KR100696922B1 - 신규한 에틸렌계 공중합체, 그의 조성물 및 트리트먼트방법 - Google Patents
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Abstract
Description
중합체의 조성물(중량%) | 가용성* | 수분흡수 | 15% 에서 점도 | |
실시예 1 | PEGM 550 50% 아크릴산 50% 중화된 NaOH 100% | 있음 | 33% | 4 mPa·s |
실시예 2 | PEGM 550 50% 술파토에틸 메타크릴레이트, 암모늄염 50% | 있음 | 73% | 333 mPa·s |
실시예 3 | PEGM 2000 75% 3-술포프로필 아크릴레이트, 칼륨염 25% | 있음 | 80% | 21 mPa·s |
실시예 4 | PEGM 2000 75% 술파토에틸 메타크릴레이트, 암모늄염 25% | 있음 | 90% | 12.1 mPa·s |
* "있음"은 중합체가 50 중량%이상 까지 물에 용해됨을 의미 |
Claims (75)
- 중합체의 총 중량에 대해 중량% 로서 하기를 함유하는 에틸렌계 공중합체:- a) 10 - 80 중량% 의 화학식 Ⅰ의 하나 이상의 단량체 또는 그의 염 :[화학식 Ⅰ][식 중:- R1 은 수소 원자 또는 CpH2p +1 (p는 양끝을 포함하는 1 내지 12 정수) 타입의 직쇄형 또는 분지형의 탄화수소 라디칼이며;- Z 는 -COO-, -CONH-, -CONCH3-, -OCO-, -O-, -SO2-, -CO-O-CO- 또는 -CO-CH2-CO-에서 선택된 2가 원자단이며;- x 는 0 또는 1 이며;- R2 는 O, N, S, F, Si 및 P 에서 선택된 1 내지 18 개의 헤테로원자를 포함할 수 있는 탄소수 1 내지 30의 직쇄형, 분지형 또는 고리형, 포화 또는 불포화, 임의로 방향족인 이가 탄화수소 라디칼이며;- m 은 0 또는 1 이며;- n 은 양 끝을 포함하는 3 내지 300의 정수이며,- R3 은 O, N, S, F, Si 및 P 에서 선택된 1 내지 20 개의 헤테로원자를 포함할 수 있는 탄소수 1 내지 30의 직쇄형, 분지형 또는 고리형, 포화 또는 불포화, 임의로는 방향족인 탄화수소 라디칼 또는 수소 원자이다];- b) 말레산 무수물 및 화학식 Ⅱ의 단량체에서 선택된 20 - 90 중량%의 하나 이상의 음이온성 단량체 또는 하나의 그의 염 :[화학식 Ⅱ][식 중:- R1 은 p가 양끝을 포함하는 1 내지 12의 정수인 CpH2p +1 타입의 직쇄형 또는 분지형의 탄화수소 라디칼 또는 수소 원자이며;- Z' 는 -COO-, -OCO- 또는 -O-, -SO2-, -CO-O-CO- 또는 -CO-CH2-CO- 에서 선택된 2가 기이며;- x' 는 0 또는 1 이고;- R'2 는 O, N, S, F, Si 및 P에서 선택된 1 내지 18개의 헤테로원자를 포함할 수 있는 탄소수 1 내지 30 의 직쇄형, 분지형 또는 고리형, 포화 또는 불포화, 임의로 방향족인 2가 탄화수소 라디칼이며;- m' 는 0 또는 1 이며;- Y 는 -COOH, -SO3H, -OSO3H, -PO3H2 및 PO3H2 에서 선택된 원자단이다];- c) 및 임의로 0 - 70 중량% 의 추가의 친수성인 비이온성 단량체.
- 제 1 항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서의 R1 이 수소 또는 메틸, 에틸, 프로필 또는 부틸 라디칼을 나타내는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서의 Z 는 -COO- 또는 -CONH- 를 나타내는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서의 R2 라디칼이 하기에서 선택된 라디칼이거나 이를 포함하는 중합체:- 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, n-부틸렌, 이소부틸렌, tert-부틸렌, n-헥실렌, n-옥틸렌, n-도데실렌, n-옥타데실렌, n-테트라데실렌 또는 n-도코세닐렌을 포함하는 알킬렌 라디칼;- O, N, S, F, Si 및 P에서 선택된 1 내지 25 개의 헤테로원자를 임의로 포함하고 있는 C1-C12 알킬 라디칼에 의해 임의로 치환된 페닐렌 라디칼 -C6H4- (오르소, 메타, 또는 파라); 또는 그렇지 않으면 O, N, S, F, Si 및 P 에서 선택된 1 내지 25 개의 헤테로원자를 임의로 포함하고 있는 C1-C12 알킬 라디칼에 의해 임의로 치환된 벤질렌 라디칼 -C6H4-CH2- ;- 하기 화학식의 피리디늄 라디칼:[식 중, R'1 내지 R'4는, 상동이거나 또는 상이하며, H 및 O, N, S, F, Si 및 P에서 선택된 임의로 1 내지 8 개의 헤테로원자를 포함하고 있는 C1-C12 알킬 라디칼로부터 선택되고;- O, N, S, F, Si 및 P 에서 선택된 1 내지 12 개의 헤테로원자를 임의로 포함하는 직쇄형 또는 분지형 C1 - C22 알킬을 나타내는 R'및 R"을 가진 -CH2-O-CO-O-, -CH2-CH2-O-CO-O-, -CH2-CO-O-, -CH2-CH2-CO-O-, -CH2-O-CO-NH-, -CH2-CH2-O-CO-NH-, -CH2-NH-CO-NH- 또는 -CH2-CH2-NH-CO-NH-, -CH2-CHOH-, -CH2-CH2-CHOH-, -CH2-CH2-CH(NH2)-, -CH2-CH(NH2)-, -CH2-CH2-CH(NHR')-, -CH2-CH(NHR')-,-CH2-CH2-CH(NR'R")-, -CH2-CH(NR'R")-, -CH2-CH2-CH2-NR'--CH2-CH2-CH2-O- 또는 -CH2-CH2-CHR'-O- ;- 또는 상기 라디칼의 혼합물].
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서, n 이 양 끝을 포함하는 5 내지 200인 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서, R3 이 수소 원자; 숙신이미도, 말레이미도, 메시틸, 토실, 트리에톡시실릴, 프탈이미도 또는 -CH2-CH2CN 라디칼이거나; O, N, S, F, Si, 및 P에서 선택된 1 내지 25 헤테로원자를 임의로 포함하는 C1-C12 알킬 라디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐 라디칼이거나; 또는 O, N, S, F, Si 및 P에서 선택된 내지 18개의 헤테로원자를 임의로 포함하는 C1-C30 알킬 라디칼이며; 여기서 언급된 벤질, 페닐 또는 알킬 라디칼이 하기 작용기에서 선택된 작용기를 추가적으로 포함하는 것이 가능한 중합체:숙신이미도, 글루타레이트-숙신이미도, 글루타레이트, 말레이미도, 메시틸, 벤조에이트, 토실, 트리에톡시실란, 프탈이미도, 티오에스테르, 벤조트리아졸 카르보네이트, 부티르알데히드, 아세트알데히드 디에틸 아세탈, 비오틴, 인지질, 숙시네이트 N-히드록시숙신이미드, -SO3H, -COOH, -PO4, -NR5R6 또는 -N+R5R6R7 [여기서, R5, R6 및 R7 은 서로 독립적이고, H 또는 하나 이상의 헤테로원자 또는 t-부틸옥시카르보닐 또는 9-플루오레닐메톡시카르보닐을 포함하는 보호기를 임의로 포함하는 직쇄 형, 분지형 또는 고리형 C1-C18 알킬에서 선택된다].
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 단량체가 단독 또는 혼합물로서 최종 중합체의 중량에 대해, 20 내지 70 중량% 비율로 존재하는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 Ⅱ에서의 R1 이 수소 또는 메틸, 에틸, 프로필 또는 부틸 라디칼을 나타내는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 Ⅱ에서의 Z'이 COO 인 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 Ⅱ에서의 R'2 라디칼이 하기에서 선택된 라디칼이거나 또는 이를 포함하는 중합체:- 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, n-부틸렌, 이소부틸렌, tert-부틸렌, n-헥실렌, n-옥틸렌, n-도데실렌, n-옥타데실렌, n-테트라데실렌 또는 n-도코세닐렌을 포함하는 알킬렌 라디칼;- N, O, S, F, Si 및/또는 P 에서 선택된 1 내지 5 개의 헤테로원자를 임의로 포함하는 C1-C12 알킬 라디칼에 의해 임의로 치환된 페닐렌 라디칼 -C6H4- (오르소, 메타 또는 파라); 또는 그렇지 않으면 O, N, S, F, Si 및 P에서 선택된 1 내지 5 개의 헤테로원자를 임의로 포함하는 C1-C12 알킬 라디칼에 의해 임의로 치환된 벤질렌 라디칼 -C6H4-CH2- ;- O, N, S, F, Si 및 P에서 선택된 1 내지 12 개의 헤테로원자를 임의로 포함하고 있는 직쇄형 또는 분지형 C1-C22 알킬을 나타내는 R'를 가진 화학식 -CH2-O-CO-O-, -CH2-CH2-O-CO-O-, -CH2-CO-O-, -CH2-CH2-CO-O-, -CH2-O-CO-NH-, -CH2-CH2-O-CO-NH-, -CH2-NH-CO-NH-, -CH2-CH2-NH-CO-NH-, -CH2-CHOH-, -CH2-CH2-CHOH-, -CH2-CH2-CH-O- 또는 -CH2-CH2-CHR'-O- 의 라디칼- 또는 상기 라디칼의 혼합물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 음이온성 단량체가 말레산 무수물, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 푸마르산, 말레산, 2-카르복시에틸 아크릴레이트, 스티렌술폰산, 비닐벤조산, 비닐포스폰산, 술포프로필 (메트)아크릴레이트, 술파토에틸 (메트)아크릴레이트 및 상기 염인 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 최종 중합체의 중량에 대해, 음이온성 단량체가 30 내지 80 중량% 의 비율로 존재하는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 추가의 친수성의 비이온성 단량체가 -8 과 2 사이의 log P 를 나타내는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 단독 또는 혼합물로서, 추가의 친수성의 비이온성 단량체가 화학식 Ⅲ의 것에서 선택된 중합체:[화학식 Ⅲ][식 중:- R'1 은 수소 또는 -CH3 이고;- Z" 는 -COO-, -CONH-, -CONCH3-, -OCO-, -SO2-, -CO-O-CO-, -CO-CH2-CO- 또는 -O-에서 선택된 이가 기이고;- x" 는 0 또는 1 이고;- R" 는 O, N, S, F, Si 및 P에서 선택된 1 내지 18개의 헤테로원자를 포함할 수 있는 1 내지 30 개의 탄소 원자를 가진 직쇄형, 분지형 또는 고리형, 포화 또는 불포화, 임의로 방향족, 탄화수소 라디칼이다].
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 추가의 친수성의 비이온성 단량체가 하기로 부터 선택되는 중합체:메틸 메타크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 프로필 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴 메타크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴 아크릴레이트, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 에톡시에틸 메타크릴레이트, 에톡시에틸 아크릴레이트, N-이소프로필아크릴아미드, N-이소프로필-메타크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디메틸메타크릴아미드, 비닐 아세테이트, 메틸 비닐 에테르, 에틸 비닐 에테르, 비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐, N-비닐아세트아미드, 히드록시프로필 아크릴레이트, N-비닐락탐, 아크릴아미드, N-메틸아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-메틸-N-비닐아세트아미드, N-비닐포름아미드, N-메틸-N-비닐포름아미 드 또는 (비닐 아세테이트 형태로 공중합화된 후, 가수분해된)비닐알코올.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 추가의 친수성의 비이온성 단량체가 단독 또는 혼합물로서 중합체의 총 중량에 대해 0.1 내지 35 중량% 양으로 존재하는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 500 내지 5 000 000 의 중량-평균 분자량 (Mw)을 보이는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 수성 매질에서 전달될 수 있는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 25℃에서 1 내지 1000 mP·s 사이의 점도를 수중에서 나타내는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, -150℃ 내지 20℃ 의 유리전이온도(Tg)를 나타내는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상대습도 75% (75% RH)에서 3 내지 150 중량% 의 수분 흡수를 보이고/보이거나 상대습도 85% (85% RH)에서 5 내지 90 중량% 의 수분 흡수를 보이는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 생리적으로 허용가능한 매질에서 제 1 항 또는 제 2 항에서 정의된 바와 같은 하나 이상의 중합체를 포함하는 화장용 조성물.
- 제 23 항에 있어서, 중합체가 조성물의 총 중량에 대해, 건조 상태 기준에서 0.01 내지 50 중량%의 비율로 존재하는 조성물.
- 제 23 항에 있어서, 생리적으로 허용가능한 매질이 하기에서 선택된 성분을 하나 이상 포함하는 조성물:물, 알콜을 포함하는 친수성의 유기성 용매; 동물성, 식물성, 광물석 또는 합성이 기원의 왁스, 페이스트성 지방 물질, 고무 및 그의 혼합물; 친유성의 유기성 용매; 동물성, 식물성, 광석 또는 합성 기원의 오일; 합성 에스테르 및 에테르; 펜타에리트리톨 에스테르, 12 내지 26 개의 탄소 원자를 가진 지방 알콜; 부분적으로 탄화수소-함유 및/또는 실리콘-함유하는 플루오르화 오일; 주변온도에서 액체이거나 페이스트성인 휘발성 또는 비휘발성 및 직쇄형 또는 고리형 실리콘 오일; 색소, 진주광택제 또는 충전재; 수용성 염료 또는 지용성 염료; 중합체; 필름을 형성할 수 있는 추가 작용제; 계면 활성제; 비타민, 향료, 진주광택제, 증점제, 겔화제, 미량원소, 연화제, 격리제, 염기화제 또는 산성화제, 방부제, 선스크린, 산화방지제, 탈모방지제, 비듬방지제, 추진제, 세라마이드; 또는 그의 혼합물.
- 제 23 항에 있어서, 소포(vesicle)에 의한 서스펜션, 분산물; 임의로 증점된, 유성액; 수중유, 유중수 또는 복합 에멀젼; 겔 또는 폼; 유성의 또는 유화 겔; 소포의 분산물; 2-상 또는 다중상 로션; 스프레이; 로션; 크림; 연고; 연질페이스트; 고약; 주형 또는 성형된 고체; 또는 압축된 고체의 형태를 가진 조성물.
- 제 23 항에 있어서, 신체 또는 얼굴의 피부, 입술 및 헤어를 케어 및/또는 메이크업하기 위한 제품, 태양광선을 막거나 셀프-태닝 제품, 헤어 제품의 형태로 제공되는 조성물.
- 제 23 항에 있어서, 헤어용 조성물의 형태로 제공되는 조성물.
- 케라틴성 물질에, 제 23 항에서 정의된 바와 같은 화장품 조성물을 적용하는 것을 이루는 것을 특징으로 하는, 신체 또는 얼굴의 피부, 손·발톱, 체모 및/또는 속눈썹을 포함하는 헤어를 포함하는 각질 물질을 트리트먼트하기 위한 화장 방법.
- 제 1 항에 있어서, 화학식 Ⅱ 에서 x' 가 1 인 중합체.
- 제 5 항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서 n 이 7 내지 100 인 중합체.
- 제 32 항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서 n 이 9 내지 50 인 중합체.
- 제 6 항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서 R3 이 O, N, S, F, Si 및 P 에서 선택된 1-18 개의 헤테로원자를 임의로 포함하는 C1-C22 알킬 라디칼인 중합체.
- 제 34항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서 R3 이 O, N, S, F, Si 및 P 에서 선택된 1-18 개의 헤테로원자를 임의로 포함하는 C2-C16 알킬 라디칼인 중합체.
- 제 6 항에 있어서, 화학식 Ⅰ에서 언급된 벤질, 페닐 또는 알킬 라디칼이 추가적으로 하기 작용기를 포함하는 것이 가능한 중합체.- NR5R6 또는 -N+R5R6R7 [ R5, R6 및 R7 이 하나 이상의 헤테로원자 또는 t-부틸옥시카르보닐 또는 9-플루오레닐메톡시카르보닐을 포함하는 보호기를 임의로 포함하는 메틸이다].
- 제 8 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 단량체가 단독으로 또는 혼합물로서 최종 중합체의 중량에 대해 30 내지 60 중량% 비율로 존재하는 중합체.
- 제 12 항에 있어서, 음이온성 단량체가 말레산 무수물, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 푸마르산, 말레산, 2-카르복실에틸 아크릴레이트, 스티렌술폰산, 비닐벤조산, 비닐포스폰산, 술포프로필 (메트)아크릴레이트, 술파토에틸 (메트)아크릴레이트 및 상기의 암모늄염에서 선택된 중합체.
- 제 13 항에 있어서, 음이온성 단량체가 최종 중합체의 중량에 대해, 40 내지 70 중량% 비율로 존재하는 중합체.
- 제 14 항에 있어서, 추가적인 친수성의 비이온성 단량체가 1.5 이하의 log P를 보이는 중합체.
- 제 42 항에 있어서, 추가적인 친수성의 비이온성 단량체가 1 이하의 log P를 보이는 중합체.
- 제 43 항에 있어서, 추가적인 친수성의 비이온성 단량체가 -7 과 1 사이의 log P를 보이는 중합체.
- 제 44 항에 있어서, 추가적인 친수성의 비이온성 단량체가 -6 과 0 사이의 log P를 보이는 중합체.
- 제 17 항에 있어서, 추가적인 친수성의 비이온성 단량체는 단독 또는 혼합물로서 중합체의 총 중량에 대해 1 내지 25 중량%의 양으로 존재하는 중합체.
- 제 48 항에 있어서, 추가적인 친수성의 비이온성 단량체는 단독 또는 혼합물로서 중합체의 총 중량에 대해 3 내지 15 중량%의 양으로 존재하는 중합체.
- 제 49 항에 있어서, 추가적인 친수성의 비이온성 단량체는 단독 또는 혼합물로서 중합체의 총 중량에 대해 5 내지 9.5 중량%의 양으로 존재하는 중합체.
- 제 18 항에 있어서, 1000 내지 3 000 000의 중량-평균 분자량 (Mw)을 보이는 중합체.
- 제 51 항에 있어서, 2000 내지 2 000 000의 중량-평균 분자량 (Mw)을 보이는 중합체.
- 제 52 항에 있어서, 4000 내지 500 000 의 중량-평균 분자량 (Mw)을 보이는 중합체.
- 제 53 항에 있어서, 7000 내지 250 000 이 중량-평균 분자량 (Mw)을 보이는 중합체.
- 제 54 항에 있어서, 8000 내지 100 000 사이의 중량-평균 분자량 (Mw)을 보이는 중합체.
- 제 19 항에 있어서, 수용성 또는 수분산성 매질에서 전달될 수 있는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 20 항에 있어서, 25℃에서 측정시 1.5 내지 750 mP·s 의 점도를 수중에서 보이는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 57 항에 있어서, 25℃에서 측정시 2 내지 5000 mP·s 의 점도를 수중에서 보이는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 21 항에 있어서, -120℃ 내지 10℃ 의 유리전이온도(Tg)를 보이는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 59 항에 있어서, -100℃ 내지 0℃ 의 유리전이온도(Tg)를 보이는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 22 항에 있어서, 75% 상대습도 (75% RH)에서, 4 내지 120 중량% 의 수분 흡수를 보이는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 61 항에 있어서, 75% 상대습도 (75% RH)에서, 4.5 내지 90 중량% 의 수분 흡수를 보이는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 22 항에 있어서, 85% 상대습도 (85% RH)에서, 7.5 내지 75 중량% 의 수분 흡수를 보이는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 63 항에 있어서, 85% 상대습도 (85% RH)에서, 15 내지 60 중량% 의 수분 흡수를 보이는 것을 특징으로 하는 중합체.
- 제 23 항에 있어서, 화장용으로 허용가능한 매질에서 제 1 항 또는 제 2 항에서 정의된 바와 같은 중합체를 하나 이상 포함하는 화장용 조성물.
- 제 24 항에 있어서, 중합체가 조성물의 총 중량에 대해, 건조 상태 기준에서 0.1 내지 30 중량%의 비율로 존재하는 조성물.
- 제 66 항에 있어서, 중합체가 조성물의 총 중량에 대해, 건조 상태 기준에서 1 내지 25 중량%의 비율로 존재하는 조성물.
- 제 67 항에 있어서, 중합체가 조성물의 총 중량에 대해, 건조 상태 기준에서 3 내지 20 중량%의 비율로 존재하는 조성물.
- 제 25 항에 있어서, 생리적으로 허용가능한 매질이 직쇄형 또는 분지형 C1-C6 모노알콜, 폴리올, 글리콜 에테르에서 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는 조성물.
- 제 69 항에 있어서, 생리적으로 허용가능한 매질이 직쇄형 또는 분지형 C2 글리콜 에테르 및 친수성의 C2-C4 알데히드에서 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는 조성물.
- 제 26 항에 있어서, 소포에 의해 유중수의 형태로 제공되는 조성물.
- 제 26 항에 있어서, 임의로 겔화된, 유성액의 형태로 제공되는 조성물.
- 제 26 항에 있어서, 지질 소포의 분산물 형태로 제공되는 조성물.
- 제 26 항에 있어서, 막대로서 또는 디쉬에서 주형 또는 성형된 형태로 제공되는 조성물.
- 제 28 항에 있어서, 샴푸, 젤, 헤어 셋팅 로션, 헤어드라이로션, 또는 래커 또는 스프레이를 포함하는 고정 및 스타일링 조성물의 형태; 완전헹굼 또는 그대로 남는 컨디셔너, 파마, 헤어 스트레이트, 염색 또는 탈색 조성물의 형태, 그렇지 않으면 염색, 탈색, 파마, 또는 헤어 스트레이트 전·후에 적용될 완전헹굼 조성물, 그렇지 않으면 파마, 헤어스트레이트의 두 단계 사이에서 적용될 완전헹굼 조성물의 형태를 포함하는, 헤어 스타일 또는 헤어 모양 만드는데 유지를 형성하기 위한 헤어 조성물의 형태로 제공되는 조성물.
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