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KR100905922B1 - 패키지용 인쇄회로기판 및 그 제조방법 - Google Patents

패키지용 인쇄회로기판 및 그 제조방법 Download PDF

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KR100905922B1
KR100905922B1 KR1020080013912A KR20080013912A KR100905922B1 KR 100905922 B1 KR100905922 B1 KR 100905922B1 KR 1020080013912 A KR1020080013912 A KR 1020080013912A KR 20080013912 A KR20080013912 A KR 20080013912A KR 100905922 B1 KR100905922 B1 KR 100905922B1
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KR
South Korea
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solder
pad
resist layer
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printed circuit
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이동규
최진원
유기영
정태준
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삼성전기주식회사
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Abstract

패키지용 인쇄회로기판 및 그 제조방법이 개시된다. 일면에 솔더패드 및 가이드패드가 형성된 기판을 제공하는 단계; 기판의 일면에 솔더레지스트층을 형성하는 단계; 가이드패드가 노출되도록 솔더레지스트층의 일부를 오프닝하는 단계; 노출된 가이드패드에 대해 표면처리를 수행하는 단계; 솔더패드가 노출되도록 솔더레지스트층의 일부를 오프닝하는 단계; 및 노출된 솔더패드에 솔더범프를 형성하는 단계를 포함하는 패키지용 인쇄회로기판 제조방법은, 표면처리를 최소화 하여 비용을 절감할 수 있고, 미확산층이 발생하는 것을 방지할 수 있어 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
패키지, 인쇄회로기판, LDA(Laser Direct Ablation), 표면처리, 솔더 도금 범핑

Description

패키지용 인쇄회로기판 및 그 제조방법{Printed circuit board for package and manufacturing method thereof}
본 발명은 패키지용 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
반도체 IC들의 급속한 발전으로 칩 및 CPU와 PCB를 연결하는 패키지 기술의 발전과 개선이 절실히 요구되고 있다. 특히, 회로와 패턴의 초 미세피치화는 기존의 와이어본딩(wire bonding) 기술에 한계를 가져 왔다.
이에 대한 대안으로 스크린 인쇄기술을 이용한 솔더범프용 플립칩 기판(Flip??Chip substrate)이 널리 연구되고 상용화 되었지만 이 역시 점점 작아지는 미세 패턴에 대응하기에는 한계가 있는 실정이다.
궁극적으로 초 미세피치를 갖는 패턴을 극복하기 위해서는 스크린 인쇄 대신 다른 공법이 적용되어야 하는데 그것이 바로 도금 기술이다. 도금을 이용하여 솔더범프를 형성하면, 초 미세 패턴의 극복과 더불어 보이드 발생을 제거하고 외부 인자에 의한 불량을 방지할 수 있는 장점이 있다.
도 1 내지 도 10은 종래기술에 따른 패키지용 인쇄회로기판 제조방법을 나타내는 공정도이다. 도 1 내지 도 10을 참조하여 종래기술에 따른 패키지용 인쇄회로기판 제조방법에 대해 간략히 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 1에 도시된 바와 같이, 최외곽층 기판에 범프가 형성될 솔더패드(2)와 최종 검사 및 신뢰성 장비사용의 기준이 될 가이드패드(3)를 형성한 후 솔더레지스트(Solder Resist)잉크를 도포한다.
그리고 나서, 도 2에 도시된 바와 같이, 이미징 공정으로 가이드패드(3) 및 솔더패드(2)를 모두 오픈한 후, 무전해 니켈(Ni)층과 무전해 금(Au) 혹은 무전해 니켈(Ni)/팔라듐(Pd)/금(Au) 표면처리를 실시한다. 도 3에는 니켈도금층(4) 및 금도금층(5)이 형성된 모습이 도시되어 있다.
이 후, 도 4에 도시된 바와 같이, 스퍼터링 공정에 의해 기판 전체에 시드층(6)을 형성하고, 도 5에 도시된 바와 같이, 감광성 드라이 필름(7')을 적층한 후, 도 6에 도시된 바와 같이, 노광/현상 공정을 이용하여 솔더가 도금될 솔더패드(2) 부분만 오픈된 형상의 도금레지스트층(7)을 형성한다.
그리고 나서, 도 7에 도시된 바와 같이, 오픈된 솔더패드(2) 부분에 전해도금을 실시하여 원하는 두께의 솔더도금층(8)을 형성한 후 도 8에 도시된 바와 같이, 도금레지스트층(7)을 제거하고, 도 9에 도시된 바와 같이 시드층(6)을 제거한다.
마지막으로, 플럭스(flux)를 도금된 솔더 전체에 도포한 후 리플로우 공정을 실시하여 도 10에 도시된 바와 같이 라운드 형상의 솔더범프(9)를 형성한다.
상술한 바와 같이, 종래기술에 따른 패키지용 인쇄회로기판 제조방법의 경우, 솔더범프가 형성되는 솔더패드 상에 '무전해 니켈(Ni)과 무전해 금(gold)층을 형성하는 ENIG'와 '무전해 니켈(Ni)/무전해 팔라듐(Pd)/침적 금(gold)층을 형성하는 ENEPIG'등과 같은 표면처리 공정에 의해 표면처리층이 형성된다.
이러한 표면처리층의 최외곽층은 리플로우 공정 동안 솔더 전체 및 솔더 외곽으로 확산하여 사라져야 하는데, 표면처리 방법 또는 표면처리층의 두께에 의하여 최외곽 층이 미처 확산하지 못하는 경우가 발생하여 솔더와 패드간의 정상적인 금속간 화합물이 형성되지 못하는 경우가 발생한다. 이러한 미확산층과 비정상적인 금속화합물은 부분적인 들뜸 현상을 초래하게 되어, 결과적으로 솔더와 솔더패드 사이의 결합력을 약화시키는 문제를 발생시키게 된다. 즉, 제품의 신뢰성에 치명적인 결함을 유발하게 되는 것이다.
본 발명은 표면처리를 최소화 하여 비용을 절감할 수 있고, 미확산층이 발생하는 것을 방지할 수 있어 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있으며, 솔더범프 내부에 보이드가 형성되는 것을 방지할 수 있는 패키지용 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 일면에 솔더패드 및 가이드패드가 형성된 기판을 제공하는 단계; 기판의 일면에 솔더레지스트층을 형성하는 단계; 가이드패드가 노출되도록 솔더레지스트층의 일부를 오프닝하는 단계; 노출된 가이드패드에 대해 표면처리를 수행하는 단계; 솔더패드가 노출되도록 솔더레지스트층의 일부를 오프닝하는 단계; 및 노출된 솔더패드에 솔더범프를 형성하는 단계를 포함하는 패키지용 인쇄회로기판 제조방법을 제공할 수 있다.
솔더범프를 형성하는 단계는, 기판의 일면에 시드층을 형성하는 단계; 기판의 일면에 솔더패드에 상응하는 개구부가 형성된 도금레지스트층을 형성하는 단계; 전해도금을 통하여, 솔더패드에 솔더를 도금하는 단계; 시드층의 노출된 부분이 제거되도록 플래시 에칭을 수행하는 단계; 및 도금된 솔더에 대하여 리플로우를 수행하는 단계를 통하여 수행될 수 있다.
또한, 가이드패드에 대해 표면처리를 수행하는 단계는, 가이드패드의 상면에 직접 금, 은, 주석 또는 유기보호피막으로 이루어지는 코팅층을 형성함으로써 수행될 수 있으며, 솔더패드가 노출되도록 솔더레지스트층의 일부를 오프닝하는 단계는 LDA(Laser Direct Ablation) 기술을 이용하여 수행될 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판; 기판의 일면에 형성되는 솔더패드 및 가이드패드; 기판의 일면을 커버하되, 솔더패드 및 가이드패드에 상응하는 개구부가 형성된 솔더레지스트층; 가이드패드의 상면에 직접 형성되며, 금, 은, 주석 또는 유기보호피막으로 이루어지는 코팅층; 및 솔더패드의 상면에 직접 형성되는 솔더범프를 포함하는 패키지용 인쇄회로기판을 제공할 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 표면처리를 최소화 하여 비용을 절감할 수 있고, 미확산층이 발생하는 것을 방지할 수 있어 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있으며, 솔더범프 내부에 보이드가 형성되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지 다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 따른 패키지용 인쇄회로기판 및 그 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 11은 본 발명의 다른 측면에 따른 패키지용 인쇄회로기판 제조방법의 일 실시예를 나타내는 순서도이고, 도 12 내지 도 22은 도 12의 패키지용 인쇄회로기판 제조방법을 나타내는 공정도이다. 도 12 내지 도 22를 참조하면, 기판(10), 솔더레지스트층(11), 솔더패드(12), 가이드패드(13), 코팅층(14), 시드층(15), 도금레지스트층(16), 솔더도금층(17), 솔더범프(18)가 도시되어 있다.
먼저, 도 12에 도시된 바와 같이, 일면에 솔더패드(12) 및 가이드패드(13)가 형성된 기판(10)을 준비하고(S110), 기판(10)의 일면에 솔더레지스트층(11)을 형성한다(S120). 솔더패드(12)는 솔더범프(도 22의 18)가 형성되는 곳으로서, 솔더범프(도 22의 18)를 통해 기판(10)에 형성되는 회로패턴(미도시) 등이 전자소자 등과 전기적으로 연결될 수 있게 된다. 또한, 가이드패드(13)는 제품에 대한 신뢰성 검사 등에 있어 기준이 될 수 있다.
다음으로, 도 13에 도시된 바와 같이, 가이드패드(13)가 노출되도록 솔더레 지스트층(11)의 일부를 오프닝한 다음(S130), 도 14에 도시된 바와 같이, 노출된 가이드패드(13)에 대해 표면처리를 수행한다(S140). 즉, 가이드패드(13)에 대해서만 표면처리를 수행하기 위하여 가이드패드(13)만 노출시킨 다음 표면처리 공정을 수행하는 것이다.
이처럼, 가이드패드(13)에 대해서만 표면처리를 수행하고, 솔더범프(도 22의 18)가 형성되는 솔더패드(12)에 대해서는 표면처리를 수행하지 않음으로써, 솔더범프(18)와 솔더패드(12) 사이에 미확산층이 존재하지 않도록 할 수 있어 이들 간의 결합 신뢰성을 확보할 수 있게 된다.
가이드패드(13)가 노출되도록 솔더레지스트층(11)을 오프닝하기 위하여 본 실시 예에서는 레이저를 이용하여 솔더레지스트층(11)을 직접 식각하는 LDA(laser direct ablation) 기술을 이용하는 방법을 제시한다. LDA 기술을 이용함으로써, 가이드패드(13)에 대한 선택적인 오프닝을 보다 용이하게 구현할 수 있게 된다. LDA 기술 이외에, 노광 및 현상 공정을 이용할 수도 있음은 물론이다.
한편, 가이드패드(13)에 대한 표면처리 공정으로 니켈 도금과 금 도금을 순차적으로 수행하는 방법을 이용할 수도 있으나, 가이드패드(13)가 광학기기 등의 인식용으로만 사용되는 점을 고려하여, 본 실시예에서는 직접 금도금을 수행하는 방법을 이용하도록 한다. 금 도금 이외에도 은 도금이나 주석 도금 또는 유기보호피막(OSP) 형성 등을 이용하여 가이드패드(13)의 상면에 코팅층(14)을 직접 형성할 수도 있다.
그리고 나서, 도 15에 도시된 바와 같이, 솔더패드(12)가 노출되도록 솔더레 지스트층(11)의 일부를 오프닝하고(S150), 노출된 솔더패드(12)에 솔더범프(도 22의 18)를 형성한다(S160). 솔더패드(12)가 노출되도록 솔더레지스트를 오프닝하기 위하여 LDA 기술을 이용할 수 있음은 전술한 바와 같다. 이하에서는, 노출된 솔더패드(12)에 솔더범프(도 22의 18)를 형성하는 방법에 대해 보다 구체적으로 설명하도록 한다.
먼저, 도 16에 도시된 바와 같이 기판(10)의 일면에 전해도금을 위한 전극용 금속 시드층(15)을 형성한다(S161). 시드층(15)은 솔더패드(12)와 동일한 재질의 금속을 이용하여 약 0.2um ~ 1um 정도의 두께로 형성될 수 있으며, 스퍼터링 공정 또는 무전해 도금 등의 방법을 통해 형성될 수 있다. 즉, 솔더패드(12)가 구리 재질로 이루어진 경우, 구리를 이용하여 시드층(15)을 형성할 수 있는 것이다. 한편, 여기서 제시한 시드층(15)의 두께 및 형성 방법은 일 예에 불과하며, 제조 상의 필요에 따라 다양하게 변경될 수 있다.
이렇게 시드층(15)을 형성한 후, 기판(10)의 일면에 솔더패드(12)에 상응하는 개구부가 형성된 도금레지스트층(16)을 형성하고(S162), 전해도금을 통하여 솔더패드(12)에 솔더를 도금한다(S163).
이를 위하여, 도 17에 도시된 바와 같이, 시드층(15) 위에 감광성 드라이필름(16')을 적층하고, 도 18에 도시된 바와 같이, 노광 및 현상 공정을 통해 솔더패드(12)만 개방되도록 한 다음, 도 19에 도시된 바와 같이 전해도금을 수행하여 솔더도금층(17)을 형성하는 방법을 이용할 수 있다.
그리고 나서, 도 20에 도시된 바와 같이, 도금레지스트층(16)을 제거하 고(S164), 도 21에 도시된 바와 같이, 시드층(15)의 노출된 부분이 제거되도록 플래시 에칭을 수행한 다음(S165), 솔더도금층(17)에 대하여 리플로우를 수행함으로써(S166) 도 22에 도시된 바와 같이 라운드 형상의 솔더범프(18)를 형성할 수 있게 된다.
다음으로, 본 발명의 다른 측면에 따른 패키지용 인쇄회로기판(10)의 일 실시예에 대해 도 22를 참조하여 설명하도록 한다. 도 22에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 패키지용 인쇄회로기판은, 기판(10); 기판(10)의 일면에 형성되는 솔더패드(12) 및 가이드패드(13); 기판(10)의 일면을 커버하되, 솔더패드(12) 및 가이드패드(13)에 상응하는 개구부가 형성된 솔더레지스트층(11); 가이드패드(13)의 상면에 직접 형성되며 금, 은, 주석 또는 유기보호피막 등으로 이루어지는 코팅층(14); 및 솔더패드(12)의 상면에 직접 형성되는 솔더범프(18)를 주된 구성요소로 하여 이루어질 수 있다.
여기서, 솔더범프(18)가 솔더패드(12)의 상면에 직접 형성된다는 것은, 솔더범프(18)와 솔더패드(12) 사이에 이들과 다른 종류의 재료가 개재되지 않는다는 것을 의미하는 것으로서, 솔더패드(12)와 동일한 재질의 시드층(도 21의 15), 또는 솔더범프(18)와 시드층(15) 또는 솔더범프와 솔더패드(12) 사이의 합금층(미도시) 마저 형성되지 않는다는 의미는 아니다.
이러한 패키지용 인쇄회로기판은, 앞서 설명한 본 발명의 일 측면에 따른 패키지용 인쇄회로기판 제조방법과 동일 또는 유사한 방법을 통해 제조될 수 있다.
본 실시예에 따른 패키지용 인쇄회로기판은 솔더패드(12)와 솔더범프(18) 사이에 별도의 표면처리를 하지 않아 미확산층이 존재하지 않으며, 가이드패드(13)의 상면에는 금, 은, 주석 또는 유기보호피막 등으로 이루어지는 코팅층(14)이 직접 형성됨으로써, 재료비용이 절감될 수 있을 뿐만 아니라 제조공정 또한 단순화될 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.
도 1 내지 도 10은 종래기술에 따른 패키지용 인쇄회로기판 제조방법을 나타내는 공정도.
도 11은 본 발명의 다른 측면에 따른 패키지용 인쇄회로기판 제조방법의 일 실시예를 나타내는 순서도.
도 12 내지 도 22은 도 12의 패키지용 인쇄회로기판 제조방법을 나타내는 공정도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10: 기판
11: 솔더레지스트층
12: 솔더패드
13: 가이드패드
14: 코팅층
15: 시드층
16: 도금레지스트층
17: 솔더도금층
18: 솔더범프

Claims (5)

  1. 일면에 솔더패드 및 가이드패드가 형성된 기판을 제공하는 단계;
    상기 기판의 일면에 솔더레지스트층을 형성하는 단계;
    상기 가이드패드가 노출되도록 상기 솔더레지스트층의 일부를 오프닝하는 단계;
    상기 노출된 가이드패드에 대해 표면처리를 수행하는 단계;
    상기 솔더패드가 노출되도록 상기 솔더레지스트층의 일부를 오프닝하는 단계; 및
    상기 노출된 솔더패드에 솔더범프를 형성하는 단계를 포함하는 패키지용 인쇄회로기판 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 솔더범프를 형성하는 단계는,
    상기 기판의 일면에 시드층을 형성하는 단계;
    상기 기판의 일면에 상기 솔더패드에 상응하는 개구부가 형성된 도금레지스트층을 형성하는 단계; 및
    전해도금을 통하여, 상기 솔더패드에 솔더를 도금하는 단계;
    상기 도금레지스트층을 제거하는 단계;
    상기 시드층의 노출된 부분이 제거되도록 플래시 에칭을 수행하는 단계; 및
    상기 도금된 솔더에 대하여 리플로우를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패키지용 인쇄회로기판 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 가이드패드에 대해 표면처리를 수행하는 단계는, 상기 가이드패드의 상면에 직접 금, 은, 주석 또는 유기보호피막(OSP)으로 이루어지는 코팅층을 형성함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 패키지용 인쇄회로기판 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 솔더패드가 노출되도록 상기 솔더레지스트층의 일부를 오프닝하는 단계는 LDA(Laser Direct Ablation) 기술을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 패키지용 인쇄회로기판 제조방법.
  5. 기판;
    상기 기판의 일면에 형성되는 솔더패드 및 가이드패드;
    상기 기판의 상기 일면을 커버하되, 상기 솔더패드 및 상기 가이드패드에 상 응하는 개구부가 형성된 솔더레지스트층;
    상기 가이드패드의 상면에 직접 형성되며, 금, 은, 주석 또는 유기보호피막(OSP)으로 이루어지는 코팅층; 및
    상기 솔더패드의 상면에 직접 형성되는 솔더범프를 포함하는 패키지용 인쇄회로기판.
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