KR100659486B1 - Stage apparatus for table coater - Google Patents
Stage apparatus for table coater Download PDFInfo
- Publication number
- KR100659486B1 KR100659486B1 KR1020040055392A KR20040055392A KR100659486B1 KR 100659486 B1 KR100659486 B1 KR 100659486B1 KR 1020040055392 A KR1020040055392 A KR 1020040055392A KR 20040055392 A KR20040055392 A KR 20040055392A KR 100659486 B1 KR100659486 B1 KR 100659486B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- slider
- mechanisms
- substrate
- slide wedge
- axis drive
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
Abstract
슬라이더부의 낮은 중심(重心; 무게중심)화를 도모함으로써 피칭 진동이 발생하기 어려운 스테이지 장치를 제공한다.By providing a low center of gravity of the slider portion, there is provided a stage device in which pitching vibration is less likely to occur.
본 테이블 코터기용 스테이지 장치는, 피처리기판이 탑재되는 기판 테이블(100)의 면을 따라서 Y축 방향으로 움직일 수 있는 제1 슬라이더와, 제1 슬라이더와 함께 Y축 방향으로 움직일 수 있도록 제1 슬라이더에 조합되어, 노즐부(140)를 상하 방향으로 구동하기 위한 제2 슬라이더를 구비한다. 제1 슬라이더는, 기판 테이블의 양측에 대응하는 위치에 서로 평행하게 뻗도록 설치된 2개의 레일부(110A, 110B)를 따라서 주행 가능한 리니어 모터에 의한 2개의 Y축 구동기구(120A, 120B)로 이루어지고, 제2 슬라이더는 2개의 Y축 구동기구에 조합된 2개의 슬라이드 웨지기구(10)로 이루어진다. 이들 2개의 슬라이드 웨지기구에 있어서의 상하이동 블럭(11)의 사이에 노즐부가 걸쳐진다.This table coater stage device includes a first slider that can move in the Y-axis direction along the surface of the substrate table 100 on which the substrate is to be mounted, and a first slider that can move in the Y-axis direction together with the first slider. And a second slider for driving the nozzle unit 140 in the vertical direction. The first slider is composed of two Y-axis drive mechanisms 120A and 120B by linear motors that can travel along two rail portions 110A and 110B installed so as to extend in parallel to each other at positions corresponding to both sides of the substrate table. The second slider consists of two slide wedge mechanisms 10 combined with two Y-axis drive mechanisms. The nozzle portion is sandwiched between the shank blocks 11 in these two slide wedge mechanisms.
테이블, 코터기, 스테이지, 무게중심Table, cutter, stage, center of gravity
Description
도 1은, 본 발명에 의한 테이블 코터기용 스테이지 장치 중, Z축 구동기구의 구조를 설명하기 위한 측면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a side view for demonstrating the structure of a Z-axis drive mechanism in the table coater stage apparatus by this invention.
도 2는, 도 1에 나타난 Z축 구동기구의 주요부인 슬라이드 웨지기구의 구조를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 2 is a view for explaining the structure of the slide wedge mechanism, which is a main part of the Z-axis drive mechanism shown in FIG. 1.
도 3은, 도 1에 나타난 Z축 구동기구의 개략 사시도이다.3 is a schematic perspective view of the Z-axis drive mechanism shown in FIG. 1.
도 4는, 대형 기판 처리용으로서 제안되어 있는 테이블 코터기용 스테이지 장치의 측면도이다.4 is a side view of a stage coater stage device proposed for large substrate processing.
도 5는, 도 4의 스테이지 장치의 정면도이다.FIG. 5 is a front view of the stage apparatus of FIG. 4.
도 6은, 테이블 코터기에 있어서의 노즐부를 설명하기 위한 사시도이다.6 is a perspective view for explaining a nozzle unit in the table coater.
도 7은, 도 4의 스테이지 장치에 있어서의 Z축 구동기구를 설명하기 위한 측면도 및 정면도이다.FIG. 7: is a side view and a front view for demonstrating the Z-axis drive mechanism in the stage apparatus of FIG.
도 8은, 도 4의 스테이지 장치에 있어서의 슬라이더부의 가속 정정(整定)시간을 설명하기 위하여 시간-속도 특성의 일례를 나타낸 도면이다.FIG. 8 is a diagram illustrating an example of time-speed characteristics in order to explain the acceleration settling time of the slider portion in the stage apparatus of FIG. 4.
[부호의 설명][Description of the code]
10 : 슬라이드 웨지(wedge)기구10: slide wedge mechanism
11 : 상하이동 블럭11: Shanghai East Block
12 : AC 서보모터12: AC servo motor
13 : 볼나사13: Ball screw
14 : 너트14: Nut
15 : 수평이동 블럭15: horizontal movement block
16, 138 : 에어실린더 기구16, 138: air cylinder mechanism
20 : 지지판20: support plate
21 : 프레임판21: frame plate
22 : 상하방향 구름 가이드22: up and down cloud guide
23 : 경사방향 구름 가이드23: inclined cloud guide
32, 33, 36, 132 : 가이드부32, 33, 36, 132: guide part
35, 134 : 구름 가이드35, 134: cloud guide
100 : 기판 테이블100: substrate table
110A, 110B : 레일부110A, 110B: Rail part
120A, 120B : Y축 구동기구120A, 120B: Y axis drive mechanism
130A, 130B : Z축 구동기구130A, 130B: Z axis drive mechanism
150 : 가설대150: hypothesis
160 : 돌(石)정반160: stone plate
본 발명은 스테이지(stage) 장치에 관한 것으로서, 특히 테이블(table) 코터(coater)기에 적용한 스테이지 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a stage apparatus, and more particularly, to a stage apparatus applied to a table coater machine.
코터기의 일례로서, 예컨대 액정판의 제조 과정에 있어서 유리기판에 특정의 재료에 의한 박막을 도포하는 코터기가 있다. 지금까지, 이 종류의 코터기는 스핀 코팅 방식에 의한, 소위 스핀 코터기가 주류였다. 그러나, 스핀 코터기는, 그 기구상, 기판상에 떨어뜨린 고가의 도포 재료의 거의가 버려져 버린다는 문제점을 가지고 있다.As an example of a coater, for example, a coater for coating a thin film made of a specific material on a glass substrate in the manufacturing process of a liquid crystal plate. Until now, this kind of coater group has been the mainstream of the so-called spin coater group by spin coating. However, the spin coater has a problem in that almost all of the expensive coating materials dropped on the substrate are discarded.
그래서, 근년에는 스핀 코터기 대신에 테이블 코터기가 제공되기 시작하고 있다. 테이블 코터기는, 어떤 길이의 도포재료의 분사구를 가지는 노즐부 또는 피처리기판을 탑재하고 있는 테이블을 일축 방향으로 슬라이드시킴으로써 도포를 행하는 것으로서, 도포재료의 폐기량이 적도록 처리하는 잇점을 가진다(예컨대 특허문헌 1 참조).Thus, in recent years, table coaters have been provided instead of spin coaters. The table coater is applied by sliding in a uniaxial direction a table having a nozzle portion or a substrate to be processed having a spray port of a coating material of a certain length, and has an advantage of processing so that the waste amount of the coating material is small (for example, a patent). See Document 1).
그러나, 근년에는 피처리기판이 대형화(예컨대 2m × 2m)하고 있어서, 이에 대응 가능한 스테이지 장치가 요구되고 있다.However, in recent years, the substrate to be processed has been enlarged (for example, 2 m x 2 m), and a stage apparatus that can cope with this has been demanded.
도 4 내지 도 7을 참조하여, 대형의 피처리기판용으로서 제안되어 있는 테이블 코터기용 스테이지 장치의 일례에 대하여 설명한다. 도 4, 도 5에 있어서, 가설대(150) 상에 돌(石)정반(160)이 고정되어 있다. 돌정반(160)은 상면 측에 오목부를 가지고, 이 오목부에는, 피처리기판을 탑재하여 흡착 유지하기 위한 기판 테이블(100)이 설치되어 있다. 기판 테이블(100)의 양측에 대응하는 돌정반(160)의 양측, 즉 오목부보다 높게 되어 있는 부분에는, 서로 평행하게 뻗도록 돌 재료에 의 한 레일부(110A, 110B)가 설치되어 있다. 이하에서는, 이 뻗어 있는 방향을 Y축이라고 부른다. 이들 레일부(110A, 110B)에는 각각, 레일부(110A, 110B)를 따라서 주행 가능하도록 Y축 구동기구(120A, 120B)가 조합된다. Y축 구동기구(120A, 120B)는 리니어 모터에 의하여 실현된다. 즉, 레일부(110A, 110B)를 따라서 리니어 모터의 고정자석부(요크부)가 배치되고, Y축 구동기구(120A, 120B)에는 리니어 모터의 가동 코일부가 배치된다.4-7, an example of the stage coater stage apparatus proposed for the large sized to-be-processed board | substrate is demonstrated. 4 and 5, the
Y축 구동기구(120A, 120B)에는 또한, 거기서 상방으로 뻗도록 Z축 구동기구(130A, 130B)가 설치되어 있다. Z축 구동기구(130A, 130B)는, Z축 방향, 즉 상하방향으로의 구동원으로서, 이들 사이에 걸쳐진 노즐부(140)를 Z축 방향으로 구동하기 위한 것이다.The Y-
즉, 노즐부(140)는, Y축 구동기구(120A, 120B)에 의하여 Z축 구동기구(130A, 130B)와 함께 Y축 방향으로 이동 가능하며, Z축 구동기구(130A, 130B)에 의하여 Z축 방향으로 이동 가능하다.That is, the
본 스테이지 장치에 부착되는 노즐부(140)는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 기판 테이블(100) 상에 탑재되는 피처리기판(도시하지 않음)의 폭보다 큰 길이를 가지며, 그 최하부에 길이 방향을 따라서 형성되어 있는 미소(微小) 사이즈의 슬릿에서 도포재료를 분사 혹은 방울방울 떨어뜨린다.As shown in FIG. 6, the
도 7은 Z축 구동기구의 일례를 나타낸다. 도 7에 있어서, Z축 구동기구(130A)는, 프레임(131)과, 거기에 상하 방향으로 뻗도록 장착된 2개의 가이드부(132)와, 가이드부(132)를 따라서 움직일 수 있도록 장착된 테이블(133)과, 가이드 부(132)에 의하여 안내를 받는 구름 가이드(134)를 구비하고 있다. 테이블(133)은, 가이드부(132)와 같은 방향으로 장착된 볼나사(135)와 거기에 나사결합된 너트(136)에 의한 볼나사 기구로 구동되고, 프레임(131)의 상부에는 볼나사 회전용의 AC 서보모터(137)가 고정 배치되어 있다. 너트(136)는 테이블(133)의 배면측에 고정되어 있다.7 shows an example of a Z-axis drive mechanism. In FIG. 7, the Z-
Z축 구동기구(130A)는 또한, AC 서보모터(137)의 부하를 경감시키기 위하여, 카운터 밸런스용 에어실린더 기구(138)를 구비한다. 에어실린더 기구(138)의 샤프트는 너트(136) 또는 가동부에 장착되고, 에어실린더 기구(138)의 본체는 AC 서보모터(137)에 병렬로 프레임(131) 상부에 고정되어 있다. Z축 구동기구(130B)도 완전히 동일 구조이다. 그리고, 노즐부(140)는 Z축 구동기구(130A, 130B)에 있어서의 2개의 테이블(133) 사이에 걸쳐진다.The Z-
이하에서는, Y축 구동기구(120A, 120B), Z축 구동기구(130A, 130B), 노즐부(140)를 포함하는 가동부 전체를 슬라이더부라고 칭하여 설명을 행한다.Hereinafter, the whole movable part including Y-
상기와 같은 테이블 코터기용 스테이지 장치에서 구동되는 슬라이더부의 도포시 동작은 이하와 같이 된다.The operation | movement at the time of application | coating of the slider part driven by the above-mentioned table coater stage apparatus becomes as follows.
a. 노즐부(140)를 도포 높이까지 내려서, 피처리기판의 직전에서 일단 정지한다.a. The
b. 정지상태로부터 일정 속도가 될 때까지 도포하면서 가속한다. 이 경우, 도포 얼룩이 생긴 성막(成膜; 막 형성) 기판부분은 폐기된다.b. Accelerate with application until it reaches a certain speed from stop. In this case, the portion of the film formation substrate on which the coating unevenness occurs is discarded.
c. 도포하면서 피처리기판의 종단측으로 일정속도로 이동한다. 도포 얼룩이 없는 성막 기판부분이 유효 사용범위가 된다.c. While applying, it moves at a constant speed toward the end of the substrate to be processed. The film forming substrate portion without coating staining becomes an effective use range.
d. 도포하면서 피처리기판의 종단 직전에서 감속 정지한다. 이 경우에도, 도포 얼룩이 생긴 성막 기판부분은 폐기된다.d. While applying, deceleration stops immediately before the end of the substrate to be processed. Also in this case, the film-forming board | substrate part in which the application | coating stain | emission occurred was discarded.
e. 정지 후, 노즐부(140)를 일정 높이만큼 올려서, 도포 개시위치까지 되돌아간다.e. After stopping, the
도 8은, 상기 슬아이더부의 도포시 동작에 있어서의 시간-속도 특성을 나타내고 있다. 도 8에 있어서, 시간 T는 이하에 설명하는 가속 정정(整定)시간을 나타낸다.8 shows the time-speed characteristic in the operation | movement at the time of application | coating of the said slider part. In FIG. 8, time T represents the acceleration settling time demonstrated below.
상기 도포시 동작에 있어서 성막(成膜) 기판의 폐기부가 되고 마는 슬라이더부의 가속 정정(整定; settlement)시간(T)(혹은 거리)의 단축이 요구되고 있다. 이와 같은 요구에 대하여, 상기 스테이지 장치의 구조는, Z축 구동기구(130A, 130B)에 있어서 상부에 큰 중량 부품이 점하고 있어서, 슬라이더부 전체의 중심(重心; 무게중심; 이하 "중심"이라고 한다)점이 높은 위치로 되어 있다. 즉, Y축 구동기구(120A, 120B)의 위에 키가 큰 Z축 구동기구(130A, 130B)가 탑재되어 있기 때문에, 슬라이더부 전체의 중심점이 높은 위치가 되어, 중심점이 Y축 방향의 구동점인 Y축 구동기구(120A, 120B)와 떨어진 위치 관계가 되어 있다. 중심점 위치와 구동점 위치의 일례를 도 5에 나타낸다.In the application | coating operation | movement, shortening of the acceleration settling time T (or distance) of the slider part which turns into the discarding part of a film-forming board | substrate is calculated | required. In response to such a demand, the structure of the stage device is characterized by the fact that a large weight component occupies the upper portion of the Z-
이와 같은 구조에서는 가속시에 슬라이더부가 피칭(pitching) 진동을 일으키기 쉽고, 또한 진동이 감쇠되기 어려운 구조이다. 피칭 진동이란, 도 6에 화살표로 나타내는 바와 같은 진동이다. 슬라이더부가 진동하고 있으면 가속 정정시간(T)(거 리)도 길어지기 때문에, 도포 얼룩부(성막 기판의 폐기부)가 길어진다.In such a structure, the slider portion is likely to cause pitching vibration during acceleration, and the vibration is hardly attenuated. Pitching vibration is vibration as shown by the arrow in FIG. When the slider portion is vibrated, the acceleration settling time T (distance) also becomes long, so that the coating spot (the discarding portion of the film forming substrate) becomes long.
이에 대하여, 낮은 중심화를 위하여, 예컨대 Y축 구동기구(120A, 120B)의 측면에 Z축 구동기구(130A, 130B)를 설치하려고 하면, 스테이지 장치 전체의 폭 치수가 크게 되어 설치 스페이스가 증가하여 버릴 뿐 아니라, 수송 코스트 등의 증가로 이어진다.On the other hand, for the purpose of low centering, for example, when the Z-
[특허문헌 1] 일본국 특허공개 2000-167463호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-167463
그래서, 본 발명은, 슬라이더부의 낮은 중심화를 도모함으로써 피칭 진동이 발생하기 어려운 구조로 하여 가속 정정시간(거리)의 단축을 도모하여, 도포 얼룩이 생기는 영역을 최소한으로 하는 것을 과제로 하고 있다.Therefore, the present invention aims to reduce the acceleration settling time (distance) by reducing the centering of the slider to achieve a structure in which pitching vibration is less likely to occur, and to minimize the area where coating unevenness occurs.
본 발명에 의하면, 피처리기판이 탑재되는 기판 테이블 면을 따라서 일축 방향으로 움직일 수 있는 제1 슬라이더와, 이 제1 슬라이더와 함께 상기 일축 방향으로 움직일 수 있도록 제1 슬라이더에 조합되어, 노즐부를 상하 방향으로 구동하기 위한 제2 슬라이더를 구비한 테이블 코터기용 스테이지 장치에 있어서, 상기 제2 슬라이더에 있어서의 구동기구를 슬라이드 웨지(wedge)기구로 구성한 것을 특징으로 하는 테이블 코터기용 스테이지 장치가 제공된다.According to the present invention, the nozzle unit is combined with a first slider that can move in one direction along the surface of the substrate table on which the substrate is to be mounted, and a first slider that can move in the direction along the axis along with the first slider. A table coater stage device having a second slider for driving in a direction, wherein the drive mechanism in the second slider is constituted by a slide wedge mechanism.
그리고, 본 스테이지 장치에 있어서의 상기 제1 슬라이더는, 상기 기판 테이블의 양측에 대응하는 위치에 서로 평행하게 뻗도록 설치된 2개의 레일부를 따라서 주행 가능한 리니어 모터에 의한 2개의 구동기구로 이루어지고, 상기 제2 슬라이더 도 상기 2개의 구동기구에 조합된 2개의 상기 슬라이드 웨지기구로 이루어지며, 이들 2개의 슬라이드 웨지기구에 있어서의 상하이동부의 사이에 상기 노즐부가 걸쳐진다.The first slider in the present stage device is composed of two drive mechanisms by a linear motor that can travel along two rail portions provided so as to extend in parallel to each other at positions corresponding to both sides of the substrate table. The second slider also consists of the two slide wedge mechanisms combined with the two drive mechanisms, and the nozzle portion is interposed between the moving parts in the two slide wedge mechanisms.
또한, 본 스테이지 장치에 있어서의 상기 슬라이드 웨지기구는, 모터 구동에 의한 볼나사 기구와, 제1 경사면을 가지고 상기 볼나사 기구에 의하여 테이블 면에 평행한 방향으로 구동되는 수평이동부와, 상기 제1 경사면에 맞물림하는 제2 경사면을 가지고 상기 수평이동부의 수평운동에 의하여 상하 방향으로 운동하는 상하이동부와, 상기 수평이동부에 대하여 소정의 수평방향 구동력을 부여하기 위한 에어실린더 기구를 구비한다.The slide wedge mechanism in the present stage apparatus includes a ball screw mechanism driven by a motor, a horizontal moving part having a first inclined surface and driven in a direction parallel to a table surface by the ball screw mechanism, And a shanghai portion which moves up and down by a horizontal movement of the horizontal moving portion with a second inclined surface engaged with the first inclined surface, and an air cylinder mechanism for imparting a predetermined horizontal driving force to the horizontal moving portion.
본 스테이지 장치에 있어서는, 상기 기판 테이블은 정반 상에 설치되고, 상기 2개의 레일부 및 상기 리니어 모터에 의한 2개의 구동기구도 상기 정반에 설치된다.In this stage apparatus, the said board | substrate table is provided on the surface plate, and the two rail parts and the two drive mechanisms by the said linear motor are also provided in the said surface plate.
[발명을 실시하기 위한 최량의 형태]Best Mode for Carrying Out the Invention
도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명에 의한 테이블 코터기용 스테이지 장치의 실시형태에 대하여 설명한다. 본 발명에 의한 스테이지 장치의 특징은, 도 7에서 설명한 Z축 구동기구를 개량한 점에 있다. 그러므로, 도 1 내지 도 3에는 이 Z축 구동기구만을 도시하고, 이하에서는 이 Z축 구동기구만에 대하여 설명한다. 즉, Z축 구동기구 이외의 구성은, 도 4, 도 5에서 도시, 설명한 것과 동일하다고 생각하여도 좋다.EMBODIMENT OF THE INVENTION With reference to FIGS. 1-3, embodiment of the table coater stage apparatus by this invention is described. A feature of the stage device according to the present invention lies in that the Z axis drive mechanism described in FIG. 7 is improved. Therefore, only this Z-axis drive mechanism is shown in FIGS. 1-3, and only this Z-axis drive mechanism is demonstrated below. In other words, the configuration other than the Z-axis drive mechanism may be considered to be the same as that illustrated and described in FIGS. 4 and 5.
도 4, 도 5에서 설명한 바와 같이, 기판 테이블(100)의 양측에 대응하는 돌( 石)정반(160)의 양측에는 서로 평행하게 뻗도록 2개의 레일부(110A, 110B)가 설치되고, 이들 레일부(110A, 110B)를 따라서 주행 가능하도록 리니어 모터에 의한 Y축 구동기구(제1 슬라이더)(120A, 120B)가 배치되어 있다.As illustrated in FIGS. 4 and 5, two
본 형태에서는, Z축 구동기구(제2 슬라이더)를 슬라이드 웨지기구(10)로 구성하고 있다. 즉, 2개의 Y축 구동기구(120A, 120B)에, 각각 슬라이드 웨지기구(10)가 조합되어 있다. 그리고, 이들 2개의 슬라이드 웨지기구(10)에 있어서의 상하이동 블럭(11)의 사이에 노즐부(140)(도 5 참조)가 걸쳐진다.In this embodiment, the Z-axis drive mechanism (second slider) is constituted by the
슬라이드 웨지기구(10)는, AC 서보모터(12)에 의하여 회전 구동되는 볼나사(13)와 너트(14)에 의한 볼나사 기구와, 상면 측에 제1 경사면을 가지고, 상기 볼나사 기구에 의하여 테이블 면에 평행한 방향으로 구동되는 수평이동 블럭(15)과, 상기 제1 경사면에 맞물림하는 제2 경사면을 하면측에 가지는, 수평이동 블럭(15)의 수평운동에 의하여 상하방향으로 운동하는 상하이동 블럭(11)과, 수평이동 블럭(15)에 대하여 소정의 수평방향 구동력을 부여하기 위한 카운터 밸런스용 에어실린더 기구(16)를 구비한다.The slide wedge mechanism (10) has a ball screw mechanism (13) and a ball screw mechanism (14) rotated and driven by an AC servomotor (12), and a first inclined surface on the upper surface side. The
상세히 설명하면, 슬라이드 웨지기구(10)는, Y축 구동기구(120A)(또는 120B)에 고정되는 지지판(20)과, 소정 간격을 두고 상하 방향으로 뻗도록 지지판(20)에 장착된 2장의 프레임판(21)을 가진다. 상하 방향으로 움직일 수 있는 상하이동 블럭(11)에는, 상하방향으로의 안내를 받는 상하방향 구름 가이드(22)와, 제2 경사면에 있어서 경사 방향으로의 안내를 받는 경사방향 구름 가이드(23)가 장착되어 있다. 상하방향 구름 가이드(22)는, 2장의 프레임판(21)의 각각에 상하방향으로 뻗도 록 설치된 가이드부(32)에 의하여 안내된다. 경사방향 구름 가이드(23)는, 수평이동 블럭(15)의 제1 경사면에 장착된 가이드부(33)에 의하여 가이드된다.In detail, the
수평방향으로 움직일 수 있는 수평이동 블럭(15)의 하면에는 수평방향으로의 안내를 받는 구름 가이드(35)가 간격을 두고 2열 장착되어 있다. 구름 가이드(35)는, 지지판(20)에 간격을 두고 수평이동 블럭(15)의 이동 방향으로 설치된 2개의 가이드부(36)에 의하여 안내된다. 수평이동 블럭(15)의 하면 측에 있어서는 또한, 2열의 구름 가이드(35) 사이를 볼나사(13)가 이동 방향으로 뻗어 있고, 수평이동 블럭(15)의 하면에 장착된 너트(14)에 나사 맞물림되어 있다.On the lower surface of the horizontal moving
AC 서보모터(12), 에어실린더 기구(16)는, 높이방향에 있어서 낮은 위치, 즉 지지판(20)에 옆으로 뉘어져 있고, 게다가 수평이동 블럭(15)을 사이에 두고 반대위치에 배치 고정되어 있다.The
에어실린더 기구(16)의 구동축 선단은 수평이동 블럭(15)에 걸림 또는 고정되어 있어서, 상하이동 블럭(11)에 작용하고 있는 노즐부(140)의 하중에 의한 수평방향 성분을 캔슬하도록 하고 있다.The end of the drive shaft of the
그리고, 노즐부(140)는, 상하이동 블럭(11)의 측면에 장착되는 장착판(38)을 통하여 장착된다.And the
이상과 같은 구조에 의하여, 볼나사 기구에 의하여 수평이동 블럭(15)이 수평방향으로 이동하면, 수평이동 블럭(15)은 가이드부(32, 33)를 통하여 상하이동 블럭(11)을 상하로 이동시킨다. Y축 구동기구(120A, 120B), 2개의 슬라이드 웨지기구(10), 노즐부(140) 전체를 슬라이더부로 한 경우, 슬라이드 웨지기구(10)에 의하 여 슬라이더부의 낮은 중심화를 실현할 수 있어서, 가속시의 피칭 진동의 저감에 기여한다.According to the above structure, when the
즉, 슬라이드 웨지기구(10)는, 도 4, 도 5에서 설명한 Z축 구동기구(130A, 130B)에 비하여 상하방향의 사이즈가 훨씬 작고, 중량물이 낮은 위치에 배치되어 있기 때문에, 슬라이더부 전체의 중심(重心)점이 Y축 방향의 구동점인 Y축 구동기구(120A, 120B)와 가까운 위치 관계가 되어 있다. 그 결과, 슬라이더부에 가속시의 피칭 진동이 발생하기 어려운 구조가 되어, 테이블 코터기에 있어서의 가속 정정시가(T)(거리)의 단축을 도모하여, 도포 얼룩이 생기는 영역을 최소한으로 할 수가 있다.That is, the
그리고, 상기 형태에 있어서, 슬라이드 웨지기구(10)에 있어서의 수평이동 블럭(15)의 구동원으로서 볼나사 기구를 이용하고 있는 것은, 고가인 노즐부(140)의 파손 가능성을 가능한 한 작게 하기 위한 것이다. 즉, 노즐부(140)는 그 하강시에 피처리기판 표면에 대하여 수십 ㎛ 정도의 갭으로 정지시킬 필요가 있고, 볼나사 기구는 제동이 쉬으므로 용이하게 이를 실현할 수 있기 때문이다. 이 점을 무시할 것이라면, 볼나사 기구 대신에, 예컨대 에어실린더 기구를 이용하여도 좋다. 또한, 돌정반(160), 레일부로서는 세라믹재가 이용되어도 좋다.In the above aspect, the use of the ball screw mechanism as a driving source of the horizontal moving
[산업상의 이용가능성]Industrial availability
본 발명에 의한 스테이지 장치는, 수평면 상에서 일축 방향으로 움직일 수 있는 제1 슬라이더와, 이 제1 슬라이더와 함께 일축 방향으로 움직일 수 있도록 제1 슬라이더에 조합되어, 피구동부를 상하 방향으로 미소량만큼 구동하기 위한 제2 슬라이더를 구비하는 스테이지 장치 전반에 적용 가능하다.The stage apparatus according to the present invention is combined with a first slider that can move in one axis direction on a horizontal plane, and a first slider that can move in one axis direction with the first slider, and drives the driven portion by a small amount in the vertical direction. Applicable to the whole stage apparatus provided with the 2nd slider for doing so.
본 발명에 의한 스테이지 장치에 의하면, 슬라이더부의 낮은 중심화를 실현함으로써, 테이블 코터기에 적용한 경우에 슬라이더부의 가속 정정시간(T)(거리)의 단축을 도모할 수가 있고, 따라서 도포 얼룩이 생기는 영역을 최소한으로 할 수가 있다.According to the stage apparatus according to the present invention, by realizing the low centering of the slider portion, it is possible to shorten the acceleration settling time T (distance) of the slider portion when applied to a table coater, thereby minimizing the area where coating unevenness occurs. You can do it.
또한, 낮은 중심화를 위하여 슬라이드 웨지기구를 사용함으로써, 카운터 밸런스용 에어실린더 기구에 있어서는 노즐부의 하중 중, 슬라이드 웨지기구의 경사면의 각도로 결정되는 수평 방향 성분만을 부담하면 되므로, 부하 경감이 가능하여, 에어실린더 기구의 사이즈 다운(경량화)을 실현할 수 있다.In addition, by using the slide wedge mechanism for low centering, in the counter balance air cylinder mechanism, only the horizontal component determined by the angle of the inclined surface of the slide wedge mechanism is burdened among the load of the nozzle portion, so that the load can be reduced. Size down (lightening) of the air cylinder mechanism can be realized.
Claims (5)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2003-00276945 | 2003-07-18 | ||
JP2003276945 | 2003-07-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050009682A KR20050009682A (en) | 2005-01-25 |
KR100659486B1 true KR100659486B1 (en) | 2006-12-20 |
Family
ID=34587141
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040055392A KR100659486B1 (en) | 2003-07-18 | 2004-07-16 | Stage apparatus for table coater |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100659486B1 (en) |
CN (1) | CN1319653C (en) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006231201A (en) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Coating device |
JP5208387B2 (en) * | 2006-08-22 | 2013-06-12 | 東京応化工業株式会社 | Coating device |
CN105919227A (en) * | 2016-06-17 | 2016-09-07 | 洛阳新思路电气股份有限公司 | Automatic glue injecting device for automated polyurethane shoemaking production line |
CN106976165A (en) * | 2017-05-03 | 2017-07-25 | 慈溪市隆诚贸易有限公司 | A kind of glass drilling lathe |
CN107009252A (en) * | 2017-05-03 | 2017-08-04 | 海宁市锦新轴承有限公司 | A kind of polissoir |
CN106944286A (en) * | 2017-05-03 | 2017-07-14 | 慈溪市鑫昶工业产品设计有限公司 | A kind of auto parts paint spraying apparatus |
CN107607199B (en) * | 2017-10-24 | 2024-04-19 | 天航长鹰(江苏)科技有限公司 | Novel Fourier transform infrared spectrometer and moving mirror scanning device |
CN115489981A (en) * | 2022-09-14 | 2022-12-20 | 苏州新颖新材料科技股份有限公司 | Environment-friendly heat-insulation color steel plate processing equipment |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4269140A (en) * | 1979-07-25 | 1981-05-26 | Fife Corporation | Apparatus for positioning a coating thickness control roller in a web coating machine |
JPH09201558A (en) * | 1996-01-29 | 1997-08-05 | Techno Kapura:Kk | Applicator |
JP2920114B2 (en) * | 1996-10-24 | 1999-07-19 | 住友重機械工業株式会社 | Ultra high pressure generator |
JP2904166B2 (en) * | 1996-11-30 | 1999-06-14 | 日本電気株式会社 | Viscous material discharge device |
JP2000167463A (en) * | 1998-12-08 | 2000-06-20 | Toray Ind Inc | Nozzle and coating liquid applicator and applying method and manufacture of plasma display panel member |
CN2544826Y (en) * | 2002-05-24 | 2003-04-16 | 黄金富 | Automatic numerical control paint spraying device |
-
2004
- 2004-07-16 KR KR1020040055392A patent/KR100659486B1/en not_active IP Right Cessation
- 2004-07-19 CN CNB2004100696885A patent/CN1319653C/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1575864A (en) | 2005-02-09 |
KR20050009682A (en) | 2005-01-25 |
CN1319653C (en) | 2007-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101571675B (en) | Balancing and positioning system for workpiece platform of photoetching machine | |
JP5718894B2 (en) | Reaction force compensation system | |
KR100659486B1 (en) | Stage apparatus for table coater | |
JP4315295B2 (en) | Paste applicator | |
KR20100108194A (en) | Substrate transporting apparatus and substrate processing apparatus | |
KR101026426B1 (en) | Dispenser and application method of sealant using the same | |
JP2012519078A (en) | Flexible guide bearing for short stroke stage | |
TWI289478B (en) | Working table device for table type coating applicator | |
KR100591941B1 (en) | Stage apparatus for table coater | |
KR100900383B1 (en) | Coating device | |
US6715426B1 (en) | Motor driven high stability brake linear motion systems | |
TWI793392B (en) | Conveyor apparatus, light exposure device, and conveyance method | |
JP4335747B2 (en) | Stage device for table coater | |
JP4930543B2 (en) | Coating device | |
JPH03107639A (en) | Positioning device for vibration preventing type | |
JP5877703B2 (en) | Drawing apparatus and pattern correction apparatus | |
JP4316275B2 (en) | Coating device | |
JP3292641B2 (en) | Processing machine with XY table | |
JP4632569B2 (en) | Stage equipment | |
JP2010042382A (en) | Printing apparatus and printing method | |
CN119136919A (en) | Coating device | |
JPH07325176A (en) | Stage device | |
JP3173976B2 (en) | XY table | |
JPH09136227A (en) | Xy-table | |
JP2012033301A (en) | Sample stage |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20040716 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20060616 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20061201 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20061213 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20061213 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20091210 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20101124 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20111118 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121121 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20121121 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131118 Year of fee payment: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20131118 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20151109 |