KR100628321B1 - 마이크로 칼럼 전자빔 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (11)
- 베이스;상기 베이스에 중심부에 장착되며, 전자렌즈 모듈이 고정된 전자렌즈 브라켓;상기 전자렌즈 모듈의 상부에 상하 길이 방향으로 길게 배치되는 전자빔 방출원 팁모듈;상기 베이스의 상측에 장착되고, 상기 전자빔 방출원 팁모듈을 그 중심부에 지지하되, 전자빔 방출원 팁모듈의 중심을 상하 방향으로 지나는 수직축과 수직인 하나의 평면상의 3방향에서 각각 상기 전자빔 방출원 팁모듈에 결합된 제1, 2, 3스프링부를 포함하는 3-커플링 판 스프링 플레이트부(3-coupling pan spring plate portion)를 구비하여, 상기 전자빔 방출원 팁모듈을 3방향에서 탄성적으로 지지하는 판스프링 플레이트 스테이지 모듈(pan spring plate stage moule);상기 판스프링 플레이트 스테이지 모듈에 구비되며, 상기 전자빔 방출원 팁모듈을 상기 수직축과 수직인 제1축 상에서 이동시키는 제1피지티 엑츄에이터(PZT acutator); 및상기 판스프링 플레이트 스테이지 모듈에 구비되며, 상기 전자빔 방출원 팁모듈을 상기 수직축 및 제1축과 각각 수직인 제2축 상에서 이동시키는 제2피지티 엑츄에이터(PZT acutator);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로칼럼 전자빔 장치.
- 제1항에 있어서.상기 제1스프링부는 상기 제1축 상에 배치되고, 상기 제2스프링부는 상기 제2축 상에 배치되고, 상기 제3스프링부는 상기 제1, 2스프링부와 각각 135°의 각도를 이루도록 배치된 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치.
- 제1항에 있어서상기 제1피지티 엑츄에이터는 상기 제1축에 대해 평행하게 이격된 제1직선 상에 배치되고, 상기 제1축과 이격된 제1직선의 사이에서 제1직선에 더 가까운 위치에 제1받침부재가 구비되며, 상기 제1받침부재를 받침축으로 하고 상기 제1피지티 엑츄에이터와 상기 전자빔 방출원 팁모듈에 걸쳐 배치되는 제1레버를 구비되어,상기 제1피지티 엑츄에이터의 길이가 늘어나면, 그 늘어나는 움직임은 상기 제1레버를 통해, 상기 제1축과 제1받침부재 사이의 거리를 상기 제1받침부재와 제1 직선 사이의 거리로 나눈 값을 곱한 값만큼 확대되어, 상기 전자빔 방출원 팁모듈을 이동시키며,상기 제2피지티 엑츄에이터는 상기 제2축에 대해 평행하게 이격된 제2직선 상에 배치되고, 상기 제2축과 이격된 제2직선의 사이에서 제2직선에 더 가까운 위치에 제2받침부재가 구비되며, 상기 제2받침부재를 받침축으로 하고 상기 제2피지티 엑츄에이터와 상기 전자빔 방출원 팁모듈에 걸쳐 배치되는 제2레버를 구비하여,상기 제2피지티 엑츄에이터의 길이가 늘어나면, 그 늘어나는 움직임은 상기 제2레버를 통해, 상기 제2축과 제2받침부재 사이의 거리를 상기 제2받침부재와 제1직선 사이의 거리로 나눈 값을 곱한 값만큼 확대되어, 상기 전자빔 방출원 팁모듈을 이동시키는 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치.
- 제3항에 있어서,상기 제1레버에 있어서 상기 전자빔 방출원 팁모듈을 미는 부분은 상하방향으로 두 갈래로 나뉘어져 그 사이에 상기 제1스프링부가 배치되고,상기 제2레버의 있어서 상기 전자빔 방출원 팁모듈을 미는 부분은 상하방향으로 두 갈래로 나뉘어져 그 사이에 상기 제2스프링부가 배치되는 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치.
- 제3항에 있어서,상기 제1피지티 엑츄에이터와 상기 제1레버, 그리고, 상기 제2피지티 엑츄에 이터와 상기 제2레버는, 각각 상호 스폿(spot)접속에 의해 힘의 전달이 가능하도록 그 사이에 메탈볼을 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치.
- 제1항에 있어서,상기 판스프링 플레이트 스테이지 모듈에 구비되며 상기 전자빔 방출원 팁모듈과 이격되어 수직방향으로 배치된 제3피지티 엑츄에이터(PZT acutator)와,일측단부는 상기 제3피지티 엑츄에이터와 연결되고, 타측단부는 상기 전자빔 방출원 팁모듈에 결합되는 제3레버와,상기 레버의 일측단부로 치우친 곳에 마련된 힌지부를 더 구비하여,상기 제3피지티 엑츄에이터의 움직임이 상기 제3레버를 통해, 상기 일측단부와 힌지부사이의 거리와 힌지축과 타측단부사이의 거리의 비율만큼 확대되어, 상기 전자빔 방출원 팁모듈의 수직축 상의 움직임으로 전달되는 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치.
- 제6항에 있어서,상기 제3레버의 타측단부에는 상기 전자빔 방출원 팁모듈이 관통된 상태로 결합될 수 있는 크기의 관통공이 형성된 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치.
- 제1항에 있어서,상기 판스프링 플레이트 스테이지 모듈은,상기 전자렌즈 모듈과 상기 제1, 2 피지티 엑츄에이터에 연결된 복수의 전선이 통과할 수 있는 상하방향으로 관통형성된 적어도 하나의 도선 통로를 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치
- 제8항에 있어서,상기 판스프링 플레이트 스테이지 모듈의 상측에 장착되며, 상기 도선 통로를 통과한 복수의 전선들이 각각 연결되어 상부로 돌출된 복수의 전기 접속구가 마련된 랜드보드를 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치.
- 제8항에 있어서,상기 랜드보드에는, 상기 전자빔 방출원 팁모듈에서 발생하는 열을 외부로 전달하기 위한 히트파이프의 결합을 위한 히트파이프 결합부가 마련된 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치.
- 상기 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 마이크로 칼럼 전자빔 장치가 수평방향으로 다중 어레이(array) 구조로 복수 개 배치되고,상부 플렌지와, 상부 플렌지로부터 하측으로 평행하게 이격되어 복수 개의 조립기둥에 의해 상기 상부 플렌지와 상호 고정된 하부 플렌지를 구비하되,상기 각 마이크로 칼럼 전자빔 장치의 상부와 하부는, 각각 상부 플렌지와 하부 플렌지에 고정된 것을 특징으로 하는 마이크로 칼럼 전자빔 장치 조립체.
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Families Citing this family (6)
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JP5722787B2 (ja) * | 2008-12-15 | 2015-05-27 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 走査型顕微鏡 |
NL2007392C2 (en) * | 2011-09-12 | 2013-03-13 | Mapper Lithography Ip Bv | Assembly for providing an aligned stack of two or more modules and a lithography system or a microscopy system comprising such an assembly. |
CN105465661A (zh) * | 2014-09-12 | 2016-04-06 | 欧普照明股份有限公司 | 一种led线性灯及其组合透镜装置 |
WO2016037581A1 (zh) * | 2014-09-12 | 2016-03-17 | 欧普照明股份有限公司 | 一种led线性灯及其组合透镜装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000223877A (ja) | 1997-11-11 | 2000-08-11 | Lucent Technol Inc | 電子装置 |
US6281508B1 (en) | 1999-02-08 | 2001-08-28 | Etec Systems, Inc. | Precision alignment and assembly of microlenses and microcolumns |
US6297584B1 (en) | 1998-11-19 | 2001-10-02 | Etec Systems, Inc. | Precision alignment of microcolumn tip to a micron-size extractor aperture |
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---|---|---|---|---|
US6023060A (en) * | 1998-03-03 | 2000-02-08 | Etec Systems, Inc. | T-shaped electron-beam microcolumn as a general purpose scanning electron microscope |
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JP2003215014A (ja) | 2002-01-22 | 2003-07-30 | Olympus Optical Co Ltd | 駆動装置及びこれを用いた走査型プローブ顕微鏡装置 |
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Patent Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JP2000223877A (ja) | 1997-11-11 | 2000-08-11 | Lucent Technol Inc | 電子装置 |
US6297584B1 (en) | 1998-11-19 | 2001-10-02 | Etec Systems, Inc. | Precision alignment of microcolumn tip to a micron-size extractor aperture |
US6281508B1 (en) | 1999-02-08 | 2001-08-28 | Etec Systems, Inc. | Precision alignment and assembly of microlenses and microcolumns |
US6555829B1 (en) | 2000-01-10 | 2003-04-29 | Applied Materials, Inc. | High precision flexure stage |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013055081A1 (en) * | 2011-10-13 | 2013-04-18 | Korea Basic Science Institute | Ion regulator for mass spectrometer, mass spectrometer comprising the same and method of regulating ion for mass spectrometer |
KR101287441B1 (ko) * | 2011-10-13 | 2013-07-18 | 주식회사 아스타 | 질량 분석기를 위한 이온 조절기, 이를 포함하는 질량 분석기 및 질량 분석기를 위한 이온 조절 방법 |
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