KR100629767B1 - 기판 처리장치 및 기판 세정유닛 - Google Patents

Abstract

기판에서 박리시킨 오염물이 기판에 재부착하는 것을 효과적으로 방지할 수 있음과 동시에, 기판 단부에 부착한 오염물을 꼭 들어맞게 제거할 수 있고, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있는 기판 처리장치 및 기판 세정유닛을 제공한다.

이 기판 처리장치(1)에서는, 기판(W)이 경사 반송되면서 세정처리가 행해지고, 반송방향(A) 상류측에서 순서대로, 저압(低壓)으로 순수를 토출하는 토출부(33, 35, 37, 41, 43), 고압(高壓)으로 순수를 토출하는 토출부(47, 49, 55), 순수와 에어의 미스트 형태의 혼합 유체를 토출하는 토출부(53)가 구비된다. 각 세정부(7, 9, 11, 13) 사이에는, 파이프 노즐 등인 수류(水流)형성부(19, 21, 23)가 구비되고, 세정부(7)의 전단(前段) 및 세정부(13)의 후단(後段)에는, 액 커튼 등인 수류형성부(17, 25)가 구비된다. 수류형성부(25)의 후단에는, 장치(1) 밖의 공급라인(63)에서 미사용의 순수가 공급되는 토출부(59, 61)가 구비된다.

기판, 처리장치, 세정유닛, 세정, 토출, 오염물, 재부착, 박리

Description

기판 처리장치 및 기판 세정유닛{Substrate processing apparatus and substrate cleaning unit}

도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 관한 기판 처리장치의 구성을 모식적으로 나타내는 도면,

도 2는 기판의 경사 반송에 대해서 설명하기 위한 도면,

도 3은 세정부 또는 세정부의 토출부에서 토출되는 토출류의 일반적(기본적)인 형태를 설명하기 위한 도면,

도 4는 세정부 또는 세정부의 토출부에서 토출되는 토출류의 일반적(기본적)인 형태를 설명하기 위한 도면,

도 5는 세정부 또는 세정부의 토출부에서 토출되는 토출류의 제1 실시형태에 관한 설정형태를 설명하기 위한 도면,

도 6은 세정부 또는 세정부의 토출부에서 토출되는 토출류의 제1 실시형태에 관한 설정형태를 설명하기 위한 도면,

도 7은 세정부 또는 세정부의 토출부에서 토출되는 토출류의 설정형태의 변형 예를 설명하기 위한 도면,

도 8은 본 발명의 제2 실시형태에 관한 기판 처리장치의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다.

[도면의 주요부분에 대한 간단한 부호의 설명]

1 기판 처리장치, 3 반송롤러,

5 처리조, 7,9,11,13,15 세정부,

17,19,21,23,25 수류형성부, 31 세정브러쉬,

33,35,41,43,47,49,53,55,59,61 토출부,

39,45,51,57 용기,

75,75a,75b,79a,79b 노즐부,

81 세정브러쉬, A 반송방향,

P 펌프, W 기판

본 발명은 반도체 웨이퍼, 액정 디스플레이와 플라즈마 디스플레이 등의 플랫(flat)패널 디스플레이 제조용의 유리기판, 프린트 기판 등의 판 형태의 기판을 습식으로 처리(세정, 현상, 에칭, 박리 처리 등)하기 위한 기판 처리장치 및 기판 세정유닛에 관한 것이다.

근래, 패턴의 미세화와, AL막 등 부드러운 막질(膜質)의 막이 이용되도록 되는 것에 따라서, 기판에 대한 데미지(damage)가 적은 세정 툴이 요구되고 있다.

데미지가 적은 세정유닛으로서는, 세정액을 고압으로 기판에 토출하여 세정하는 고압 세정유닛, 세정액과 에어를 혼합하여 미스트 형태의 혼합 유체로서 기판 에 토출하여 세정을 행하는 2 유체 세정유닛, 및 초음파가 인가된 세정액을 기판에 토출하여 세정하는 초음파 세정유닛 등이 사용되고 있다.

그러나, 상술의 고압 세정유닛, 2 유체 세정유닛 및 초음파 세정유닛 등을 단체(單體)로 사용하는 구성에서는, 각각 일정한 세정 효과는 얻어지지만, 만족할 수 있는 효과는 얻어지지 않는다. 특히, 세정에 의해 기판에서 박리된 오염물이 기판에서 떨어지기 전에 재부착하여 버리고, 다시 기판을 오염하는 것을 방지하는 효과가 불충분하였다.

또한, 성막 처리 등의 상류측의 공정에서, 기판에서의 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부가 오염된 경우에, 상술한 각 세정유닛에서는, 그 기판 단부의 오염물을 꼭 들어맞게 제거할 수 없고, 박리시킨 기판 단부의 오염물이 기판 표면에 재부착하여 버리거나, 기판의 반송롤러 등이 오염되어 버리고, 그 오염된 반송롤러에 의해 다른 기판이 오염되어 버리는 2차 오염이 생기는 등의 문제도 있다.

그래서, 상기 문제점을 감안하여, 본 발명의 제1 목적은, 기판에서 박리시킨 오염물이 기판에 재부착하는 것을 효과적으로 방지할 수 있어, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있는 기판 처리장치를 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 제2 목적은, 기판 단부에 부착한 오염물을 꼭 들어맞게 제거할 수 있어, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있는 기판 처리장치 및 기판 세정유닛을 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위한 기술적 수단은, 소정의 반송경로에 따라서 반송되어 온 기판에 대해서 고압(高壓)의 세정액을 토출하여 세정을 행하는 제1 토출부와, 상기 반송경로상에서 상기 제1 토출부의 반송방향 하류측에 설치되어, 상기 반송경로에 따라서 반송되어 온 기판에 대해서, 세정액과 기체를 혼합하여 미스트 형태의 혼합 유체로서 토출하여 세정액을 토출하는 제2 토출부를 구비하는 것을 특징으로 한다.

바람직하게는, 상기 반송경로상에서 상기 제1 토출부의 반송방향 상류측에 설치되어, 상기 반송경로에 따라서 반송되어 온 기판에 대해서 저압의 세정액을 토출하여 세정을 행하는 제3 토출부를 더 구비하는 것이 좋다.

또한, 바람직하게는, 상기 토출부 전체를 수용하는 처리조를 더 구비하는 것이 좋다.

게다가, 바람직하게는, 상기 처리조내의 상기 반송경로상에서 상기 각 토출부 사이에 설치되어, 상기 반송경로를 칸막이 하도록 하여 액류(液流)를 토출하는 제1 액류형성부를 더 구비하는 것이 좋다.

또한, 바람직하게는, 상기 처리조내의 상기 반송경로상에서 상기 제1 토출부의 상기 반송방향 상류측, 또는 상기 제3 토출부가 설치되는 경우에는 상기 제3 토출부의 상기 반송방향 상류측에 설치되어, 상기 반송경로를 칸막이 하도록 하여 액류를 토출하는 제2 액류형성부를 더 구비하는 것이 좋다.

게다가, 바람직하게는, 상기 처리조내의 상기 반송경로상에서 상기 제2 토출부의 상기 반송방향 하류측에 설치되어, 상기 반송경로를 칸막이 하도록 하여 액류 를 토출하는 제3 액류형성부를 더 구비하는 것이 좋다.

또한, 바람직하게는, 상기 처리조내에서의 상기 반송경로상에서 상기 제2 토출부의 상기 반송방향 하류측, 또는 상기 제3 액류형성부가 설치되는 경우에는 상기 제3 액류형성부의 상기 반송방향 하류측에 설치되어, 장치 외부에서 공급되는 미사용의 세정액을 기판에 대해서 토출하여 세정하는 제4 토출부를 더 구비하는 것이 좋다.

게다가, 바람직하게는, 상기 각 토출부에 의해 세정될 때, 기판이 수평방향에 대해서 경사진 상태로 반송되면서 세정되는 것이 좋다.

또한, 바람직하게는, 상기 제1 토출부 및 상기 제2 토출부에 의해 사용되는 세정액은, 사용된 세정액이 회수되어 재사용되는 것이고, 세정액은, 회수 후, 공통의 펌프에 의해 승압되어 상기 제1 토출부 및 상기 제2 토출부로 공급되는 것이 좋다.

게다가, 바람직하게는, 상기 제1 토출부의 상기 반송방향 상류측 또는 상기 제3 토출부가 설치되는 경우에는 상기 제3 토출부의 상기 반송방향 상류측 혹은 제3 토출부와 실질적으로 동일한 위치에 설치되어, 기판에 대해서 근접한 근접위치와, 기판에서 이반(離反)한 대피위치와의 사이에서 이동 가능하게 되며, 상기 근접위치에 위치하는 상태로 기판을 세정하는 세정브러쉬를 더 구비하는 것이 좋다.

또한, 바람직하게는, 상기 제1 토출부 및 상기 제2 토출부중 적어도 한쪽이, 기판에서의 상기 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부를 세정하는 기판 단부세정용의 노즐부를 포함하는 것이 좋다.

게다가, 바람직하게는, 상기 제1 토출부 및 상기 제2 토출부중 적어도 한쪽이, 상기 세정액 또는 상기 혼합 유체로 이루어지는 토출류를 기판으로 향해서 각각 토출하고, 그 토출류의 축 직각 단면 형상이 한쪽 방향으로 가늘고 긴 대략 타원형으로 되어 있는 복수의 노즐부를 포함하며, 상기 복수의 노즐부는, 상기 토출류가 기판 표면에서의 상기 한쪽 방향이, 상기 반송방향에 대해서 각도 α(단, 0°<α<180°)에서 교차하도록 설치된 제1 노즐부와, 상기 토출류가 기판의 상기 단부에 부딪치는 위치에, 상기 한쪽 방향이 상기 반송방향에 대해서 거의 평행하게 되도록 설치된 제2 노즐부를 구비하고, 상기 제2 노즐부를 상기 기판 단부세정용의 노즐부로 하는 것이 좋다.

또한, 바람직하게는, 기판에서의 상기 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부를 세정하는 기판 단부세정용의 노즐부를 더 구비하고 있는 것이 좋다.

게다가, 바람직하게는, 상기 기판 단부세정용의 노즐부는, 그 토출류의 축 직각 단면 형상이 한쪽 방향으로 가늘고 긴 대략 타원형으로 되어 있고, 해당 토출류가 기판의 상기 단부에 부딪치는 위치에, 상기 한쪽 방향이 상기 반송방향에 대해서 거의 평행하게 되도록 설치되어 있는 것이 좋다.

또한, 바람직하게는, 상기 세정액은 물인 것이 좋다.

게다가, 상기 목적을 달성하기 위한 기술적 수단은, 반송되어 오는 기판에 대해서 소정의 토출류를 토출하여 세정을 행하는 기판 세정유닛으로서, 기판의 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부로 향해서 상기 토출류를 토출하고, 그 토출류의 축 직각 단면 형상이 상기 반송방향에 따라서 가늘고 긴 대략 긴 타원형으로 되어 있는 기판 단부세정용의 노즐부를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 기술적 수단은, 반송되어 오는 기판에 대해서 소정의 토출류를 토출하여 세정을 행하는 기판 세정유닛으로서, 상기 세정액 또는 상기 혼합 유체로 이루어지는 토출류를 기판으로 향해서 각각 토출하고, 그 토출류의 축 직각 단면 형상이 한쪽 방향으로 가늘고 긴 대략 타원형으로 되어 있는 복수의 노즐부와, 상기 복수의 노즐부는, 그 각 노즐부의 상기 각 토출류의 기판상에서의 토출영역이, 상기 반송방향 상류측 또는 하류측에서 본 경우에 기판에서의 상기 반송방향에 수직한 폭 방향에 대해서 서로 부분적으로 포개져 합쳐지도록 배치되어 있고, 상기 복수의 노즐부중 기판의 상기 폭 방향의 단부로 향해서 상기 토출류를 토출하는 노즐부에서의 상기 토출류의 축 직각 단면 형상의 상기 대략 긴 타원의 길이방향이, 상기 반송방향과 거의 평행하게 설정되어 있는 것을 특징으로 한다.

게다가, 상기 목적을 달성하기 위한 기술적 수단은, 반송되어 오는 기판에 대해서 소정의 토출류를 토출하여 세정을 행하는 기판 세정유닛으로서, 상기 세정액 또는 상기 혼합 유체로 이루어지는 토출류를 기판으로 향해서 각각 토출하고, 그 토출류의 기판상에서의 토출영역이, 상기 반송방향 상류측 또는 하류측에서 본 경우에 기판에서의 상기 반송방향에 수직한 폭 방향에 대해서 서로 부분적으로 포개져 합쳐지도록 배치된 복수의 제1 노즐부와, 기판에서의 상기 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부로 향해서, 상기 세정액 또는 상기 혼합 유체로 이루어지는 토출류를 토출하는 적어도 1개의 제2 노즐부를 구비하고, 상기 각 제1 노즐부의 상기 토 출류의 축 직각 단면 형상이 상기 반송방향에 대해서 비스듬하게 경사진 방향에 따라서 가늘고 긴 대략 긴 타원형으로 되어 있으며, 상기 제2 노즐부의 상기 토출류의 축 직각 단면 형상이 상기 반송방향에 따라서 가늘고 긴 대략 긴 타원형으로 되어 있는 것을 특징으로 한다.

또한, 바람직하게는, 상기 토출류는, 고압으로 세정되는 세정수인 것이 좋다.

게다가, 바람직하게는, 상기 토출류는, 세정수와 기체가 미스트 형태로 혼합되어 토출되는 혼합 유체인 것이 좋다.

(발명의 실시형태)

〈제1 실시형태〉

도 1은, 본 발명의 제1 실시형태에 관한 기판 처리장치의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다. 이 기판 처리장치(1)는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 예를 들면 반도체 기판과 플랫패널 제조용의 사각형 유리기판 혹은 프린트 배선 기판 등의 기판(W)(도 2 참조)을, 도시하지 않은 구동원에 의해 구동되는 반송롤러(3)에 의해 반송하면서, 처리조(5)내에서 세정처리를 시행하여, 기판(W)을 세정하는 기판 세정장치이다. 또, 실제의 구성에서는, 기판(W)의 안정 반송을 위해 기판(W)을 상방에서 억누르는 상승롤러(69)(도 2 참조) 및 기판(W)을 상하에서 끼워 넣어 지지하는 지지롤러(71)(도 2 참조)가 구비되어 있지만, 도 1에서는 이것들이 편의상 생략되어 있다. 또한, 본 명세서 및 도면에서는, 설명의 편의를 위해, x, y, z의 직교좌표계를 도입하고, 2개의 수평축 방향중 기판(W)의 반송방향(A)과 거의 평행한 방향 을 x방향으로 하고, 나머지 수평축 방향인 반송방향(A)과 수직한 방향을 y방향이라 하며, 연직방향을 z방향이라 하고 있다.

기판 처리장치(1)의 처리조(5)내에는, 기판(W)의 반송방향(A) 상류측에서 순서대로, 세정부(7, 9, 11, 13, 15)가 구비되어 있다. 또한, 처리조(5)내에서의 세정부(7)의 반송방향 상류측, 세정부(7)와 세정부(9)와의 사이, 세정부(9)와 세정부(11)와의 사이, 세정부(11)와 세정부(13)와의 사이 및 세정부(13)와 세정부(15)와의 사이에는, 기판(W)의 반송경로를 칸막이 하도록 하여 대략 커튼 형태로 순수를 토출하는 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)가 각각 구비되어 있다. 이들 구성 요소중, 본 발명에 관한 제1 토출부에는 세정부(11, 13)의 후술하는 토출부(47, 49, 55)가 상당하고, 제2 토출부에는 세정부(13)의 후술하는 토출부(53)가 상당하며, 제3 토출부에는 세정부(7, 9)의 후술하는 토출부(33, 35, 37, 41, 43)가 상당하고, 제4 토출부에는 세정부(15)의 후술하는 토출부(59, 61)가 상당하고 있다. 또한, 제1 액류형성부에는 수류형성부(19, 21, 23)가 상당하고, 제2 액류형성부에는 수류형성부(17)가 상당하며, 제3 액류형성부에는 수류형성부(25)가 상당하고 있다. 또, 본 발명에 관한 기판 세정유닛에는, 세정부(11) 혹은 세정부(13) 또는 그 양쪽이 상당하고 있다.

수류형성부(17, 25)는 구체적으로는 액 커튼이고, 기판(W)의 반송경로를 칸막이 하도록, 도 1의 화살표 B1, B2로 나타내는 바와 같이, 상방에서 기판(W)으로 향해서 대략 커튼 형태의 순수의 수류를 토출한다. 본 실시형태에서는, 기판(W)의 상면측에만 수류형성부(17, 25)를 설치하였지만, 기판(W)의 하면측에도 수류형성부(17, 25)를 설치하여도 된다.

수류형성부(19, 21, 23)는, 구체적으로는 파이프 노즐 또는 액 커튼이고, 기판(W)의 반송경로를 칸막이 하도록, 도 1중의 화살표 B3, B4, B5로 나타내는 바와 같이, 상방에서 기판(W)으로 향해서 대략 커튼 형태의 순수의 수류를 토출한다. 본 실시형태에서는, 기판(W)의 상면측에만 수류형성부(19, 21, 23)를 설치하였지만, 기판(W)의 하면측에도 수류형성부(19, 21, 23)를 설치하여도 된다.

세정부(7)는, 세정브러쉬(31)와, 세정액으로서 저압의 순수를 토출하는 토출부(33, 35, 37)와, 세정브러쉬(31) 및 토출부(33, 35, 37)를 수용하는 용기(39)를 구비하고 있다. 세정브러쉬(31)는 기판(W)의 하면측에 구비되고, 도시하지 않은 구동기구에 의해 회전 구동되어 기판(W)의 하면측을 브러쉬 세정한다. 토출부(33)는, 기판(W)의 상면측에 구비되고, 저압의 순수를, 도 1의 화살표 B6으로 나타내는 바와 같이, 상방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정한다. 토출부(35, 37)는, 기판(W)의 하면측에 구비되고, 저압의 순수를, 도 1의 화살표 B7, B8로 나타내는 바와 같이, 하방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정한다. 또한, 토출부(35, 37)에서 토출되는 순수는, 세정브러쉬(31) 및 세정브러쉬(31)에 의해 세정되는 기판(W)의 세정면을 적시는 역할도 담당하고 있다. 용기(39)의 대향하는 양 측벽부에는, 기판(W)의 반입 및 배출을 위한 개구부가 설치되어 있다.

여기서, 본 실시형태에 있어서, 상기 토출부(33, 35, 37) 및 후술의 토출부(41, 43, 47, 49)에서의 순수의 토출압력에 대해서,「저압(低壓)」이라는 경우에는 3㎏/㎠(0.294MPa)보다도 작은 압력을 말하고,「고압(高壓)」이라는 경우에 는 3㎏/㎠(0.294MPa) 이상의 압력, 더 구체적으로는 3㎏/㎠(0.294MPa)에서 15㎏/㎠(1.47MPa)의 범위의 압력을 말한다.

세정부(9)는, 세정액으로서 저압의 순수를 토출하는 토출부(41, 43)와, 토출부(41, 43)를 수용하는 용기(45)를 구비하고 있다. 토출부(41)는, 기판(W)의 상면측에 구비되고, 저압의 순수를, 도 1의 화살표 B9로 나타내는 바와 같이, 상방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정을 행한다. 토출부(43)는, 기판(W)의 하면측에 구비되고, 저압의 순수를, 도 1의 화살표 B10으로 나타내는 바와 같이, 하방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정을 행한다. 용기(45)의 대향하는 양 측벽부에는, 기판(W)의 반입 및 배출을 위한 개구부가 설치되어 있다.

세정부(11)는, 세정액으로서 고압의 세정수를 토출하는 토출부(47, 49)와, 토출부(47, 49)를 수용하는 용기(51)를 구비하고 있다. 토출부(47)는, 기판(W)의 상면측에 구비되고, 고압의 순수를, 도 1의 화살표 B11로 나타내는 바와 같이, 상방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정을 행한다. 토출부(49)는, 기판(W)의 하면측에 구비되고, 고압의 순수를, 도 1의 화살표 B12로 나타내는 바와 같이, 하방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정을 행한다. 용기(45)의 대향하는 양 측벽부에는, 기판(W)의 반입 및 배출을 위한 개구부가 설치되어 있다.

세정부(13)는, 토출부(53, 55)와, 토출부(53, 55)를 수용하는 용기(57)를 구비하고 있다. 토출부(53)는 후술하는 공급라인(67)에서 공급되는 세정액인 순수와, 공급라인(58)에서 공급되는 에어(기체)를 소정의 체적비, 예를 들면 1:100 정도의 비율로 혼합하여 미스트 형태의 혼합 유체로서 토출한다. 그리고, 토출부(53)는, 기판(W)의 상면측에 구비되고, 미스트 형태의 혼합 유체를, 도 1의 화살표 B13으로 나타내는 바와 같이, 상방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정을 행한다. 토출부(55)는, 기판(W)의 하면측에 구비되고, 세정액으로서 고압의 순수를, 도 1의 화살표 B14로 나타내는 바와 같이, 하방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정을 행한다. 용기(57)의 대향하는 양 측벽부에는, 기판(W)의 반입 및 배출을 위한 개구부가 설치되어 있다.

세정부(15)는, 세정액인 순수를 토출하는 토출부(59, 61)를 구비하고 있다. 토출부(59)는, 기판(W)의 상면측에 구비되고, 순수를, 도 1의 화살표 B15로 나타내는 바와 같이, 상방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정을 행한다. 토출부(61)는, 기판(W)의 하면측에 구비되고, 순수를, 도 1의 화살표 B16으로 나타내는 바와 같이, 하방에서 기판(W)으로 향해서 토출하여 세정을 행한다.

세정부(15)에는, 기판 처리장치(1) 외부의 공장 시설인 순수 공급라인(63)에서 공급되는 미사용의 순수가 공급되고, 그 순수가 토출부(59, 61)를 통해서 직접 기판(W)으로 토출되도록 되어 있다.

그것 이외의 세정부(7, 9, 11, 13) 및 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)에 대해서는, 세정부(7, 9, 11, 13, 15) 및 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)에 의해 처리조(5)내에 방출된 순수를 회수하여 여과 등의 청정화 처리를 시행한 것이 재사용(순환사용)되도록 되어 있다. 회수되어 청정화된 순수는, 도시하지 않은 탱크에 일단 저장되고, 그 탱크에서 각 세정부(7, 9, 11, 13) 및 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)로 승압되어 공급된다.

본 실시형태에서는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 승압을 위한 펌프(65)가 세정부(11, 13)의 고압의 순수를 토출하는 토출부(47, 49, 55)와, 세정부(13)의 미스트 형태의 혼합 유체를 토출하는 토출부(53)에 대해서 공용되고 있다. 즉, 도시하지 않은 탱크에서 공급되는 순수는, 펌프(65)에 의해 승압되고, 공급라인(67)을 통해서 각 토출부(47, 49, 53, 55)로 공급된다.

도 2는 기판(W)의 경사 반송에 대해서 설명하기 위한 도면이고, 기판 처리장치(1)의 세정부(11)가 설치되는 부분의 단면 구성을 모식적으로 나타내고 있다. 본 실시형태에 관한 기판 처리장치(1)에서는, 기판(W)을 y축 방향에서 소정의 각도 θ만큼 경사진 상태로 반송하면서 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15) 및 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)에서의 세정처리를 행하도록 되어 있다. 보다 구체적으로는, 기판(W)의 반송방향(A) 하류측이 전방측으로 되도록 하여 기판 처리장치(1)를 본 경우에, 기판(W)이 수평방향에 대해서 좌측으로 각도 θ만큼 경사진 상태로 반송되도록 되어 있다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 각 세정부(11) 등의 용기(51)의 측벽부에 설치되는 기판(W)의 반입, 배출을 위한 개구부(51a)를 시작으로 하는 각 개구부도, 기판(W)의 경사에 맞추어 형성되어 있다. 또한, 도 2에 나타나는 토출부(47, 49)를 시작으로 하는 각 세정부의 각 토출부에 대해서도 경사 반송되는 기판(W)과 거의 평행하게 되도록 경사 배치되어 있다.

게다가, 반송롤러(3)에는 기판(W)과 직접 접촉하는 2개의 롤러(3a, 3b)가 구비되어 있지만, 경사 하방측(도 2의 좌측)에 구비되는 롤러(3b)에는 기판(W)이 미끌어져 떨어지는 것을 방지하기 위한 날개부(3c)가 설치되어 있다. 상승롤러(69) 및 지지롤러(71)에 대해서도 마찬가지로, 기판(W)과 직접 접촉하는 롤러부(69a, 69b) 및 롤러부(71a, 71b)가 각각 구비되어 있다.

도 3 및 도 4는, 세정부(11) 및 세정부(13)의 토출부(47, 53)에서 토출되는 토출류의 일반적(기본적)인 형태를 설명하기 위한 도면이다. 또, 하면측의 토출부(49, 55)에 대해서는 상면측의 토출부(47, 53)와 개략적으로 동일한 토출 형태이기 때문에, 여기에서는 상면측의 토출부(47, 53)에 대해서 설명한다.

토출부(47, 53)는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 기판(W)에서의 반송방향(A) 과 수직한 폭 방향과 대체로 거의 평행하게 연장되는 파이프부(73)와, 그 파이프(73)에 간극(gap)을 두고서 설치되어, 상술의 고압의 순수 또는 미스트 형태의 혼합 유체로 이루어지는 토출류(77)를 기판(W)으로 향해서 토출하는 복수의 노즐부(75)를 구비하고 있다. 노즐부(75)는 각 노즐부(75)의 토출류(77)의 기판(W)상에서의 토출영역이, 반송방향(A) 상류측 또는 하류측에서 본 경우에 기판(W)의 폭 방향에 대해서 서로 부분적으로 포개져 합쳐지도록 배치할 필요가 있다. 각 노즐부(75)가 토출하는 토출류(77)의 축 직각 단면 형상은, 도 4에 나타내는 바와 같이, 한쪽 방향으로 가늘고 긴 대략 긴 타원형으로 되어 있다. 토출류(77)의 축 직각 단면 형상의 지향성(그 대략 긴 타원형의 길이 방향을 어느 방향으로 향하게 하는가)은, 예를 들면, 노즐부(75)의 파이프부(73)에 대한 그 축 주위의 설정각도 위치를 조절하는 것에 의해 변경할 수 있다.

각 노즐부(75)의 토출류(77)의 지향성에 대해서 일반적인 설정 형태에서는, 각 노즐부(75)의 토출류(77)의 지향성은, 도 3 및 도 4에 나타내는 바와 같이, 그 축 직각 단면 형상인 대략 긴 타원형의 길이 방향 N이 기판(W)의 반송방향(A)에 대해서 소정 각도 α를 갖도록 비스듬하게 경사지고, 각 노즐부(75)의 토출류(77) 사이에서 그 경사 각도 α가 동등하게 되도록 설정되어 있다. 또, 노즐부(75)의 토출영역의 길이방향 N과 기판(W)의 반송방향(A)가 이루는 각도 α는 0°<α<180°의 값이라면 좋지만, α≠90°로 하면, 노즐부(75)의 토출 영역의 길이방향 N의 크기가 인접하는 노즐부(75) 사이의 거리보다도 큰 경우라도, 인접하는 노즐부(75)의 토출영역끼리가 간섭하는 것을 방지할 수 있다.

이것에 대해서, 본 실시형태에서는, 세정부(11) 및 세정부(13)중 적어도 어느 것인가 한쪽에 대해서, 그 토출부(47, 53)에서의 일부의 노즐부(75)의 토출류(77)의 지향성이 도 5 및 도 6에 나타내는 바와 같이 변경되어 있다. 즉, 토출부(47, 53)에 설정되는 복수의 노즐부(75)중 기판(W)의 폭 방향의 양단부로 향해서 토출류(77)를 토출하는 노즐부(75)(여기에서는 좌우 양측의 노즐부(75a, 57b))에 대해서 토출류(77)의 지향성이 변경되고 있고, 이 노즐부(75a, 75b)가 기판 단부세정용의 노즐부로서 기능한다. 보다 상세하게는, 노즐부(75a, 75b)에서 토출되는 토출류(77)의 축 직각 단면 형상인 대략 긴 타원형의 길이방향 N이 반송방향(A)과 거의 평행하게 되도록 설정되어 있다. 이것에 의해, 노즐부(75a, 75b)의 토출류(77)가 기판(W)의 폭 방향의 양단부(양단면을 포함)로 향해서 집중적으로 토출되도록 되어 있다.

또, 이 노즐부(75a, 75b)의 토출류(77)의 지향성에 대해서 설정 변경에 따라, 노즐부(75)의 배치위치, 배치 간극, 설치 수 등이 필요에 따라서 변경된다. 노 즐부(75a, 75b) 이외의 노즐부(75)의 토출류(77)의 지향성(N)에 대해서는 실질적으로 변경은 없다. 본 실시형태에 관한 설정상태에 있어서도, 각 노즐부(75)에서 토출되는 각 토출류(77)의 토출영역은, 반송방향(A)의 상류측 또는 하류측에서 본 경우에 기판(W)의 폭 방향에 관해서 서로 부분적으로 포개져 합쳐지도록 설정되어 있다.

이와 같은 토출류(77)의 지향성에 대한 설정 변경은, 세정부(11)에 대해서만 행해도 되고, 세정부(13)에 대해서만 행해도 되며, 세정부(11) 및 세정부(13) 양쪽에 대해서 행해도 된다. 또한, 도 5 및 도 6에 나타낸 예에서는, 상면측의 토출부(47, 53)에 대해서만 토출류(77)의 지향성의 설정 변경을 행하였지만, 하면측의 토출부(49, 55)에 대해서만 동일한 설정 변경을 행해도 되고, 상하 양측의 토출부(47, 49, 53, 55)에 대해서 동일한 설정 변경을 행해도 된다.

또한, 변형 예로서, 도 7에 나타내는 바와 같이, 도 3 및 도 4에 나타내는 복수의 노즐부(제1 노즐부)(75)에 추가해서, 기판(W)의 폭 방향의 양단부를 오로지 세정하는 적어도 2개(여기에서는 2개)의 노즐부(제2 노즐부, 기판 단부세정용의 노즐부)(79a, 79b)가 설치되어 있다. 이 노즐부(79a, 79b)는, 다른 노즐부(75)와 같은 고압의 순수 또는 미스트 형태의 혼합 유체로 이루어지는 토출류(77)를 기판(W)의 폭 방향의 대응하는 단부로 향해서 토출한다. 또한, 노즐부(79a, 79b)에서 토출되는 토출류(77)의 축 직각 단면 형상은 다른 노즐부(75)와 같은 형상이고, 그 축 직각 단면 형상인 대략 긴 타원형의 길이방향 N이 반송방향(A)과 거의 평행하게 되도록 설정되어 있다. 이 때문에, 노즐부(79a, 79b)의 토출류(77)는, 기판(W)의 대응하는 단부(양단면을 포함)로 집중적으로 토출된다. 또한, 이와 같이, 기판(W)의 단부를 세정하는 노즐부(75a, 75b, 79a, 79b)에 대해서는, 반드시 축 직각 단면 형상이 대략 긴 타원형의 토출류를 형성하는 것은 아니라도 된다. 또한, 반드시 기판(W)의 양단부에 대응하여 설치되지 않아도 된다. 예를 들면, 기판(W)의 경사방향 상측의 단부에 오물이 기판(W) 표면측으로 흘러 오는 것을 방지하기 위해서는, 기판(W)의 경사 방향이 상측 단부에 대응하여 노즐부(75a, 75b)를 설치하면 되고, 또한, 반송롤러(3)의 날개부(3c)와의 접촉에 의해 기판(W)의 경사방향이 하측 단부가 오염이 있는 경우에는, 기판(W)의 경사방향의 하측 단부에 대응하여 노즐부(75a, 75b)를 설치하면 된다.

다음에, 이 기판 처리장치(1)에 의한 세정처리에 대해서 설명한다. 소정의 반송경로에 따라서 기판 처리장치(1)내에 도입된 기판(W)은, 상술한 바와 같이, 반송방향(A)에 따라서 경사 반송되면서 세정이 행해진다. 우선, 수류형성부(17)의 대략 액 커튼 형태의 순수의 수류에 의해 기판(W)이 세정된 후, 세정부(7)로 보내진다. 세정부(7)에서는, 기판(W)의 상면측이 토출부(33)에서 토출되는 저압의 순수에 의해 세정됨과 동시에, 기판(W)의 하면측이 토출부(35, 37)에 의해 저압의 순수가 기판(W)으로 향해서 토출되면서, 세정브러쉬(31)에 의해 브러쉬 세정된다.

계속해서, 수류형성부(19)의 대략 액 커튼 형태의 순수의 수류에 의해 기판(W)이 세정된 후, 세정부(9)로 보내진다. 세정부(9)에서는, 토출부(41, 43)에 의해 상하에서 기판(W)으로 저압의 순수가 토출되어, 기판(W)의 세정이 행해진다.

계속해서, 수류형성부(21)의 대략 액 커튼 형태의 순수의 수류에 의해 기판(W)이 세정된 후, 세정부(11)로 보내진다. 세정부(11)에서는, 토출부(47, 49)에 의해 상하에서 기판(W)으로 고압의 순수가 토출되어, 기판(W)의 세정이 행해진다.

계속해서, 수류형성부(23)의 대략 액 커튼 형태의 순수의 수류에 의해 기판(W)이 세정된 후, 세정부(13)로 보내진다. 세정부(13)에서는, 토출부(53)에 의해 상방에서 기판(W)으로 순수와 에어가 혼합된 미스트 형태의 혼합 유체가 토출되어, 기판(W)의 상면측의 세정이 행해짐과 동시에, 토출부(55)에 의해 하방에서 기판(W)으로 고압의 순수가 토출되어, 기판(W)의 하면측의 세정이 행해진다.

계속해서, 수류형성부(25)의 대략 액 커튼 형태의 순수의 수류에 의해 기판(W)이 세정된 후, 세정부(15)로 보내진다. 세정부(15)에서는, 토출부(59, 61)에 의해 처리장치(1)의 외부에서 미사용인 청정도가 높은 순수가 상하에서 기판(W)으로 토출되어, 기판(W)의 세정이 행해진다. 세정부(15)를 통과한 기판(W)은 기판 처리장치(1) 밖으로 배출된다.

이상과 같이, 본 실시형태에 의하면, 세정부(11)의 토출부(47)에 의한 고압으로 토출되는 순수의 강한 타력에 의해 오염물을 기판(W) 상면측에서 효과적으로 박리시킨 후, 세정부(13)의 토출부(53)에 의한 미스트 형태의 혼합 유체의 소프트하고, 또 에어의 힘을 이용한 큰 유속을 생기게 하여 기판(W) 상면측 위에서 부유하는 오염물을 순간에 기판(W) 밖으로 제거할 수 있다. 그 결과, 기판(W)에서 박리시킨 오염물이 기판(W)에 재부착하는 것을 효과적으로 방지할 수 있어, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다.

또한, 세정부(11) 및 세정부(13)에 의한 세정이 행해지기 전에, 세정부(7)의 토출부(33, 35, 37) 및 세정부(9)의 토출부(41, 43)에 의한 저압의 순수에 의해 부착력이 약한 오염물과, 입자 사이즈가 큰 입자 형태의 오염물을 미리 제거할 수 있고, 세정부(11) 및 세정부(13)에서의 오염물 제거의 부담을 경감할 수 있음과 동시에, 세정부(11) 및 세정부(13)에서 박리시킨 오염물이 기판(W)에 재부착하는 확률을 저감할 수 있고, 그 결과 처리장치(1) 전체로서 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다. 이 효과는 오염의 정도가 큰 기판(W)의 세정에서 특히 유효하다.

게다가, 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15) 및 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)가 처리조(5)에 수용되어 있기 때문에, 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15) 및 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)에서 사용되는 순수(미스트도 포함)와 제거한 오염물 등이 기판 처리장치(1) 밖으로 누설되는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 외부(外界)에서 차단된 상태로 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15) 및 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)에서의 세정처리 및 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15) 사이의 기판 반송을 행할 수 있다.

또한, 세정부(7, 9, 11, 13)에서는 용기(39, 45, 51, 57)가 설치된 이중박스 구조로 되어 있기 때문에, 각 세정부(7, 9, 11, 13)에서 사용된 순수(미스트도 포함)와 제거된 오염물이 세정부(7, 9, 11, 13) 밖으로 누설되어 다른 세정부(7, 9, 11, 13) 등에 악영향을 주는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 세정부(7, 9, 11, 13)에서의 세정중에 처리조(5)의 천정부 등에서 낙하하는 물방울 등이 기판(W)상에 낙하하여 기판(W)이 오염되는 것을 방지할 수 있다.

게다가, 각 세정부(7, 9, 11, 13) 사이에 설치된 수류형성부(19, 21, 23)의 대략 액 커튼 형태의 수류(水流)에 의해, 전단의 세정부(7, 9, 11)에 의해 기판(W)에서 박리되어 기판(W)상에서 부유하고 있는 오염물을 수류형성부(19, 21, 23)에 의해 기판(W) 밖으로 제거할 수 있고, 전단의 세정부(7, 9, 11)에서 박리된 오염물이 후단의 세정부(9, 11, 13)로 운반되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.

또한, 반송방향(A) 최상류단의 세정부인 세정부(7)의 반송방향(A) 상류측에 설치된 수류형성부(17)의 대략 액 커튼 형태의 수류에 의해, 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15)에서의 세정이 행해지는 전단계에서 기판(W)에 부착한 오염물을 미리 제거, 저감할 수 있고, 후단의 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15)에서의 오염물 제거의 부담을 경감할 수 있음과 동시에, 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15)에서 박리시킨 오염물이 기판(W)에 재부착하는 확률을 저감할 수 있으며, 그 결과 처리장치(1) 전체로서 세정효과의 향상을 도모할 수 있다.

게다가, 세정부(15)를 제외하고 반송방향(A) 최하류단의 세정부인 세정부(13)의 반송방향(A) 하류측에 설치된 수류형성부(25)의 대략 액 커튼 형태의 수류에 의해, 전단(前段)의 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15)에서 기판(W)에서 박리되어 기판(W)상에서 부유하고 있는 오염물이 기판(W)에 재부착하는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 한번 기판(W)에서 제거된 오염물이 세정액인 순수의 미스트와 물방울 등에 섞여 기판(W)에 재부착하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 반송방향(A) 최하류측의 세정부로서 세정부(15)가 설치되어 있기 때문에, 기판 세정의 마무리 공정으로서, 세정부(15)의 청정도가 높은 미사용의 순수로 기판(W)의 세정을 행하는 것에 의해, 전단의 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15) 등에서 기판(W)에서 박리되어 기판(W)상에서 부유하고 있는 오염물이 기판(W)에 재부착하는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 한번 기판(W)에서 제거된 오염물이 세정액인 순수의 미스트와 물방울 등에 섞여 기판(W)에 재부착하는 것을 방지할 수 있다. 이 효과는 전단의 각 세정부(7, 9, 11, 13) 등에서 사용되는 순수가 한번 사용된 후 회수되어 재사용되는 것인 경우에 특히 유효하다.

게다가, 기판(W)이 수평방향에 대해서 경사진 상태로 반송되면서 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15) 및 각 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)에서의 세정이 행해지기 때문에, 세정에 사용된 순수가 기판(W) 표면에 장시간 체류하는 일이 없으므로, 오염물 등의 기판(W)으로의 재부착을 억제할 수 있다.

또한, 세정부(11) 및 세정부(13)에 대해서 순수를 공급하기 위한 펌프(65)가 공용되기 때문에, 코스트 삭감 및 장치 스페이스의 삭감을 도모할 수 있다.

게다가, 세정부(11) 및 세정부(13)중 적어도 한쪽에 대해서, 그 토출부(47, 53)(혹은 상하의 토출부(47, 49, 53, 55))에서의 기판(W)의 폭 방향의 양단을 세정하는 노즐부(75a, 75b)의 토출류(77)의 지향성이, 도 5 및 도 6에 나타내는 바와 같이, 토출류(77)의 축 직각 단면 형상인 대략 긴 타원형의 길이방향이 반송방향(A)에 거의 평행하게 되도록 설정되어 있다. 이 때문에, 노즐부(75a, 75b)의 토출류(77)가 기판(W)의 폭 방향의 양단부로 향해서 집중적으로 토출되도록 되어 있다. 이것에 의해, 기판(W) 단부에 부착한 오염물을 꼭 들어맞게 제거할 수 있고, 그 결과, 박리시킨 기판(W) 단부의 오염물이 기판(W)의 표면에 재부착하여 버리거나, 반송롤러(3) 등이 오염되어 버리고, 그 오염된 반송롤러(3) 등에 의해 다른 기판(W)이 오염되어 버리는 2차 오염이 생기는 것을 방지할 수 있다.

또한, 각 세정부(7, 9, 11, 13, 15) 및 각 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)에서 사용되는 세정액으로서 순수가 사용되기 때문에, 세정 후에 순수로 다시 세정할 필요가 없고, 장치(1)의 소형, 저코스트화 등을 도모할 수 있다.

게다가, 세정부(7)에 설치된 오염물의 박리력이 높은 세정브러쉬(31)를 이용해서 기판(W)의 하면측을 세정하는 것에 의해, 부착력이 강한 오염물 등도 효과적으로 기판(W)에서 박리시켜 제거할 수 있어, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다.

또한, 세정부(7)의 세정브러쉬(31)가 세정부(9, 11, 13)의 반송방향(A) 상류측에 설치되기 때문에, 세정브러쉬(31)로 기판(W)에서 박리시킨 오염물이 만일 기판(W)에 재부착하여도, 그 재부착한 오염물을 후단의 각 세정부(9, 11, 13)에서 효과적으로 기판(W) 밖으로 제거할 수 있다.

〈제2 실시형태〉

도 8은, 본 발명의 제2 실시형태에 관한 기판 처리장치(1)의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다. 본 실시형태에 관한 기판 처리장치(1)가 상술의 제1 실시형태에 관한 기판 처리장치(1)와 실질적으로 다른 점은, 세정부(7)에 기판(W)의 상면측의 세정브러쉬(81)를 추가한 점뿐이고, 서로 대응하는 부분이 동일한 참조부호를 붙여서 설명을 생략한다.

본 실시형태에 관한 기판 처리장치(1)에서는, 세정부(7)에 기판(W)의 상면측의 세정브러쉬(81)가 추가적으로 설치되어 있다. 세정브러쉬(81)는, 용기(5)내에서 기판(W)의 상면측에 설치되고, 도시하지 않은 이동기구에 의해 기판(W) 상면에 대해서 근접한 근접위치와, 기판(W) 상면에서 이반(離反)한 대피위치와의 사이에서 이동된다. 또한, 세정브러쉬(81)는, 근접위치에 위치되어 있는 상태에 있어서, 도시하지 않은 구동기구에 의해 회전 구동되어 기판(W)의 상면측을 브러쉬 세정한다. 토출부(33)에서 토출되는 순수는, 세정브러쉬(81) 및 세정브러쉬(81)에 의해 세정되는 기판(W)의 세정면을 적시는 역할도 담당하고 있다.

이와 같은 구성에 의해, 패턴 형성면인 상면측으로의 데미지를 회피해야 할 기판(W)의 경우에는, 세정브러쉬(81)를 대피위치에 대피시킨 상태로 세정을 행하는 것에 의해, 기판(W)의 상면측으로 데미지를 주지 않고, 세정 처리를 행할 수 있다.

또한, 데미지를 고려하지 않아도 좋은 기판(W)(원유리기판과, 성막된 막의 막질이 단단한 기판 등)에 대해서는, 세정브러쉬(81)를 근접위치에 위치시켜, 오염물의 박리력이 높은 세정브러쉬(81)를 이용해서 세정을 행하는 것에 의해, 부착력이 강한 오염물 등도 효과적으로 기판(W)의 상면에서 박리시켜 제거할 수 있어, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다.

또한, 세정부(7)의 세정브러쉬(81)가 세정부(9, 11, 13)의 반송방향(A) 상류측에 설치되기 때문에, 세정브러쉬(81)로 기판(W)에서 박리시킨 오염물이 만일 기판(W)에 재부착하여도, 그 재부착한 오염물을 후단의 각 세정부(9, 11, 13)에서 효과적으로 기판(W) 밖으로 제거할 수 있다.

〈변형 예〉

(1) 상기 각 실시형태에 있어서, 세정부(7, 9, 15)에 대해서는 각각 생략 가 능하다. 각 수류형성부(17, 19, 21, 23, 25)에 대해서도 각각 생략 가능하다.

특히, 세정부(7, 9, 11, 13) 사이의 수류형성부(19, 21, 23)에 대해서는, 상기 각 실시형태와 같이 기판(W)을 경사 반송하면서 세정처리를 행하는 경우에는, 경사 반송에 의해 오염물의 기판(W)의 재부착을 효과적으로 억제할 수 있기 때문에, 생략 가능하다. 단, 기판(W)을 경사 반송할 때 수평 반송하는 경우에는, 수류형성부(19, 21, 23)를 설치한 쪽이 바람직하다.

또한, 세정부(9)의 상면측의 토출부(41)에 대해서는, 제2 실시형태와 같이 세정부(7)의 상면 세정용의 세정브러쉬(81)를 설치한 경우에는 생략 가능하다.

(2) 상기 각 실시형태에서는, 세정부(11, 13)의 토출부(47, 49, 55)와 세정부(13)의 토출부(53)에 대해서, 순수를 공급하기 위한 펌프(65)를 공용하는 구성으로 하였지만, 세정부(11, 13)의 토출부(47, 49, 55)와 세정부(13)의 토출부(53)에 대해서 개별로 펌프를 설치하는 구성으로 하여도 된다.

(3) 상기 각 실시형태에 관한 기판 처리장치(1)를 약액 또는 기능수(오존수, 알카리성수, 수소수 등)를 이용해서 처리를 행하는 기판 처리장치에 적용하여도 된다.

(4) 상기 각 실시형태에 있어서, 하면측의 청정도가 그다지 요구되지 않는 기판(W)에 대해서 세정을 행하는 경우에는, 세정부(7)의 하면 세정용의 세정브러쉬(31)를 생략하여도 된다.

(5) 상기 각 실시형태의 세정부(9, 11, 13)에 있어서, 상하에 토출부(41, 43, 47, 49, 53, 55)를 설치하고 있지만, 하면측의 청정도가 그다지 요구되지 않는 기판(W)에 대해서 세정을 행하는 경우에는, 하면측의 토출부(43, 49, 55)를 생략하여도 된다. 반대로, 기판(W)의 청정도를 보다 높이고 싶은 경우에는, 상면측 또는 상하 양쪽에 대해서, 토출부(41, 43, 47, 49, 53, 55)를 복수개(예를 들면 2개)씩 병렬로 설치하여도 된다.

또한, 세정부(13)에 대해서, 기판(W)의 하면측의 청정도를 높이고 싶은 경우에는, 기판(W)의 하면측에도, 순수와 에어의 미스트 형태의 혼합 유체를 토출하는 토출부(47)를 추가적으로 설치하여도 된다. 게다가, 하면측의 청정도를 보다 높이고 싶은 경우에는, 기판(W)의 하면측에 토출부(47)를 2개 이상 병설하여도 된다.

청구항 1 기재의 발명에 의하면, 제1 토출부의 고압으로 토출되는 세정액의 강한 타력에 의해 오염물을 기판에서 효과적으로 박리시킨 후, 제2 토출부에서 미스트 형태의 혼합 유체의 소프트하고, 또 기체의 힘을 이용한 큰 유속을 생기게 하여 기판상에서 부유하는 오염물을 순간에 기판 밖으로 제거할 수 있다. 그 결과, 기판에서 박리시킨 오염물이 기판에 재부착하는 것을 효과적으로 방지할 수 있고, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다.

청구항 2 기재의 발명에 의하면, 제1 및 제2 토출부에 의한 세정이 행해지기 전에, 제3 토출부에 의한 저압의 세정액에 의해 부착력이 약한 오염물과, 입자 사이즈가 큰 입자 형태의 오염물을 미리 제거할 수 있고, 제1 및 제2 토출부에서의 오염물 제거의 부담을 경감할 수 있음과 동시에, 제1 및 제2 토출부에서 박리시킨 오염물이 기판에 재부착하는 확률을 저감할 수 있고, 그 결과 처리장치 전체로서 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다. 이 효과는 오염의 정도가 큰 기판의 세정에 있어서 특히 유효하다.

청구항 3 기재의 발명에 의하면, 제1 및 제2 토출부가 처리조에 수용되어 있기 때문에, 각 토출부에서 사용되는 세정액과 제거한 오염물 등이 기판 처리장치 밖으로 누설되는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 외부에서 차단된 상태로 각 토출부에서의 세정 처리 및 각 토출부 사이의 기판 반송을 행할 수 있다.

청구항 4 기재의 발명에 의하면, 각 토출부 사이에 설치된 제1 액류형성부의 액류에 의해, 전단의 토출부에 의해 기판에서 박리되어 기판상에서 부유하고 있는 오염물을 제1 액류형성부에 의해 기판 밖으로 제거할 수 있고, 전단의 토출부에서 박리된 오염물이 후단의 토출부로 운반되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.

청구항 5 기재의 발명에 의하면, 제1 토출부의 반송방향 상류측에 설치된 제2 액류형성부의 액류에 의해, 각 토출부에서의 세정이 행해지는 전단계에서 기판에 부착한 오염물을 미리 제거, 저감할 수 있고, 후단의 각 토출부에서의 오염물 제거의 부담을 경감할 수 있음과 동시에, 각 토출부에서 박리시킨 오염물이 기판에 재부착하는 확률을 저감할 수 있고, 그 결과 처리장치 전체로서 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다.

청구항 6 기재의 발명에 의하면, 제2 토출부의 반송방향 하류측에 설치된 제3 액류형성부의 액류에 의해, 전단의 각 토출부에서 기판에서 박리되어 기판상에서 부유하고 있는 오염물이 기판에 재부착하는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 한번 기판에서 제거된 오염물이 세정액의 미스트와 물방울(液滴) 등에 섞여 기판에 재부착하는 것을 방지할 수 있다.

청구항 7 기재의 발명에 의하면, 제2 토출부의 반송방향 하류측에, 장치 외부에서 공급되는 미사용의 세정액을 직접 사용하여 기판을 세정하는 제4 토출부가 설치되기 때문에, 기판 세정의 마무리 공정으로서, 제4 토출부의 청정도가 높은 미사용의 세정액으로 기판의 세정을 행하는 것에 의해, 전단의 각 토출부 등에서 기판에서 박리되어 기판상에서 부유하고 있는 오염물이 기판에 재부착하는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 한번 기판에서 제거된 오염물이 세정액의 미스트와 물방울 등에 섞여 기판에 재부착하는 것을 방지할 수 있다. 이 효과는 전단의 각 토출부 등에서 사용되는 세정액이 한번 세정된 후 회수되어 재사용되는 것인 경우에 특히 유효하다.

청구항 8 기재의 발명에 의하면, 기판이 수평방향에 대해서 경사진 상태로 반송되면서 각 토출부에서의 세정이 행해지기 때문에, 세정에 사용된 액체가 기판 표면에 장시간 체류하는 일이 없으므로, 오염물 등의 기판으로의 재부착을 억제할 수 있다.

청구항 9 기재의 발명에 의하면, 제1 토출부 및 제2 토출부에 대해서 청정수를 공급하기 위한 펌프가 공용되기 때문에, 코스트 삭감 및 장치 스페이스의 삭감을 도모할 수 있다.

청구항 10 기재의 발명에 의하면, 대피기능 부착의 세정브러쉬가 설치되기 때문에, 데미지를 회피해야 할 기판의 경우에는, 세정브러쉬를 대피시킨 상태로 세정을 행하는 한편, 데미지를 고려하지 않아도 좋은 기판(원유리기판과, 성막된 막 의 막질이 단단한 기판 등)에 대해서는, 오염물의 박리력이 높은 세정브러쉬를 이용해서 세정을 행하는 것에 의해, 부착력이 강한 오염물 등도 효과적으로 기판에서 박리시켜 제거할 수 있어, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다.

또한, 세정브러쉬가 제1 토출부의 반송방향 상류측에 설치되기 때문에, 세정브러쉬로 기판에서 박리시킨 오염물이 만일 기판에 재부착하여도, 그 재부착한 오염물을 후단의 각 토출부에서 효과적으로 기판 밖으로 제거할 수 있다.

청구항 11 기재의 발명에 의하면, 제1 토출부 및 제2 토출부중 적어도 한쪽이, 기판에서의 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부를 세정하는 기판 단부세정용의 노즐부를 포함하고 있기 때문에, 기판 단부를 꼭 들어맞게 세정할 수 있다.

청구항 12 기재의 발명에 의하면, 제1 토출부 및 제2 토출부중 적어도 한쪽에 설치되는 복수의 제1 노즐부에서 토출되는 토출류에 의해, 기판 전체를 한결같이 세정하여 기판에 부착한 오염물을 효과적으로 세정할 수 있음과 동시에, 기판 단부세정용의 노즐부의 토출류의 축 직각 단면 형상이 기판의 반송방향에 따라서 가늘고 긴 대략 긴 타원형으로 되어 있기 때문에, 그 노즐부의 토출류를 기판 단부로 향해서 집중적으로 토출할 수 있어, 기판 단부에 부착한 오염물을 꼭 들어맞게 제거할 수 있다. 그 결과, 박리시킨 기판 단부의 오염물이 기판 표면에 재부착하거나, 기판의 반송롤러 등이 오염되어 버리고, 그 오염된 반송롤러 등에 의해 다른 기판이 오염되어 버리는 2차 오염이 생기는 것을 방지할 수 있다.

청구항 13 기재의 발명에 의하면, 기판에서의 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부를 세정하는 기판 단부세정용의 노즐부가 구비되어 있기 때문에, 기판 단부를 꼭 들어맞게 세정할 수 있다.

청구항 14 기재의 발명에 의하면, 기판 단부세정용의 노즐부의 토출류의 축 직각 단면 형상이 기판의 반송방향에 따라서 가늘고 긴 대략 긴 타원형으로 되어 있기 때문에, 그 노즐부의 토출류를 기판 단부로 향해서 집중적으로 토출시킬수 있고, 기판 단부에 부착한 오염물을 꼭 들어맞게 제거할 수 있다. 그 결과, 박리시킨 기판 단부의 오염물이 기판 표면에 재부착하거나, 기판의 반송롤러 등이 오염되어 버리고, 그 오염된 반송롤러 등에 의해 다른 기판이 오염되어 버리는 2차 오염이 생기는 것을 방지할 수 있다.

청구항 15 기재의 발명에 의하면, 세정액으로서 물이 사용되기 때문에, 세정 후에 물로 다시 세정할 필요가 없고, 장치의 소형, 저코스트화 등을 도모할 수 있다.

청구항 16 기재의 발명에 의하면, 기판에서의 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부로 향해서 세정용의 토출류를 토출하는 기판 단부세정용의 노즐부가 설치되고, 그 노즐부의 토출류의 축 직각 단면 형상이 기판의 반송방향에 따라서 가늘고 긴 대략 긴 타원형으로 되어 있기 때문에, 그 노즐부의 토출류를 기판 단부로 향해서 집중적으로 토출할 수 있어, 기판 단부에 부착한 오염물을 꼭 들어맞게 제거할 수 있다. 그 결과, 박리시킨 기판 단부의 오염물이 기판 표면에 재부착하거나, 기판의 반송롤러 등이 오염되어 버리고, 그 오염된 반송롤러 등에 의해 다른 기판이 오염되어 버리는 2차 오염이 생기는 것을 방지할 수 있다.

청구항 17 기재의 발명에 의하면, 복수의 노즐부에서 토출되는 토출류에 의 해 기판에 부착한 오염물을 효과적으로 세정할 수 있음과 동시에, 그 복수의 노즐부중 기판의 폭 방향의 단부로 향해서 토출류를 토출하는 노즐부에서의 토출류의 축 직각 단면 형상의 대략 긴 타원형의 길이방향이, 기판의 반송방향과 거의 평행하게 설정되어 있기 때문에, 그 노즐부의 토출류를 기판 단부로 향해서 집중적으로 토출시킬수 있어, 기판 단부에 부착한 오염물을 꼭 들어맞게 제거할 수 있다. 그 결과, 박리시킨 기판 단부의 오염물이 기판 표면에 재부착하거나, 기판의 반송롤러 등이 오염되어 버리고, 그 오염된 반송롤러 등에 의해 다른 기판이 오염되어 버리는 2차 오염이 생기는 것을 방지할 수 있다.

청구항 18 기재의 발명에 의하면, 기판을 전체적으로 한결같이 세정하는 복수의 제1 노즐부와, 기판 단부를 집중적으로 세정하는 적어도 2개의 제2 노즐부가 설치되어 있다. 이 때문에, 복수의 제1 노즐부에서 토출되는 토출류에 의해 기판 전체를 한결같이 세정할 수 있음과 동시에, 적어도 2개의 제2 노즐부에서의 토출류의 축 직각 단면 형상의 대략 긴 타원형이, 기판의 반송방향에 따라서 가늘고 긴 대략 타원형으로 설정되어 있기 때문에, 그 노즐부의 토출류를 기판 단부로 향해서 집중적으로 토출시킬수 있어, 기판 단부에 부착한 오염물을 꼭 들어맞게 제거할 수 있다. 그 결과, 박리시킨 기판 단부의 오염물이 기판 표면에 재부착하거나, 기판의 반송롤러 등이 오염되어 버리고, 그 오염된 반송롤러 등에 의해 다른 기판이 오염되어 버리는 2차 오염이 생기는 것을 방지할 수 있다.

청구항 19 기재의 발명에 의하면, 고압으로 토출되는 세정액의 강한 타력에 의해 오염물을 기판에서 효과적으로 박리시킬수 있어, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다.

청구항 20 기재의 발명에 의하면, 미스트 형태의 혼합 유체의 소프트하고, 또 기체의 힘을 이용한 큰 유속을 생기게 하여 기판에 부착한 오염물과, 기판상에서 부유하는 오염물을 순간에 기판 밖으로 제거할 수 있어, 세정 효과의 향상을 도모할 수 있다.

Claims (20)

1. 소정의 반송경로에 따라서 반송되어 온 기판에 대해서 고압의 세정액을 토출하여 세정을 행하는 제1 토출부와,

   상기 반송경로상에서 상기 제1 토출부의 반송방향 하류측에 설치되어, 상기 반송경로에 따라서 반송되어 온 기판에 대해서, 세정액과 기체(氣體)를 혼합하여 미스트 형태의 혼합 유체로서 토출하여 세정을 행하는 제2 토출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 반송경로상에서 상기 제1 토출부의 상기 반송방향 상류측에 설치되어, 상기 반송경로에 따라서 반송되어 온 기판에 대해서 저압의 세정액을 토출하여 세정을 행하는 제3 토출부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 토출부 전체를 수용하는 처리조를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
4. 제 3 항에 있어서,

   상기 처리조내의 상기 반송경로상에서 상기 각 토출부 사이에 설치되어, 상 기 반송경로를 칸막이 하도록 하여 액류(液流)를 토출하는 제1 액류형성부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
5. 제 3 항에 있어서,

   상기 처리조내의 상기 반송경로상에서 상기 제1 토출부의 상기 반송방향 상류측에 설치되어, 상기 반송경로를 칸막이 하도록 하여 액류를 토출하는 제2 액류형성부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
6. 제 3 항에 있어서,

   상기 처리조내의 상기 반송경로상에서 상기 제2 토출부의 상기 반송방향 하류측에 설치되어, 상기 반송경로를 칸막이 하도록 하여 액류를 토출하는 제3 액류형성부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
7. 제 3 항에 있어서,

   상기 처리조내에서의 상기 반송경로상에서 상기 제2 토출부의 상기 반송방향 하류측에 설치되어, 장치 외부에서 공급되는 미사용의 세정액을 기판에 대해서 토출하여 세정하는 제4 토출부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
8. 제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,

   상기 각 토출부에 의해 세정될 때, 기판이 수평방향에 대해서 경사진 상태로 반송되면서 세정되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
9. 제 3 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,

   상기 제1 토출부 및 상기 제2 토출부에 의해 사용되는 세정액은, 사용된 세정액이 회수되어 재사용되는 것이고,

   세정액은, 회수 후, 공통의 펌프에 의해 승압되어 상기 제1 토출부 및 상기 제2 토출부로 공급되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
10. 제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,

    상기 제1 토출부의 상기 반송방향 상류측에 설치되어, 기판에 대해서 근접한 근접위치와, 기판에서 이반(離反)한 대피위치와의 사이에서 이동 가능하게 되며, 상기 근접위치에 위치하는 상태로 기판을 세정하는 세정브러쉬를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
11. 제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,

    상기 제1 토출부 및 상기 제2 토출부중 적어도 한쪽이, 기판에서의 상기 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부를 세정하는 기판 단부세정용의 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
12. 제 11 항에 있어서,

    상기 제1 토출부 및 상기 제2 토출부중 적어도 한쪽이, 상기 세정액 또는 상기 혼합 유체로 이루어지는 토출류를 기판으로 향해서 각각 토출하고, 그 토출류의 축 직각 단면 형상이 한쪽 방향으로 가늘고 긴 타원형으로 되어 있는 복수의 노즐부를 포함하며,

    상기 복수의 노즐부는,

    상기 토출류가 기판 표면에서의 상기 한쪽 방향이, 상기 반송방향에 대해서 각도 α(단, 0°<α<180°)에서 교차하도록 설치된 제1 노즐부와,

    상기 토출류가 기판의 상기 단부에 부딪치는 위치에, 상기 한쪽 방향이 상기 반송방향에 대해서 평행하게 되도록 설치된 제2 노즐부를 구비하고,

    상기 제2 노즐부를 상기 기판 단부 세정용의 노즐부로 한 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
13. 제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,

    기판에서의 상기 반송방향에 수직한 폭 방향의 단부를 세정하는 기판 단부세정용의 노즐부를 더 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
14. 제 13 항에 있어서,

    상기 기판 단부세정용의 노즐부는,

    그 토출류의 축 직각 단면 형상이 한쪽 방향으로 가늘고 긴 타원형으로 되어 있고, 해당 토출류가 기판의 상기 단부에 부딪치는 위치에, 상기 한쪽 방향이 상기 반송방향에 대해서 평행하게 되도록 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
15. 제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,

    상기 세정액은 물인 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
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