KR100667281B1 - Coating equipment for surface coating of powder - Google Patents
Coating equipment for surface coating of powder Download PDFInfo
- Publication number
- KR100667281B1 KR100667281B1 KR1020050065357A KR20050065357A KR100667281B1 KR 100667281 B1 KR100667281 B1 KR 100667281B1 KR 1020050065357 A KR1020050065357 A KR 1020050065357A KR 20050065357 A KR20050065357 A KR 20050065357A KR 100667281 B1 KR100667281 B1 KR 100667281B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- powder
- stirring cylinder
- coating
- reaction vessel
- powder coating
- Prior art date
Links
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 84
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 77
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000003116 impacting effect Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/02—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to surfaces by single means not covered by groups B05C1/00 - B05C7/00, whether or not also using other means
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/02—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
본 발명은 분말의 표면을 균일하게 코팅하기 위해 실린더를 포함하는 코팅 장치에 관한 것으로, 종래에는 분말의 코팅시 화학기상 증착법을 이용하여 코팅하여 왔으나, 분말의 표면을 균일하게 코팅하는데 많은 어려움이 있어왔다. 이러한 문제점을 감안한 본 발명은 분말을 코팅하기 위한 장치에 있어서, 분말을 수용하고, 회전 구동가능하되, 내주면에는 복수의 돌기부가 설치된 교반 실린더와; 상기 교반 실린더를 수용하되, 화학기상증착을 위해 일단에 가스 인입구를 구비하고, 타단에 가스 배기구를 구비하는 반응용기와, 상기 반응용기를 수용하되 상기 가스 인입구 및 상기 가스 배기구가 외부로 노출되도록 양단이 개구(open)된 챔버를 더 포함하고, 여기서, 상기 챔버는 가열수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 분말 코팅 장치를 제공한다.본원에 따른 코팅 장치를 이용하면 상기 교반 실린더가 회전 운동 및 특정한 형태의 운동을 통하여 분말을 교반함으로써, 분말이 균일하게 코딩되는 효과가 있다.The present invention relates to a coating apparatus including a cylinder for uniformly coating the surface of the powder, conventionally has been coated using a chemical vapor deposition method when coating the powder, there are many difficulties in uniformly coating the surface of the powder come. In view of the above problems, the present invention provides an apparatus for coating a powder, comprising: a stirring cylinder accommodating the powder and being rotatable, the inner peripheral surface having a plurality of protrusions; A reaction vessel accommodating the stirring cylinder, provided with a gas inlet at one end and a gas exhaust port at the other end for accommodating the chemical vapor deposition, and receiving the reaction container, but both the gas inlet and the gas exhaust port are exposed to the outside. It further comprises an open chamber, wherein the chamber is provided with a powder coating device, characterized in that it comprises heating means. By stirring the powder through the motion of, the powder is uniformly coded.
Description
도 1은 종래의 화학기상장치를 이용하여 코팅된 분말의 표면조직을 나타내는 주사전자현미경 사진이다.Figure 1 is a scanning electron micrograph showing the surface texture of the powder coated using a conventional chemical vapor apparatus.
도 2는 본 발명의 일 실시예를 따른 코팅 장치를 이용하여 코팅된 분말의 표면조직을 나타내는 주사전자현미경 사진이다.Figure 2 is a scanning electron micrograph showing the surface texture of the powder coated using a coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일 실시예를 따른 코팅 장치의 절개 정면도이다.3 is a cutaway front view of a coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일 실시예를 따른 교반 실린더의 정면도 및 측면도이다.4 is a front view and a side view of the stirring cylinder according to an embodiment of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Explanation of symbols for the main parts of the drawings *
1: 챔버 2: 가열수단1: chamber 2: heating means
3: 가스 인입구 4: 반응용기3: gas inlet 4: reaction vessel
5: 가스 배기구 6: 교반 실린더5: gas exhaust port 6: stirring cylinder
7: 교반축 8: 교반모터7: stirring shaft 8: stirring motor
9: 블레이드 10: 그물망9: blade 10: netting
11: 편심캠 12: 모터11: eccentric cam 12: motor
13: 모터 컨트롤러 14. 대칭축13:
본 발명은 코팅 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세히는 분말을 균일하게 코팅하기 위한 교반 실린더 및 상기 교반 실린더를 포함하는 코팅장치에 관한 것이다.The present invention relates to a coating apparatus, and more particularly, to a stirring cylinder for uniformly coating powder and a coating apparatus including the stirring cylinder.
일반적으로 금속의 표면에 산화물 또는 질화물을 코팅하기 위한 방법으로 크게 2가지가 있다. 첫 번째로는 물리적 방법이 있으며, 이를 다시 세분화하면 코팅하고자 하는 물질을 가열 및 증발시키는 증발법(evaporation method)과 플라즈마 또는 이온빔으로 코팅 물질에 충격을 주어 모재를 코팅하는 스퍼터링법이 있다. 이러한 상기 물리적 방법은 주로 박막이나 벌크재료의 코팅에 이용되고 있다. 하지만 전술한 방법은 코팅물질이 타켓 혹은 가열보트에서 코팅하고자 하는 모재의 방향으로 한 방향으로 공급되기 때문에, 자유표면이 서로 맞닿아 있는 부분이 많은 재료 즉, 분말과 같은 재료를 균일하게 코팅하기에는 부적합한 면이 있다. In general, there are two main methods for coating oxides or nitrides on metal surfaces. First of all, there are physical methods, which are further subdivided into an evaporation method for heating and evaporating a material to be coated, and a sputtering method for coating a base material by impacting the coating material with a plasma or an ion beam. This physical method is mainly used for coating thin films or bulk materials. However, the method described above is not suitable for uniformly coating a material such as a powder having a lot of free surfaces in contact with each other because the coating material is supplied in one direction in the direction of the base material to be coated on the target or heating boat. There is a face.
두 번째로는 화학적인 방법이 있으며, 이를 다시 세분화하면 화학기상증착법, 졸-겔법등이 있다. 이 중에서 화학기상증착법은 고온의 챔버 안으로 반응가스를 공급하여, 금속재료의 표면에 흡착 및 확산시킴으로써 표면에 산화물 혹은 질화물을 코팅하는 방법이다. 이러한 화학기상증착법은 반응가스가 재료의 모든 부분에 고루 침투할 수 있고, 화학반응에 의해 산화물 혹은 질화물을 생성시킬 수 있기 때문에 물리적인 방법에 비해 복합형상의 내부나 분말을 코팅할 수 있는 장점이 있다. Secondly, there are chemical methods, which can be further subdivided into chemical vapor deposition and sol-gel methods. Among them, chemical vapor deposition is a method of coating an oxide or nitride on a surface by supplying a reaction gas into a high temperature chamber, adsorbing and diffusing the surface of a metal material. This chemical vapor deposition method has the advantage of coating the composite interior or powder compared to the physical method because the reaction gas can penetrate all parts of the material evenly and generate oxide or nitride by chemical reaction. have.
그러나 상기와 같은 종래 기술에 있어서는, 챔버 내에 위치한 반응용기의 크 기에 비해 분말의 양이 많을 때는 반응용기 내 적층된 분말 중 용기 내 윗부분과 안쪽에 위치한 분말들 간에 화학반응 속도에 차이가 발생하게 되어, 도 1의 코딩된 분말 사진과 같이 전체적으로 균일한 두께의 코팅층을 형성시키기가 어려울 뿐만 아니라, 분말들의 자유표면이 서로 맞닿아 있는 부분과 같이 반응가스의 침투가 어려운 부분에는 코팅이 균일하게 되지 않는 문제점이 있다.However, in the prior art as described above, when the amount of powder is larger than the size of the reaction vessel located in the chamber, a difference in chemical reaction rate occurs between the powders located in the upper portion and the inner portion of the stacked powder in the reaction vessel. In addition, it is difficult to form a coating layer of overall uniform thickness as shown in the coded powder picture of FIG. 1, and the coating is not uniform in areas where the free surface of the powders are in contact with each other. There is a problem.
따라서 본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 창안 것으로, 분말의 표면을 균일하게 코팅할 수 있도록 창안된 교반 실린더 및 상기 교반 실린더를 포함하는 코팅 장치를 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a coating apparatus including the stirring cylinder and the stirring cylinder, which are designed to uniformly coat the surface of the powder.
본 발명은 상술한 바와 같이 분말의 표면을 균일하게 코팅하기 위한 목적을 달성하기 위하여, 분말을 코팅하기 위한 장치에 있어서, 분말을 수용하고, 회전 구동가능하되, 내주면에는 복수의 돌기부가 설치된 교반 실린더와; 상기 교반 실린더를 수용하되, 화학기상증착을 위해 일단에 가스 인입구를 구비하고, 타단에 가스 배기구를 구비하는 반응용기와, 상기 반응용기를 수용하되 상기 가스 인입구 및 상기 가스 배기구가 외부로 노출되도록 양단이 개구(open)된 챔버를 더 포함하고, 여기서, 상기 챔버는 가열수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 분말 코팅 장치를 제공한다.The present invention, in order to achieve the object of uniformly coating the surface of the powder as described above, in the apparatus for coating the powder, containing the powder, and rotationally driven, a stirring cylinder provided with a plurality of protrusions on the inner peripheral surface Wow; A reaction vessel accommodating the stirring cylinder, provided with a gas inlet at one end and a gas exhaust port at the other end for accommodating the chemical vapor deposition, and receiving the reaction container, but both the gas inlet and the gas exhaust port are exposed to the outside. It further comprises an open chamber, wherein the chamber provides a powder coating apparatus, characterized in that it comprises heating means.
이는 상기 교반 실린더가 회전함에 따라 상기 교반 실린더 내주면에 설치된 복수의 돌기부 의하여 분말이 위로 이송되다가 상기 교반 실린더가 계속 회전하게 되면 다시 낙하하는 과정을 반복함으로써 교반 실린더 내의 분말이 원활하게 교반될 수 있게 하여 코팅이 균일하게 되도록 하기 위함이다.This allows the powder in the stirring cylinder to be smoothly agitated by repeating a process in which the powder is transferred upward by a plurality of protrusions provided on the inner circumferential surface of the stirring cylinder as the stirring cylinder rotates, and then falls again when the stirring cylinder continues to rotate. This is to make the coating uniform.
한편, 본 발명은 분말의 표면을 균일하게 코팅하기 위한 목적을 달성하기 위해, 분말을 수용할 수 있는 교반 실린더와; 상기 교반 실린더를 수용하되, 화학기상증착을 위해 일단에 가스 인입구를 구비하고, 타단에 가스 배기구를 구비하는 반응용기와; 상기 반응 용기의 일단 또는 양단에 설치되어, 상기 반응 용기가 시소 운동할 수 있도록 하는 액추에이터와; 상기 반응용기를 수용하되 상기 시소 운동이 가능하도록 양단이 개구(open)되고, 가열수단을 구비하는 챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 분말 코팅 장치를 제공한다.On the other hand, the present invention, in order to achieve the object of uniformly coating the surface of the powder, a stirring cylinder that can accommodate the powder; A reaction vessel accommodating the stirring cylinder and having a gas inlet at one end and a gas exhaust at the other end for chemical vapor deposition; An actuator installed at one or both ends of the reaction vessel to allow the reaction vessel to seesaw; It is provided with a powder coating apparatus, characterized in that it comprises a chamber that accommodates the reaction vessel but is open at both ends to allow the seesaw movement and has a heating means.
이는 상기 복수의 액추에이터에 의하여 상기 교반 실린더가 시소 운동을 하게 함으로써, 상기 교반 실린더 내의 분말이 원활하게 교반될 수 있도록 하여 분말의 표면을 균일하게 코팅하고자 함이다.This is intended to uniformly coat the surface of the powder by allowing the stirring cylinder to seesaw by the plurality of actuators so that the powder in the stirring cylinder can be smoothly stirred.
삭제delete
삭제delete
이하에서는, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명의 실시예에 따른 구성 및 작용에 관하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail with respect to the configuration and operation according to an embodiment of the present invention.
다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다. 또한, 동일한 기능을 하는 동일한 구성요소에 대해서는 도면의 참조부호를 동일하게 사용하기로 한다.However, in describing the present invention, a detailed description of known functions or configurations will be omitted to clarify the gist of the present invention. In addition, the same reference numerals in the drawings will be used for the same components having the same function.
도 1은 종래의 화학기상증착법을 이용하여 코팅된 분말의 표면이 나타나 있다. 즉, 도시된 바와 같이 분말이 균일하게 코팅되지 않았음을 알 수 있다.1 shows the surface of a powder coated using a conventional chemical vapor deposition method. That is, it can be seen that the powder is not uniformly coated as shown.
도 2에서는 본 발명의 일 실시예를 따르는 분말 코팅 장치에 의해 코딩된 분말의 표면이 나타나 있다. 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예를 따르는 장치를 이용하면 균일하게 코팅된 분말을 얻을 수 있게 된다.2 shows the surface of a powder encoded by a powder coating apparatus according to one embodiment of the invention. As shown, using an apparatus according to one embodiment of the present invention allows to obtain a uniformly coated powder.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 분말 코팅 장치를 도시한 것이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 교반 실린더의 정면도 및 측면도를 도시한 것이다.Figure 3 shows a powder coating apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 4 shows a front view and a side view of a stirring cylinder according to an embodiment of the present invention.
도 3에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 분말 코팅 장치는 분말을 수용하고, 회전 구동가능하되, 내주면에는 복수의 돌기부(9)가 설치된 교반 실린더(6)와; 상기 교반 실린더(6)를 수용하되, 화학기상증착을 위해 일단에 가스 인입구(3)를 구비하고, 타단에 가스 배기구(5)를 구비하는 반응용기(4)와; 상기 반응용기(4)를 수용하되 상기 가스 인입구(3) 및 상기 가스 배기구(5)가 외부로 노출되도록 양단이 개구(open)된 챔버(1)를 더 포함하고, 여기서, 상기 챔버(1)는 가열수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.As can be seen in Figure 3, the powder coating apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a stirring cylinder (6) provided with a plurality of protrusions (9) on the inner circumferential surface to accommodate the powder, and rotationally driven; A reaction vessel (4) for accommodating the stirring cylinder (6), having a gas inlet (3) at one end and a gas exhaust (5) at the other end for chemical vapor deposition; The chamber 1 further includes a chamber 1 accommodating the reaction vessel 4, and both ends of the gas inlet 3 and the gas exhaust port 5 are exposed to the outside. Is characterized in that it comprises a heating means.
이에 따르면, 가열 및 증발시키는 증발법(evaporation method)과 스퍼터링법으로 코팅하는 것에 비해 화학기상증착을 통해 복합형상의 내부나 분말을 코팅할 수 있게 된다. According to this, it is possible to coat the complex interior or powder through chemical vapor deposition as compared with the coating by the evaporation method and the sputtering method of heating and evaporation.
상기 회전 구동가능한 교반 실린더(6)는 모터(8)에 의해 구동될 수 있다. 그리고, 상기 반응용기(4)는 스테인리스로 형성된다.The rotatable stirring cylinder 6 can be driven by a motor 8. The reaction vessel 4 is made of stainless steel.
상기 내주면에 설치된 복수의 돌기부(9)는 상기 교반 실린더(6) 내주면에 축 방향을 따라 복수의 블레이드로 형성될 수 있다. 이때, 상기 복수의 블레이드(9)는 상기 교반 실린더 내에 나선형으로 구성될 수 있다.The plurality of
이에 따르면, 상기 모터(8)에 의해 상기 교반 실린더(6)가 회전할 때 상기 블레이드(9)에 의해 분말이 위로 이송되다가 상기 교반 실린더(6)가 계속 회전하게 되면 다시 낙하하는 과정을 반복함으로써 교반 실린더(6) 내의 분말이 원활하게 교반될 수 있게 하여 분말이 균일하게 코팅될 수 있다. According to this, when the stirring cylinder 6 is rotated by the motor 8, the powder is transferred upward by the
상기 교반 실린더(6)의 내부는 중앙부에서 양측으로 점차 직경이 작아지도록 경사지게 형성(도 4에 나타난 바와 같이)된다. 이에 따르면, 상기 교반 실린더(6) 내에 놓여진 분말이 상기 복수의 돌기부(9)에 의해 분말이 교반되는 과정에서 밖으로 밀려 빠져나가는 것을 방지할 수 있다. 또한, 화학기상증착법을 이용하여 코팅시 상기 교반 실린더(6) 내의 분말이 공급되는 가스에 의해 날려 상기 교반 실린더의 우측단으로 이동되는 것을 완화할 수 있다.The interior of the stirring cylinder 6 is formed to be inclined so as to gradually decrease in diameter from the center to both sides (as shown in FIG. 4). According to this, the powder placed in the stirring cylinder 6 can be prevented from being pushed out in the process of stirring the powder by the plurality of
한편, 상기 교반 실린더(6)의 일 측면에는 가스는 투과할 수 있으나 분말을 투과할 수 없는 막(10)이 추가적으로 설치될 수 있다. 이때, 상기 가스는 투과할 수 있으나 분말은 투과할 수 없는 막(10)은 금속 메쉬로 이루어진 그물망으로 구성될 수 있다.On the other hand, one side of the stirring cylinder 6 may be additionally provided with a
이에 따르면, 분말이 교반 실린더(6)의 밖으로 빠져나가는 것을 방지할 수 있다. 특히는 화학기상증착법을 이용하여 코팅시 공급되는 가스의 공급 유속이 크거나, 분말의 입도가 아주 작은 경우에 상기 교반 실린더(6)의 내주면에 설치된 복수의 돌기부(9)가 회전함에 따라 상기 교반 실린더(6)의 위로 이송된 후 아래로 떨어지는 분말이 상기 공급되는 가스에 의해 교반 실린더(6)의 우측단으로 날아가는 것을 방지할 수 있다.According to this, the powder can be prevented from escaping out of the stirring cylinder 6. In particular, in the case where the supply flow rate of the gas supplied at the time of coating using the chemical vapor deposition method is large or the particle size of the powder is very small, the plurality of
한편, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 분말 코팅 장치는 분말을 수용할 수 있는 교반 실린더(6)와; 상기 교반 실린더(6)를 수용하되, 화학기상증착을 위해 일단에 가스 인입구(3)를 구비하고, 타단에 가스 배기구(5)를 구비하는 반응용기(4)와; 상기 반응 용기(4)의 일단 또는 양단에 설치되어, 상기 반응 용기(4)가 시소 운동할 수 있도록 하는 액추에이터와; 상기 반응용기(4)를 수용하되 상기 시소 운동이 가능하도록 양단이 개구(open)되고, 가열수단을 구비하는 챔버(1)를 포함하는 것을 특징으로 한다.On the other hand, the powder coating apparatus according to the second embodiment of the present invention includes a stirring cylinder (6) which can accommodate the powder; A reaction vessel (4) for accommodating the stirring cylinder (6), having a gas inlet (3) at one end and a gas exhaust (5) at the other end for chemical vapor deposition; An actuator installed at one end or both ends of the reaction vessel 4 to allow the reaction vessel 4 to seesaw; It is characterized in that it comprises a chamber (1) for accommodating the reaction vessel (4), the both ends of the opening (open) so that the seesaw movement is possible, and having a heating means.
상기 반응용기(4)는 스테인리스로 형성될 수 있다.The reaction vessel 4 may be formed of stainless steel.
상기 액추에이터는 모터의 속도 및 위상을 제어하기 위한 모터 컨트롤러(13)와, 상기 모터 컨트롤러에 의해 제어되는 복수의 모터(12)와, 상기 복수의 모터에 의해 구동되며 서로 소정의 위상 차이로 어긋나게 구성된 복수의 편심캠(11)에 의해서 구성될 수 있다The actuator is configured by a
상기 복수의 편심캠(11)은 서로 180°로 어긋나게 구성되어, 상기 교반 실린더의 대칭축(14)을 기준으로 일단이 상승되면 타단은 하강되고, 타단이 상승되면 일단은 하강되는 시소 운동을 함으로써, 교반 실린더(6) 내에 놓여진 분말이 서로 원할하게 교반될 수 있게 된다. 이에 따르면, 상기 교반 실린더(6) 내의 분말이 좌우로 이동하게 되어 교반 실린더의 우측단에 쌓일 수 있는 분말을 고르게 분산시킬 수 있다. 특히는 화학기상증착법으로 코팅하는 경우로서 공급되는 가스의 공급 유속이 크거나, 분말의 입도가 아주 작은 경우에 상기 교반 실린더가 상기 복수의 캠에 의해 구동될 때 상기 교반 실린더 내에 놓여진 분말이 공급되는 가스에 날려 상기 교반 실린더의 우측단에 쌓이게 되는 것을 방지할 수 있다.The plurality of
한편, 상기 교반 실린더(6)가 상기 대칭축을 기준으로 하는 노젓기 형태의 운동을 할 수 있도록, 상기 액추에이터가 적절하게 배치될 수도 있다. On the other hand, the actuator may be appropriately arranged so that the stirring cylinder 6 can perform a rowing motion based on the axis of symmetry.
한편, 상기 교반 실린더(6)의 내부는 중앙부에서 양측으로 점차 직경이 작아지도록 경사지게 형성(도 4에 나타난 바와 같이)될 수 있다. On the other hand, the inside of the stirring cylinder 6 may be formed to be inclined (as shown in Figure 4) so as to gradually decrease in diameter from the center portion to both sides.
또한, 상기 교반 실린더의 일 측면에는 가스는 투과할 수 있으나 분말을 투과할 수 없는 막(10)이 추가적으로 설치될 수 있다. In addition, one side of the stirring cylinder may be additionally provided with a
이때, 상기 가스는 투과할 수 있으나 분말은 투과할 수 없는 막(10)은 금속 메쉬로 이루어진 그물망으로 구성될 수 있다. In this case, the
한편, 본 발명의 제 3 실시예에 따른, 분말 코팅 장치는: 분말을 수용할 수 있되 회전 구동 가능하고, 내주면에는 복수의 돌기부(9)가 설치된 교반 실린더(6)와, 상기 교반 실린더(6)의 일단 또는 양단에 설치되어, 대칭축(14)을 기준으로 상기 교반 실린더(6)가 특정한 형태의 운동을 할 수 있게 하는 액추에이터를 포함하는 것을 특징으로 한다.On the other hand, the powder coating apparatus according to the third embodiment of the present invention includes: a stirring cylinder (6) and a stirring cylinder (6) provided with a plurality of protrusions (9) on the inner circumferential surface thereof, which can accommodate the powder and can be driven in rotation. It is characterized in that it comprises an actuator installed at one end or both ends of the c), allowing the stirring cylinder 6 to perform a specific type of movement with respect to the axis of
상기 분말 코팅 장치는 화학기상증착을 위해 상기 교반 실린더를 수용할 수 있고, 가스 인입구(3)와 가스 배기구(5)를 구비하는 반응용기(4)와, 가열수단(2)을 구비하는 챔버(1)를 더 포함할 수 있다. The powder coating apparatus can accommodate the stirring cylinder for chemical vapor deposition, a chamber having a reaction vessel (4) having a gas inlet (3) and a gas exhaust port (5), and a heating means (2). It may further include 1).
상기 내주면에 설치된 복수의 돌기부(9)는 상기 교반 실린더(6) 내주면에 축 방향을 따라 복수의 블레이드 형태로 형성된다. 이때, 상기 복수의 블레이드는 상기 교반 실린더 내에 나선형으로 구성될 수 있다The plurality of
상기 반응용기는 스테인리스로 형성될 수 있다.The reaction vessel may be formed of stainless steel.
상기 회전 구동가능한 교반 실린더는 모터(8)에 의해 구동된다. The rotatable stirring cylinder is driven by a motor (8).
상기 액추에이터는 모터의 속도 및 위상을 제어하기 위한 모터 컨트롤러(13)와, 상기 모터 컨트롤러에 의해 제어되는 복수의 모터(12)와, 상기 복수의 모터에 의해 구동되며 서로 소정의 위상 차이로 어긋나게 구성된 복수의 편심캠(11)에 의해서 구성될 수 있다. 그러나, 본 발명이 이에만 한정되는 것은 아니다.The actuator is configured by a
상기 복수의 편심캠은 서로 180°로 어긋나게 구성되어, 상기 교반 실린더의 대칭축(14)을 기준으로 일단이 상승되면 타단은 하강되고, 타단이 상승되면 일단은 하강되는 시소 운동을 하게 함으로써, 교반 실린더 내에 놓여진 분말이 서로 원할하게 교반될 수 있게 된다. The plurality of eccentric cams are configured to be offset by 180 ° from each other, the other end is lowered when one end is raised relative to the axis of
한편, 상기 복수의 편심캠은 상기 교반 실린더가 상기 대칭축을 기준으로 하는 노젓기 형태의 운동을 할 수 있도록 적절하게 배치될 수도 있다.On the other hand, the plurality of eccentric cam may be appropriately arranged so that the stirring cylinder can perform the movement of the rowing shape based on the axis of symmetry.
상기 교반 실린더의 내부는 중앙부에서 양측으로 점차 직경이 작아지도록 경사지게 형성(도 4에 나타난 바와 같이)된다. The inside of the stirring cylinder is formed to be inclined so as to gradually decrease in diameter from the center portion to both sides (as shown in FIG. 4).
상기 교반 실린더의 일 측면에는 가스는 투과할 수 있으나 분말을 투과할 수 없는 막(10)이 설치될 수 있다. One side of the stirring cylinder may be a
상기 가스는 투과할 수 있으나 분말은 투과할 수 없는 막(10)은 금속 메쉬로 이루어진 그물망으로 구성된다. The
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above by way of example, the scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, and may be appropriately changed within the scope described in the claims.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면 교반 실린더를 회전시켜 복수의 돌기부에 의해 분말이 고르게 교반되도록 함으로써, 분말의 표면을 균일하게 코팅할 수 있게 된다. As described above, according to an embodiment of the present invention by rotating the stirring cylinder so that the powder is evenly stirred by the plurality of protrusions, it is possible to uniformly coat the surface of the powder.
또한, 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면 상기 액추에이터에 의하여 교반 실린더가 특정한 형태의 운동을 하게 함으로써, 상기 교반 실린더 내의 분말이 원활하게 교반될 수 있게 하여 분말의 표면을 균일하게 코팅할 수 있게 된다.In addition, according to another embodiment of the present invention by causing the stirring cylinder to move in a specific form by the actuator, it is possible to smoothly stir the powder in the stirring cylinder to uniformly coat the surface of the powder do.
Claims (10)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050065357A KR100667281B1 (en) | 2005-07-19 | 2005-07-19 | Coating equipment for surface coating of powder |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050065357A KR100667281B1 (en) | 2005-07-19 | 2005-07-19 | Coating equipment for surface coating of powder |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100667281B1 true KR100667281B1 (en) | 2007-01-12 |
Family
ID=37867658
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050065357A KR100667281B1 (en) | 2005-07-19 | 2005-07-19 | Coating equipment for surface coating of powder |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100667281B1 (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130059073A1 (en) * | 2011-09-03 | 2013-03-07 | Ying-Bing JIANG | Apparatus and Method for making atomic layer deposition on fine powders |
KR20160004136U (en) * | 2015-05-26 | 2016-12-06 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Reactor of powder coating apparatus |
KR20170002777A (en) * | 2015-06-29 | 2017-01-09 | 영남대학교 산학협력단 | Coating apparatus |
WO2017003179A3 (en) * | 2015-06-29 | 2017-03-09 | 영남대학교 산학협력단 | Coating apparatus and reforming reactor using plate which coats catalyst using same |
KR20180002263A (en) * | 2016-06-29 | 2018-01-08 | 영남대학교 산학협력단 | Reactor reforming for liquid hydrocarbon fuel |
KR20200105369A (en) * | 2019-02-28 | 2020-09-07 | 주식회사 엘아이비에너지 | Chemical vapor deposition equipment for coating thin film layer on power shape material |
KR20220068825A (en) * | 2020-11-19 | 2022-05-26 | 한국전자기술연구원 | Reactor having an inclined surface and powder ALD apparatus including the same |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960013926B1 (en) * | 1993-10-11 | 1996-10-10 | 김은영 | Inclined cylindrical rotary particle coating device |
JPH11116842A (en) | 1997-10-13 | 1999-04-27 | Nisshin Steel Co Ltd | Producing apparatus for organic pigment-coated powder |
US6149785A (en) | 1996-04-03 | 2000-11-21 | The Regents Of The University Of California | Apparatus for coating powders |
JP2001207261A (en) | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Matsushita Electric Works Ltd | Barrel for vapor deposition coating device |
WO2004059031A1 (en) | 2002-12-25 | 2004-07-15 | Youtec Co.,Ltd. | Polygonal barrel spattering device, polygonal barrel spattering method, coated particle formed by the device and method, microcapsule, and method of manufacturing the microcapsule |
-
2005
- 2005-07-19 KR KR1020050065357A patent/KR100667281B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960013926B1 (en) * | 1993-10-11 | 1996-10-10 | 김은영 | Inclined cylindrical rotary particle coating device |
US6149785A (en) | 1996-04-03 | 2000-11-21 | The Regents Of The University Of California | Apparatus for coating powders |
JPH11116842A (en) | 1997-10-13 | 1999-04-27 | Nisshin Steel Co Ltd | Producing apparatus for organic pigment-coated powder |
JP2001207261A (en) | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Matsushita Electric Works Ltd | Barrel for vapor deposition coating device |
WO2004059031A1 (en) | 2002-12-25 | 2004-07-15 | Youtec Co.,Ltd. | Polygonal barrel spattering device, polygonal barrel spattering method, coated particle formed by the device and method, microcapsule, and method of manufacturing the microcapsule |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9951419B2 (en) * | 2011-09-03 | 2018-04-24 | Ying-Bing JIANG | Apparatus and method for making atomic layer deposition on fine powders |
US20130059073A1 (en) * | 2011-09-03 | 2013-03-07 | Ying-Bing JIANG | Apparatus and Method for making atomic layer deposition on fine powders |
KR20160004136U (en) * | 2015-05-26 | 2016-12-06 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Reactor of powder coating apparatus |
KR200482949Y1 (en) * | 2015-05-26 | 2017-03-20 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Reactor of powder coating apparatus |
KR20170002777A (en) * | 2015-06-29 | 2017-01-09 | 영남대학교 산학협력단 | Coating apparatus |
KR101703557B1 (en) | 2015-06-29 | 2017-02-23 | 영남대학교 산학협력단 | Coating apparatus |
WO2017003179A3 (en) * | 2015-06-29 | 2017-03-09 | 영남대학교 산학협력단 | Coating apparatus and reforming reactor using plate which coats catalyst using same |
KR101870026B1 (en) | 2016-06-29 | 2018-06-21 | 영남대학교 산학협력단 | Reactor reforming for liquid hydrocarbon fuel |
KR20180002263A (en) * | 2016-06-29 | 2018-01-08 | 영남대학교 산학협력단 | Reactor reforming for liquid hydrocarbon fuel |
KR20200105369A (en) * | 2019-02-28 | 2020-09-07 | 주식회사 엘아이비에너지 | Chemical vapor deposition equipment for coating thin film layer on power shape material |
WO2021033909A1 (en) * | 2019-02-28 | 2021-02-25 | 주식회사 엘아이비에너지 | Chemical vapor deposition device used to deposit thin film layer on powder particle-type material |
CN112703270A (en) * | 2019-02-28 | 2021-04-23 | Liv能源株式会社 | Chemical vapor deposition apparatus for depositing thin film layers on powder particle form material |
KR102372770B1 (en) * | 2019-02-28 | 2022-03-11 | 주식회사 엘아이비에너지 | Chemical vapor deposition equipment for coating thin film layer on power shape material |
CN112703270B (en) * | 2019-02-28 | 2023-12-05 | Liv能源株式会社 | Chemical vapor deposition apparatus for depositing a thin film layer on a material in powder particle form |
KR20220068825A (en) * | 2020-11-19 | 2022-05-26 | 한국전자기술연구원 | Reactor having an inclined surface and powder ALD apparatus including the same |
KR102517262B1 (en) | 2020-11-19 | 2023-04-03 | 한국전자기술연구원 | Reactor having an inclined surface and powder ALD apparatus including the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6924515B2 (en) | Metal oxide thin film forming apparatus and metal oxide thin film forming method | |
KR100667281B1 (en) | Coating equipment for surface coating of powder | |
JP2009512788A (en) | Cathodes and applications incorporating rotating targets in combination with fixed or moving magnet assemblies | |
US9324494B2 (en) | Treatment device | |
CN1737190A (en) | Magnetron sputtering device | |
JP2005135736A (en) | Plasma processing device for particulates | |
US20070213212A1 (en) | Fine Particle | |
US20060172065A1 (en) | Vacuum deposition of coating materials on powders | |
JP2000506226A (en) | Vacuum deposition system for bulk materials | |
KR20110080211A (en) | Thermal barrier coating device and method | |
JPH03153864A (en) | Method and device for surface coating of particle | |
KR101371168B1 (en) | Rotation drum type plasma treating apparatus | |
KR20140128645A (en) | Coating methodfor nano particle | |
CN111091917B (en) | Fusion device and neutron generator | |
JP2000282234A (en) | Sputtering device | |
JP2009108382A (en) | Target device for sputtering, and sputtering apparatus | |
JP2005320601A (en) | Sputtering system | |
JP2017110282A (en) | Piezoelectric substrate vapor-deposition method, and vacuum evaporation system | |
JPS6352111B2 (en) | ||
JP3810132B2 (en) | Sputtering equipment | |
KR102627889B1 (en) | Sputtering Coating Apparatus for Coating on the Powder Attachable Reactor equipped with Impeller And the Sputtering Coating Method using Thereof | |
JP2021161506A (en) | Sputtering apparatus and film deposition method using the same | |
KR20140065901A (en) | Pulsed laser deposition apparatus with separated target and deposition method for multilayer thin film using of the same | |
JP2011224447A (en) | Apparatus for and method of treating powder | |
US20230143154A1 (en) | Piston crank agitation mechanism for physical vapor deposition conformal coatings on powder |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20050719 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20060829 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20070102 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20070104 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20070105 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20091230 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20110103 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20120113 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120508 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20120508 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140108 Year of fee payment: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20140108 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20151209 |