'-디페닐디카르복실산과 같은 방향족 디카르복실산 성분과, 예를 들어 에틸렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,6-헥산디올 등의 글리콜 성분으로 구성되는 방향족 폴리에스테르가 바람직하고, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈린디카르복실레이트가 바람직하다. 또 공중합 폴리에스테르이어도 되고, 공중합성분으로는 예를 들어 상기 성분을 사용할 수 있다.
이와 같은 방향족 폴리에스테르는, 바람직하게는 0.45∼0.80, 보다 바람직하게는 0.50∼0.75, 더욱 바람직하게는 0.55∼0.70 의 고유점도 (오르토클로로페놀 중, 35℃) 를 갖는다.
상기 방향족 폴리에스테르에는, 막형성시의 필름의 권취성이나 하드코팅층이나 점착제 등을 도포할 때의 필름의 반송성 등을 양호하게 하기 위해, 필요에 따라 활제로서의 유기 또는 무기의 불활성 미립자를 함유시킬 수 있다. 이와 같은 불활성 미립자로서는 탄산칼슘, 산화칼슘, 산화알루미늄, 카올린, 산화규소, 산화아연, 가교아크릴 수지 입자, 가교폴리스티렌 수지 입자, 요소 수지 입자, 멜라민 수지 입자, 가교실리콘 수지 입자가 예시된다.
이와 같은 불활성 미립자는, 바람직하게는 평균입경 0.01∼2.0㎛, 보다 바람직하게는 0.1∼1.0㎛ 를 갖는 것이 바람직하다. 또 이와 같은 불활성 미립자의 함유량은, 폴리에스테르 필름층 (A) 중에, 바람직하게는 0.003∼0.5 중량%, 보다 바람직하게는 0.005∼0.1 중량% 이다.
폴리에스테르 필름층 (A) 의 표면조도 (Ra) 는 바람직하게는 3∼30㎚, 보다 바람직하게는 5∼20㎚ 이다. Ra 가 3㎚ 미만이면 필름 표면의 마찰계수가 높아져 핸들링성, 내스크래치성이 떨어지게 되고, 한편 Ra 가 30㎚ 을 초과하면, 필름의 표면이 거칠어져 표면반사가 커지고, 전광투과율이 저하되게 된다.
폴리에스테르 필름층 (A) 의 두께는, 바람직하게는 50∼200㎛ 이고, 보다 바람직하게는 75∼175㎛ 이다. 이 두께가 50㎛ 미만인 경우는 비교적 탄성이 약하여 가공시에 평면성이 저해되거나, 흠집이 생기기 쉬워지고, 한편 두께가 200㎛ 를 초과하면 탄성이 너무 강해 가공성이 나빠지기 쉽고 또 투명성도 저하되게 된다.
폴리에스테르 층 (A) 에는 추가로 불활성 미립자 이외에도 착색제, 대전방지제, 산화방지제, 윤활제, 촉매, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌-폴리머, 올레핀계 아이오노머와 같은 다른 수지도 투명성을 저해하지 않는 범위에서 임의로 함유시킬 수 있다.
자외선흡수제
폴리에스테르 필름층 (A) 는 자외선흡수제를 함유한다. 자외선흡수제는 하기 화학식 (Ⅰ)
Figure 112003029289210-pct00001
(식 중, X1 은 상기 식으로 표시된 X1 으로부터의 2개의 결합수(結合手)가 1위, 2위의 위치관계에 있는 2가의 방향족 잔기이고; n 은 1, 2 또는 3 이고; R1 은 n가의 탄화수소 잔기이고, 이것은 추가로 헤테로원자를 함유할 수도 있거나, 또는 R1 은 n=2 일 때 직접 결합일 수 있다)
로 표시되는 환상 이미노에스테르 및 하기 화학식 (Ⅱ)
(식 중, A 는 하기 화학식 (Ⅱ)-a
Figure 112003029289210-pct00003
로 표시되는 기이거나 또는
하기 화학식 (Ⅱ)-b
Figure 112003029289210-pct00004
로 표시되는 기이고; R2 및 R3 은 동일하거나 다르고 1가의 탄화수소 잔기이고; X2 는 4가의 방향족 잔기이고, 이것은 추가로 헤테로원자를 함유할 수도 있다)
로 표시되는 환상 이미노에스테르에서 선택되는 적어도 1종의 화합물을, 미반응의 형태로 사용하는 것이 바람직하다.
이와 같은 환상 이미노에스테르는 자외선흡수제로서 공지된 화합물로, 예를 들어 일본 공개특허공보 소59-12952호에 기재되어 있다.
상기 화학식 (Ⅰ) 중, X1 은 화학식 (Ⅰ) 에 표시된 X1 으로부터의 2개의 결합수가 1위, 2위의 위치관계에 있는 2가의 방향족 잔기이고; n 은 1, 2 또는 3 이고; R1 은 n가의 탄화수소 잔기이고, 이것은 추가로 헤테로원자를 함유할 수도 있거나, 또는 R1 은 n=2일 때 직접 결합일 수 있다.
X1 으로서는 바람직하게는 예를 들어 1,2-페닐렌, 1,2-나프틸렌, 2,3-나프틸렌, 하기 식
Figure 112003029289210-pct00005
또는
Figure 112003029289210-pct00006
(식 중, R 은 -O-, -CO-, -S-, -SO2-, -CH2-, -(CH2)- 또는 -C-(CH3 )2- 이다)
으로 표시되는 기를 들 수 있다. 이들 중 특히 1,2-페닐렌이 바람직하다.
X1 에 대해 예시한 상기 방향족 잔기는, 예를 들어 탄소수 1∼10의 알킬 예를 들어 메틸, 에틸, 프로필, 헥실, 데실 등; 탄소수 6∼12의 아릴 예를 들어 페닐, 나프틸 등; 탄소수 5∼12의 시클로알킬 예를 들어 시클로펜틸, 시클로헥실 등; 탄소수 8∼20의 아랄킬 예를 들어 페닐에틸 등; 탄소수 1∼10의 알콕시 예를 들어 메톡시, 에톡시, 데실옥시 등; 니트로; 할로겐 예를 들어 염소, 브롬 등; 탄소수 2∼10의 아실 예를 들어 아세틸, 프로포닐, 벤조일, 데카노일 등; 등의 치환기로 치환될 수도 있다.
R1 은 n가 (단, n 은 1, 2 또는 3 임) 의 탄화수소 잔기이거나, 또는 n이 2 일 때에 한해 직접 결합일 수 있다.
1가의 탄화수소 잔기 (n=1인 경우) 로서는, 첫째, 예를 들어 탄소수 1∼10의 미치환 지방족기, 탄소수 6∼12의 미치환 방향족기, 탄소수 5∼12의 미치환 지환족기를 들 수 있다.
탄소수 1∼10의 미치환 지방족기로서는 예를 들어 메틸, 에틸, 프로필, 헥실, 데실 등을, 탄소수 6∼12의 미치환 방향족기로서는 예를 들어 페닐, 나프틸, 비페닐 등을; 탄소수 5∼12의 미치환 지환족기로서는 예를 들어 시클로펜틸, 시클로헥실 등을 들 수 있다.
또 상기 1가의 탄화수소 잔기로서는, 둘째 예를 들어 하기 화학식 (c)
Figure 112003029289210-pct00007
(식 중, R4 는 탄소수 2∼10의 알킬렌, 페닐렌 또는 나프틸렌이다)
로 표시되는 기, 하기 화학식 (d)
Figure 112003029289210-pct00008
(식 중, R5 는 탄소수 1∼10의 알킬기, 페닐기 또는 나프틸기이다)
로 표시되는 기, 하기 화학식 (e)
Figure 112003029289210-pct00009
(식 중, R4 및 R5 의 정의는 상기와 동일하고, R6 은 수소원자 또는 R5 에 정의된 기 중 어느 하나이다)
로 표시되는 기, 하기 화학식 (f)
Figure 112003029289210-pct00010
(식 중, R4 및 R6 의 정의는 상기와 동일하고, R7 은 수소원자 또는 R5 에 정의된 기 중 어느 하나이다)
로 표시되는, 치환된 지방족 잔기 또는 방향족 잔기를 들 수 있다.
또 상기 1가의 탄화수소 잔기로서는, 세째, 상기 미치환의 방향족 잔기가 예를 들어 상기 X1 을 표시하는 방향족 잔기의 치환기로서 예시한 것과 동일한 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다. 따라서 이와 같은 치환기로 치환된 경우의 예로서는, 예를 들어 톨릴, 메틸나프틸, 니트로페닐, 니트로나프틸, 클로로페닐, 벤조일페니일, 아세틸페닐 또는 아세틸나프틸 등을 들 수 있다.
1가의 탄화수소 잔기로서는, 상기 화학식 (c), (d), (e) 또는 (f) 로 표시되는 기, 즉 치환된 지방족 잔기 또는 방향족 잔기, 특히 그 중 치환된 방향족 잔기가 바람직하다.
2가의 탄화수소 잔기 (n=2의 경우) 로서는, 첫째, 예를 들어 2가의, 탄소수 2∼10의 미치환의 지방족 잔기, 탄소수 6∼12의 미치환의 방향족 잔기, 탄소수 5∼12의 미치환의 지환족 잔기를 들 수 있다.
2가의 탄소수 2∼10의 미치환의 지방족기로서는 예를 들어 에틸렌, 트리메틸렌, 테트라메틸렌, 데카메틸렌 등을, 2가의 탄소수 6∼12의 미치환의 방향족 잔기로서는 예를 들어 페닐렌, 나프틸렌, P,P'-비페닐렌 등을; 2가의 탄소수 5∼12의 미치환의 지환족 잔기로서는, 예를 들어 시클로펜틸렌, 시클로헥실렌 등을 들 수 있다.
또 상기 2가의 탄화수소 잔기로서는 둘째, 예를 들어 하기 화학식 (g)
Figure 112003029289210-pct00011
(식 중, R8 은 R4 에 정의된 기 중 어느 하나이다)
로 표시되는 기, 또는 하기 화학식 (h)
Figure 112003029289210-pct00012
(식 중, R8 의 정의는 상기와 동일하고, R9 는 R4 에 정의된 기 중 어느 하나이고, 그리고 R10 은 R6 에 정의된 기 중 어느 하나이다)
로 표시되는 치환된 지방족 잔기 또는 방향족 잔기를 들 수 있다.
또 상기 2가의 탄화수소 잔기로서는, 세째, 상기 미치환의 2가의 방향족 잔기가, 예를 들어 상기 X1 을 표시하는 방향족기의 치환기로서 예시한 것과 동일한 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
n 이 2 인 경우에는, R1 으로서는 이들 중 직접 결합 또는 상기 제1∼제3 군의 미치환 또는 치환된 2가의 방향족 탄화수소 잔기가 바람직하고, 특히 2개의 결합수가 가장 떨어진 위치에서 나와 있는 제1 또는 제3 군의 미치환 또는 치환된 방향족 탄화수소 잔기가 바람직하고, 이 중 p-페닐렌, p,p'-비페닐렌 또는 2,6-나프틸렌이 바람직하다.
3가의 탄화수소 잔기 (n=3 인 경우) 로서는, 예를 들어 3가의 탄소수 6∼12의 방향족 잔기를 들 수 있다.
이와 같은 방향족 잔기로서는 예를 들어
Figure 112003029289210-pct00013
등을 들 수 있다.
이와 같은 방향족 잔기는, 상기 1가의 방향족 잔기의 치환기로서 예시한 것과 동일한 치환기로 치환될 수도 있다.
상기 화학식 (Ⅰ) 중, R2 및 R3 은 동일하거나 다르고 1가의 탄화수소 잔기이고, X2 는 4가의 방향족 탄화수소 잔기이다.
R2 및 R3 으로서는, 상기 화학식 (Ⅰ) 의 설명에 있어서, n=1 인 경우의 R1 에 대해 예시한 것과 동일한 기를 예로 들 수 있다.
4가의 방향족 탄화수소 잔기로서는 예를 들어
Figure 112003029289210-pct00014
(여기에서 R 의 정의는 화학식 (a) 와 동일하다)
로 표시되는 기를 들 수 있다.
상기 4가의 방향족 잔기는, 상기 화학식 (Ⅰ) 의 설명에 있어서, R1 을 표시하는 1가의 방향족 잔기의 치환기로서 예시한 것과 동일한 치환기로 치환될 수도 있다.
본 발명에서 사용되는 상기 화학식 (Ⅰ) 및 (Ⅱ) 로 표시되는 환상 이미노에스테르의 구체예로서는 예를 들어 하기 화합물을 들 수 있다.
상기 화학식 (Ⅰ) 의 화합물
n=1 인 경우의 화합물
2-메틸-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-부틸-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-페닐-3,1-벤조 옥사딘-4-온, 2-(1- 또는 2-나프틸)-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-(4-비페닐)-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-p-니트로페닐-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-m-니트로페닐-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-p-벤조일페닐-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-p-메톡시페닐-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-o-메톡시페닐-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-시클로헥실-3,1-벤조옥사딘-4-온, 2-p-(또는 m-)프탈이미드페닐-3,1-벤조옥사딘-4-온, N-페닐-4-(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)프탈이미드, N-벤조일-4-(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)아닐린, N-벤조일-N-메틸-4-(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)아닐린, 2-(p-(N-메틸카르보닐)페닐)-3,1-벤조옥사딘-4-온.
n=2 인 경우의 화합물
2,2'-비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-에틸렌비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-테트라메틸렌비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-데카메틸렌비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-n-페닐렌비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-m-페닐렌비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-(4,4'-디페닐렌)비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-(2,6- 또는 1,5-나프틸렌)비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-(2-메틸-p-페닐렌)비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-(2-니트로-p-페닐렌)비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-(2-클로로-p-페닐렌)비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-(1,4-시클로헥실렌)비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), N-p-(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)페닐, 4-(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)프탈이미드, N-p-(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)벤조일, 4-(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)아닐린.
n=3 인 경우의 화합물
1,3,5-트리(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)벤젠, 1,3,5-트리(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)나프탈렌, 2,4,6-트리(3,1-벤조옥사딘-4-온-2-일)나프탈렌.
상기 화학식 (Ⅱ) 의 화합물
2,8-디메틸-4H,6H-벤조(1,2-d;5,4-d')비스(1,3-옥사딘-4,6-디온, 2,7-디메틸-4H,9H-벤조(1,2-d;4,5-d')비스(1,3)-옥사딘-4,9-디온, 2,8-디페닐-4H,8H-벤조(1,2-d;5,4-d')비스(1,3)옥사딘-4,6-디온, 2,7-디페닐-4H,9H-벤조(1,2-d;4,5-d')비스(1,3)-옥사딘-4,6-디온, 6,6'-비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-비스(2-에틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-메틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-메틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-에틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-에틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-부틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-부틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-옥시비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-옥시비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-술포닐비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-술포닐비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-카르보닐비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,6'-카르보닐비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 7,7'-메틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 7,7'-메틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 7,7'-비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 7,7'-에틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 7,7'-옥시비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 7,7'-술포닐비스(2-메틸-4H,3,1- 벤조옥사딘-4-온), 7,7'-카르보닐비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,7'-비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,7'-비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,7'-메틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온), 6,7'-메틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사딘-4-온).
상기 예시 화합물 중, 상기 화학식 (Ⅰ) 의 화합물, 보다 바람직하게는 n=2의 경우의 상기 화학식 (Ⅰ) 의 화합물, 특히 바람직하게는 하기 화학식 (Ⅰ)-1
Figure 112003029289210-pct00015
(식 중, R11 은 2가의 방향족 탄화수소 잔기이다)
로 표시되는 화합물이 유리하게 사용된다.
화학식 (Ⅰ)-1 의 화합물로서는 그 중 2,2'-p-페닐렌비스(3,1-벤조옥사딘-4-온), 2,2'-(4,4'-디페닐렌)비스(3,1-벤조옥사딘-4-온) 및 2,2'-(2,6-나프틸렌)비스(3,1-벤조옥사딘-4-온) 이 바람직하다.
이들 환상 이미노에스테르의 자외선흡수특성은, 예를 들어 그 대표적 화합물에 대해 일본 공개특허공보 소59-12952호에 기재되어 있으므로 이를 원용한다.
상기 환상 이미노에스테르는 폴리에스테르에 대해 우수한 상용성을 갖는데, 상기 일본 공개특허공보 소59-12952호나 미국특허 제4291152호 명세서에 기재되어 있는 바와 같이, 폴리에스테르의 말단 수산기와 반응하는 능력을 갖는다. 따라서 환상 이미노에스테르가 실질적으로 미반응 상태에서 함유되도록, 환상 이미노에스테르와 폴리에스테르를 주의깊게 혼합시키는 것이 요구된다. 단, 폴리에스테르로서, 주된 비율의 말단기가 카르복실기인 폴리에스테르나, 말단 수산기가 상기 환상 이미노에스테르와 반응성이 없는 말단 봉쇄제로 봉쇄되어 있는 폴리에스테르를 사용하는 경우, 환상 이미노에스테르를 미반응 상태로 함유하는 조성물을 제조하는 데에 특별히 주의할 필요는 없다. 말단기의 주된 비율이 수산기인 폴리에스테르를 사용하는 경우에는 용융혼합시간은 하기 식
Logt≤-0.008T+4.8
및
Tm〈T〈320
(식 중, t 는 용융혼합시간 (초), T 는 용융혼합온도 (℃) 및 Tm 은 폴리에스테르의 용융온도 (℃) 이다)
을 만족하도록, 단시간에 완료되도록 하는 것이 바람직하다. 이 경우, 환상 이미노에스테르와 폴리에스테르가 적은 비율로 반응할 가능성이 있으나, 이 반응에 의해 폴리에스테르의 분자량은 커지므로, 이 비율에 따라서는 가시광흡수제에 의한 폴리에스테르의 열화에 의한 분자량 저하를 방지할 수 있다. 또한 환상 이미노에스테르가 폴리에스테르와 반응한 경우, 자외선흡수 파장영역이, 일반적으로 미반응 상태의 자외선흡수 파장 영역보다 저파장측으로 어긋나는 경향을 나타내고, 이 때문에 고파장측의 자외선을 투과하는 경향을 갖는다.
상기 환상 이미노에스테르는, 적량을 첨가하는 경우, 승화물이 거의 없으므로, 막형성으로 인해 다이 주변을 오염시키는 일이 적고, 자외선으로부터 380㎚ 부근의 광선을 흡수하므로 필름의 착색이 없고, 가시광선흡수제나 필름의 열화를 방지하는 특성이 우수하다.
상기 자외선흡수제의 첨가량은 폴리에스테르에 대해 0.1∼5 중량% 가 바람직하고, 나아가서는 0.2∼3 중량%가 바람직하다. 이 양이 0.1 중량% 미만에서는 자외선열화방지효과가 작고, 한편 5 중량% 를 초과하면 폴리에스테르의 막형성 특성이 저하되어 바람직하지 않다.
상기 자외선흡수제의 폴리에스테르에 대한 첨가는, 예를 들어 폴리에스테르 중합공정, 필름 막형성 전의 용융공정에서의 폴리머 중으로의 혼입, 이축연신 필름으로의 함침에 의해 실행할 수 있고, 특히 폴리에스테르 중합도 저하를 방지하는 의미에서도 필름 막형성 전의 용융공정에서 폴리머 중에 혼입하는 것이 바람직하다. 이 때, 자외선흡수제의 혼입은, 화합물 분체의 직접첨가법, 마스터 배치법 등에 의해 실행할 수 있다.
피막 (B)
본 발명의 광학용 접착성 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르 필름층 (A) 의 적어도 편면 상에 피막 (B) 를 갖는다. 피막 (B) 는 유리전이점이 40∼100℃ 의 범위에 있는 피막용 폴리에스테르 및 유리전이온도가 20∼80℃ 의 범위에 있는 아크릴 폴리머의 적어도 하나를 함유한다.
피막용 폴리에스테르는, 유리전이점이 40∼100℃, 바람직하게는 60∼90℃ 이 다. 유리전이점이 40℃ 미만이면 필름끼리의 블록킹이 발생되는 경우가 있고, 100℃를 초과하면 피막이 약해져 스크래치 흠집이 생기기 쉬워지거나, 피막 표면이 거칠어져 투명성이 저해되기 쉬워진다.
이와 같은 유리전이점을 갖는 폴리에스테르 수지는, 이하와 같은 다염기산 또는 그 에스테르형성 유도체와 폴리올 또는 그 에스테르형성 유도체로부터 얻을 수 있다.
다염기산 성분으로서는 예를 들어 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 무수프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 아디프산, 세박산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 다이머산, 5-나트륨술포이소프탈산을 들 수 있다. 이들 산성분은 2종 이상 사용하여 공중합 폴리에스테르를 합성한다. 또 약간의 양이면서 불포화 다염기산 성분의 말레산, 이타콘산 등 및 p-히드록시벤조산 등과 같은 히드록시카르복실산을 사용할 수 있다. 또 폴리올성분으로서는, 에틸렌글리콜, 1,4-부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 자일렌글리콜, 디메틸올프로판, 폴리(에틸렌옥시드)글리콜, 폴리(테트라메틸렌옥시드)글리콜 등을 들 수 있다. 또 이들 모노머를 들 수 있다.
상기 폴리에스테르는, 물에 가용성 또는 분산성의 폴리에스테르인 것이 바람직하다. 물에 대한 가용성 또는 분산성을 향상시키기 위해서는, 예를 들어 0.1∼15몰%의 술폰산염기를 갖는 디카르복실산을 도입하는 것이 바람직하다. 특히 0.1∼5몰%의 술폰산염기를 갖는 디카르복실산을 도입한 수분산성 폴리에스테르 수지를 사용하는 것이 내수성, 내습성 면에서도 바람직하다. 또 이 폴리에스테르 의 고유점도는, 바람직하게는 0.4 이상 0.7 미만, 보다 바람직하게는 0.5 이상 0.65 이하이다. 고유점도가 0.4 미만이면 피막의 내열성이 떨어지고, 가공공정에서 열이 가해진 경우에 표면이 백화되는 등의 문제가 발생하기 쉬워진다. 한편 고유점도가 0.7 을 초과하면 깨끗한 피막이 얻어지기 어렵고, 표면이 거칠어져 투명성이 저하되기 쉬워진다.
폴리에스테르는, 피막에 대해 50∼95 중량%, 바람직하게는 60∼90 중량%, 보다 바람직하게는 70∼85 중량% 함유된다. 폴리에스테르수지가 90 중량% 를 초과하면, 피막이 너무 평탄해져 내블록킹성이 떨어진다. 폴리에스테르수지가 60 중량% 미만이면, 하드코팅 등의 접착성이 저하된다.
또 아크릴 폴리머는, 유리전이점이 20∼80℃, 바람직하게는 25∼70℃, 보다 바람직하게는 30∼60℃ 이다. Tg 가 20℃ 보다 낮으면, 도막이 부드러워져 내블록킹성이 악화된다. Tg 가 80℃ 보다 높으면, 조막성이 악화되고, 도막 표면이 거칠어지기 때문에 필름의 투명도가 저하된다.
아크릴 폴리머의 성분은 이하에 예시하는 바와 같은 아크릴 모노머의 중합단위로 이루어진다. 이 아크릴 모노머로서는 예를 들어 알킬아크릴레이트, 알킬메타크릴레이트 (알킬기로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 시클로헥실기 등); 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트와 같은 수산기 함유 모노머; 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 알릴글리시딜에테르와 같은 에폭시기 함유 모노머; 아크릴 산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸말산, 크로톤산, 스티렌술폰산 및 그 염 (나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 제3급 아민염 등) 과 같은 카르복시기 또는 그 염을 함유하는 모노머; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-알킬아크릴아미드, N-알킬메타크릴아미드, N,N-디알킬아크릴아미드, N,N-디알킬메타크릴레이트 (알킬기로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 시클로헥실기 등), N-알콕시아크릴아미드, N-알콕시메타크릴아미드, N,N-디알콕시아크릴아미드, N,N-디알콕시메타크릴아미드 (알콕시기로서는 메톡시기, 에톡시기, 부톡시기, 이소부톡시기 등), 아크릴로일모르폴린, N-메틸올아크릴아미드, N-메틸올메타크릴아미드, N-페닐아크릴아미드, N-페닐메타크릴아미드와 같은 아미드기를 함유하는 모노머; 무수말레산, 무수이타콘산 등과 같은 산무수물의 모노머; 비닐이소시아네이트, 알릴이소시아네이트, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 비닐트리알콕시실란, 알킬말레산모노에스테르, 알킬푸말산모노에스테르, 알킬이타콘산모노에스테르, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화비닐리덴, 에틸렌, 프로필렌, 염화비닐, 아세트산비닐, 부타디엔 등의 모노머를 들 수 있다.
이 중에서, 수산기를 함유하는 모노머, 예를 들어 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, N-메틸올아크릴아미드, N-메틸올메타크릴아미드 등이 2∼20몰%, 바람직하게는 4∼15몰% 함유되어 있는 것이 바람직하다. 수산기를 함유하는 모노머의 함유량이 2몰% 미만이면 하드코팅 등의 접착성이 떨어지는 경우 가 있고, 20몰% 를 초과하면, 부반응에 의해 균일한 도막이 형성되지 않고, 필름의 투명도가 저하되는 경우가 있다.
피막은 필러를 함유할 수 있다. 이와 같은 필러는 바람직하게는 입경 0.02∼0.2㎛ 이고, 피막에 대해 0.1∼20 중량%로 함유된다. 피막이 피막용 폴리에스테르일 때에는, 필러는 바람직하게는 1∼20 중량%로 함유된다. 필러의 입자경이 0.02㎛ 미만이거나, 피막 중의 필러의 함유량이 0.1 중량% 보다 적으면 필름이 슬라이딩되기 어려워지고, 핸들링성이 저하되기 쉽고, 내블록킹성도 떨어지게 된다. 필러의 입자경이 0.2㎛ 를 초과하거나, 필러 함유량이 20 중량% 를 초과하면 도포량의 투명성이 저하되어, 디스플레이 용도 등에 사용하기 곤란해진다.
이와 같은 필러는 유기 또는 무기의 미립자이고, 예를 들어 탄산칼슘, 산화칼슘, 산화알루미늄, 카올린, 산화규소, 산화아연, 가교아크릴 수지 입자, 가교폴리스티렌 수지 입자, 멜라민 수지 입자, 가교실리콘 수지 입자가 예시된다.
피막용 폴리에스테르 또는 아크릴 폴리머와 필러의 굴절율은, 모두 1.50∼1.60 의 범위에 있는 것이 바람직하고, 특히 1.55∼1.59 의 범위인 것이 바람직하다. 굴절율이 1.50 미만이거나 1.60 을 초과하면, 하드코팅이나 베이스 필름과의, 또 피막에서의 수지와 필러와의 계면반사가 강해져 투명성을 저해하는 경우가 있다.
또 피막은 가교제를 함유할 수 있다.
가교제로서는 예를 들어 옥사졸린기 함유 폴리머, 요소수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이 사용된다.
가교제로서 사용되는 옥사졸린기 함유 폴리머로서는 일본 특허공보 소63-48884호, 일본 공개특허공보 평2-60941호, 일본 공개특허공보 평2-99537호 등에 기재된 중합체, 또는 이들에 준한 중합체를 들 수 있다. 구체적으로는 하기 화학식 (Ⅲ) 으로 표시되는 부가중합성 옥사졸린 (a), 및 필요에 따라 다른 모노머 (b) 를 중합시켜 얻어지는 중합체를 들 수 있다.
Figure 112003029289210-pct00016
(식 중, R1, R2, R3 및 R4 는 각각 수소, 할로겐, 알킬기, 아랄킬기, 페닐기 및 치환 페닐기에서 선택되는 치환기를 나타내고, R5 는 부가중합성 불포화 결합기를 갖는 비환상 유기기를 나타낸다).
상기 화학식 (Ⅲ) 으로 표시되는 부가중합성 옥사졸린 (a) 의 구체예로서는, 예를 들어 2-비닐-2-옥사졸린, 2-비닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-비닐-5-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-5-메틸-2-옥사졸린을 들 수 있다. 이들은 1종으로 사용해도 되고, 2종 이상의 혼합물로 사용해도 된다. 이들 중, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린이 공업적으 로 입수하기 쉬워 바람직하다.
다음으로 부가중합성 옥사졸린 이외의 모노머 (b) 로서는 부가중합성 옥사졸린 (a) 과 공중합가능한 모노머라면 특별한 제한은 없다. 예를 들어 아크릴산메틸, 메타크릴산메틸, 아크릴산부틸, 메타크릴산부틸과 같은 아크릴산 에스테르류, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산 등과 같은 불포화 카르복실산, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴과 같은 불포화 니트릴류, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, N-메틸올메타크릴아미드와 같은 불포화 아미드, 아세트산비닐, 프로피온비닐과 같은 비닐에스테르, 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르와 같은 비닐에테르, 에틸렌, 프로필렌과 같은 α-올레핀, 염화비닐, 염화비닐리덴, 불화비닐과 같은 할로겐-α,β-불포화 모노머, 스티렌, α-메틸스티렌과 같은 α,β-불포화 방향족 모노머를 들 수 있다. 이들은 1종으로 사용해도 되고, 2종 이상의 혼합물로 사용해도 된다.
상기 부가중합성 옥사졸린 (a) 및 필요에 따라 적어도 1종 이상의 다른 모노머 (b) 를 사용하여 중합체를 얻기 위해서는, 종래부터 알려져 있는 중합법에 의해 중합할 수 있다. 예를 들어 유화중합법 (중합촉매, 물, 계면활성제 및 모노머를 일괄 혼합하여 중합하는 방법), 모노머 적하법, 다단중합법, 프리에멀젼법 등 각종 방법을 채용할 수 있다.
중합촉매로서는 종래부터 알려져 있는 것을 사용할 수 있다. 예를 들어 과산화수소, 과황산칼륨, 2,2'-아조비스(2-아미노프로판) 2염기산 등, 통상의 라디칼 중합개시제를 들 수 있다.
또 계면활성제로서는 종래부터 알려져 있는 음이온계, 비이온계, 양이온계 및 양쪽성 계면활성제나 반응성 계면활성제를 들 수 있다.
중합온도는 통상 0℃∼100℃, 바람직하게는 50∼80℃ 이다. 또 중합시간은 통상 1∼10 시간이다.
부가중합성 옥사졸린 (a) 및 적어도 1종 이상의 다른 모노머 (b) 를 사용하여 중합체를 얻는 경우, 부가중합성 옥사졸린 (a) 의 배합량은, 전체 모노머에 대해 0.5 중량% 이상의 범위에서 적절하게 결정하는 것이 바람직하다. 부가중합성 옥사졸린 (a) 의 배합량이 0.5 중량% 미만에서는, 본 발명의 목적을 달성하는 것이 곤란해지는 경우가 있어 바람직하지 않다.
가교제로서 사용되는 에폭시수지로서는 예를 들어 폴리에폭시 화합물, 디에폭시 화합물, 모노에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 이 폴리에폭시 화합물로서는, 예를 들어 소르비톨폴리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리스리톨폴리글리시딜에테르, 디글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리글리시딜트리스(2-히드록시에틸)이소시아네이트, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜메타자일리렌디아민, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라글리시딜-1,3-비스아미노메틸시클로헥산 등을 들 수 있다. 디에폭시 화합물로서는 예를 들어 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 레조르신디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리테트라메틸렌글리콜디글리시딜에테르 등을 들 수 있다. 또 모노에폭시 화합물로서는 예를 들어 알릴글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르 등을 들 수 있다. 이 중에서도 N,N,N',N'-테트라글리시딜메타자일리렌디아민, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라글리시딜-1,3-비스아미노메틸시클로헥산 등을 들 수 있다.
가교제로서 사용되는 요소 수지로서는 예를 들어 디메틸올요소, 디메틸올에틸렌요소, 디메틸올프로필렌요소, 테트라메틸올아세틸렌요소, 4-메톡시5-디메틸프로필렌요소디메틸올을 들 수 있다.
가교제로서 사용되는 멜라민 수지로서는, 예를 들어 멜라민과 포름알데히드를 축합하여 얻어지는 메틸올멜라민 유도체에 저급 알코올로서 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올 등을 반응시켜 에테르화한 화합물 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
또 가교제로서 사용되는 메틸올멜라민 유도체로서는, 예를 들어 모노메틸올멜라민, 디메틸올멜라민, 트리메틸올멜라민, 테트라메틸올멜라민, 펜타메틸올멜라민, 헥사메틸올멜라민 등을 들 수 있다.
이들 가교제 중에서도, 옥사졸린기 함유 폴리머, 에폭시화합물이 바람직하고, 특히 폴리에폭시 화합물이 바람직하다. 이들 가교제는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상 병용해도 된다.
가교제의 함유량은 피막에 대해, 바람직하게는 1∼40 중량%, 더욱 바람직하게는 3∼30 중량% 이다. 가교제가 1 중량% 미만이면, 도막응집력이 약하기 때 문에, 하드코팅 등과의 접착성이 떨어지는 경우가 있어 바람직하지 않고, 40%를 초과하면 조막성이 저하되고, 투명성이 저해되는 경우가 있어 바람직하지 않다.
피막 (B) 는 바람직하게는
(i) 유리전이점 40∼100℃, 고유점도가 0.4 이상 0.7 미만의 피막용 폴리에스테르를 피막에 대해 60∼90 중량%, 및 입자경 0.02∼0.2㎛ 의 필러를 1∼20 중량%로 함유하거나, 혹은
(ii) 유리전이점 40∼100℃의 피막용 폴리에스테르를, 피막에 대해 50∼95 중량%, 가교제를 피막에 대해 1∼40 중량% 및 입자경 0.02∼0.2㎛의 필러를 0.1∼20 중량%로 함유한다.
또한 피막 (B) 는 왁스를 함유할 수 있다. 왁스를 함유함으로써 우수한 이활성(易滑性)을 얻을 수 있다.
왁스의 구체예로서는 카르나바 왁스, 캔델릴라 왁스, 라이스 왁스, 목랍, 호호바오일, 팜 왁스, 로진 변성 왁스, 오우리큐리 왁스, 사탕수수 왁스, 에스팔트 왁스, 바크 왁스 등의 식물계 왁스, 밀랍, 라놀린, 경랍, 백랍, 세락 왁스 등의 동물계 왁스, 몬탄 왁스, 오조케라이트, 세레신 왁스 등의 광물계 왁스, 파라핀 왁스, 마이크로크리스탈린 왁스, 페트로락탐 등의 석유계 왁스, 피셔트로푸시 왁스, 폴리에틸렌 왁스, 산화폴리에틸렌 왁스, 폴리프로필렌 왁스, 산화폴리프로필렌 왁스 등의 합성탄화수소계 왁스, N,N'-메틸렌비스스테아린산아미드, N,N'-에틸렌비스팔미트산아미드, N,N'-메틸렌비스라우린산아미드, 리놀산아미드, 카프릴산아미드, 스테아르산아미드 등의 지방산의 아미드 또는 비스아미드 등이다. 왁스는 환경 문제나 취급용이성 면에서 수분산체가 보다 바람직하다.
왁스는 피막 중에, 피막에 대해 바람직하게는 0.5∼20 중량%, 보다 바람직하게는 1 중량%∼10 중량% 함유된다. 이 범위에서 함유됨으로써, 필름 표면의 이활성을 가지면서, 폴리에스테르 기재에 대한 밀착이나 하드코팅 등에 대한 용이한 접착을 얻을 수 있다.
피막은 왁스를 함유할 때, 바람직하게는 피막용 폴리에스테르 60∼90 중량%, 필러 1∼20 중량%, 더욱 바람직하게는 1∼9 중량%, 및 왁스 0.5∼20 중량%, 더욱 바람직하게는 1∼9 중량%를 함유한다.
피막은 그 표면 고유저항값이 1×1014Ω/□이하인 것이 바람직하다. 표면 고유저항값이 1×1014Ω/□를 초과하면, 가공공정 등에서의 필름 반송시에 대전이 발생하기 쉬워져, 필름의 핸들링성이 악화되는 경우가 있다. 피막의 표면 고유저항값을 조정하기 위해서는, 이미 알려진 대전방지제를 첨가하는 방법을 바람직하게 예시할 수 있다.
또 피막은 그 표면에너지가 50mN/m 미만인 것이 바람직하다. 이 표면에너지가 50mN/m 이상이면, 하드코팅이나 점착제 등에 대한 접착성이 부족한 경우가 있다.
본 발명에서는 피막을 형성하는 성분으로서, 상기 성분 이외에, 우레탄 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 등의 다른 수지나, 착색제, 계면활성제, 자외선흡수제 등을 성능을 저해하지 않는 범위의 첨가량으로 사용할 수 있다.
광학용 접착성 폴리에스테르 필름의 제조
본 발명에 있어서는, 폴리에스테르 필름층 (A) 가 되는 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에 상기 성분을 사용한 피막을 도포한다. 예를 들어 연신 가능한 폴리에스테르 필름에 피막을 형성하는 성분을 함유하는 수성액을 도포한 후, 건조, 연신하고, 필요에 따라 열처리함으로써 도포할 수 있다. 이 수성액의 고형분농도는 통상 30 중량% 이하, 바람직하게는 10 중량% 이하이다.
상기 연신 가능한 폴리에스테르 필름이란 미연신 폴리에스테르 필름, 일축연신 폴리에스테르 필름 또는 이축연신 폴리에스테르 필름이다. 이 중 필름의 압출방향 (세로방향) 으로 일축연신한 세로연신 폴리에스테르 필름이 특히 바람직하다.
수성 도액을 필름에 도포할 때에는, 도포성을 향상시키기 위한 예비처리로서 필름 표면에 코로나표면처리, 화염처리, 플라스마처리 등의 물리처리를 실시하거나, 또는 조성물과 함께 이것과 화학적으로 불활성인 계면활성제를 병용하는 것이 바람직하다.
이와 같은 계면활성제는, 수성 도액에 의해 폴리에스테르 필름이 젖는 것을 촉진하는 것으로, 예를 들어 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌-지방산 에스테르, 솔비탄 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 지방산 금속비누, 알킬황산염, 알킬술폰산염, 알킬술포숙신산염 등의 음이온형, 비이온형 계면활성제를 들 수 있다. 계면활성제는 도막을 형성하는 조성물 중에 1∼10 중량% 함유되어 있는 것이 바람직하다. 이 범위이면 40mN/m 이하로 할 수 있고, 도포 층이 겉도는 것을 방지할 수 있다.
폴리에스테르 필름에 수성액을 도포하는 경우는, 통상의 도공공정, 즉 이축연신 열고정한 폴리에스테르 필름에 이 필름의 제조공정과 분리된 공정으로 실행하면, 이물질, 먼지 등이 섞이기 쉬워 바람직하지 않다. 이와 같은 관점에서, 청결한 분위기에서의 도포, 즉 필름 제조공정에서의 도포가 바람직하다. 그리고 이 도포에 의하면, 피막 (도막) 의 폴리에스테르 필름에 대한 밀착성이 더욱 향상된다.
도포방법으로서는 공지된 임의의 도포법을 적용할 수 있다. 예를 들어 롤코트법, 그라비아코트법, 롤브러시법, 스프레이코트법, 에어나이프코트법, 함침법 및 커텐코트법 등을 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다. 도포량은 주행하고 있는 필름 1㎡당 0.5∼20g, 나아가서는 1∼10g 이 바람직하다. 수성액은 수분산액 또는 유화액으로 사용하는 것이 바람직하다. 또한 도막은 필요에 따라 필름의 편면에만 형성해도 되고, 양면에 형성해도 된다.
수성액을 도포한 연신 가능한 폴리에스테르 필름은, 건조, 연신처리공정에 도입되는데, 이와 같은 처리는, 종래부터 당업계에 축적된 조건에서 실행할 수 있다. 바람직한 조건으로서는, 예를 들어 건조조건은 90∼130℃×2∼10초이고, 연신온도는 90∼130℃, 연신배율은 세로방향 3∼5배, 가로방향 3∼5배, 필요하면 다시 세로방향 1∼3배이고, 열고정하는 경우는 180∼240℃×2∼20초이다.
이와 같은 처리 후의 이축배향 폴리에스테르 필름의 두께는 50∼250㎛인 것, 또 도막의 두께는 0.02∼1㎛ 인 것이 바람직하다.
다음으로 폴리에스테르 필름층 (A) 가 축적된 복수층으로 이루어지는 경우의 본 발명의 광학용 접착성 폴리에스테르 필름에 대해 설명한다.
방향족 폴리에스테르 및 폴리에스테르 필름층 (A)
적층된 복수층으로 이루어지는 폴리에스테르 필름층 (A) 를, 이하 적층 폴리에스테르 필름 (A) 또는 적층 폴리에스테르 필름층 (A) 라고 한다. 또한 여기에 기재되지 않은 사항은, 폴리에스테르 필름층 (A) 가 단층으로 이루어지는 경우에 대해 상기 사항이 그대로 혹은 당업자에게 자명한 변경을 추가하여, 이 경우에도 적용되는 것으로 이해하면 된다.
적층 폴리에스테르 필름층을 구성하는 복수층, 바람직하게는 적어도 3층의 폴리에스테르 필름층은, 모든 층이 구금으로부터 용융압출되는 공압출법에 의해 압출된 것을 연신 후, 필요에 따라 열고정한 것이다. 이하에서는 적층 폴리에스테르 필름으로서 3층 구조의 필름에 대해 설명하는데, 그 목적을 충족시키는 한, 3층의 폴리에스테르 필름에 한정되는 것은 아니고, 2층 혹은 3층 이상의 다층이어도 된다. 복수층으로 함으로써, 투명성과 내스크래치성을 양립시키는 것이 용이해진다.
적층 폴리에스테르 필름 (A) 에 있어서, 최외층이란 구금으로부터 압출된 직후의 노출되는 2면을 구성하는 층으로, 그 이외의 층을 내층 (중간층) 이라고 한다. 내층과 최외층을 구성하는 방향족 폴리에스테르의 고유점도 IV (오르소클로로페놀, 35℃) 는 바람직하게는 0.45∼0.80, 보다 바람직하게는 0.50∼0.75, 더욱 바람직하게는 0.55∼0.70 이다. IV값이 0.45 미만에서는, 필름으로 했을 때 의 폴리에스테르 필름이 갖는, 우수한 특징인 내열성, 기계적 강도 등이 떨어지는 경향이 있다. 또 IV값이 0.80을 초과하면, 폴리에스테르 필름 제조시의 압출공정에서의 부하가 너무 커지는 경향이 있어, 생산성이 저하될 우려가 있다.
적층 폴리에스테르 필름 (A) 의 두께는, 바람직하게는 50㎛ 이상 200㎛ 이하, 보다 바람직하게는 75㎛ 이상 175㎛ 이하이다. 이 두께가 50㎛ 미만에서는 탄성이 약하고, 가공시에 평면성이 저해되거나, 흠집이 생기기 쉽다. 한편 두께가 200㎛ 를 초과하면, 탄성이 너무 강해 가공작업성이 나쁘고, 또 투명성이 저하되어 바람직하지 않다. 적층필름의 최외층 두께는 편측만의 두께로, 바람직하게는 0.5∼30㎛, 보다 바람직하게는 1∼20㎛ 이다. 이와 같은 두께가 0.5㎛ 미만에서는, 내층에 첨가되어 있는 자외선흡수제가 투과되어 석출되기 숴워지고, 생산라인을 오염시키기 숴어져 바람직하지 않다. 또 이와 같은 두께가 30㎛ 보다 두꺼우면, 필름의 권취성, 내스크래치성 향상을 위해, 바람직하게는 최외층 필름 중에 첨가되어 있는 필러 입자에 기인하는 헤이즈값이 높아져, 필름의 투명성이 악화되는 경향이 있다. 내층 중의 자외선흡수제를 함유하는 적어도 1층의 두께는, 바람직하게는 30㎛∼190㎛, 보다 바람직하게는 20㎛∼170㎛ 이다. 20㎛ 에 미달이면 자외선흡수성능이 떨어지고, 190㎛ 를 초과하면 자외선흡수제의 영향으로 투명성이 저하되어 바람직하지 않다.
적층 폴리에스테르 필름 (A) 는 중심선 표면조도 (Ra) 가 3∼30㎚ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5∼20㎚ 이다. Ra 가 3㎚ 미만이면 필름 표면의 마찰계수가 높아져, 핸들링성, 내스크래치성이 떨어져 바람직하지 않다. 한 편 Ra 가 30㎚ 을 초과하면, 필름 표면이 거칠어지고, 표면반사가 커져, 전광선투과율이 감소되게 되어 바람직하지 않다.
조도를 이 범위로 하는 방법으로는, 적층 폴리에스테르 필름의 최외층에 미세한 불활성 입자를 첨가하는 방법이 바람직하게 사용된다. 최외층에 첨가하는 불활성 입자로서는, 평균입경이 0.01∼2.0㎛의 범위인 것이 바람직하고, 나아가서는 0.1∼1.0㎛ 인 것이 바람직하다. 또한 최외층 중의 입자의 첨가량은 0.003∼0.5 중량%, 나아가서는 0.005∼0.1 중량%의 범위가 바람직하다.
적층 폴리에스테르 필름 내층의 불활성 입자의 함유량은, 최외층보다 적은 것이 바람직하나, 투명성 면에서는 0.1 중량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 불활성 입자의 종류는 최외층에 함유되는 입자와 동일하거나 다른 것이어도 되고, 또 1종의 것이어도 2종류 이상의 것이어도 된다. 평균입경은 2.0㎛ 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 1.0㎛ 이하인 것이 바람직하다. 평균입경이 2.0㎛ 를 초과하면 투명성이 저해될 우려가 있다.
적층 폴리에스테르 필름은 어느 층에서나 불활성 입자 이외에도 착색제, 대전방지제, 산화방지제, 윤활제, 촉매, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌-폴리머, 올레핀계 아이오노머와 같은 다른 수지 등도 투명성을 저해하지 않는 범위에서 임의로 함유시킬 수 있다.
적층 폴리에스테르 필름은, 연속 막형성 방향 (길이방향) 및 연속 막형성 방향과 수직인 방향 (폭방향) 의 어느 방향에서도 150℃ 에서의 열수축율이 모두 2.0% 이하인 것이 필요하고, 바람직하게는 1.5% 이하이다. 150℃ 에서의 길이 방향의 열수축율이 2.0% 를 초과하면, 하드코팅 처리공정의 하드코팅제의 건조시, 필름과 하드코팅층의 수축특성이 다른 결과로서, 하드코팅층과의 밀착성이 저하된다. 또 가공시의 가열을 수반하는 프로세스를 통과했을 때에, 주름, 컬의 발생, 평면성의 흐트러짐 등이 발생하기 때문에 바람직하지 않다. 폴리에스테르 필름의 열수축율을 조정하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지된 방법을 사용할 수 있으나, 예를 들어 일본 공개특허공보 소57-57628호에 나타나 있는 바와 같은, 열처리공정에서 수축시키는 방법이나, 일본 공개특허공보 평1-275031호에 나타나는 바와 같은, 필름을 현수상태에서 이완처리하는 방법 등을 예시할 수 있다.
적층 폴리에스테르 필름은 바람직하게는 헤이즈가 3% 이하이고, 보다 바람직하게는 2% 이하이다. 이 헤이즈가 3% 이상을 초과하면, 각종 디스플레이 용도에서 시인성을 저해하는 등 광학용도로서 적합하지 않은 경우가 있다. 또 전광선투과율은 80% 이상인 것이 바람직하고, 80% 미만이면 화면의 선명도가 저하되므로 바람직하지 않다.
또한 적층 폴리에스테르 필름은 두께방향의 굴절율이 바람직하게는 1.490 이상 1.505 이하이고, 보다 바람직하게는 1.493 이상 1.502 이하이다. 이 굴절율이 1.490 미만이면 적층 박리를 일으키기 쉬워져, 광학용 필름으로 사용했을 때 하드코팅층과의 접착성이 부족하기 쉬워진다. 한편 굴절율이 1.505 를 초과하면, 투명성이 저해되기 쉬워진다. 또 평면성이 나빠지고, 평탄성이 나빠지기 때문에 바람직하지 않다. 또 길이방향의 굴절율은 1.620∼1.680인 것이 바람직하고, 나아가서는 1.630∼1.670 인 것이 바람직하다. 또 폭방향의 굴절율은 1.640∼1.700 인 것이 바람직하고, 나아가서는 1.650∼1.690 인 것이 바람직하다. 이 범위 이외이면 두께방향의 굴절율을 범위 내로 제어하기 곤란해진다.
적층 폴리에스테르 필름 (A) 는 적어도 중간층 혹은 내층에 자외선흡수제를 함유하는 것이 바람직하다.
최외층에 자외선흡수제를 첨가하면, 첨가한 자외선흡수제가 필름 표면으로 용출되는 현상 (블리드 아웃), 및 이것이 승화되는 현상이 발생하기 쉽고, 이에 의해 필름막 형성기가 오염되기 쉽거나, 필름 표층의 용출물이 가공공정에서 악영향을 주기 때문에 바람직하지 않다.
상기 자외선흡수제의 내층으로의 첨가량은 0.1∼5 중량%가 바람직하고, 나아가서는 0.2∼3 중량%가 바람직하다. 이 양이 0.1% 미만에서는 자외선 열화방지효과가 작고, 한편 5 중량% 를 초과하면 내층을 덮는 외층을 통과하여 필름 표면에 극미량이 석출되는, 소위 블리드 아웃 현상이 발생되기 쉬워지기 때문에 바람직하지 않다.
적층 폴리에스테르 필름은, 종래부터 알려져 있는 축차 이축연신법, 동시 이축연신법, 인플레이션법 등에 의해 제조할 수 있다. 축차 이축연신법이나 동시 이축연신법에 있어서는, 먼저, 소정 조성의 폴리에스테르 칩을 충분히 건조시킨 후, 복수대의 압출기, 복수층의 멀티 매니폴드 다이 또는 피드블록을 사용하고, 각각의 폴리에스테르 필름을 적층하여 구금으로부터 복수층의 용융시트를 압출하고, 미리 20∼40℃ 정도로 설정된 캐스팅 드럼 상에서 급냉고화시켜 미연신 필름을 얻는다. 얻어지는 미연신 필름의 두께는 0.5㎜ 이상인 것이 바람직하다. 미 연신 필름은, 그 후, 일반적으로 잘 알려진 조건으로 이축방향으로 연신하는데, 열수축율과 굴절율을 원하는 범위로 하기 위해, 필름의 연속 막형성 방향 (세로방향) 으로 3.0∼4.5배, 이것과 직각방향 (가로방향) 으로 3.0∼4.5배, 면적배율로 9∼20배로 연신하는 것이 바람직하다. 연신온도는 90℃∼140℃가 바람직하다. 또 이축연신 후 필요에 따라 열고정을 실행할 수 있다. 열고정온도는 180∼250℃ 가 바람직하고, 210∼240℃ 가 보다 바람직하다.
적층 폴리에스테르 필름 (A) 를 구비한 본 발명의 필름은, 370㎚ 에서의 광선투과율이, 바람직하게는 3% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하이다. 3% 를 초과하는 경우는 자외선에 대한 내후성이 부족하고, 예를 들어 플라스마 디스플레이 전면판 필터로 사용한 경우에 적외선 흡수제층의 열화가 일어난다.
본 발명의 광학용 접착성 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르 필름층 (A) 가 단층일 때, 피막 (B) 의 중심선 표면조도 (Ra) 가 1∼10㎚ 범위에 있는 것이 바람직하고, 또 폴리에스테르 필름층 (A) 가 적층된 복수층으로 이루어질 때, 피막 (B) 의 중심선 표면조도 (Ra) 는 3∼30㎚ 범위에 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 광학용 접착성 폴리에스테르 필름은, 상기와 같은 각종 특성을 살려, 플라스마 디스플레이의 전면에 배치하여 외부로부터의 자외선을 차단하기 때문에, 즉 플라스마 디스플레이의 전면에 배치된 근적외선 흡수제 함유층의 상기 근적외선 흡수제가 외부로부터의 자외선에 의해 열화되는 것을 방지하기 위해, 플라스마 디스플레이의 전면에 또한 근적외선 흡수제 함유층의 외측에 배치하여 외부로부터의 자외선을 차단하는 데에 바람직하게 사용된다.
이하 실시예에 의해 본 발명을 추가로 설명한다. 또한 각 특성값은 이하의 방법으로 측정하였다.
(1) 헤이즈값
닛뽕덴쇼쿠공업사 제조의 헤이즈 측정기 (NDH-20) 를 사용하여 필름의 헤이즈값을 측정하였다. 또한 필름의 헤이즈값을 하기의 기준으로 평가하였다.
◎ : 헤이즈값 ≤1.5% …필름의 헤이즈 매우 양호
○ : 1.5%〈헤이즈값≤3.0% …필름의 헤이즈 양호
× : 3.0%〈헤이즈값 …필름의 헤이즈 불량
(2) 필름 제조시의 스크래치 흠집 내성
제조 직후의 필름에서 면적 4㎡ 범위에서 도포층 스크래치 흠집의 유무를 형광등 및 할로겐광의 반사광을 이용하여 육안으로 관찰하고, 있었던 경우는 그 장소를 매직으로 표시하여, 그 스크래치 흠집을 키엔스사 제조의 레이저 광학현미경 (VF-750) 으로 길이, 폭 및 깊이를 측정한다. 길이 1㎜ 이상, 폭 0.5㎜ 이상, 깊이 0.5㎛ 이상의 스크래치 흠집 개수를 구한다.
◎ : 길이 1㎜ 이상, 폭 0.5㎜ 이상, 깊이 0.2㎛ 이상의 스크래치 흠집 전혀 없음 … 매우 양호
○ : 길이 1㎜ 이상, 폭 0.5㎜ 이상, 깊이 0.5㎛ 이상의 스크래치 흠집 전혀 없음 … 양호
× : 길이 1㎜ 이상, 폭 0.5㎜ 이상, 깊이 0.5㎛ 이상의 스크래치 흠집이 1 개 이상 존재 … 불량
(3) 접착성
ㆍ하드코팅
접착성 폴리에스테르 필름의 도막형성면에 두께 10㎛ 의 하드코팅층을 형성하여 바둑판눈금의 크로스커트 (1㎟의 매스 눈금을 100개) 하여, 그 위에 24㎜ 폭의 셀로판테이프 (니치반사 제조) 를 붙여, 180°의 박리각도로 세게 떼어낸 후, 박리면을 관찰하여 하기 기준으로 평가하였다.
5 : 박리면적이 10% 미만 … 접착력 매우 양호
4 : 박리면적이 10% 이상 20% 미만 …접착력 양호
3 : 박리면적이 20% 이상 30% 미만 : 접착력 약간 양호
2 : 빅리면적이 30% 이상 40% 미만 … 접착력 불량
1 : 박리면적이 40% 를 초과하는 것 …접착력 매우 불량
ㆍ점착제 (PSA)
접착성 폴리에스테르 필름의 도막형성면에 두께 20㎛ 의 점착제 (PSA) 층을 형성하여 플로트 유리에 점착제층 면을 접착하고, 23℃, 65% RH 의 분위기하에서 1일 경과시킨 후, 90°의 박리각도로 박리하여, 유리 표면에 점착제 (PSA) 의 잔류상태를 관찰하고, 하기 기준으로 평가하였다.
5 : 점착제 (PSA) 잔류면적이 10% 미만 … 접착력 매우 양호
4 : 점착제 (PSA) 잔류면적이 10% 이상 20% 미만 …접착력 양호
3 : 점착제 (PSA) 잔류면적이 20% 이상 30% 미만 …접착력 약간 양호
2 : 점착제 (PSA) 잔류면적이 30% 이상 40% 미만 …접착력 불량
1 : 점착제 (PSA) 잔류면적이 40% 를 초과하는 것 …접착력 매우 불량
(4) 내블록킹성
2장의 필름을 도막형성면과 비형성면이 접하도록 중첩하고, 이것에 60℃, 80% RH 의 분위기하에서 17시간에 걸쳐 0.6㎏/㎠의 압력을 가하고, 그 후 박리하여 그 박리력에 의해 내블록킹성을 하기 기준으로 평가하였다.
◎ : 박리력〈98mN/5㎝ …내블록킹성 매우 양호
○ : 98mN/5㎝≤박리력〈147mN/5㎝ …내블록킹성 양호
△ : 147mN/5㎝≤박리력〈196mN/5㎝ …내블록킹성 약간 양호
× : 196mN/5㎝≤박리력 …내블록킹성 불량
(5) 이차전이점 (Tg)
듀뽕 제조 Thermal Analyst 2000형 시차열량계로 20℃/min 의 승화속도로 측정한다.
(6) 고유점도
오르소클로로페놀 용매에 의한 용액의 점도를 35℃에서 측정하여 구한다.
(7) 내후성
이접착 평가와 마찬가지로, 접착성 폴리에스테르 필름의 도막형성면에 두께 10㎛ 의 하드코팅층을 형성한다. 이 샘플을 션샤인 웨더 미터 (스가시험기(주) 제조, WEL-SUN-HCL형) 를 사용하여, JIS-K-6783b 에 준하여, 1000시간 (옥외 노출 1년간에 상당) 조사함으로써 옥외 노출 촉진시험을 실행한다. 처리 후, 닛뽕덴 쇼쿠공업사 제조의 헤이즈 측정기 (NDH-20) 를 사용하여 필름의 헤이즈값을 측정하였다. 또한 필름의 헤이즈를 하기 기준으로 평가하였다.
◎ : 헤이즈값≤2.0% …필름의 헤이즈 매우 양호
○ : 2.0%〈헤이즈값≤3.5% …필름의 헤이즈 양호
× : 3.5%〈헤이즈값 …필름의 헤이즈 불량
(8) 마찰계수 (㎲)
ASTM D1894-63 에 준하여, 토요테스터사 제조의 슬리퍼리 측정기를 사용하여, 도막 형성면과 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (도막 비형성면) 의 정마찰계수 (㎲) 를 측정하였다. 단, 슬레드판은 유리판으로 하고, 하중은 1㎏ 으로 하였다. 또한 필름의 슬라이딩성을 하기 기준으로 평가하였다.
◎ : 마찰계수(㎲)≤0.5 …슬라이딩성 매우 양호
○ : 0.5〈마찰계수(㎲)≤0.8 …슬라이딩성 양호
× : 0.8〈마찰계수(㎲) …슬라이딩성 불량
(9) 표면 고유저항값
타케다리켄사 제조ㆍ고유저항 측정기를 사용하여, 측정온도 23℃, 측정습도 60% 의 조건으로 인가전압 500V 에서 1분 후의 표면 고유저항값 (Ω/□) 을 측정한다,
(10) 내열성
필름을 120℃*60분 열처리하여, 상기 (1) 과 동일하게 필름의 헤이즈값을 측정하였다. 또한 필름의 헤이즈를 하기 기준에서 평가하였다.
◎ : 헤이즈값≤2.0% …필름의 내열성 매우 양호
○ : 2.0%〈헤이즈값≤3.5% …필름의 내열성 양호
× : 3.5%〈헤이즈값 …필름의 내열성 불량
(11) 입자의 입경
시료 필름의 조각을 주사형 전자현미경용 시료대에 고정하고, 스퍼터링 장치 (닛뽕덴시(주) 제조의 상품명 「JIS-1100형 이온스퍼터링 장치」) 를 사용하여 필름 표면을 이온에칭처리하고, 고분해능 전계방출형 주사형 전자현미경으로 1∼3만배로 관측하여, 니레코(주) 제조의 루젝스 FS 로, 50개 입자의 면적상당 입경을 구하고, 수평균값을 평균직경으로 하였다.
(12) 굴절율
아베굴절계를 사용하여 나트륨D선 (589㎚) 을 광원으로 하여 필름의 굴절율을 구하였다.
(13) 열수축율
온도 150℃ 로 설정된 항온실 중에 미리 정확한 길이를 측정한 길이 약 30㎝, 폭 1㎝ 의 필름을 무하중으로 넣고, 30분간 유지 처리한 후 취출하여, 실온으로 되돌린 후 그 치수 변화를 확인한다. 열처리 전의 길이 (L0) 와 열처리에 의한 치수변화량 (ΔL) 으로부터
열수축율 (%)=(ΔL/L0)×100
의 계산식으로 열수축율을 구한다.
(14) 표면조도 (Ra)
삼차원 조도계 (코자까연구소 제조의 상품명 「SE-3CK」)를 사용하여, 바늘직경 2㎛R, 바늘압 30㎎, 측정길이 1㎜, 샘플링 피치 2㎛, 커트오프 0.25㎜, 세로방향 확대율 2만배, 가로방향 확대율 200배, 주사 개수 100개의 조건에서 측정하고, Ra 를 측정한다. 양면에 피막층을 형성한 경우는, 양면을 측정하여 평균값을 구하였다.
(15) 370㎚ 광선투과율
더블빔형 분광광도계 (시마즈제작소(주) 제조의 상품명 「UV-3101PC」) 에 의해, 슬릿폭; 20㎚, 스캔 속도 : 중간속도, 샘플링 피치; 1㎚ 의 조건에서, 파장 300∼500㎚ 영역의 광선투과율을 연속적으로 측정하고, 370㎚ 파장에서의 광선투과율을 검출하여, 이하의 기준에서 평가하였다.
○ : 3% 미만
△ : 3% 이상, 5% 미만
× : 5% 이상
(16) 필름의 적층 두께
필름 조각을 에폭시수지로 고정 성형한 후, 미크로톰으로 절단하여, 필름의 단면을 투과전자현미경 (닛뽕덴시(주) 제조의 상품명 「JEM2010」) 으로 사진 촬영하였다. 그 단면 중 필름 표면과 거의 평행하게 2개, 명암에 의해 계면이 관찰된다. 그 2개의 계면과 필름 표면까지의 거리를 10장의 사진으로부터 측정하여, 평균값을 적층 두께로 하였다.
(17) 내스크래치성
광학용 접착성 필름을 폭 100㎜로 슬릿한 것을 필름 주행성 시험기를 사용하여, 직경 100㎜, 회전저항 1㎏ 의 하드 크롬 도금 처리된 프리롤 (표면조도:Ra로 100㎚) 상을 주행시킨다. 이 때의 주행조건은, 주행속도 : 10m/min, 권취각 : 90°, 주행장력 : 20㎏ 으로 하였다. 이 처리에 의해 필름표면에 넣은 흠집을, 백금증착 후, 현미경으로 관찰하고, 폭 2㎛ 이상에서 또한 길이 300㎛ 이상인 흠집의 0.4㎡당 개수를 세어 하기 기준으로 평가하였다.
○ : 10개 미만
△ : 10개 이상 20개 미만
× : 20개 이상
(18) 마찰계수 (㎲)
중첩한 2장의 필름의 하측에 고정한 유리판을 놓고, 중첩한 필름의 하측 (유리판과 접해 있는 필름) 의 필름을 저속 롤로 인취하고 (약 10㎝/min), 상측의 필름의 일단 (하측 필름의 인취방향과 역단) 에 검출기를 고정하여 필름/필름 간의 스타트시의 인장력을 검출한다. 또한 이 때에 사용하는 슬레드는 무게 1.5㎏, 하측면적 75㎠ 의 것을 사용한다.
또한 마찰계수 (㎲) 는 다음 식으로 구한다.
㎲ = 스타트시의 인장력 (㎏)/하중 1㎏
평가는 하기의 기준으로 실행한다.
○ : 0.4 미만
△ : 0.4 이상 0.6 미만
× : 0.6 이상
(19) 접착성 (α법)
적층 폴리에스테르 필름의 피막 형성면에 하드코팅제 (다이니찌세이카사 제조의 상품명 「세이카빔EXF01(B)」) 를 #8 와이어바에 의해 도포하고, 70℃ 에서 1분간 건조시켜 용제를 제거한 후, 고압수은등으로 200mJ/㎠, 조사거리 15㎝, 주행속도 5m/min 의 조건하에서, 두께 5㎛ 의 하드코팅층을 형성하였다. 얻어진 필름을 JIS-K5400 의 8. 5. 1 의 기재에 준한 시험방법으로 접착성을 구하였다. 구체적으로는 피막층을 관통하여 기재 필름에 도달하는 100개의 바둑판눈금 형상의 칼자국을, 간극 간격 1㎜의 커터 가이드를 사용하여 만들었다. 이어서 셀로판 점착 테이프 (니찌반사 제조 405번; 24㎜ 폭) 를 바둑판눈금 형상의 칼자국 면에 부착하고, 지우개로 문질러 완전히 부착시킨 후, 180°의 박리각도에서 세게 떼어낸 후, 박리면을 관찰하고, 하기의 기준으로 평가하였다.
○ : 박리면적이 30% 미만
△ : 박리면적이 30% 이상 50% 미만
× : 박리면적이 50% 를 초과하는 것.
(20) 접착성 (β법)
하드코팅층 형성 후, 50℃, 90% RH 의 환경하에 5일간 보존한 후에 셀로테이프에 의한 급속박리 테스트를 실행한 것 이외에는, 접착성 (α법) 과 동일한 방법으로 평가하였다.
(21) 내후성-1
디이모늄계 근적외선 흡수제 (닛뽕카야꾸(주) 제조의 상품명 「IRG-022」) 0.1 중량부를, 폴리에스테르 바인더 「바이론20SS」(토요보우(주) 제조) 50 중량부에 첨가하고, 톨루엔 15 중량부, 메틸에틸케톤 35 중량부로 희석한 것을 적층 폴리에스테르 필름에 코팅하고 건조시켜, 두께 3㎛ 의 근적외선 흡수층을 형성하였다. 이어서 이 샘플을 션샤인 웨더 미터 (스가시험기(주) 제조의 상품명 「WEL-SUN-HCL형」) 를 사용하여, JIS 규격-K-6783 의 6.8 면에 준하고, 단 조사시간은 200 시간으로 변경하여 조사한 후, 이 샘플을 가정용 텔레비젼의 리모트 컨트롤 수광부에 설치하고, 2m 떨어진 위치에서 리모트 컨트롤러로 리모트 컨트롤 신호 (신호파장 950㎚ 및 850㎚) 를 보내 가정용 텔레비젼이 반응하는지를 테스트하였다. PDP 디스플레이로부터 발하는 근적외선은, 리모트 컨트롤러로부터 발하는 근적외선보다 약하므로, 이 테스트에서 반응하지 않으면 리모트 컨트롤 장해의 발생을 방지할 수 있다. 리모트 컨트롤러에 의해 반응하지 않은 것을 「○」, 반응한 것을 「×」로 하였다.
(22) 내후성-2
접착성 평가와 마찬가지로, 적층 폴리에스테르 필름에 두께 5㎛ 의 하드코팅층을 형성한다. 이 샘플을 션샤인 웨더 미터 (스가시험기(주) 제조, WEL-SUN-HCL형) 를 사용하고, JIS-K-6783b 에 준하여, 1000시간 (옥외 노출 1년간에 상당) 조사함으로써 옥외 노출 촉진시험을 실행한다. 처리 후, 닛뽕덴쇼쿠공업사 제조의 헤이즈 측정기 (NDH-2000) 를 사용하여 필름의 헤이즈값을 측정하고, 처리 전후의 차를 구하여, 하기의 기준으로 평가하였다.
○ : 1.0% 미만
△ : 1.0% 이상, 2.0% 미만
× : 2.0% 이상
실시예 1∼4 및 비교예 1∼6
하기 화학식 (A) 에 나타낸 자외선흡수제를 1 중량% 함유하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 (고유점도 : 0.62) 를 20℃ 로 유지한 회전냉각드럼 상에 용융압출하여 미연신필름으로 하였다.
Figure 112003029289210-pct00017
이어서 세로방향으로 3.4배로 연신한 후, 그 양면에 하기 도막용 조성물 (표 1) 의 농도 8% 의 수성 도액을 롤코터로 균일하게 도포하였다.
폴리에스테르 가교제 필러 첨가제 습윤제
종류 중량% 종류 중량% 종류 중량% 중량% 중량%
실시예1 A-1 70 B-1 20 C-1 3 2 5
비교예1 A-1 45 B-1 45 C-1 3 2 5
실시예2 A-2 70 B-2 5 C-2 18 2 5
비교예2 A-2 96 B-2 0.5 C-2 0.5 - 3
실시예3 A-1 70 B-3 15 C-2 8 2 5
실시예4 A-1 55 B-4 35 C-2 3 2 5
비교예3 A-3 70 B-1 20 C-1 3 2 5
비교예4 A-4 70 B-1 20 C-1 3 2 5
비교예5 A-2 70 B-2 8 C-3 15 2 5
비교예6 A-1 70 B-1 20 C-4 3 2 5
폴리에스테르 A-1 : 산성분이 2,6-나프탈렌디카르복실산 65몰%/이소프탈산 30몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 90몰%/디에틸렌글리콜 10몰% 로 구성되어 있다 (Tg=80℃).
폴리에스테르 A-2 : 산성분이 테레프탈산 80몰%/이소프탈산 15몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 60몰%/디에틸렌글리콜 40몰%로 구성되어 있다 (Tg=43℃).
폴리에스테르 A-3 : 산성분이 테레프탈산 80몰%/이소프탈산 15몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 5몰%/1,4-부탄디올 90몰%로 구성되어 있다 (Tg=25℃).
폴리에스테르 A-4 : 산성분이 2,6-나프탈렌디카르복실산 85몰%/이소프탈산 10몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 90몰%/디에틸렌글리콜 10몰% 로 구성되어 있다 (Tg=105℃).
가교제 B-1 : 메틸렌메타크릴레이트 30몰%/2-이소프로페닐-2-옥사졸린 30몰%/폴리에틸렌옥시드 (n=10) 메타크릴레이트 10몰%/아크릴아미드 30몰%로 구성되어 있는 옥시졸린기를 갖는 중합체 (Tg=50℃).
가교제 B-2 : 에폭시계 수지; N,N,N',N'-테트라글리시딜메타자일리렌아민
가교제 B-3 : 멜라민계 수지; 트리메톡시메틸멜라민 (트리메틸올멜라민을 메탄올로 에테르화한 것)
가교제 B-4 : 디메틸올에틸렌요소
필러 C-1 : 가교아크릴필러 (100㎚)
필러 C-2 : 실리카필러 (20㎚)
필러 C-3 : 가교아크릴필러 (15㎚)
필러 C-4 : 가교아크릴필러 (250㎚)
첨가제 : 카르나바왁스
습윤제 : 폴리옥시에틸렌 (n=7) 라우릴에테르
이어서 이 도포 필름을 계속해서 95℃ 에서 건조시키고, 가로방향으로 120℃ 에서 3.7 배로 연신하고, 220℃ 에서 폭방향으로 3% 수축시켜 열고정하고, 두께 188㎛ 의 적층 필름을 얻었다. 또한 도막의 두께는 0.15㎛ 이었다. 이들 평가결과를 표 2 에 나타낸다.
비교예 7
수성액을 도포하지 않은 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 실행하였다. 얻어진 이축배향 폴리에스테르 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다.
실시예 5, 6 및 비교예 8
폴리에스테르에 함유시키는 자외선흡수제와 그 배합비율을, 실시예 5 에서는 하기 화학식 (B) 의 자외선흡수제를 1 중량% 함유, 실시예 6 에서는 하기 화학식 (C) 의 자외선흡수제를 1 중량% 함유로 변경하고, 비교예 8 에서는 자외선흡수제를 함유하지 않은 폴리에스테르를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 적층필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다.
Figure 112003029289210-pct00018
Figure 112003029289210-pct00019
헤이즈 스크래치 흠집 내성 접착성 내블록킹성 내후성 종합평가
α β
실시예1 ◎ ◎ 5 5 ◎ ◎ ◎
비교예1 ◎ × 5 5 ◎ ◎ ×
실시예2 ○ ○ 5 4 ○ ○ ○
비교예2 ◎ × 4 3 ○ ◎ ×
실시예3 ○ ◎ 4 4 ◎ ○ ○
실시예4 ◎ ○ 4 4 ◎ ◎ ○
비교예3 ◎ ○ 5 5 × ◎ ×
비교예4 ◎ × 5 4 ◎ ◎ ×
비교예5 ○ × 5 5 ○ ○ ×
비교예6 × ◎ 5 5 ◎ × ×
비교예7 ◎ ○ 1 1 - - ×
실시예5 ◎ ◎ 5 5 ◎ ◎ ◎
실시예6 ◎ ◎ 5 5 ◎ ◎ ◎
비교예8 ◎ ◎ 5 5 ◎ × ×
표 2 에 나타낸 결과로부터 명확한 바와 같이, 본 발명의 광학용 접착성 적층 필름은 내후성이 우수하고, 또한 접착성, 투명성, 스크래치 흠집 내성이 우수하여, 광학용 접착성 기재 필름으로서 유용하다.
실시예 7∼11 및 비교예 9∼18
상기 화학식 (A) 에 나타낸 자외선흡수제를 1 중량% 함유하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 (고유점도 : 0.62) 를 20℃ 로 유지한 회전냉각드럼 상에 용융압출하여 미연신 필름으로 하였다.
이어서 세로방향으로 3.4배로 연신한 후, 그 양면에 하기 도막용 조성물 (표 3) 의 농도 8% 의 수성 도액을 롤코터로 균일하게 도포하였다.
폴리에스테르 필러 첨가제D 중량% 첨가제E 중량% 습윤제 중량%
종류 중량% 종류 중량%
실시예7 A-5 75 C-1 10 3 2 10
실시예8 A-5 65 C-1 15 8 2 10
비교예9 A-5 55 C-1 20 5 5 15
실시예9 A-6 80 C-2 5 3 2 10
비교예10 A-6 92 C-2 3 - - 5
실시예10 A-7 70 C-3 15 3 2 10
실시예11 A-6 75 C-1 10 3 2 10
비교예11 A-8 75 C-1 10 3 2 10
비교예12 A-9 75 C-1 10 3 2 10
비교예13 A-6 65 C-4 20 3 2 10
비교예14 A-5 85 C-5 2 3 - 10
비교예15 A-5 65 C-3 25 3 2 5
비교예16 A-5 82 C-2 0.5 5.5 2 10
비교예17 A-10 75 C-1 10 3 2 10
비교예18 A-11 75 C-1 10 3 2 10
ㆍ폴리에스테르 A-5 : 산성분이 2,6-나프탈렌디카르복실산 80몰%/이소프탈산 15몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 80몰%/디에틸렌글리콜 20몰%로 구성되어 있다 (Tg=88℃, 고유점도 0.45, 굴절율 1.58).
ㆍ폴리에스테르 A-6 : 산성분이 테레프탈산 90몰%/이소프탈산 6몰%/5-나트륨술포이소프탈산 4몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 70몰%/디에틸렌글리콜 30몰%로 구성되어 있다 (Tg=58℃, 고유점도 0.55, 굴절율 1.56).
ㆍ폴리에스테르 A-7 : 산성분이 테레프탈산 70몰%/이소프탈산 25몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 60몰%/디에틸렌글리콜 40몰%로 구성되어 있다 (Tg=44℃, 고유점도 0.62, 굴절율 1.55).
ㆍ폴리에스테르 A-8 : 산성분이 2,6-나프탈렌디카르복실산 90몰%/이소프탈산 2몰%/5-나트륨술포이소프탈산 8몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 90몰%/디에틸렌글리콜 10몰%로 구성되어 있다 (Tg=103℃, 고유점도 0.48, 굴절율 1.59).
ㆍ폴리에스테르 A-9 : 산성분이 테레프탈산 70몰%/이소프탈산 20몰%/5-나트륨술포이소프탈산 10몰%, 글리콜성분이 1,4-부탄디올 70몰%/네오펜틸글리콜 30몰%로 구성되어 있다 (Tg=38℃, 고유점도 0.43, 굴절율 1.55).
ㆍ폴리에스테르 A-10 : 산성분이 2,6-나프탈렌디카르복실산 70몰%/이소프탈산 25몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 70몰%/디에틸렌글리콜 30몰%로 구성되어 있다 (Tg=75℃, 고유점도 0.38, 굴절율 1.57).
ㆍ폴리에스테르 A-11 : 산성분이 테레프탈산 75몰%/이소프탈산 23몰%/5-나트륨술포이소프탈산 2몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 60몰%/디에틸렌글리콜 40몰%로 구성되어 있다 (Tg=45℃, 고유점도 0.72, 굴절율 1.55).
ㆍ필러 C-1 : 가교 아크릴필러 (평균입경 : 0.03㎛, 굴절율 1.50)
ㆍ필러 C-2 : 실리카 및 티타니아의 복합무기입자 (평균입경 : 0.10㎛, 굴절율 1.56)
ㆍ필러 C-3 : 실리카 필러 (평균입경 : 0.04㎛, 굴절율 1.42)
ㆍ필러 C-4 : 가교 아크릴필러 (평균입경 : 0.015㎛, 굴절율 1.50)
ㆍ필러 C-5 : 가교 아크릴필러 (평균입경 : 0.25㎛, 굴절율 1.50)
ㆍ가교제 D : N,N'-에틸렌비스카프릴아미드
ㆍ가교제 E : p-도데실벤젠술폰산나트륨
ㆍ습윤제 : 폴리옥시에틸렌 (n=7) 라우릴에테르
이어서 이 도포 필름을 계속해서 95℃ 에서 건조시키고, 가로방향으로 120℃ 에서 3.7배로 연신하고, 220℃ 에서 폭방향으로 3% 수축시켜 열고정하여, 두께 125㎛ 의 접착성 필름을 얻었다. 또한 도막의 두께는 0.08㎛ 이었다.
이들 평가결과를 표 4 에 나타낸다.
비교예 19
수성액을 도포하지 않은 것 이외에는, 실시예 7 과 동일하게 실행하였다. 얻어진 이축 배향 폴리에스테르 필름의 특성을 표 4 에 나타낸다.
실시예 12, 13 및 비교예 20
폴리에스테르에 함유시키는 자외선흡수제를 하기와 같이 변경하는 것 이외에는, 실시예 7 과 동일하게 하여 이축연신 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 12 … 상기 화학식 (B) 의 자외선흡수제를 1 중량% 함유
실시예 13 … 상기 화학식 (C) 의 자외선흡수제를 1 중량% 함유
비교예 20 : 자외선흡수제를 함유하지 않은 폴리에스테르를 사용
얻어진 이축배향 폴리에스테르 필름의 특성을 표 4 에 나타낸다.
헤이즈 하드코팅 접착성 (α) 내블록킹성 내열성 내후성 표면 고유저항값Ω/□ 종합평가
실시예7 ◎ 5 ◎ ◎ ◎ 6.6*1012 ◎
실시예8 ◎ 4 ◎ ◎ ◎ 1.2*1013 ◎
비교예9 ○ 2 ◎ ○ ○ 3.1*1011 ×
실시예9 ◎ 5 ◎ ◎ ◎ 7.3*1012 ◎
비교예10 ◎ 5 × ◎ ◎ 2.3*1016 ×
실시예10 ○ 5 ○ ○ ○ 7.7*1012 ○
실시예11 ◎ 5 ○ ◎ ◎ 6.7*1012 ○
비교예11 × 5 ◎ - - 9.2*1012 ×
비교예12 ◎ 5 × ○ ◎ 1.1*1013 ×
비교에13 ○ 4 × ○ ○ 2.2*1013 ×
비교예14 × 5 ○ - - 2.2*1016 ×
비교예15 × 4 ◎ - - 3.3*1013 ×
비교예16 ◎ 5 × ◎ ◎ 8.5*1012 ×
비교예17 ◎ 5 ◎ × ○ 8.3*1012 ×
비교예18 × 5 ◎ - - 9.2*1012 ×
비교예19 ◎ 1 - - - 7.4*1015 ×
실시예12 ◎ 5 ◎ ◎ ◎ 6.2*1012 ◎
실시예13 ◎ 5 ◎ ◎ ◎ 8.7*1012 ◎
비교예20 ◎ 5 ◎ ◎ × 1.5*1013 ×
*표 중, - 표시는 평가하지 않은 것을 나타냄.
표 4 에 나타낸 결과로부터 명확한 바와 같이, 본 발명의 이축배향 폴리에스테르 필름은 내후성이 우수하고, 또한 접착성, 투명성, 스크래치 흠집 내성이 우수하여, 광학용 접착성 폴리에스테르 필름으로서 유용하다.
실시예 14∼22 및 비교예 21, 22
상기 화학식 (A) 에 나타낸 자외선흡수제를 1 중량% 함유하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 (고유점도 : 0.62) 를 20℃ 로 유지한 회전냉각드럼 상에 용융압출하여 미연신 필름으로 하였다.
이어서 세로방향으로 3.4배로 연신한 후, 그 양면에 표 5 에 기재된 도막용 조성물의 농도 4%의 수성 도액을 롤코터로 균일하게 도포하였다.
이어서 이 도포 필름을 계속해서 95℃ 에서 건조시키고, 가로방향으로 120℃ 에서 3.7배로 연신하고, 220℃ 에서 폭방향으로 3% 수축시켜 열고정하여, 두께 125㎛ 의 광학용 접착성 폴리에스테르 필름을 얻었다. 또한 도막의 두께는 0.04㎛ 이었다.
아크릴수지 가교제 필러 중량% 습윤제 중량%
종류 중량% 종류 중량%
비교예21 A-12 90 - - - 10
실시예14 A-13 90 - - - 10
실시예15 A-14 80 B-5 5 5 10
실시예16 A-15 75 B-5 10 5 10
실시예17 A-16 80 B-5 10 - 10
실시예18 A-17 80 B-5 10 - 10
실시예19 A-18 65 B-6 25 - 10
실시예20 A-16 80 B-3 10 - 10
실시예21 A-16 80 B-4 10 - 10
실시예22 A-19 87 B-5 3 - 10
비교예22 A-20 90 - - - 10
* 표 중, - 표시는 첨가하지 않은 것을 나타냄.
표 5 에서 각 성분은 이하와 같다.
<아크릴수지>
A-12 : 메틸메타크릴레이트 50몰%/에틸아크릴레이트 50몰%로 구성되어 있는 아크릴수지 (Tg=18℃)
A-13 : 메틸메타크릴레이트 55몰%/에틸아크릴레이트 43몰%/N-메틸올아크릴아미드 2몰%로 구성되어 있는 아크릴수지 (Tg=25℃)
A-14 : 메틸메타크릴레이트 55몰%/에틸아크릴레이트 40몰%/N-메틸올아크릴아미드 3몰%/2-히드록시에틸메타크릴레이트 2몰%로 구성되어 있는 아크릴수지 (Tg=27 ℃)
A-15 : 메틸메타크릴레이트 65몰%/에틸아크릴레이트 30몰%/N-메틸올아크릴아미드 3몰%/2-히드록시에틸메타크릴레이트 2몰%로 구성되어 있는 아크릴수지 (Tg=40℃)
A-16 : 메틸메타크릴레이트 70몰%/에틸아크릴레이트 25몰%/N-메틸올아크릴아미드 3몰%/2-히드록시에틸메타크릴레이트 2몰%로 구성되어 있는 아크릴수지 (Tg=47℃)
A-17 : 메틸메타크릴레이트 80몰%/에틸아크릴레이트 15몰%/N-메틸올아크릴아미드 3몰%/2-히드록시에틸메타크릴레이트 2몰%로 구성되어 있는 아크릴수지 (Tg=60℃)
A-18 : 메틸메타크릴레이트 63몰%/에틸아크릴레이트 25몰%/N-메틸올아크릴아미드 5몰%/2-히드록시에틸메타크릴레이트 7몰%로 구성되어 있는 아크릴수지 (Tg=42℃)
A-19 : 메틸메타크릴레이트 92몰%/에틸아크릴레이트 5몰%/N-메틸올아크릴아미드 3몰%로 구성되어 있는 아크릴수지 (Tg=74℃)
A-20 : 메틸메타크릴레이트 96몰%/에틸아크릴레이트 4몰%로 구성되어 있는 아크릴수지 (Tg=81℃)
<가교제>
B-5 : 에폭시수지; N,N,N',N'-테트라글리시딜메탁실릴렌
B-6 : 옥사졸린기를 갖는 중합체; 2-프로페닐-옥사졸린 (60몰%) 및 메틸메타 크릴레이트 (40몰%) 의 공중합체
<필러>
가교 아크릴 필러 (평균입경 : 0.03㎛)
<습윤제>
폴리옥시에틸렌 (n=7) 라우릴에테르
평가결과를 표 6 에 나타낸다.
비교예 23
수성액을 도포하지 않은 것 이외에는, 실시예 17 과 동일하게 실행하였다. 얻어진 광학용 접착성 폴리에스테르 필름의 특성을 표 6 에 나타낸다.
실시예 23, 24 및 비교예 24
폴리에스테르에 함유시키는 자외선흡수제를 하기와 같이 변경하는 것 이외에는, 실시예 17 과 동일하게 하여 광학용 접착성 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 23 …상기 화학식 (B) 의 자외선흡수제를 1 중량% 함유
실시예 24 …상기 화학식 (C) 의 자외선흡수제를 1 중량% 함유
비교예 24 : 자외선흡수제를 함유하지 않은 폴리에스테르를 사용
얻어진 이축배향 폴리에스테르 필름의 특성을 표 6 에 나타낸다.
헤이즈 하드코팅 접착성α 내블록킹성 내후성-2 종합평가
비교예21 ◎ 3 × - ×
실시예14 ◎ 4 ○ ◎ ○
실시예15 ◎ 5 ◎ ◎ ◎
실시예16 ◎ 5 ◎ ◎ ◎
실시예17 ◎ 5 ◎ ◎ ◎
실시예18 ◎ 5 ◎ ◎ ◎
실시예19 ◎ 5 ◎ ◎ ◎
실시예20 ◎ 4 ◎ ◎ ○
실시예21 ◎ 4 ◎ ◎ ○
실시예22 ○ 5 ◎ ○ ○
비교예22 × - - - ×
비교예23 ◎ 1 - - ×
실시예23 ◎ 5 ◎ ◎ ◎
실시예24 ◎ 5 ◎ ◎ ◎
비교예24 ◎ 5 ◎ × ×
* 표 중, - 표시는 평가하지 않은 것을 나타냄.
표 6 에 나타내는 결과로부터 명확한 바와 같이, 본 발명의 이축배향 폴리에스테르 필름은 내후성이 우수하고, 또한 접착성, 투명성이 우수하여, 광학용 접착성 폴리에스테르 필름으로서 유용하다.
실시예 25
상기 화학식 (A) 에 나타내는 자외선흡수제를 1.1 중량% 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A (고유점도 0.63) 를 준비하였다. 또한 평균입경 1.5㎛ 의 다공질 실리카 (일차입자의 직경 0.004㎛, 세공용적 1.2㎖/g) 를 0.01 중량% 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B (고유점도 0.62) 도 준비하였다. 각각 160℃ 에서 3시간 건조시켰다.
또 폴리에스테르 85 중량부와, 필러 5 중량부와, 습윤제 10 중량부로 이루어지는 도포제도 준비하였다. 여기에서 도포제용으로 사용한 폴리에스테르는, 산성분이 2,6-나프탈렌디카르복실산 65몰%/이소프탈산 30몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 90몰%/디에틸렌글리콜 10몰%로 구성 (Tg=80℃) 된다. 필러는 가교 아크릴필러 (60㎚) 이다. 습윤제는 폴리옥시에틸렌 (n=7) 라우릴에테르이다.
그리고 상기 서술한 2종류의 칩을 따로따로 압출기에 공급하고, 290℃ 에서 용융압출하고, 멀티 매니폴드 다이를 사용하여 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 로부터 얻은 층을 내층으로, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 로부터 얻은 층을 표층으로 하여 3층으로 적층하고, 20℃로 유지한 냉각드럼 상에서 급냉고화시켜 미연신 필름을 얻었다. 이어서 상기 미연신 필름을 95℃ 에서 세로방향으로 3.2배로 연신하고, 이어서 양면에 상기 서술한 도포제를 건조 후의 두께가 각각 0.04㎛ 가 되도록 도포하고, 다시 110℃ 에서 가로방향으로 3.6배로 연신한 후, 230℃에서 5초동안 열고정하고, 다시 190℃의 온도에서 폭방향으로 0.5% 이완시켜, 두께가 100㎛인 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 표층 B층의 두께는 5㎛, 내층 A층의 두께는 90㎛ 로 하였다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
실시예 26, 27 및 비교예 25
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 에 함유시키는 자외선흡수제를 하기와 같이 변경한 것 외에는, 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 실시예 26 에서는, 상기 화학식 (B) 의 자외선흡수제를 1.1 중량% 함유시켰다. 실시예 27 에서는, 상기 화학식 (C) 의 자외선흡수제를 0.8 중량% 함유시켰다. 비교예 25 에서는 자외선흡수제를 함유시키지 않았다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
실시예 28
필름 두께를 188㎛ 로 하고, 그 중의 외층 두께를 10㎛, 내층 두께를 168㎛ 로 하는 것 이외에는 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
실시예 29
폭방향의 이완율을 0%로 하는 것 이외에는 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
실시예 30
외층의 두께를 12㎛, 내층의 두께를 76㎛ 로 하는 것 이외에는, 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
실시예 31
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에 함유시키는 다공질 실리카의 함유량을 0.04 중량% 로 하는 것 이외에는, 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
실시예 32
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에 함유시킨 것과 동일한 종류의 다공질 실리카를, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 에도 0.003 중량% 함유시킨 것 이외에는, 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
비교예 26
열고정 후, 다시 200℃의 온도에서 폭방향으로 1.5% 연신하는 것 이외에는 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
비교예 27
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 에는, 자외선흡수제에 첨가하여, 평균입경 0.12㎛의 구형상 실리카를 0.1 중량% 첨가하는 것 이외에는 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
비교예 28
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에 함유되는 다공질 실리카의 함유량을 0.08 중량% 로 하고, 외층의 두께를 20㎛, 내층의 두께를 60㎛ 로 변경하는 것 이외에는 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
비교예 29
세로방향의 연신배율을 3.7배, 가로방향의 연신배율을 3.9배로 하고, 열고정온도를 205℃로 하는 것 이외에는 실시예 25 와 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
비교예 30
실시예 1 과 동일한 자외선흡수제를 1.0 중량%, 평균입경 1.5㎛ 의 다공질 실리카 (일차입자의 직경 0.004㎛, 세공용적 1.2㎖/g) 를 0.003 중량% 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 (고유점도 0.63) 을 준비하였다. 이것을 160℃ 에서 3시간 건조시킨 후 압출기에 공급하고, 290℃ 에서 용융압출하고, 그 외에는 실시예 25 와 동일하게 하여 단층의 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 7 에 나타낸다.
Figure 112003029289210-pct00020
실시예 33
평균입경 1/5㎛ 의 다공질 실리카 (일차입자의 직경 0.004㎛, 세공용적 1.2㎖/g) 를 30 중량 ppm 과, 상기 화학식 (A) 에 나타내는 자외선흡수제를 1 중량% 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (고유점도 0.63) 칩을 160℃ 에서 3시간 건조시킨 후, 290℃ 에서 용융압출하고, 20℃로 유지한 냉각 드럼 상에서 급냉고화시켜 미연신 필름을 얻었다.
이어서 상기 미연신 필름을 95℃ 에서 세로방향으로 3.2배로 연신하고, 이어서 양면에 하기의 도포제를 건조 후의 두께가 각각 0.04㎛ 로 되도록 도포하고, 다시 110℃ 에서 가로방향으로 3.6배로 연신한 후, 230℃ 에서 5초 동안 열고정하고, 다시 190℃ 의 온도에서 폭방향으로 0.5% 이완시켜, 두께가 100㎛ 인 이축배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 8 에 나타낸다.
여기에서 사용한 도포제는, 폴리에스테르가 85 중량부, 필러로서의 가교 아크릴필러 (60㎚) 가 5 중량부, 그리고 습윤제로서의 폴리옥시에틸렌 (n=7) 라우릴에테르가 10 중량부로 이루어진다. 또한 여기에서의 폴리에스테르는 산성분이 2,6-나프탈렌디카르복실산 65몰%/이소프탈산 30몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 90몰%/디에틸렌글리콜 10몰%로 구성 (Tg=80℃) 된다.
실시예 34, 35 및 비교예 31
폴리에스테르에 함유시키는 자외선흡수제를 다음과 같이 변경하는 것 외에는, 실시예 33 과 동일하게 하여 폴리에스테르 필름을 얻었다. 실시예 34 에서는, 상기 화학식 (B) 의 자외선흡수제를 1 중량% 함유시켰다. 실시예 35 에서 는 상기 화학식 (C) 의 자외선흡수제를 0.7 중량% 함유시켰다. 비교예 31 에서는 자외선흡수제를 함유하지 않은 폴리에틸렌테레프탈레이트를 사용하였다.
실시예 36
필름 두께를 188㎛ 로 한 것 이외에는 실시예 33 과 동일하게 하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 37
폭방향의 이완율을 0%로 하고, 열고정 필름 두께를 188㎛로 한 것 이외에는 실시예 33 과 동일하게 하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 32
열고정 후, 다시 200℃ 의 온도에서 폭방향으로 1.5% 연신하는 것 이외에는 실시예 33 과 동일하게 하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 33
폴리에스테르에 함유되는 불활성 입자를 평균입경 0.12㎛ 의 구형상 실리카로 변경하고, 함유량을 0.1 중량% 로 하는 것 이외에는 실시예 33 과 동일하게 하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 34
폴리에스테르에 함유되는 불활성 입자를 평균입경 0.30㎛ 의 구형상 실리카로 변경하고, 함유량을 0.2 중량% 로 하는 것 이외에는 실시예 33 과 동일하게 하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 35
불활성 입자를 함유하지 않은 폴리에스테르를 사용하고, 도포제에 함유되는 필러를 입경 8㎚ 의 구형상 실리카로 변경하고, 건조 후의 피막층의 두께가 0.004㎛ 로 되도록 변경하는 것 이외에는 실시예 33 과 동일하게 하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 36
세로방향의 연신배율을 3.7배, 가로방향의 연신배율을 3.9배로 하고, 열고정 온도를 205℃로 하는 것 이외에는 실시예 33 과 동일하게 하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.
Figure 112003029289210-pct00021
실시예 38
상기 화학식 (A) 에 나타낸 자외선흡수제를 1.0 중량% 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A (고유점도 0.63) 를 준비하였다. 또한 상기 화학식 (A) 에 나타내는 자외선흡수제 1.0 중량%과, 평균입경 1.5㎛ 의 다공질 실리카 (일차입자의 직경 0.004㎛, 세공용적 1.2㎖/g) 을 0.01 중량% 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B (고유점도 0.62) 도 준비하였다. 각각 160℃ 에서 3시간 건조시켰다.
또 폴리에스테르 85 중량부와, 필러 5 중량부와, 습윤제 10 중량부로 이루어지는 도포제도 준비하였다. 여기에서 도포제용으로 사용한 폴리에스테르는, 산성분이 2,6-나프탈렌디카르복실산 65몰%/이소프탈산 30몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%, 글리콜성분이 에틸렌글리콜 90몰%/디에틸렌글리콜 10몰%로 구성 (Tg=80℃) 된다. 필러는 가교 아크릴필러 (60㎚) 이다. 습윤제는 폴리옥시에틸렌 (n=7) 라우릴에테르이다.
그리고 상기 서술한 2종류의 칩을, 따로따로 압출기에 공급하고, 290℃ 에서 용융압출하고, 멀티 매니폴드 다이를 사용하여 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 로부터 얻은 층을 내층으로, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 로부터 얻은 층을 표층으로 하여 3층으로 적층하고, 20℃로 유지한 냉각드럼 상에서 급냉고화시켜 미연신 필름을 얻었다. 이어서 상기 미연신 필름을 95℃ 에서 세로방향으로 3.2배로 연신하고, 이어서 양면에 상기 서술한 도포제를 건조 후의 두께가 각각 0.04㎛ 가 되도록 도포하고, 다시 110℃ 에서 가로방향으로 3.6배로 연신한 후, 230℃에서 5 초동안 열고정하고, 다시 190℃의 온도에서 폭방향으로 0.5% 이완시켜, 두께가 100㎛인 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 표층 B층의 두께는 5㎛, 내층 A층의 두께는 90㎛ 로 하였다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
실시예 39, 40 및 비교예 37
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A, B 에 함유시키는 자외선흡수제를 하기와 같이 변경한 것 외에는, 실시예 38 과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 실시예 39 에서는, 상기 화학식 (B) 의 자외선흡수제를 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A, B 모두 1.0 중량% 함유시켰다. 실시예 40 에서는, 상기 화학식 (C) 의 자외선흡수제를, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 에 1.2 중량%, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에 0.4 중량% 함유시켰다. 비교예 37 에서는 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A, B 모두 자외선흡수제를 함유시키지 않았다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
실시예 41
필름 두께를 188㎛ 로 하고, 그 중의 외층 두께를 10㎛, 내층 두께를 168㎛ 로 하는 것 이외에는 실시예 38 과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
실시예 42
외층의 두께를 12㎛, 내층의 두께를 76㎛ 로 한 것 이외에는, 실시예 38 과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
실시예 43
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에 함유시키는 다공질 실리카의 함유량을 0.04 중량%로 하는 것 이외에는, 실시예 38 과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
실시예 44
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에 함유시킨 것과 동일한 종류의 다공질 실리카를, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 에도 0.003 중량% 함유시킨 것 이외에는, 실시예 38 과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
비교예 38
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 에는, 자외선흡수제에 첨가하여, 평균입경 0.12㎛ 의 구형상 실리카를 0.1 중량% 첨가하는 것 이외에는 실시예 38 과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
비교예 39
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에 함유되는 다공질 실리카의 함유량을 0.08 중량% 로 하고, 외층의 두께를 20㎛, 내층의 두께를 60㎛ 로 변경하는 것 이외에는 실시예 38 과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
비교예 40
세로방향의 연신배율을 3.7배, 가로방향의 연신배율을 3.9배로 하고, 열고정온도를 205℃로 하는 것 이외에는 실시예 38 과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
비교예 41
실시예 38 과 동일한 자외선흡수제를 1.0 중량%, 평균입경 1.5㎛ 의 다공질 실리카 (일차입자의 직경 0.004㎛, 세공용적 1.2㎖/g) 를 0.003 중량% 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 (고유점도 0.63) 을 준비하였다. 이것을 160℃ 에서 3시간 건조시킨 후 압출기에 공급하고, 290℃ 에서 용융압출하고, 그 외에는 실시예 38 과 동일하게 하여 단층의 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
실시예 45 및 비교예 42, 43
폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A, B 에 함유시키는 자외선흡수제의 함유량을 하기와 같이 변경하는 것 외에는, 실시예 38 과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 실시예 45 에서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 에 0.5 중량%, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에 1.5 중량%, 비교예 42 에서는 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 에 1.1 중량%, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에는 함유시키지 않고, 비교예 43 에서는 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 A 에 0.5 중량%, 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 B 에 3.0 중량% 함유시켰다. 얻어진 필름의 특성을 표 9 에 나타낸다.
Figure 112003029289210-pct00022

Claims (21)

  1. (A) 방향족 폴리에스테르 및 자외선흡수제를 함유하여 이루어지는 폴리에스테르 필름층 그리고
    (B) 그 폴리에스테르 필름의 적어도 편면 상에 형성된 피막 (여기에서 이 피막은 유리전이점이 40∼100℃ 의 범위에 있는 피막용 폴리에스테르를 피막에 대하여 70~85 중량% 및 유리전이점이 20∼80℃ 의 범위에 있는 적어도 알킬아크릴레이트 성분 및 알킬메타아크릴레이트 성분을 함유하는 아크릴 폴리머를 피막에 대해 10∼25 중량%로 함유하고, 상기 아크릴 폴리머가 수산기를 갖는 아크릴 모노머 단위를 2∼20 몰%로 함유한다)
    으로 이루어지는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  2. 제 1 항에 있어서, 피막이, 입경 0.02∼0.2㎛ 의 필러를 피막에 대해 0.1∼20 중량%로 추가로 함유하는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 피막용 폴리에스테르가 0.4 이상 0.7 미만의 고유점도를 갖는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  4. 제 1 항에 있어서, 피막이 가교제를 피막에 대해 1∼20 중량%로 추가로 함유하는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제 4 항에 있어서, 가교제가 옥사졸린기 함유 폴리머, 요소, 수지, 멜라민수지 및 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  9. 제 1 항에 있어서, 피막이 왁스를 피막에 대해 0.5∼20 중량% 로 추가로 함유하는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  10. 제 2 항에 있어서, 피막용 폴리에스테르와 필러의 굴절율이 모두 1.50∼1.60 의 범위에 있는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  11. 제 10 항에 있어서, 피막의 표면 고유저항값이 1×1014Ω/□이하인 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  12. 제 1 항에 있어서, 자외선흡수제가 하기 화학식 (Ⅰ) 로 표시되는 환상 이미노에스테르 및 하기 화학식 (Ⅱ) 로 표시되는 환상 이미노에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물인 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
    [화학식 Ⅰ]
    Figure 712009004528783-pct00027
    (화학식 (Ⅰ) 에서, X1 은 상기 식에 표시된 X1 으로부터의 2개의 결합수(結合手)가 1위, 2위의 위치관계에 있는 2가의 방향족 잔기이고; n 은 1, 2 또는 3 이고; R1 은 n가의 탄화수소 잔기이고, 이것은 추가로 헤테로원자를 함유할 수도 있거나, 또는 R1 은 n=2 일 때 직접 결합일 수 있다),
    [화학식 Ⅱ]
    Figure 712009004528783-pct00028
    (화학식 (Ⅱ) 에서, A 는 하기 화학식 (Ⅱ)-a 로 표시되는 기이거나 또는 하기 화학식 (Ⅱ)-b 로 표시되는 기이고; R2 및 R3 은 동일하거나 다르고 1가의 탄화수소 잔기이고; X2 는 4가의 방향족 잔기이고, 이것은 추가로 헤테로원자를 함유할 수도 있다).
    [화학식 Ⅱ-a]
    Figure 712009004528783-pct00029
    [화학식 Ⅱ-b]
    Figure 712009004528783-pct00030
  13. 제 1 항에 있어서, 폴리에스테르 필름층 (A) 가 단층인 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  14. 제 1 항에 있어서, 폴리에스테르 필름층 (A) 가 2개의 최외층 및 적어도 1개의 중간층의 적어도 3층으로 이루어지는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  15. 제 14 항에 있어서, 자외선흡수제를 적어도 중간층이 함유하는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  16. 제 1 항, 제 13 항 또는 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 파장 370㎚ 에서의 광선투과율이 3% 이하, 헤이즈가 3% 이하 그리고 두께방향의 굴절율이 1.490∼1.505 인 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  17. 제 16 항에 있어서, 150℃ 에서의 열수축율이 2% 이하인 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  18. 제 1 항에 있어서, 폴리에스테르 필름층 (A) 가 단층이고 피막 (B) 의 중심선 표면조도 (Ra) 가 1∼10㎚ 의 범위에 있는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  19. 제 1 항에 있어서, 폴리에스테르 필름층 (A) 가 적어도 3층으로 이루어지고 피막 (B) 의 중심선 표면조도 (Ra) 가 3∼30㎚ 의 범위에 있는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  20. 제 1 항에 있어서, 폴리에스테르 필름층 (A) 가 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트로 이루어지는 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
  21. 제 1 항에 있어서, 플라스마 디스플레이의 전면(前面)에 배치하여 외부로부터의 자외선을 차단하기 위한 광학용 접착성 폴리에스테르 필름.
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