KR100711092B1 - Stacked Chip Devices - Google Patents
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Abstract
본 발명은 다수개의 단위 소자가 하나의 칩으로 제조된 적층형 어레이 칩에서 각 단위 소자간의 주파수 편차를 개선시킴과 더불어 저지대역에서의 감쇄량을 향상시키도록 한 적층형 칩 소자에 관한 것으로, 소체의 상면에 형성된 전자 소자 패턴; 상기 소체의 제 1측면의 제 1외부 단자에 연결되게 형성된 제 1내부 전극 패턴; 상기 소체의 제 2측면의 제 2외부 단자에 연결되게 형성된 제 2내부 전극 패턴; 상기 소체의 제 3측면의 제 3외부 단자에 연결되게 형성된 제 3내부 전극 패턴; 및 상기 제 1 내지 제 3외부 단자와 직접 연결되지 않는 보조 전극 패턴을 포함하고, 상기 전자 소자 패턴의 일측은 상기 제 1외부 단자에 연결되고, 상기 전자 소자 패턴의 타측은 상기 제 2외부 단자에 연결되며, 상기 보조 전극 패턴의 일부는 각각 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 대향되는 것이다.The present invention relates to a stacked chip device which improves attenuation in the stopband and improves the frequency deviation between the unit devices in a stacked array chip in which a plurality of unit devices are made of one chip. An electronic device pattern formed; A first inner electrode pattern formed to be connected to a first outer terminal of the first side of the body; A second inner electrode pattern formed to be connected to a second outer terminal of the second side of the body; A third inner electrode pattern formed to be connected to a third outer terminal of the third side of the body; And auxiliary electrode patterns that are not directly connected to the first to third external terminals, one side of the electronic element pattern is connected to the first external terminal, and the other side of the electronic element pattern is connected to the second external terminal. A part of the auxiliary electrode pattern is connected to the first and second internal electrode patterns, respectively.
Description
도 1은 종래 적층형 칩 소자의 외관사시도,1 is an external perspective view of a conventional stacked chip device;
도 2는 도 1의 적층형 칩 소자의 내부 전극 패턴의 적층구조를 나타낸 사시도, 2 is a perspective view illustrating a lamination structure of an internal electrode pattern of the stacked chip device of FIG. 1;
도 3은 도 1의 적층형 칩 소자의 개략적인 단면도,3 is a schematic cross-sectional view of the stacked chip device of FIG. 1;
도 4는 도 3의 등가회로도,4 is an equivalent circuit diagram of FIG. 3;
도 5는 종래 적층형 칩 소자의 특성 그래프,5 is a characteristic graph of a conventional stacked chip device;
도 6은 본 발명의 제 1실시예에 따른 적층형 칩 소자의 외관사시도,6 is an external perspective view of a stacked chip device according to a first exemplary embodiment of the present invention;
도 7은 본 발명의 제 1실시예에 채용되는 패턴의 적층구조를 나타낸 사시도,7 is a perspective view showing a laminated structure of a pattern employed in the first embodiment of the present invention;
도 8은 도 6의 적층형 칩 소자의 개략적인 단면도,8 is a schematic cross-sectional view of the stacked chip device of FIG. 6;
도 9는 도 8의 등가회로도,9 is an equivalent circuit diagram of FIG. 8;
도 10은 본 발명의 제 1실시예에 따른 적층형 칩 소자의 특성 그래프,10 is a characteristic graph of a stacked chip device according to a first embodiment of the present invention;
도 11은 본 발명의 제 1실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제조 공정을 설명하기 위한 도면,11 is a view for explaining a manufacturing process of the stacked chip device according to the first embodiment of the present invention;
도 12는 본 발명의 제 2실시예에 따른 적층형 칩 소자의 개략적인 단면도,12 is a schematic cross-sectional view of a stacked chip device according to a second embodiment of the present invention;
도 13은 본 발명의 제 3실시예에 따른 적층형 칩 소자의 개략적인 단면도,13 is a schematic cross-sectional view of a stacked chip device according to a third embodiment of the present invention;
도 14는 본 발명의 제 3실시예에 채용되는 패턴의 적층구조를 나타내는 사시 도,14 is a perspective view showing a laminated structure of a pattern employed in the third embodiment of the present invention;
도 15는 본 발명의 제 4실시예에 채용되는 패턴의 적층구조를 나타내는 사시도,15 is a perspective view showing a laminated structure of a pattern employed in the fourth embodiment of the present invention;
도 16은 본 발명의 제 4실시예에 따른 적층형 칩 소자의 개략적인 단면도이다.16 is a schematic cross-sectional view of a stacked chip device according to a fourth exemplary embodiment of the present invention.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>
10, 120 : 제 1시트 12, 122 : 제 1내부 전극 패턴10, 120:
14, 124 : 제 2내부 전극 패턴 20, 130 : 제 2시트14, 124: second
22, 126 : 제 3내부 전극 패턴 30, 140 : 커버 시트22, 126: third
50 : 제 3시트 52, 132 : 보조 전극 패턴50:
60 : 소체 62 : 제 1외부 단자60: element 62: first external terminal
64 : 제 2외부 단자 66 : 제 3외부 단자64: second external terminal 66: third external terminal
68 : 저항체 패턴 60a, 60b, 60c, 60d : 단위 소자68:
본 발명은 적층형 칩 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 삽입 손실 특성을 향상시키도록 한 적층형 칩 소자에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to stacked chip devices, and more particularly, to stacked chip devices designed to improve insertion loss characteristics.
일반적으로, 저항(R)은 회로내에서 전류 흐름의 제어나 전압을 강하시키는 역할을 수행한다. 특히, 저항은 교류회로에 있어서 임피던스 정합 등의 역할을 수행한다. 저항은 다른 수동소자인 캐패시터(C) 또는 인덕터(L)와 결합하여 각종 필터를 구현하고 고주파 노이즈 제거 뿐만 아니라 주파수 선택의 기능을 수행하고 있다. In general, the resistor R serves to control the current flow or lower the voltage in the circuit. In particular, the resistor plays a role of impedance matching or the like in the AC circuit. The resistor is combined with other passive elements such as capacitor (C) or inductor (L) to implement various filters and performs the function of frequency selection as well as the removal of high frequency noise.
그리고, 캐패시터(C)는 기본적으로 직류를 차단하고 교류 신호를 통과시키는 역할을 하며, 시정수 회로, 시간 지연 회로, RC 및 LC 필터 회로를 구성하기도 한다. 캐패시터 자체로 노이즈를 제거하는 역할을 하기도 한다. In addition, the capacitor (C) basically serves to cut off the DC and to pass the AC signal, and also constitutes a time constant circuit, a time delay circuit, an RC, and an LC filter circuit. The capacitor itself also serves to remove noise.
또한, 바리스터(varistor)는 인가전압에 따라 저항이 변하기 때문에 과전압(서지 전압) 및 정전기로부터 중요 전자 부품과 회로를 보호하는 보호용 소자로 널리 사용되고 있다. 즉, 평소에는 회로내에 배치된 바리스터에는 전류가 흐르지 않는다. 그러나, 특정한 전압 이상의 과전압 등에 의하여 바리스터의 양단에 과전압이 걸리면 바리스터의 저항이 급격히 감소하여 거의 모든 전류가 바리스터에 흐르게 되고, 다른 소자에는 전류가 흐르지 않게 되어 상기 바리스터가 배치된 회로는 과전압으로부터 보호된다. In addition, varistors are widely used as protection devices for protecting important electronic components and circuits from overvoltage (surge voltage) and static electricity because the resistance changes according to the applied voltage. In other words, no current flows through the varistors arranged in the circuit. However, if an overvoltage is applied at both ends of the varistor due to an overvoltage or the like exceeding a certain voltage, the resistance of the varistor decreases rapidly and almost all current flows to the varistor, and no current flows to other elements, so that the circuit in which the varistor is disposed is protected from overvoltage. .
바리스터는 과전압이 걸리지 않은 정상상태에서 캐패시터로 작용한다. 캐패시터는 캐패시턴스 값만을 갖는 것이 아니라 기생 인덕턴스 값을 갖고 있으며, 인덕터는 도선에 전류가 흐를 때 그 전류의 변화를 막으려는 성질을 가지는 소자이다. 상기 인덕터는 인덕턴스 값 외에도 기생 캐패시턴스 값을 갖는다. 이로 인하여 특정 고주파에서 소자의 기능이 바뀌게 되는데, 이러한 특정 주파수를 자기 공진 주파수라고 한다.The varistor acts as a capacitor in a steady state without overvoltage. Capacitors not only have capacitance values but also parasitic inductance values, and inductors are devices having the property of preventing a change in current when a current flows through the wire. The inductor has a parasitic capacitance value in addition to the inductance value. This changes the function of the device at a specific high frequency, which is called the self-resonant frequency.
단일 칩 내에 저항 성분과 바리스터 성분을 함께 결합하여 형성시킨 저항-바리스터 복합 칩은 과전압 및 정전기로부터의 보호와 동시에 고주파 선로에서 발생할 수 있는 노이즈를 제거한다. 상기와 같은 바리스터 소자와 저항 소자를 결합시킴으로써 과전압으로부터 중요한 전자부품이나 소형 모터 및 회로를 효율적으로 보호할 수 있을 뿐만 아니라 안정된 전원 전압의 확보 및 노이즈 성분의 제거를 통해 전자부품이나 회로의 안정된 동작을 보장할 수 있다. The resistive-varistor composite chip formed by combining a resistive component and a varistor component together in a single chip removes noise that may occur in a high frequency line simultaneously with protection from overvoltage and static electricity. By combining the varistor element and the resistance element as described above, it is possible not only to effectively protect important electronic components, small motors and circuits from overvoltage, but also to ensure stable operation of electronic components or circuits by securing a stable power supply voltage and removing noise components. I can guarantee it.
따라서, 인덕터- 바리스터의 결합은 고주파 노이즈 제거 특성이 양호한 인덕터-커패시터로 이루어지는 파이(π)형 필터를 구현하게 된다. Therefore, the combination of the inductor-varistor realizes a pi (π) type filter made of an inductor-capacitor having good high frequency noise rejection.
이러한 저항-바리스터 결합 소자 또는 인덕터-바리스터의 결합 소자는 회로내의 이상 과전압이 유입되면 즉시 바리스터의 기능이 발현되어 과전압으로부터 전자 부품 또는 회로를 보호하고 노이즈 성분을 제거하게 된다.Such a resistance-varistor coupling element or an inductor-varistor coupling element immediately exhibits the function of the varistor when an abnormal overvoltage in the circuit is introduced, thereby protecting the electronic component or circuit from the overvoltage and removing noise components.
특히, 최근에는 전자기기의 소형화에 대응하여 고집적 회로 칩 소자 등에 대한 요구도 늘어가고 있다. In particular, in recent years, in response to the miniaturization of electronic devices, demands for highly integrated circuit chip elements have increased.
이러한 추세에 발맞추어 다양한 형태의 적층형 칩 소자가 제안되고 있는데, 그 중의 일예로 도 1과 같은 구성을 갖는 적층형 칩 소자가 있다.In accordance with this trend, various types of stacked chip devices have been proposed, and one example is a stacked chip device having a configuration as illustrated in FIG. 1.
도 1에는 4개의 단위 소자(40a, 40b, 40c, 40d)가 하나의 칩으로 어레이된 적층형 칩 소자가 도시되어 있다. 도 1의 적층형 칩 소자가 파이형 RC필터로 구현된 것으로 설정하고 설명한다.1 illustrates a stacked chip device in which four
종래의 적층형 칩 소자는 제 1 내지 제 3외부단자(42, 44, 46)가 소체(40)의 측면부에 각각 형성되고, 저항체 패턴(48)이 소체(40)의 상면에 형성된다. 즉, 제 1외부 단자(42)는 소체(40)의 어느 한 측면부에 상호 이격되게 형성되되 해당 측면부에 노출된 내부 전극 패턴(도시 생략)과 연결되고 일단이 소체(40)의 상면으로 연장된다. 제 2외부 단자(44)는 상기 제 1외부 단자(42)가 형성된 측면부와 반대되는 측면부에 상호 이격되게 형성되되 해당 측면부에 노출된 내부 전극 패턴(도시 생략)과 연결되고 일단이 소체(40)의 상면으로 연장된다. 제 3외부 단자(46)는 소체(40)의 또다른 양측면부에 각각 형성되어 해당 측면부에 노출된 내부 전극 패턴(도시 생략)과 연결되고 일단이 상면으로 연장된다. 상기 제 3외부 단자(46)는 공통 단자(접지 전극)이다. 상기 저항체 패턴(48)은 소체(40)의 상면에서 상호 대향되고 있는 제 1 및 제 2외부 단자(42, 44)를 상호 연결하도록 형성된다. In the conventional stacked chip device, first to third
도 2는 도 1의 적층형 칩 소자의 내부 전극 패턴의 적층구조를 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 1의 적층형 칩 소자의 개략적인 단면도이다. 도 1의 적층형 칩 소자는 도 2에 예시된 바와 같은 내부 전극 패턴이 형성된 다수의 시트가 적층된 구조이다.2 is a perspective view illustrating a stacked structure of an internal electrode pattern of the stacked chip device of FIG. 1, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the stacked chip device of FIG. 1. The stacked chip device of FIG. 1 has a structure in which a plurality of sheets on which internal electrode patterns are formed as illustrated in FIG. 2 are stacked.
도 2에서, 제 1시트(10)에는 횡방향 일측 단부에서 타측 단부측으로 연장된 제 1내부 전극 패턴(12) 및 횡방향 타측 단부에서 일측 단부측으로 연장된 제 2내부 전극 패턴(14)이 각 단위 소자(40a, 40b, 40c, 40d)마다 하나씩 형성되어 있다. 그 제 1내부 전극 패턴(12)과 제 2내부 전극 패턴(14)은 상호 이격되고, 그 이격된 거리는 각 단위 소자별로 동일하다. 즉, 제 1시트(10)에는 각 단위 소자(40a, 40b, 40c, 40d)별로 측면의 외부 단자(42, 44)와 각각 연결되고 중심에서 서로 이격된 다수의 제 1내부 전극 패턴(12)과 제 2내부 전극 패턴(14)이 형성된다. 그리고, 도 2에서는 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(12, 14)은 연장부(12a, 14a)를 갖는 것으로 하였는데, 그 연장부(12a, 14a)가 없이 직접 해당 내부 전극 패턴의 일측이 해당 단위 소자의 횡방향 일측 단부 또는 타측 단부로 노출되어도 무방하다. 도 2에서, 제 2시트(20)에는 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(12, 14)과 교차하는 방향으로 양 대향 단부를 가로지르는 제 3내부 전극 패턴(22)이 형성되어 있다. 도 2에서, 상기 제 3내부 전극 패턴(22)의 종방향 양측 단부에는 연장부(22a)가 형성되어 있는 것으로 하였지만, 그 연장부(22a)가 없는 형상으로 하여도 된다. 여기서, 상기 내부 전극 패턴(12, 14, 22)을 내부 도전체 패턴이라고도 한다.In FIG. 2, the
이와 같이 내부 전극 패턴이 형성된 제 1시트(10) 및 제 2시트(20)를 제조하게 되면, 그 제 2시트(20)를 최하층으로 하여 그 위에 제 1시트(10)를 적층한 다음에 커버 시트(30)를 더 적층한다. 그 이후에, 이를 압착하고 나서, 절단, 베이크 아웃, 소성 공정을 순차적으로 실시하면 원하는 소체를 형성하게 된다. 상기 소성 공정까지 마쳐서 형성된 소체는 제 1 내지 제 3외부 단자(42, 44, 46) 및 저항체 패턴(48)이 형성되지 않은 상태의 소체이다. 그 소성 공정 이후에 제 1 내지 제 3외부 단자(42, 44, 46) 및 저항체 패턴(48)을 형성시키게 된다.When the
도 2에서는 내부 전극 패턴이 형성된 시트의 수를 2개로 하였는데, 그 시트의 수는 필요에 따라 증가되기도 한다. 즉, 제조된 제 1 및 제 2시트(10, 20)를 다양한 조합으로 3개 이상의 복수개로 적층하여 단일 칩을 이루어 커패시턴스값을 조절할 수도 있다.In FIG. 2, the number of sheets on which the internal electrode patterns are formed is set to two, and the number of sheets may be increased as necessary. That is, the capacitance value may be adjusted by forming a single chip by stacking three or more manufactured first and
도 3은 다수개의 단위 소자(40a, 40b, 40c, 40d)중에서 어느 한 단위 소자를 수직으로 절단한 도면으로서, C1은 상기 제 1내부 전극 패턴(12)에 해당되고, C2는 상기 제 2내부 전극 패턴(14)에 해당되며, G는 상기 제 3내부 전극 패턴(22)에 해당된다.FIG. 3 is a view in which any one of a plurality of
도 4는 도 3의 등가회로도로서, 입력단(IN)과 출력단(OUT) 사이에 저항(R)이 연결되고, 그 저항(R)의 양단과 접지 사이에 캐패시터(C1, C2)가 연결된다. 도 4의 입력단(IN) 및 출력단(OUT)은 도 3의 제 1 및 제 2외부 단자(42, 44)에 해당되고, 도 4의 캐패시터(C1)는 도 3의 C1에 해당되며, 도 4의 캐패시터(C2)는 도 3의 C2에 해당된다. 그리고, 도 4의 저항(R)은 도 1의 저항체 패턴(48)에 해당된다. 도 4에서, 그 캐패시터(C1, C2)를 바리스터로 보아도 된다. 도 4는 전형적인 파이형 RC필터 구조로서 바리스터가 과전압이 아닌 정상작동 전압인 정격전압이 인가될 경우에는 캐패시터의 역할을 하는 특성을 가지게 된다.4 is an equivalent circuit diagram of FIG. 3, in which a resistor R is connected between an input terminal IN and an output terminal OUT, and capacitors C1 and C2 are connected between both ends of the resistor R and ground. The input terminal IN and the output terminal OUT of FIG. 4 correspond to the first and second
도 3의 제 1외부 단자(42)를 도 4의 입력단(IN)으로 사용하고 도 3의 제 2외부 단자(44)를 도 4의 출력단(OUT)으로 사용하는 경우, 입력단(IN)인 제 1외부 단자(42)로 소정의 고주파 신호가 입력되면 저항(R)과 캐패시터(C1, C2)에 의해 결정되는 소정의 주파수대역의 신호는 접지 전극측으로 향하여 그 입력된 소정의 고주파 신호의 상당부분이 감쇄되고, 다른 주파수대역의 신호는 출력단(OUT)인 제 2외부 단자(44)로 출력된다. When the first
이와 반대로, 앞서 출력단으로 사용하였던 제 2외부 단자(44)를 입력단으로 사용하고 입력단으로 사용하였던 제 1외부 단자(42)를 출력단으로 사용하더라도 동일한 필터링 기능을 구현하게 된다.On the contrary, even when the second
도 5는 종래 적층형 칩소자의 특성 그래프이다. 도 5에서 특성(X)은 삽입 손실을 나타낸다. 도 4의 캐패시터(C1)와 캐패시터(C2)의 캐패시턴스값이 동일할 경우, 그 특성(X)은 약 900MHz 전후에 있는 통과대역에 대해서는 삽입 손실(즉, 감쇄)이 적어지는 특성을 보이고, 약 900MHz 근방의 주파수 대역(즉, 저지 대역(a))에서는 삽입 손실이 커짐을 보여준다.5 is a characteristic graph of a conventional stacked chip device. In Fig. 5, characteristic (X) represents insertion loss. When the capacitance values of the capacitor C1 and the capacitor C2 of FIG. 4 are the same, the characteristic (X) shows a characteristic that the insertion loss (i.e., attenuation) decreases for the passbands around about 900 MHz. In the frequency band around 900 MHz (i.e. stop band (a)), the insertion loss is increased.
그런데, 이러한 동작 특성을 보이는 종래의 적층형 칩소자는 저지 대역(a)에서의 감쇄량이 그리 크지 못하여 원하는 주파수대역의 신호 제거가 양호하게 이루어지지 않게 된다. 즉, 도 3의 단면도에서, 각 단위 소자별로 C1과 G 사이 및 G2와 G 사이에서 각각 캐패시턴스를 형성하게 되는데, 캐패시턴스만 형성하는 것이 아니 라 기생 인덕턴스를 함께 가지게 되어 의도한 감쇄 특성을 얻지 못하게 된다.However, in the conventional stacked chip device exhibiting such an operation characteristic, the attenuation in the stop band a is not so large that the signal removal of the desired frequency band is not performed well. That is, in the cross-sectional view of FIG. 3, capacitances are formed between C1 and G and G2 and G for each unit element, but the parasitic inductance is not formed, but the parasitic inductance is not obtained. .
그리고, 이와 같이 4개의 단위 소자(40a, 40b, 40c, 40d)가 병렬로 배치된 어레이 칩에서 각 단위 소자의 주파수 특성은 서로 상이하다. 단위 소자(40a)와 단위 소자(40b)를 예로서 설명하면, 단위 소자(40a)의 입력측(예컨대, 제 1외부 단자(42))에서 입력되는 신호는 최단거리에 있는 공통 단자인 제 3외부 단자(46)로 나간다. 이와 유사하게 단위 소자(40b)의 경우도 마찬가지로 입력측에서 입력되는 신호는 최단거리에 있는 제 3외부 단자(46)로 나간다. 그런데, 단위 소자(40b)는 단위 소자(40a)에 비해 빠져 나가는 길이가 길어지게 되어 등가 인덕턴스가 증가하게 되므로, 그 단위 소자(40b)에서의 공진 주파수는 그 단위 소자(40a)에서의 공진 주파수보다 감소하게 된다. 그에 따라, 단위 소자(40a)와 단위 소자(40b)간의 주파수 특성 차이(주파수 편차)가 발생하게 된다.In the array chip in which four
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 다수개의 단위 소자가 하나의 칩으로 제조된 적층형 어레이 칩에서 각 단위 소자간의 주파수 편차를 개선시킴과 더불어 저지대역에서의 감쇄량을 향상시키도록 한 적층형 칩 소자를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention has been proposed to solve the above-described problems. In the stacked array chip in which a plurality of unit devices are manufactured as one chip, the frequency deviation between the unit devices is improved and the attenuation in the stopband is improved. It is an object of the present invention to provide a stacked chip device.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 적층형 칩 소자는, 소체의 상면에 형성된 전자 소자 패턴; 상기 소체의 제 1측면의 제 1외부 단자에 연결되게 형성된 제 1내부 전극 패턴; 상기 소체의 제 2측면의 제 2외부 단자에 연결되게 형성된 제 2내부 전극 패턴; 상기 소체의 제 3측면의 제 3외부 단자에 연결되게 형성된 제 3내부 전극 패턴; 및 상기 제 1 내지 제 3외부 단자와 직접 연결되지 않는 보조 전극 패턴을 포함하고,In order to achieve the above object, a stacked chip device according to a preferred embodiment of the present invention includes an electronic device pattern formed on an upper surface of a body; A first inner electrode pattern formed to be connected to a first outer terminal of the first side of the body; A second inner electrode pattern formed to be connected to a second outer terminal of the second side of the body; A third inner electrode pattern formed to be connected to a third outer terminal of the third side of the body; And auxiliary electrode patterns that are not directly connected to the first to third external terminals,
상기 전자 소자 패턴의 일측은 상기 제 1외부 단자에 연결되고, 상기 전자 소자 패턴의 타측은 상기 제 2외부 단자에 연결되며, 상기 보조 전극 패턴의 일부는 각각 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 대향되는 것을 특징으로 한다.One side of the electronic device pattern is connected to the first external terminal, the other side of the electronic device pattern is connected to the second external terminal, and a part of the auxiliary electrode pattern is respectively the first and second internal electrode patterns; It is characterized by opposing.
상기 전자 소자 패턴은 저항체 패턴 또는 인덕터 패턴이다.The electronic device pattern is a resistor pattern or an inductor pattern.
상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴은 하나의 시트에 서로 이격되게 형성되는데, 상기 보조 전극 패턴은 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴의 상부 또는 하부에 시트를 개재하여 형성되되, 상기 보조 전극 패턴의 일측이 상기 제 1내부 전극 패턴에 대향되고 상기 보조 전극 패턴의 타측이 상기 제 2내부 전극 패턴에 대향된다.The first and second internal electrode patterns are formed to be spaced apart from each other on one sheet, and the auxiliary electrode pattern is formed by interposing a sheet above or below the first and second internal electrode patterns. One side of is opposite to the first inner electrode pattern and the other side of the auxiliary electrode pattern is opposite to the second inner electrode pattern.
상기 제 1내부 전극 패턴과 제 2내부 전극 패턴 및 보조 전극 패턴은 상기 제 3내부 전극 패턴을 중심으로 상하 대칭되게 적층되는데, 상기 제 3내부 전극 패턴을 중심으로 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 보조 전극 패턴과 대칭되도록 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 보조 전극 패턴에 상응하는 패턴들이 적층된다.The first internal electrode pattern, the second internal electrode pattern, and the auxiliary electrode pattern may be stacked vertically and symmetrically around the third internal electrode pattern, and the first and second internal electrode patterns may be formed around the third internal electrode pattern. Patterns corresponding to the first and second internal electrode patterns and the auxiliary electrode pattern are stacked to be symmetrical with the auxiliary electrode pattern.
상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴은 각 단위 소자내에서 서로 다른 시트에 형성되기도 한다. 이 경우, 상기 제 1 내지 제 3내부 전극 패턴은 상기 보조 전극 패턴을 중심으로 상하 점대칭되게 적층되는데, 상기 보조 전극 패턴의 상부에 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴중의 하나와 상기 제 3내부 전극 패턴이 적층되고, 상기 보조 전극 패턴의 하부에 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴중의 다른 하나와 상기 제 3내부 전극 패턴에 상응하는 패턴이 적층된다.The first and second internal electrode patterns may be formed on different sheets in each unit device. In this case, the first to third internal electrode patterns are stacked vertically and symmetrically around the auxiliary electrode pattern, wherein one of the first and second internal electrode patterns and the third internal part are disposed on the auxiliary electrode pattern. An electrode pattern is stacked, and a pattern corresponding to another one of the first and second internal electrode patterns and the third internal electrode pattern is stacked below the auxiliary electrode pattern.
다르게는, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는, 전자 소자 패턴이 형성되고 소체의 상면에 배치되는 커버 시트; 상기 소체의 제 1측면의 제 1외부 단자에 연결되게 형성된 제 1내부 전극 패턴 및 상기 소체의 제 2측면의 제 2외부 단자에 연결되게 형성된 제 2내부 전극 패턴을 갖는 제 1내부 시트; 상기 소체의 제 3측면의 제 3외부 단자에 연결되게 형성된 제 3내부 전극 패턴을 갖는 제 2내부 시트; 및 상기 제 1 내지 제 3외부 단자와 직접 연결되지 않는 보조 전극 패턴을 갖는 보조 내부 시트를 포함하고,Alternatively, the stacked chip device according to an embodiment of the present invention, the cover sheet is formed on the upper surface of the body and the electronic device pattern is formed; A first inner sheet having a first inner electrode pattern formed to be connected to a first outer terminal of the first side of the body and a second inner electrode pattern formed to be connected to a second outer terminal of the second side of the body; A second inner sheet having a third inner electrode pattern formed to be connected to a third outer terminal of the third side of the body; And an auxiliary inner sheet having an auxiliary electrode pattern not directly connected to the first to third external terminals.
상기 전자 소자 패턴의 일측은 상기 제 1외부 단자에 연결되고, 상기 전자 소자 패턴의 타측은 상기 제 2외부 단자에 연결되며, 상기 보조 전극 패턴의 일부는 각각 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 대향되는 것을 특징으로 한다.One side of the electronic device pattern is connected to the first external terminal, the other side of the electronic device pattern is connected to the second external terminal, and a part of the auxiliary electrode pattern is respectively the first and second internal electrode patterns; It is characterized by opposing.
여기서, 상기 제 1내부 시트 및 보조 내부 시트는 상기 제 2내부 시트를 중심으로 상하 대칭되게 적층된다.Here, the first inner sheet and the auxiliary inner sheet are stacked up and down symmetrically about the second inner sheet.
또 다르게는, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는, 전자 소자 패턴이 형성되고 소체의 상면에 배치되는 커버 시트; 상기 소체의 제 1측면의 제 1외부 단자에 연결되게 형성된 제 1내부 전극 패턴을 갖는 제 1내부 시트; 상기 소체의 제 2측면의 제 2외부 단자에 연결되게 형성된 제 2내부 전극 패턴을 갖는 제 2내부 시트; 상기 소체의 제 3측면의 제 3외부 단자에 연결되게 형성된 제 3내부 전극 패턴 을 갖는 제 3내부 시트; 및 상기 제 1 내지 제 3외부 단자와 직접 연결되지 않는 보조 전극 패턴을 갖는 보조 내부 시트를 포함하고,Alternatively, the stacked chip device according to an embodiment of the present invention, the cover sheet is formed on the electronic device pattern is formed on the upper surface of the body; A first inner sheet having a first inner electrode pattern formed to be connected to a first outer terminal of the first side of the body; A second inner sheet having a second inner electrode pattern formed to be connected to a second outer terminal of the second side of the body; A third inner sheet having a third inner electrode pattern formed to be connected to a third outer terminal of the third side of the body; And an auxiliary inner sheet having an auxiliary electrode pattern not directly connected to the first to third external terminals.
상기 전자 소자 패턴의 일측은 상기 제 1외부 단자에 연결되고, 상기 전자 소자 패턴의 타측은 상기 제 2외부 단자에 연결되며, 상기 보조 전극 패턴의 일부는 각각 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 대향되는 것을 특징으로 한다.One side of the electronic device pattern is connected to the first external terminal, the other side of the electronic device pattern is connected to the second external terminal, and a part of the auxiliary electrode pattern is respectively the first and second internal electrode patterns; It is characterized by opposing.
여기서, 상기 보조 내부 시트의 상부에 상기 제 1 및 제 2내부 시트중의 하나와 상기 제 3내부 시트가 적층되고, 상기 보조 내부 시트의 하부에 상기 제 1 및 제 2내부 시트중의 다른 하나와 상기 제 3내부 시트에 상응하는 시트가 적층된다.Here, one of the first and second inner sheets and the third inner sheet are laminated on the upper portion of the auxiliary inner sheet, and the other of the first and second inner sheets is lowered on the lower portion of the auxiliary inner sheet. Sheets corresponding to the third inner sheet are laminated.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자에 대하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a multilayer chip device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
(제 1실시예 설명)(Description of the first embodiment)
도 6은 본 발명의 제 1실시예에 따른 적층형 칩 소자의 외관사시도로서, 본 발명의 적층형 칩 소자는 외관상 앞서 설명한 종래의 적층형 칩 소자와 동일하고 소체 내부의 패턴 적층 구조에서 차이난다. FIG. 6 is an external perspective view of a stacked chip device according to a first embodiment of the present invention, in which the stacked chip device of the present invention is identical to the conventional stacked chip device described above, and is different from the pattern stacked structure inside the body.
즉, 제 1실시예의 적층형 칩 소자는, 제 1 내지 제 3외부단자(62, 64, 66)가 소체(60)의 측면부에 각각 형성되고, 저항체 패턴(68)이 소체(60)의 상면에 각 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)마다 형성된다. 즉, 제 1외부 단자(62)는 소체(60)의 어느 한 측면부에 상호 이격되게 형성되되 해당 측면부에 노출된 내부 전극 패턴(도시 생략)과 연결되고 일단이 소체(60)의 상면으로 연장된다. 제 2외부 단자(64) 는 상기 제 1외부 단자(62)가 형성된 측면부와 반대되는 측면부에 상호 이격되게 형성되되 해당 측면부에 노출된 내부 전극 패턴(도시 생략)과 연결되고 일단이 소체(60)의 상면으로 연장된다. 제 3외부 단자(66)는 소체(60)의 또다른 양측면부에 각각 형성되어 해당 측면부에 노출된 내부 전극 패턴(도시 생략)과 연결되고 일단이 상면으로 연장된다. 상기 제 3외부 단자(66)는 공통 단자(접지 전극)이다. 상기 저항체 패턴(68)은 소체(60)의 상면에서 상호 대향되고 있는 제 1 및 제 2외부 단자(62, 64)를 상호 연결하도록 형성된다. That is, in the stacked chip device of the first embodiment, the first to third
도 7은 본 발명의 제 1실시예에 채용되는 패턴의 적층구조를 나타낸 사시도로서, 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(12, 14)이 형성된 제 1시트(10)와 제 3내부 전극 패턴(22)이 형성된 제 2시트(20)와 보조 전극 패턴(52)이 형성된 제 3시트(50) 및 커버 시트(30)를 갖춘다. 도 2와 비교하여 볼 때 제 3시트(50)가 더 구비된 것이므로, 이하에서는 도 2에서 설명한 구성요소와 동일한 구성요소에 대해서는 참조부호를 동일하게 부여하면서 그에 대한 설명은 도 2에서의 설명으로 대체한다.FIG. 7 is a perspective view illustrating a stacked structure of a pattern employed in the first embodiment of the present invention, in which the
상기 제 3시트(50)에는 각 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)마다 보조 전극 패턴(52)이 형성된다. 그 보조 전극 패턴(52)은 상기 제 1 내지 제 3외부 단자(62, 64, 66)중 어떠한 단자에도 직접 연결되지 않는다. 각 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)마다 형성된 보조 전극 패턴(52)들간의 이격 거리는 상호 동일하다. 물론, 필요에 따라서는 그 보조 전극 패턴(52)들간의 이격 거리를 다르게 조정하여도 된다. 이 경우에는 각 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)별로 형성되는 저항체 패턴(68) 및 내부 전극 패턴(12, 14)의 배치 역시 조정될 수 있다. 그리고, 상기 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)간의 주파수 편차를 개선하기 위해(즉, 일치시키기 위해) 상기 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)마다 형성되는 보조 전극 패턴(52)의 크기(면적)를 다르게 하는 것이 바람직하다. 상기 보조 전극 패턴(52)을 플로팅(floating) 전극 패턴이라고도 한다.An
도 8은 도 6의 적층형 칩 소자의 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)중에서 어느 한 단위 소자를 수직으로 절단한 단면도로서, C1은 상기 제 1내부 전극 패턴(12)에 해당되고, C2는 상기 제 2내부 전극 패턴(14)에 해당된다. 그리고, C3는 상기 보조 전극 패턴(52)에 해당되며, G는 상기 제 3내부 전극 패턴(22)에 해당된다. 그 C1을 제 1내부 전극이라 하여도 되고, C2를 제 2내부 전극이라 하여도 되며, C3를 보조 전극이라 하여도 되고, G를 제 3내부 전극이라 하여도 된다.FIG. 8 is a cross-sectional view of any one of the
도 9는 도 8의 등가회로도이다. 입력단(IN)과 출력단(OUT) 사이에 저항(R)이 연결되고, 그 저항(R)의 양단과 접지 사이에 캐패시터(C1, C2)가 연결된다. 그리고, 캐패시터(C3)가 그 캐패시터(C1, C2)에 직렬로 연결된다. 9 is an equivalent circuit diagram of FIG. 8. A resistor R is connected between the input terminal IN and the output terminal OUT, and capacitors C1 and C2 are connected between both ends of the resistor R and ground. The capacitor C3 is connected in series with the capacitors C1 and C2.
도 9의 입력단(IN) 및 출력단(OUT)은 도 8의 제 1 및 제 2외부 단자(42, 44)에 해당되고, 도 9의 저항(R)은 도 8의 저항체 패턴(68)에 해당된다. 도 9의 캐패시터(C1)의 두 전극중에서 입력단(IN)에 연결되어 있는 전극이 도 8의 C1으로 되고, 도 9의 캐패시터(C2)의 두 전극중에서 출력단(OUT)에 연결되어 있는 전극이 도 8의 C2로 된다. 따라서, 도 9의 캐패시터(C1)는 도 8의 C1과 G 사이에서 형성되는 캐패시턴스를 갖는다. 그리고, 도 9의 캐패시터(C2)는 도 8의 C2와 G 사이에서 형성되는 캐패시턴스를 갖는다. 그리고, 도 9의 캐패시터(C3)는 도 8의 C1과 C3 사이에서의 캐패시턴스 및 C2와 C3 사이에서의 캐패시턴스를 갖는다. 이에 따라, 동종업계에 종사하는 당업자라면 후술할 제 2실시예 및 제 3실시예의 C1, C2, C3, C4, C5, C6의 경우에 대해서도 상술한 도 9의 C1, C2, C3에 대한 설명으로 충분히 이해되어진다. The input terminal IN and the output terminal OUT of FIG. 9 correspond to the first and second
도 9에서, C1 및 C2를 바리스터로 보아도 된다. 도 9는 전형적인 파이형 RC필터 구조에 캐패시터(C3)가 추가로 직렬로 설치된 것으로서, 이러한 구조는 바리스터가 과전압이 아닌 정상작동 전압인 정격전압이 인가될 경우에는 캐패시터의 역할을 하는 특성을 가지게 된다.In Fig. 9, C1 and C2 may be viewed as varistors. FIG. 9 shows a capacitor C3 installed in series in a typical PI-type RC filter structure. This structure has a characteristic of acting as a capacitor when a varistor is applied with a normal operating voltage instead of an overvoltage. .
도 8의 제 1외부 단자(62)를 도 9의 입력단(IN)으로 사용하고 도 8의 제 2외부 단자(64)를 도 9의 출력단(OUT)으로 사용하는 경우, 입력단(IN)인 제 1외부 단자(62)로 소정의 고주파 신호가 입력되면 저항(R)과 캐패시터(C1, C2)에 의해 결정되는 소정의 주파수대역의 신호는 접지 전극측으로 향하여 그 입력된 소정의 고주파 신호의 상당부분이 감쇄되고, 다른 주파수대역의 신호는 출력단(OUT)인 제 2외부 단자(64)로 출력된다. 이때, 상기 캐패시터(C1, C2)에 직렬로 연결된 캐패시터(C3)에 의해서도 캐패시턴스가 형성되므로 감쇄 특성을 더욱 향상시킨다. 다시 말해서, 도 9의 캐패시터(C1, C2, C3)에 의한 공진 주파수를 상호 동일하게 조정하면 도 10에서와 같이 감쇄극(attenuation pole)은 하나인 것처럼 되고, 필터의 차수가 증가하기 때문에 종래의 적층형 칩소자의 삽입 손실 특성(X) 보다 양호한 삽입 손실 특성(Y)을 보여준다. 즉, 종래의 적층형 칩소자 및 본 발명의 적층형 칩소자는 약 900MHz 근방의 주파수 대역(즉, 저지 대역(a))에서 삽입 손실(즉, 감쇄)이 커짐을 알 수 있는데, 약 900MHz 주파수 대역(즉, 저지 대역(a))에서 종래의 적층형 칩소자의 삽입 손실량은 32dB 정도이고 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩소자의 삽입 손실량은 49dB 정도이므로, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩소자에서의 삽입 손실 특성이 종래의 적층형 칩소자에서의 삽입 손실 특성보다 우수함을 알 수 있다. 도 10에서 Y는 제 1실시예 구조에 의한 삽입 손실의 특성을 의미한다. 물론, 캐패시터(C1, C2, C3)의 캐패시턴스 및 각각의 등가 직렬 인덕턴스값을 조정하게 되면 각각의 단위 소자의 공진 주파수를 다르게 할 수 있고, 이로 인해 대역폭을 넓힐 수 있다. 이와 같이 본 발명은 각 캐패시턴스값의 자유로운 조정이 가능하다.When the first
이와 같이 저지 대역(a)에서의 감쇄 특성이 개선됨에 따라, 종래의 적층형 칩 소자에 비해 원하는 주파수대역의 신호 제거를 확실하게 행하게 된다.As such, the attenuation characteristic in the stop band a is improved, so that signal removal in a desired frequency band can be reliably performed as compared with a conventional stacked chip element.
이와 반대로, 도 9의 설명에서 출력단으로 사용하였던 제 2외부 단자(64)를 입력단으로 사용하고 입력단으로 사용하였던 제 1외부 단자(62)를 출력단으로 사용하더라도 앞서 설명한 바와 같은 필터링 기능을 동일하게 구현하게 된다.On the contrary, even though the second
한편, 예를 들어 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)중에서 내측의 단위 소자(60b, 60c)에 형성되는 보조 전극 패턴(52)과 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(12, 14)과의 대향 면적을, 외측의 단위 소자(60a, 60d)에 형성되는 보조 전극 패턴(52)과 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(12, 14)과의 대향 면적과 다르게 하면 각 단위 소자별 공진 주파수값의 조정이 가능하게 되어 그 단위 소자(60b, 60c)에서 채널간의 편차를 보정할 수 있게 되어 각 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)간의 주파수 편차를 개선시키게 된다.On the other hand, for example, the
도 11은 본 발명의 제 1실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제조 공정을 설명하기 위한 도면이다. 하기의 제조 공정은 본 발명의 제 1실시예의 적층형 칩 소자를 제조할 수 있는 다양한 제조 공정중에서 하나의 예가 되는 것일뿐, 하기의 제조 공정으로만 국한되는 것은 아니다. 하기의 제조 공정을 그대로 따르지 않더라도 본 발명에서 구현하고자 하는 적층형 칩 소자를 제조할 수 있는 방법이라면 어떠한 것이라도 채택가능하다.11 is a view for explaining a manufacturing process of the stacked chip device according to the first embodiment of the present invention. The following manufacturing process is merely one example of various manufacturing processes capable of manufacturing the stacked chip device of the first embodiment of the present invention, and is not limited to the following manufacturing process. Any method can be adopted as long as it can produce the stacked chip device to be implemented in the present invention without following the manufacturing process as it is.
우선, 원하는 소자용 성형 시트를 제조한다. 바리스터 소자를 제조한다면, 공업용으로 시판하고 있는 바리스터 소자의 원료 분말을 이용하거나 ZnO 분말에 Bi2O3, CoO, MnO 등의 첨가제를 넣은 원하는 조성에 물 또는 알코올 등을 용매로 24시간 볼밀(ball mill)하여 원료분말을 준비한다. 성형 시트를 준비하기 위해 상기 준비된 배리스터용 분말에 첨가제로 PVB계 바인더(binder)를 원료 분말 대비 약 6wt% 정도 측량한 후 톨루엔/알코올(toluene/alcohol)계 솔벤트(solvent)에 용해시켜 투입한 후 소형 볼밀로 약 24시간 동안 밀링(milling) 및 혼합하여 슬러리(slurry)를 제조한다. 이러한 슬러리를 닥터 블레이드(doctor blade) 등의 방법으로 원하는 두께의 성형 시트를 제조한다. 이때 커패시터 소자용 조성의 원료 분말, PTC(positive temperature coefficient) 서미스터 소자용 조성의 원료 분말, 또는 NTC(negative temperature coefficient) 서미스터 소자용 조성의 원료 분말도 상기와 같은 방법으로 원하는 두께의 성형 시트로 제조할 수 있다. First, a desired molded sheet for an element is produced. If the varistor element is manufactured, a ball mill (ball or ball) is used for 24 hours using water or alcohol in a desired composition using raw material powder of a commercial varistor element or adding an additive such as Bi 2 O 3 , CoO, MnO to ZnO powder. mill) to prepare the raw powder. In order to prepare a molded sheet, PVB-based binder (Binder) is measured as an additive to the prepared varistor powder, and then dissolved in toluene / alcohol (toluene / alcohol) -based solvent (solvent) as an additive. A slurry is prepared by milling and mixing for about 24 hours in a small ball mill. This slurry is manufactured into a molded sheet having a desired thickness by a method such as a doctor blade. At this time, the raw material powder of the composition for the capacitor element, the raw material powder of the composition for the PTC (positive temperature coefficient) thermistor element, or the raw material powder of the composition for the negative temperature coefficient (NTC) thermistor element is also produced into a molded sheet having a desired thickness in the same manner. can do.
제조된 성형 시트 위에 스크린 프린팅 등의 후막 제조법 혹은 스퍼터링법, 증발법, 기상화학증착법, 졸겔 코팅법 등의 박막제조법으로 Ag, Pt, Pd 등의 도전성 페이스트를 형성시켜 내부 전극 패턴이 형성된 시트를 제조한다. A sheet having an internal electrode pattern is formed by forming a conductive paste such as Ag, Pt, or Pd on a formed sheet by forming a thin film such as screen printing, or a thin film manufacturing method such as sputtering, evaporation, vapor chemical vapor deposition, or sol gel coating. do.
즉, 도 7에서와 같이, 다수개의 제 1내부 전극 패턴(12)이 횡방향 일측 단부에서 타측 단부측으로 연장되고 다수개의 제 2내부 전극 패턴(14)이 횡방향 타측 단부에서 일측 단부측으로 연장된 제 1시트(10)를 제조하고, 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(12, 14)과 교차하는 방향으로 양 대향 단부를 가로지르는 제 3내부 전극 패턴(22)이 형성된 제 2시트(20)를 제조하며, 각 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)마다 상기 제 1 내지 제 3외부 단자(62, 64, 66)중 어떠한 단자에도 연결되지 않는 보조 전극 패턴(52)이 형성된 제 3시트(50)를 제조한다. That is, as shown in FIG. 7, the plurality of first
이후, 그 제 2시트(20)를 최하층으로 하여 그 위에 제 1시트(10)를 적층하고 나서 그 위에 제 3시트(50)를 적층한 다음에 커버 시트(30)를 적층한다. 그 이후에, 이를 압착하고 나서, 절단, 베이크 아웃, 소성 공정을 순차적으로 실시하여 원하는 소체(60; 도 11의 (a)참조)를 형성한다. EMI특성을 구현하기 위한 R-C필터의 캐패시터(C) 또는 R-V필터의 바리스터가 구현된 것으로 보면 된다. 제 1실시예에서는 패턴이 형성된 시트의 수를 3개로 하였으나 그 시트의 수는 4개 이상이어도 무방하다. 즉, 제조된 제 1 내지 제 3시트(10, 20, 50)를 다양한 조합으로 4개 이상의 복수개로 적층하여 단일 칩을 이루어 캐패시턴스값을 조절할 수도 있다. 그리 고, 제 1시트(10)와 제 2시트(20) 및 제 3시트(50)에 형성된 패턴의 형상은 도 7과 다른 형상이어도 무방하다. 그리고, 도 11의 (a)에서는 소체(60)를 구성하는 단위 소자를 4개로 하였는데, 적어도 하나 이상이면 된다. 이러한 내용은 이하의 실시예 설명에 그대로 적용된다.Subsequently, the
이어, 그 소체(60) 내부에 형성된 내부 전극 패턴(12, 14)과 추후에 상면에 형성시킬 저항체 패턴(68)을 연결하고 표면실장을 용이하게 하기 위해, 통상적인 터미네이션 시스템을 이용하여 소체(60)의 측면부에 제 1 내지 제 3외부 단자(62, 64, 66)를 형성한다. 즉, 제 1외부 단자(62)는 소체(60)의 어느 한 측면부에 상호 이격되게 형성되되 해당 측면부에 노출된 각각의 내부 전극 패턴(12; 보다 정확하게는 연장부(12a))과 연결되고 일단이 소체(60)의 상면으로 연장된다. 제 2외부 단자(64)는 상기 제 1외부 단자(62)가 형성된 측면부와 반대되는 측면부에 상호 이격되게 형성되되 해당 측면부에 노출된 각각의 내부 전극 패턴(14; 보다 정확하게는 연장부(14a))과 연결되고 일단이 소체(60)의 상면으로 연장된다. 제 3외부 단자(66)는 소체(60)의 또다른 측면부에 형성되어 해당 측면부에 노출된 내부 전극 패턴(22; 보다 정확하게는 연장부(22a))과 연결되고 일단이 상면으로 연장된다. 도 11의 (b)에서는 제 3외부 단자(66)가 하나만 보이지만, 그 제 3외부 단자(66)가 보이는 측면부와 반대되는 측면부에도 그 제 3외부 단자(66)와 동일한 외부 단자가 형성된다. 물론, 필요에 따라서 어느 한 측면부에만 그 제 3외부 단자(66)를 형성시켜도 된다.Subsequently, in order to connect the
이어, 제 1 내지 제 3외부 단자(62, 64, 66)를 세라믹 재질의 소체(60)와 결 합시키기 위해 500 내지 850℃ 정도의 온도에서 1차 열처리를 행한다. Subsequently, the first heat treatment is performed at a temperature of about 500 to 850 ° C. in order to bond the first to third
1차 열처리후에는 R-C필터 또는 R-V필터의 저항(R)을 구현하기 위해 도 11의 (c)에서와 같이 소체(60)의 상면에 저항체 패턴(68)을 형성한다. 본 발명의 특허청구범위에서 "전자소자 패턴"이라 함은 상기의 저항체 패턴을 포함하여 인덕터 패턴 등 소정의 전기적 특성을 발휘하는 도전성의 패턴을 모두 포함한다. 상기 저항체 패턴(68) 형성 공정은 EMI 필터의 삽입 손실과 공진 주파수를 조절하게 하고 노이즈 감쇄 효과를 증대시키며 입력/출력 단자를 전기적으로 연결하여 데이터 전송 선로 역할을 수행할 수 있도록 하기 위함이다. 그 저항체 패턴(68)은 RuO2를 기본 물질로 하는 도전체에 유리 및 Pd, Ti 등을 첨가하여 일정한 면저항값을 가지는 페이스트(paste)를 이용하여 인쇄 공정을 통하여 구현된다. 즉, 상기 저항체 패턴(68)은 도 11의 (c)에서와 같이 직선 형태로 각 단위 소자(60a, 60b, 60c, 60d)에 형성된다. 그에 따라, 상기 저항체 패턴(68)의 일측면 저부는 상기 제 1외부 단자(62)의 일단부 상면에 접속되고 타측면 저부는 상기 제 2외부 단자(64)의 일단부 상면에 접속되게 인쇄된다.After the first heat treatment, a
일반적으로, 저항값은 저항체의 인쇄폭과 두께에 반비례하고 길이에 정비례한다. 외부 단자(62, 64)를 저항 인쇄용 패드로 직접 사용할 경우에는 소체(60)의 상면에 노출된 외부 단자(62, 64) 양단의 최단거리가 일정하지 않을 수도 있어서 저항 공차 조절에 어려움이 발생되기도 한다. 따라서, 외부 단자(62, 64)와의 접촉을 원활히 하고 이격 거리를 일정하게 조절하기 위한 전도성의 금속 패드를 상기 제 1 및 제 2외부 단자(62, 64)상에 형성한 후에 상기 저항체 패턴(68)을 형성시켜 도 된다.In general, the resistance value is inversely proportional to the printing width and thickness of the resistor and directly proportional to the length. When the
상기 저항체 패턴(68)이 형성되면, 그 저항체 패턴(68)이 형성된 소체들에 대하여 2차 열처리를 실시한다. 그 2차 열처리에 의해 상기 제 1 내지 제 3외부 단자(62, 64, 66)와 저항체 패턴(68)이 상호 결합된다. 그 2차 열처리시의 온도는 500 내지 850℃ 정도이다. When the
그 2차 열처리이후에는 상기 저항체 패턴(68)이 형성된 소체(60)의 상면을 습기 등의 외부환경으로부터 보호하기 위해 유리(glass) 또는 에폭시 등의 재질을 사용하여 오버글레이징을 실시한다.After the second heat treatment, in order to protect the upper surface of the
이와 같이 하면 제 1실시예의 적층형 칩 소자가 제조된다. 한편, 상술한 제 1실시예의 설명에서는 외부 단자(62, 64, 66)를 형성하고 나서 저항체 패턴(68)을 형성하는 것으로 설명하였는데, 반대로 저항체 패턴(68)을 형성하고 나서 외부 단자(62, 64, 66)를 형성하여도 된다.In this way, the stacked chip element of the first embodiment is manufactured. On the other hand, in the above description of the first embodiment, the
(제 2실시예 설명)(Explanation of the second embodiment)
도 12는 본 발명의 제 2실시예에 따른 적층형 칩 소자의 개략적인 단면도로서, 적층형 칩 소자의 제조 공정의 방향성을 고려한 구조이다. 통상적으로, 적층형 칩소자 제조시 다양한 내부 전극 패턴이 형성된 다수의 시트를 적층하여 소체를 형성하고 나서, 그 소체의 최상부의 커버 시트상에 저항체 패턴을 형성시키게 된다. 따라서, 그 저항체 패턴은 소체의 상면에만 형성시키는 것이므로 소체의 상면과 하면에 대한 방향성을 구분해야 되는 번거러움이 있다. 만일, 상하부가 뒤섞여 있는 소체들에 대하여 상하부 선별을 행하지 않은 채로 저항체 패턴을 형성시킨다고 한다면 소체의 상면에 저항체 패턴이 형성된 정상적인 제품 뿐만 아니라 소체의 하면에 저항체 패턴이 형성된 비정상적인 제품들이 발생하여 생산수율을 떨어뜨리게 된다. 12 is a schematic cross-sectional view of a stacked chip device according to a second exemplary embodiment of the present invention, and has a structure in consideration of the directionality of a manufacturing process of the stacked chip device. In general, in manufacturing a stacked chip device, a plurality of sheets having various internal electrode patterns formed thereon are stacked to form a body, and then a resistor pattern is formed on a top cover sheet of the body. Therefore, since the resistor pattern is formed only on the upper surface of the body, there is a hassle to distinguish the orientation of the upper surface and the lower surface of the body. If the resistive pattern is formed without the upper and lower sorting of the bodies mixed with the upper and lower parts, not only the normal product having the resistor pattern formed on the upper surface of the body but also the abnormal products having the resistor pattern formed on the lower surface of the body result in increased production yield. Dropped.
따라서, 상하부 선별에 소요되는 시간 및 생산수율 저하 등을 없애기 위해 제 2실시예에서는 공통 단자인 제 3외부 단자와 연결될 내부 전극 패턴(G)을 중심으로 상하 대칭되게 구성시켰다. 즉, 도 12를 도 8과 비교하여 보면, 제 1 내지 제 3내부 전극 패턴(C1, C2, G) 및 보조 전극 패턴(C3)이 소체의 내부에 형성되어 있는 것은 도 12와 도 8의 구조가 상호 동일하지만, 도 12에서는 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(C1, C2)과 동일한 형태로 된 내부 전극 패턴(C4, C5) 및 상기 보조 전극 패턴(C3)과 동일한 형태로 된 보조 전극 패턴(C6)이 그 제 3내부 전극 패턴(G)의 하층에 추가로 갖추어진다. Therefore, in order to eliminate the time required for top and bottom sorting and the decrease in production yield, the second embodiment is configured to be vertically symmetric about the internal electrode pattern G to be connected to the third external terminal, which is a common terminal. That is, when FIG. 12 is compared with FIG. 8, the first to third internal electrode patterns C1, C2, and G and the auxiliary electrode pattern C3 are formed inside the body of FIGS. 12 and 8. 12 are the same, but in FIG. 12, auxiliary electrodes having the same shape as the internal electrode patterns C4 and C5 and the auxiliary electrode pattern C3 having the same shape as the first and second internal electrode patterns C1 and C2. The pattern C6 is further provided below the third inner electrode pattern G.
소체 내부를 이와 같이 구성시키게 되면 소체 내부의 패턴 적층 구조가 상하 대칭되게 적층된 구조이므로 저항체 패턴을 형성시킬 때 소체의 상하부 선별작업없이 바로 저항체 패턴을 형성시킬 수 있게 된다. 그리고, 도 12에 대한 등가회로도를 도시하지 않았지만, 그 보조 전극 패턴(C3)은 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(C1, C2)에 직렬로 연결되고, 보조 전극 패턴(C6)은 내부 전극 패턴(C4, C5)에 직렬로 연결된다.When the inside of the body is configured as described above, since the pattern stacking structure inside the body is stacked vertically and symmetrically, when the resistor pattern is formed, the resistor pattern can be immediately formed without selecting the top and bottom parts of the body. Although not shown in the equivalent circuit diagram of FIG. 12, the auxiliary electrode pattern C3 is connected in series to the first and second internal electrode patterns C1 and C2, and the auxiliary electrode pattern C6 is an internal electrode. It is connected in series to the patterns C4 and C5.
상술한 도 12는 본 발명의 제 2실시예의 구조를 제 1실시예와 비교하기 편리하도록 도시한 것으로서, 보다 정확하게는 도 12에 기재된 참조부호 C1, C2, C3, C4, C5, C6, G 사이에서의 캐패시턴스는 상술한 도 8 및 도 9의 설명에 준하여 이해하면 된다. 이러한 이해는 동종업계에 종사하는 당업자라면 자명하다는 사실을 누구라도 알 수 있다. FIG. 12 described above shows the structure of the second embodiment of the present invention so as to be convenient for comparison with the first embodiment, and more precisely, reference numerals C1, C2, C3, C4, C5, C6, and G described in FIG. The capacitance in may be understood according to the description of FIGS. 8 and 9 described above. Anyone can appreciate this understanding will be apparent to those skilled in the art.
상술한 도 12의 구조는 소체의 전체 크기 및 구현하려는 캐패시턴스값에 따라 여유 공간이 발생하는 경우에 특히 유용한 구조이다. 도 12의 구조는 상술한 제 1실시예에서와 같이 종래의 구조보다 우수한 삽입 손실 특성을 갖게 되며, 특히 제 1실시예의 구조보다 캐패시턴스값이 높아서 제 1실시예의 구조보다 삽입 손실량이 더 큰 감쇄극을 얻게 된다.The structure of FIG. 12 described above is particularly useful when free space is generated depending on the total size of the body and the capacitance value to be implemented. The structure of FIG. 12 has an insertion loss characteristic superior to that of the conventional structure as in the first embodiment described above. In particular, the attenuation electrode having a larger capacitance than that of the first embodiment has a larger insertion loss than that of the first embodiment. You get
그리고, 도 12의 구조는 상술한 제 1실시예에서의 제조 공정에 따라 제조하게 되면 충분히 제조가능하다.And, the structure of Fig. 12 can be sufficiently manufactured by manufacturing according to the manufacturing process in the above-described first embodiment.
(제 3실시예 설명)(Description of the third embodiment)
도 13은 본 발명의 제 3실시예에 따른 적층형 칩 소자의 개략적인 단면도이고, 도 14는 본 발명의 제 3실시예에 채용되는 패턴의 적층구조를 나타내는 사시도이다. 제 3실시예의 구조 역시 제 2실시예에서와 같이 적층형 칩 소자의 제조 공정의 방향성을 고려한 구조이다. FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of a stacked chip device according to a third exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 14 is a perspective view illustrating a stacked structure of a pattern employed in the third exemplary embodiment of the present invention. The structure of the third embodiment is also a structure in consideration of the directionality of the manufacturing process of the stacked chip device as in the second embodiment.
제 3실시예에서는 상하부 선별에 소요되는 시간 및 생산수율 저하 등을 없애기 위해, 보조 전극 패턴(C3)을 중심으로 상하 점대칭되게 구성시켰다. 제 2실시예와 비교하여 보면, 소체 내부에 적층되는 시트의 수는 5개로 상호 동일하다. 그러나, 제 2실시예는 제 1내부 전극 패턴(C1)과 제 2내부 전극 패턴(C2)을 하나의 시 트에 형성시킨 구조이지만, 제 3실시예는 그 제 1내부 전극 패턴(C1)과 제 2내부 전극 패턴(C2)을 각기 다른 시트에 형성시킨 구조이다. 또한, 제 2실시예는 보조 전극 패턴(C3) 및 그 보조 전극 패턴에 상응하는 패턴(C6)을 소체 내부에서 최상부 및 최하부에 적층시킨 구조인데 반해, 제 3실시예는 제 3내부 전극 패턴(G1)과 그 제 3내부 전극 패턴에 상응하는 패턴(G2)을 소체 내부에서 최상부 및 최하부에 적층시킨 구조이다. In the third embodiment, in order to eliminate the time required for top and bottom sorting and the decrease in production yield, the top and bottom point symmetry is configured around the auxiliary electrode pattern C3. As compared with the second embodiment, the number of sheets laminated inside the body is equal to five. However, while the second embodiment has a structure in which the first inner electrode pattern C1 and the second inner electrode pattern C2 are formed in one sheet, the third embodiment has a structure in which the first inner electrode pattern C1 and the first inner electrode pattern C1 are formed. The second internal electrode pattern C2 is formed on different sheets. In addition, while the second embodiment has a structure in which the auxiliary electrode pattern C3 and the pattern C6 corresponding to the auxiliary electrode pattern are stacked on the uppermost and lowermost portions inside the body, the third embodiment has a third internal electrode pattern ( The structure G2) and the pattern G2 corresponding to the third internal electrode pattern are laminated on the uppermost and lowermost part in the body.
도 13의 제 1내부 전극 패턴(C1)은 도 14에서 시트(70)의 패턴(72)에 해당되고, 도 13의 제 2내부 전극 패턴(C2)은 도 14에서 시트(80)의 패턴(82)에 해당된다. 그리고, 도 13의 제 3내부 전극 패턴(G1)은 도 14에서 시트(90)의 패턴(92)에 해당되고, 도 13에서 내부 전극 패턴(G2)은 도 14에서 시트(110)의 패턴(112)에 해당된다. 그리고, 도 13에서 보조 전극 패턴(C3)은 도 14에서 시트(100)의 패턴(102)에 해당된다. 도 14에서도 각각의 패턴에 연장부를 형성시켰으나, 그 연장부를 형성시키지 않아도 된다. 그리고, 도 14에서 패턴(72)은 제 1외부 단자(도시 생략)와 연결되고, 패턴(82)은 제 2외부 단자(도시 생략)와 연결되며, 패턴(92, 112)은 제 3외부 단자(도시 생략)와 연결된다. 그러나, 도 14에서 패턴(102)은 어떠한 외부 단자와도 직접 연결되지 않는다. 그리고, 도 14에서는 도 13의 저항체 패턴(68)이 형성되는 커버 시트를 도시하지 않았으나, 그 커버 시트는 당연하게 갖추어지는 것이다.The first inner electrode pattern C1 of FIG. 13 corresponds to the pattern 72 of the
도 13의 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(C1, C2)은 도 14의 패턴 형성 구조와 달라도 무방하다. 예를 들어, 도 14의 시트(70)에는 모든 패턴이 해당 시트의 횡방 향 일측 단부에서 타측 단부측으로 각각 형성되어 있지만, 이를 사행식으로 형성시켜도 된다. 즉, 시트(70)의 패턴 형성 구조중에서 첫 번째와 세 번째 패턴은 그대로 두고 나머지 두 번째와 네 번째 패턴을 반대 형상(즉, 패턴(82)과 동일한 형상)으로 하여도 된다. 이 경우, 도 14의 시트(80)의 패턴 형성 구조중에서 두 번째와 네 번째 패턴은 그대로 두고 나머지 첫 번째와 세 번째 패턴을 반대 형상(즉, 패턴(72)과 동일한 형상)으로 하여야 된다. The first and second internal electrode patterns C1 and C2 of FIG. 13 may be different from the pattern forming structure of FIG. 14. For example, although all the patterns are formed in the sheet |
한편, 도 13에 대한 등가회로도를 도시하지 않았지만, 보조 전극 패턴(C3)은 상기 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(C1, C2)에 직렬로 연결된다.On the other hand, although the equivalent circuit diagram for Figure 13 is not shown, the auxiliary electrode pattern (C3) is connected in series with the first and second internal electrode patterns (C1, C2).
상술한 도 13은 본 발명의 제 3실시예의 구조를 제 1실시예와 비교하기 편리하도록 도시한 것으로서, 보다 정확하게는 도 13에 기재된 참조부호 C1, C2, C3, G1, G2 사이에서의 캐패시턴스는 상술한 도 8 및 도 9의 설명에 준하여 이해하면 된다. 이러한 이해는 동종업계에 종사하는 당업자라면 자명하다는 사실을 누구라도 알 수 있다.FIG. 13 described above shows the structure of the third embodiment of the present invention so as to be convenient for comparison with the first embodiment, and more precisely, the capacitance between reference numerals C1, C2, C3, G1, G2 described in FIG. It should be understood according to the description of Figs. 8 and 9 described above. Anyone can appreciate this understanding will be apparent to those skilled in the art.
상술한 도 13의 구조는 소체의 전체 크기 및 구현하려는 캐패시턴스값에 따라 여유 공간이 발생하는 경우에 특히 유용한 구조이다. 도 13의 구조는 상술한 제 1실시예에서와 같이 종래의 구조보다 우수한 삽입 손실 특성을 갖게 되며, 특히 제 1실시예의 구조보다 캐패시턴스값이 높아서 제 1실시예의 구조보다 삽입 손실량이 더 큰 감쇄극을 얻게 된다.The structure of FIG. 13 described above is particularly useful when free space is generated depending on the total size of the body and the capacitance value to be implemented. The structure of FIG. 13 has an insertion loss characteristic superior to that of the conventional structure as in the first embodiment described above. In particular, the attenuation electrode having a larger capacitance than that of the first embodiment has a larger insertion loss than that of the first embodiment. You get
그리고, 제 3실시예의 구조는 상술한 제 1 및 제 2실시예와 비교하여 볼 때 패턴 형성 공정에서 차이날 뿐 나머지 제조 공정은 별 차이가 없다. 따라서, 상술 한 제 1실시예 또는 제 2실시예의 구조를 제조할 수 있는 당업자라면 익히 알려진 종래의 기술을 이용하여 제 3실시예의 구조를 충분히 제조가능하다. In addition, the structure of the third embodiment is different in the pattern forming process as compared with the first and second embodiments described above, and the rest of the manufacturing process is not very different. Therefore, those skilled in the art who can manufacture the structure of the above-described first or second embodiment can sufficiently manufacture the structure of the third embodiment using conventional techniques well known.
(제 4실시예 설명)(Description of the fourth embodiment)
도 15는 본 발명의 제 4실시예에 채용되는 패턴의 적층구조를 나타내는 사시도이고, 도 16은 본 발명의 제 4실시예에 따른 적층형 칩 소자의 개략적인 단면도이다. 제 4실시예는 적층형 칩 소자의 시트의 적층수를 줄여서 제조 공정수를 줄일 수 있도록 한 구조이다.FIG. 15 is a perspective view showing a stacked structure of a pattern employed in the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 16 is a schematic cross-sectional view of the stacked chip device according to the fourth embodiment of the present invention. The fourth embodiment has a structure in which the number of manufacturing processes can be reduced by reducing the number of stacked sheets of the stacked chip element.
제 4실시예는 상술한 제 1 내지 제 3실시예와 모두 대비되는 구조이지만, 제 1실시예와의 차이점만을 설명하여도 다른 실시예와의 차이점을 확연히 알 수 있으므로, 제 2 및 제 3실시예와의 차이점 설명은 생략한다. Although the fourth embodiment has a structure in which all of the above-described first to third embodiments are contrasted with each other, even if only the differences from the first embodiment are explained, the fourth embodiment can be clearly seen as a difference from the other embodiments. The explanation of the difference from the example is omitted.
제 1실시예의 적층형 칩 소자를 구현하기 위해서는 도 7에서와 같이 적어도 4개의 시트가 필요한 데 반해, 제 4실시예에서는 도 15에서와 같이 3개의 시트로도 가능하다. 제 4실시예에서는 제 1실시예의 제 1 내지 제 3내부 전극 패턴이 하나의 시트에 모두 형성되었다는 점이 제 1실시예와 차이난다.In order to implement the stacked chip device of the first embodiment, at least four sheets are required as shown in FIG. 7, but in the fourth embodiment, three sheets are possible as shown in FIG. 15. The fourth embodiment differs from the first embodiment in that all of the first to third internal electrode patterns of the first embodiment are formed in one sheet.
제 4실시예의 제 1시트(120)는 양 대향 단부측에서 각각 이격되게 형성된 제 1내부 전극 패턴(122)과 제 2내부 전극 패턴(124), 및 그 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(122, 124)과 이격되고 그 제 1 및 제 2내부 전극 패턴(122, 124) 사이에서 상기 양 대향 단부를 연결하는 방향과 교차하는 방향으로 형성된 공통 단자용인 제 3내부 전극 패턴(126)을 갖는다. 여기서, 상기 제 1 내지 제 3내부 전극 패턴(122, 124, 126)은 실크 스크린 인쇄기법을 사용하여 해당 시트(120)에 형성되는데, 각각의 정해진 영역에 동시에 인쇄된다. The
제 4실시예의 제 2시트(130)에는 제 1실시예의 제 3시트에서와 같은 보조 전극 패턴(132)이 형성된다. 제 4실시예의 커버 시트(140)는 제 1실시예의 커버 시트와 동일한 것으로 보면 된다.In the
당업자라면 상기 제 1 및 제 2시트(120, 130) 및 커버 시트(140)를 상술한 제 1실시예에서의 시트 제조 공정에 의거하여 충분히 제조할 수 있으므로, 그에 대한 상세한 설명은 생략한다.A person skilled in the art can sufficiently manufacture the first and
이와 같이 하여 제 1 및 제 2시트(120, 130) 및 커버 시트(140)가 제조되면 제 1시트(120)를 최하층으로 하여 그 위에 제 2시트(130)를 적층한 다음에 커버 시트(140)를 적층한다. 그 이후에, 이를 압착하고 나서, 절단, 베이크 아웃, 소성 공정을 순차적으로 실시하여 원하는 소체를 형성한다. 그 이후에, 소체의 측면부에 외부 단자 형성 공정 및 소체의 상면에 저항체 패턴 형성 공정을 거치게 되면 적층형 칩 소자가 제조된다. 그 외부 단자 형성 공정 및 저항체 패턴 형성 공정에 대한 설명 역시 상술한 제 1실시예에서의 해당 형성 공정에 대한 설명으로 대체할 수 있는 바, 당업자라면 상술한 제 1실시예의 설명에 따라 충분히 이해된다.When the first and
그 제조된 적층형 칩 소자의 어느 한 단위 소자를 수직으로 절단하여 보면 도 16과 같은 단면 구조를 갖는다. 도 16에서, 참조부호 62는 소체의 제 1측면부에 형성된 제 1외부 단자이고, 참조부호 64는 제 1측면부와 대향되는 제 2측면부에 형성된 제 2외부 단자이며, 참조부호 68은 커버 시트(140)의 상면에 형성된 저항체 패턴이다. 그 제 1 및 제 2외부 단자(62, 64)와 저항체 패턴(68)에 대해서는 상술한 제 1실시예를 참조하여 보면 충분히 상호간의 결합관계 및 내부 전극 패턴과의 결합관계를 이해할 수 있다. When one unit device of the manufactured stacked chip device is vertically cut, it has a cross-sectional structure as shown in FIG. In Fig. 16,
도 15 및 도 16에서는 제 3외부 단자가 도시되지 않았지만, 그 제 3외부 단자는 제 1실시예에서와 같이 상기 제 1 및 제 2외부 단자(62, 64)가 형성된 측면부와는 다른 측면부에 형성되고, 공통 단자용인 제 3내부 전극 패턴(126)과 연결된다. 제 3외부 단자에 대해서는 상술한 제 1실시예를 참조하여 보면 충분히 알 수 있다.Although the third external terminal is not shown in Figs. 15 and 16, the third external terminal is formed on a side surface different from the side parts on which the first and second
도 16에 대한 등가회로도는 도 9의 등가회로도와 동일하다. 도 16에서, 제 1내부 전극 패턴(122)과 보조 전극 패턴(132)간의 중첩 면적 및 제 3내부 전극 패턴(126)과 보조 전극 패턴(132)간의 중첩 면적에서의 캐패시턴스를 갖는 캐패시터를 도 9의 C1이라고 할 수 있고, 제 2내부 전극 패턴(124)과 보조 전극 패턴(132)간의 중첩 면적 및 제 3내부 전극 패턴(126)과 보조 전극 패턴(132)간의 중첩 면적에서의 캐패시턴스를 갖는 캐패시터를 도 9의 C2라고 할 수 있으며, 제 1내부 전극 패턴(122)과 보조 전극 패턴(132)간의 중첩 면적 및 제 2내부 전극 패턴(124)과 보조 전극 패턴(132)간의 중첩 면적에서의 캐패시턴스를 갖는 캐패시터를 도 9의 C3라고 할 수 있다.The equivalent circuit diagram of FIG. 16 is the same as the equivalent circuit diagram of FIG. In FIG. 16, a capacitor having capacitance in the overlapping area between the first
이와 같이 구성된 제 4실시예에 따르면, 앞서 설명한 실시예들에 비해 시트의 적층수를 줄이게 되어 제조 공정수를 줄일 수 있게 된다. 그로 인해 칩 소자의 사이즈를 보다 콤팩트하게 구현할 수 있게 된다.According to the fourth embodiment configured as described above, the number of sheets stacked may be reduced compared to the above-described embodiments, thereby reducing the number of manufacturing processes. As a result, the size of the chip device can be made more compact.
그리고, 제 1시트(120) 및 제 2시트(130)를 다양하게 조합함에 의해 다양한 캐패시턴스값 조절이 가능하게 된다.In addition, various capacitance values may be adjusted by variously combining the
한편, 도면으로는 도시하지 않았지만, 도 8의 G의 사이즈를 축소시켜 C1 및 C2와의 중첩 면적을 없애고 C3와의 중첩 면적만 존재하게 하는 구조로의 변형도 가능하다.On the other hand, although not shown in the figure, it is also possible to reduce the size of G in Fig. 8 to eliminate the overlapping area with C1 and C2 and to have a structure with only the overlapping area with C3.
이상 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 어떠한 외부 단자와도 연결되지 않은 전극 패턴이 형성된 시트를 추가시키되 회로적으로 소체의 여타 캐패시터(또는 바리스터)와 직렬로 연결시킴으로써, 종래의 필터의 감쇄 특성에 비해 더욱 개선된 감쇄 특성을 얻게 된다.As described in detail above, according to the present invention, by adding a sheet formed with an electrode pattern not connected to any external terminal, but by circuitry in series with other capacitors (or varistors) of the body, the attenuation characteristics of the conventional filter Compared with the improved damping properties.
특히, 어레이되어 있는 필터의 단위 소자간의 주파수 편차를 효과적으로 개선할 수 있어서 매우 유용하게 쓰이는 칩 소자가 된다.In particular, it is possible to effectively improve the frequency deviation between the unit elements of the arrayed filter to be a very useful chip element.
한편, 본 발명은 상술한 실시예로만 한정되는 것이 아니라 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위내에서 수정 및 변형하여 실시할 수 있고, 그러한 수정 및 변형이 가해진 기술사상 역시 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 한다.On the other hand, the present invention is not limited only to the above-described embodiment, but can be modified and modified within the scope not departing from the gist of the present invention, the technical idea to which such modifications and variations are also applied to the claims Must see
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