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KR100626079B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널 Download PDF

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KR100626079B1
KR100626079B1 KR1020050040160A KR20050040160A KR100626079B1 KR 100626079 B1 KR100626079 B1 KR 100626079B1 KR 1020050040160 A KR1020050040160 A KR 1020050040160A KR 20050040160 A KR20050040160 A KR 20050040160A KR 100626079 B1 KR100626079 B1 KR 100626079B1
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voltage
reset
discharge
potential
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권재익
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
본 발명은, 방절셀의 측면을 둘러싸도록 각 전극을 배치하여 방전 공간을 효율적으로 활용함으로써 발광 효율이 향상되고, 리셋 펄스가 인가되는 전극에 리셋 단계의 초기 단계에서 하강 램프식 펄스 파형의 전압을 인가함으로써 방전셀의 측면에 배치된 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하에 대한 제어 능력을 향상시켜 안정적인 방전이 일어나도록 하는 구동 파형의 전압에 의해 구동되는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공을 제공한다.
본 발명에 의하면, 방전 공간을 효율적으로 활용하기 위하여 방절셀의 측면을 둘러싸도록 각 전극을 배치함으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 발광 효율을 향상시키고, 리셋 단계의 초기 단계에서 방전셀의 측면에 배치된 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하에 대한 제어 능력을 증가시킬 수 있는 구동 전압을 인가함으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 방전의 안정성을 높이는 효과가 있다.
플라즈마 디스플레이 패널, 리셋 방전, 벽전하 제어, 안정성

Description

플라즈마 디스플레이 패널{Plasma Display Panel}
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 장치의 구성을 도시한 구성 블럭도이다.
도 2a는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어 표시 패널의 물리적 구조를 나타내는 부분 사시도이고, 도 2b는 상기 표시 패널을 도 2a에서의 Ⅱ-Ⅱ 방향으로 절단하여 상세히 나타낸 단면도이며, 도 2c는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 구조를 본 발명과 비교하기 위하여 도시한 도면이다.
도 3은 방전셀의 측면을 둘러싸는 X 전극, Y 전극 및 R 전극의 연장 방향을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 어드레스 디스플레이 분리 방식에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방식을 나타내는 도면이다.
도 5는 도 2c와 같은 전극 배치를 갖는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 있어 단위 프레임을 이루는 어느 하나의 서브 필드에서 각 전극에 인가되는 파형의 전압을 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 있어 단위 프레임을 이루는 어느 하나의 서브 필드에서 각 전극에 인가되는 파형의 전압을 도시한 도면이다.
도 7a 내지 도 7f는 도 6에서의 각각의 단계에서 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하의 분포를 도시한 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
102 : 영상 처리부 104 : 논리 제어부
106 : X 구동부 108 : Y 구동부
110 : R 구동부 112 : 표시 패널
201 : 전면 기판 202 : 배면 기판
203 : 격벽 204 : X 전극
205 : Y 전극 206 : R 전극
207 : 유전체층 208 : 보호막
209 : 형광체층 210 : 방전셀
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 방절셀의 측면을 둘러싸도록 각 전극을 배치하여 방전 공간을 효율적으로 활용함으로써 발광 효율이 향상되고, 리셋 펄스가 인가되는 전극에 리셋 단계의 초기 단계에서 하강 램프식 펄스 파형의 전압을 인가함으로써 방전셀의 측면에 배치된 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하에 대한 제어 능력을 향상시켜 안정적인 방전이 일어나도록 하는 구동 파형의 전압에 의해 구동되는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
디스플레이 장치 중에는 근래에 들어 대형 평판 디스플레이 장치로서 특히 주목받고 있는 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel)이 있다. 플라즈마 디스플레이 패널은 복수의 전극이 형성된 두 기판 사이에 방전가스를 봉입하고 방전 전압을 인가하여 방전에 의한 진공 자외선을 발생시키고, 그 진공 자외선이 소정의 패턴으로 형성된 형광체를 여기시키는 과정에서 발생하는 가시광선을 이용하여 원하는 화상을 표시하는 장치이다.
플라즈마 디스플레이 패널의 표시 패널은 전방 패널과 후방 패널을 구비한다. 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 전방 패널에는 전면 기판, 유지 방전을 일으키는 유지 방전 전극쌍, 유전체층 및 보호막 등이 구비되며, 후방 패널에는 후면 기판, 어드레스 전극, 유전체층, 격벽 및 형광체층 등이 구비된다. 전면 기판과 배면 기판은 서로 이격되어 평행하게 대향하며 두 기판 사이의 공간은 격벽에 의해 구획되는 것에 의해 방전을 일으키는 단위 방전 공간으로서의 방전셀을 형성한다.
플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법으로는, 모든 방전셀을 초기화하는 리셋 단계, 유지 방전을 일으킬 방전셀을 선택하는 어드레스 단계 및 선택된 방전셀에 대하여 유지 방전을 수행하는 유지 방전 단계로 구분되는 파형의 전압을 각각의 전극에 인가함으로써 구동하는 방법(Address Display Separation 방식)이 있다.
종래의 플라즈마 디스플레이 패널 구조에 있어서는 형광체 여기 과정에서 발생한 가시광선이 전방 패널을 통과함에 있어, 전면 기판 외에 유지 방전 전극쌍, 유전체층 및 보호막 등을 통과하여야 했기 때문에, 전체적으로 가시광선의 전방 패 널 투과율이 낮은 문제점을 갖고 있었다. 또한, 전면, 배면 및 측면을 구비하는 방전셀에 있어서, 유지 방전 전극쌍이 방전셀의 전면에 위치하였기 때문에, 유지 방전 전극쌍 상호간에 발생하는 유지 방전이 방전셀의 방전 공간 중에서 전면 쪽에만 치우치게 되어 방전 공간을 효율적으로 활용하지 못하였으므로 발광 효율이 낮은 문제점도 갖고 있었다. 그리고, 전면측에서의 방전에 의해 발생한 하전 입자가 배면측에 위치한 형광체층을 손상시키는 이온 스퍼터링(Ion Sputtering) 현상을 일으킴으로써 영구 잔상을 야기하는 문제점도 있었다.
상기한 문제점 및 그 밖의 다른 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은, 방절셀의 측면을 둘러싸도록 각 전극을 배치하여 방전 공간을 효율적으로 활용함으로써 발광 효율이 향상되고, 리셋 펄스가 인가되는 전극에 리셋 단계의 초기 단계에서 하강 램프식 펄스 파형의 전압을 인가함으로써 방전셀의 측면에 배치된 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하에 대한 제어 능력을 향상시켜 안정적인 방전이 일어나도록 하는 구동 파형의 전압에 의해 구동되는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공함에 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 서로 이격되어 평행하게 대향하는 전면 기판 및 배면 기판; 전면 기판과 배면 기판 사이의 공간을 전면, 배면 및 측면을 구비하는 복수의 방전셀로 구획하는 격벽; 전면과 배면에 평행하게 측면을 둘러싸며, 전면과 배면에 평행한 방향으로 연장되는 X 전극 및 Y 전극; X 전극과 Y 전극의 사이에 위치하여 전면과 배면에 평행하게 측면을 둘러싸며, 전면과 배면에 평행하고 X 전극과 Y 전극의 연장 방향에 수직하는 방향으로 연장되는 R 전극; 및 배면에 형성되는 형광체층을 구비하고, 모든 방전셀을 초기화하는 리셋 단계, 유지 방전을 일으킬 방전셀을 선택하는 어드레스 단계 및 선택된 방전셀에 대하여 유지 방전을 수행하는 유지 방전 단계로 구분되는 파형의 전압에 의하여 구동되며, 리셋 단계에서, R 전극에는 제 1 하강 램프식 펄스 후 상승 램프식 펄스 뒤 제 2 하강 램프식 펄스를 갖는 파형의 전압이 인가되고, X 전극에는 상승 스텝 파형의 전압이 인가되며, Y 전극에는 접지 전압이 인가됨으로써 구동되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
본 발명에 있어서, 제 1 하강 램프식 펄스는, 접지 전압으로 유지되다가, 접지 전압으로부터 접지 전압의 전위보다 낮은 전위의 R 전극 리셋 제 1 전압으로 램프식 하강한 후, R 전극 리셋 제 1 전압으로 유지되다가, R 전극 리셋 제 1 전압으로부터 접지 전압으로 스텝식 상승하여 접지 전압으로 유지되는 파형의 펄스인 것을 본 발명의 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상승 램프식 펄스는, 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 리셋 제 2 전압으로 유지되다가, R 전극 리셋 제 2 전압으로부터 R 전극 리셋 제 2 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 리셋 제 3 전압으로 램프식 상승한 후, R 전극 리셋 제 3 전압으로 유지되는 파형의 펄스인 것을 본 발명의 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 있어서, 제 2 하강 램프식 펄스는, 접지 전압의 전위보다 높은 전 위의 R 전극 리셋 제 2 전압으로부터 R 전극 리셋 제 2 전압의 전위보다 낮은 전위의 R 전극 리셋 제 4 전압으로 램프식 하강한 후, R 전극 리셋 제 4 전압으로 유지되는 파형의 펄스인 것을 본 발명의 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 있어서, R 전극 리셋 제 4 전압의 전위는 접지 전압의 전위 또는 접지 전압의 전위보다 낮은 전위인 것을 본 발명의 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상승 스텝 파형의 전압은, 접지 전압으로 유지되다가, 접지 전압으로부터 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 X 전극 리셋 전압으로 스텝식 상승하여 X 전극 리셋 전압으로 유지되는 파형의 전압인 것을 본 발명의 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 있어서, 어드레스 단계에서, X 전극에는 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 X 전극 어드레스 전압을 인가하고, Y 전극에는 접지 전압으로 유지되다가 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 Y 전극 어드레스 전압이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 접지 전압으로 유지되는 펄스 파형의 전압을 인가하며, R 전극에는 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 어드레스 제 1 전압으로 유지되다가 R 전극 어드레스 제 1 전압의 전위보다 낮은 전위의 R 전극 어드레스 제 2 전압이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 R 전극 어드레스 제 1 전압으로 유지되는 펄스 파형의 전압을 인가하는 것을 본 발명의 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 있어서, 유지 방전 단계에서, X 전극에는 접지 전압과 유지 방전 전압을 기 설정된 기간 간격만큼 교대로 인가하고, Y 전극에는 X 전극에 인가되는 것과 반대로 유지 방전 전압과 접지 전압을 교대로 인가하고, R 전극에는 접지 전 압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 서스테인 전압을 인가하는 것을 본 발명의 특징으로 할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지의 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 장치의 구성을 도시한 구성 블럭도이다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 장치는, 영상 처리부(102), 논리 제어부(104), X 구동부(106), Y 구동부(108), R 구동부(110) 및 표시 패널(112)을 구비할 수 있다.
영상 처리부(102)는 외부로부터 PC 신호, DVD 신호, 비디오 신호, TV 신호 등의 외부 영상 신호를 입력받아 디지털 신호로 변환하고, 변환된 디지털 신호를 영상 처리하여 내부 영상 신호를 생성한 후, 생성된 내부 영상 신호를 논리 제어부(104)로 전송한다. 여기서의 내부 영상 신호에는 적색(R) 영상 데이터, 녹색(G) 영상 데이터, 청색(B) 영상 데이터, 클럭 신호, 수직 동기 신호 및 수평 동기 신호 등이 포함된다.
논리 제어부(104)는 영상 처리부(102)로부터 전송받는 내부 영상 신호에 대하여 감마 보정, APC(Automatic Power Control) 등의 처리를 하여 X 구동부 제어 신호(SX), Y 구동부 제어 신호(SY) 및 R 구동부 제어 신호(SR)를 생성한다. 생성된 X 구동부 제어 신호(SX), Y 구동부 제어 신호(SY) 및 R 구동부 제어 신호(SR)는 각각 X 구동부(106), Y 구동부(108) 및 R 구동부(110)로 전송된다.
X 구동부(106)는 논리 제어부(104)로부터 X 구동부 제어 신호(SX)를 전송받아, 플라즈마 디스플레이 패널의 X 전극(X1, X2, ..., Xn)에 X 전극 구동 전압을 인가하는 역할을 담당한다.
Y 구동부(108)는 논리 제어부(104)로부터 Y 구동부 제어 신호(SY)를 전송받아, 플라즈마 디스플레이 패널의 Y 전극(Y1, Y2, ..., Yn)에 Y 전극 구동 전압을 인가하는 역할을 담당한다.
R 구동부(110)는 논리 제어부(104)로부터 R 구동부 제어 신호(SR)를 전송받아, 플라즈마 디스플레이 패널의 R 전극(R1, R2, ..., Rm)에 R 전극 구동 전압을 인가하는 역할을 담당한다.
표시 패널(112)은 플라즈마 디스플레이 패널이 갖는 모든 방전셀과 그 주변 구성 요소의 집합체로서, 상기한 X 전극 구동 전압, Y 전극 구동 전압 및 R 전극 구동 전압의 인가에 의해 선택된 방전셀이 가시광선을 발하는 것에 의해, 플라즈마 디스플레이 패널에 입력되는 외부 영상 신호에 상응하는 화상을 표시하게 된다. 표시 패널(112)의 자세한 물리적 구조는 후술하는 도 2를 참조하여 설명한다.
도 2a는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 있어 표시 패널의 물리적 구조를 나타내는 부분 사시도이고, 도 2b는 상기 표시 패널을 도 2a에서의 Ⅱ-Ⅱ 방향으로 절단하여 상세히 나타낸 단면도이며, 도 2c는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 구조를 본 발명과 비교하기 위하여 도시한 도 면이다.
도 2a 및 도 2b에서와 같이 플라즈마 디스플레이 패널의 표시 패널은 전면 기판(201), 배면 기판(202), 격벽(203), X 전극(204), Y 전극(205), R 전극(206), 유전체층(207), 보호막(208) 및 형광체층(209)을 구비할 수 있다.
전방 기판(201)과 배면 기판(202) 사이의 공간은 격벽(203)에 의해 구획되어 방전을 일으키는 단위 방전 공간으로서의 방전셀(210)을 형성한다.
격벽(203)은 방전셀(210)을 한정하여 화상의 기본 단위가 형성될 수 있도록 하고, 방전셀 간의 크로스 토크(cross talk)를 방지하는 역할을 담당한다. 격벽(203)은 방전셀의 측면을 측면에 수직하게 절단한 모양이 사각형, 육각형, 팔각형 등의 다각형의 구조가 될 수 있도록 형성시킬 수도 있으나, 도 2a에서 보는 바와 같이 절단한 모양이 원형을 이루도록 형성시키는 것이 방전 효율면에서 유리한 효과를 발휘한다.
X 전극(204)은 도 2a에서 보는 바와 같이, 방전셀의 전면(전면 기판 방향)과 배면(배면 기판 방향)에 평행하게 방전셀의 측면을 둘러싸는 구조를 갖는다.
Y 전극(205)도 도 2a에서 보는 바와 같이 X 전극(204)과 마찬가지로, 방전셀의 전면과 배면에 평행하게 방전셀의 측면을 둘러싸는 구조를 갖는다.
R 전극(206)은 X 전극(204)과 Y 전극(205)의 사이에 위치하여 방전셀의 전면과 배면에 평행하게 방전셀의 측면을 둘러싸는 구조를 갖는다.
유전체층(207)은 X 전극(206), Y 전극(205) 및 R 전극(206)의 절연 피막으로 사용되는 유전체층으로서, 절연 저항이 높은 재료를 사용한다. 방전에 의해 발생한 전하 중의 일부는, 각 전극(204, 205, 206)에 인가되는 전압의 극성에 따른 전기적 인력에 이끌려 상기한 유전체층(207)의 부근(보호막(208)을 사이에 두고)에서 쌓여 벽전하(Wall Charge)를 형성하며, 벽전하에 의한 벽전압(Wall Charge Voltage)이 각 전극(204, 205, 206)에 인가되는 구동 전압과 합쳐져서 방전 공간에 전기장을 제공하게 된다.
도 2a 및 도 2b에서는 유전체층(207)과 격벽(203)이 서로 다른 층을 이루는 것으로 도시되고 있으나, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 바람직한 실시예에 따라서는, 격벽 자체가 유전체로 이루어지거나 유전체층을 포함하는 구조로 형성되도록 할 수 있다.
보호막(208)은 이온 스퍼터링에 의한 유전체층(207)의 손상을 방지하며, 방전시 2차 전자의 방출을 증가시켜 방전을 용이하게 한다. 보호막(208)은 산화 마그네슘(MgO) 등의 재료를 사용하여 형성한다.
형광체층(209)에서는, 방전에 의해 발생하는 진공 자외선(VUV : Vacuum Ultra Violet)이 흡수됨으로써 여기되는 전자가 다시 안정 상태로 될 때 가시광선을 발산하는 Photo Luminescence 발광 메커니즘이 일어나게 된다. 형광체층(209)은 플라즈마 디스플레이 패널이 칼라 화상을 구현할 수 있도록 하기 위해 적색 발광 형광체층, 녹색 발광 형광체층 및 청색 발광 형광체층을 구비할 수 있으며, 적색 발광 형광체층, 녹색 발광 형광체층 및 청색 발광 형광체층이 방전셀 내부에 배치되어 단위 화소를 형성할 수 있다. 적색 발광 형광체로서는 (Y,Gd)BO3:Eu3+ 등이 있고, 녹색 발광 형광체로서는 Zn2Si04:Mn2+등이 있으며, 청색 발광 형광체로서는 BaMgAl10O17:Eu2+ 등이 있다.
방전셀(210) 내부에는 대기압보다 낮은 압력의 방전 가스(대략 0.5 atm 이하)가 충전되어 있어, 각각의 방전셀에 관여한 각각의 전극들(204, 205, 206)에 인가되는 구동 전압에 따라서 형성되는 전기장에 의해, 방전 가스 입자와 전하가 충돌을 일으키면서 플라즈마 방전이 일어나고, 플라즈마 방전의 결과로 진공 자외선이 발생하게 된다. 방전 가스로는 크세논(Xe) 가스를 네온(Ne) 가스, 헬륨(He) 가스 또는 아르곤(Ar) 가스 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 가스에 혼합하여 사용하는 혼합 가스가 이용된다.
도 2c는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 구조의 배치를 도시하고 있다.
도 2c에서 보는 바와 같이, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 표시 패널에는 주사 전극(Yn)과 유지 전극(Xn)이 전면 기판 상에 배치되어 있고, 어드레스 전극(Am)은 배면 기판 상에 배치되는 구조를 갖는다.
도 2c와 같은 구조에서는 유지 방전 과정에서 발생하는 가시광선이 전면 기판을 투과함에 있어 전면 기판외에, 유지 방전 전극쌍(주사 전극과 유지 전극), 전방 유전체층 및 보호막 등을 투과해야 하므로 그 만큼 투과율이 떨어지고, 유지 방전이 일어나는 공간도 주사 전극과 유지 전극이 배치된 방전셀의 전면 쪽에만 치우치게 되어 방전 공간을 효율적으로 활용하지 못해 발광 효율이 낮으며, 방전셀의 전면측에서의 방전에 의해 발생한 하전 입자가 배면측에 위치한 형광체층을 손상시키는 문제점(Ion Sputtering)도 있다.
본 발명에서는 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 도 2a 및 도 2b와 같은 구조의 전극 배치를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다. 도 2a 및 도 2b와 같은 구조에서는 유지 방전 과정에서 발생하는 가시광선이 전면 기판만을 바로 투과하게 되므로 투과율이 좋아 상대적으로 높은 휘도 표시에 유리하고, 방전셀의 측면을 방전셀의 전면과 배면에 평행하게 유지 방전 전극쌍(X 전극 및 Y 전극)이 둘러싸도록 배치되어 있기 때문에, 방전셀 내에서의 방전 공간을 효율적으로 활용하여 발광 효율이 높다. 또한, 각 전극에 인가되는 전압에 의해 형성되는 전기장이 방전셀의 전면 및 배면에 평행한 방향이어서, 방전에 의해 발생하는 하전 입자가 방전셀의 배면에 위치한 형광층을 손상시키는 현상(Ion Sputtering)도 감소하게 된다.
도 3은 방전셀의 측면을 둘러싸는 X 전극, Y 전극 및 R 전극의 연장 방향을 설명하기 위한 도면이다.
도 3에서는 방전셀이 원통형으로 표현되고 있는데 이는 방전 공간 전체를 효율적으로 사용하기 위하여 채택되는 구조이며, 경우에 따라서는 사각형 단면을 가지는 직육면체형 등의 구조가 채택될 수도 있다.
도 3에서 보는 바와 같이 방전셀은 전면 기판 방향의 전면, 배면 기판 방향의 배면 및 전면과 배면에 수직한 측면을 구비한다. 전면 기판과 배면 기판 사이의 공간을 격벽이 어떠한 모양으로 구획하는가에 따라서 측면의 형태가 결정되며, 원통형 방전셀 구조에서는 측면이 곡면을 이루게 된다.
X 전극(Xn)은 방전셀의 전면과 배면에 평행하게 방전셀의 측면을 둘러싸며, 방전셀의 전면과 배면에 평행한 일방향(도 3에서는 Y 축 방향)으로 연장되는 구조를 갖는다.
Y 전극(Yn)도 X 전극과 마찬가지로, 방전셀의 전면과 배면에 평행하게 방전셀의 측면을 둘러싸며, X 전극의 연장 방향과 같은 방향(도 3에서는 Y 축 방향)으로 연장되는 구조를 갖는다.
R 전극(Rm)은 X 전극과 Y 전극의 사이에 위치하여 방전셀의 전면과 배면에 평행하게 방전셀의 측면을 둘러싸며, 방전셀의 전면과 배면에 평행하고 X 전극과 Y 전극의 연장 방향과 수직하는 방향(도 3에서는 X 축 방향)으로 연장되는 구조를 갖는다.
도 4는 어드레스 디스플레이 분리(ADS : Address Display Separation) 방식에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방식을 나타내는 도면이다.
도 4에서 보듯이, 화상을 표시하는 하나의 단위 프레임은 시분할 계조 표시를 실현하기 위하여 소정의 갯수 예컨대, 8 개의 서브 필드(SF1, ..., SF8)로 분할될 수 있다. 각 서브 필드(SF1, ..., SF8)는 다시 리셋 단계(R1, ..., R8), 어드레스 단계(A1, ..., A8) 및 유지 방전 단계(S1, ..., S8)로 구분될 수 있다. 여기서, 각 리셋 단계(R1, ..., R8)는 모든 방전셀을 균등하게 초기화하는 역할을 수행하고, 각 어드레스 단계(A1, ..., A8)는 각 유지 방전 단계(S1, ..., S8)에서 표시 방전을 일으켜야 할 방전셀을 선택하도록 하는 역할을 수행하며, 유지 방전 단계(S1, ..., S8)는 어드레스 단계에서 선택된 방전셀에 대한 유지 방전을 일으키는 역할을 수행한다.
플라즈마 디스플레이 패널에 있어 단위 프레임에서의 휘도는 모든 유지 방전 단계(S1, ..., S8)에서의 총 유지 방전 횟수에 비례한다. 예를 들어 설명하면, 단위 프레임을 8 개의 서브 필드(SF1, ..., SF8)로 분할하고 단위 프레임에서의 휘도를 256 단계(0 계조부터 255 계조까지 총 256 개의 계조)로 구분하는 경우에, 8 개의 서브 필드(SF1, ..., SF8) 각각의 유지 방전 단계(S1, ..., S8)에는 차례대로 1, 2, 4, 8, 16, 32, 64, 128의 비율로 서로 다른 유지 방전 횟수가 할당된다. 그래서, 만약 133 계조의 휘도를 표시하는 경우에는 133은 1(SF1에 대응)과 4(SF3에 대응)와 128(SF8에 대응)의 합으로 표현할 수 있으므로, 제 1 서브 필드(SF1)의 어드레스 단계(A1), 제 3 서브 필드(SF3)의 어드레스 단계(A3) 및 제 8 서브 필드(SF8)의 어드레스 단계(A8)에서는 방전셀을 선택하고, 그 외의 서브 필드(SF2, SF4, SF5, SF6, SF7)의 어드레스 단계(A2, A4, A5, A6, A7)에서는 방전셀을 선택하지 않음으로써 133 계조의 휘도를 표현할 수 있게 된다.
도 4에 있어 가로축은 시간축에 대응되고, 세로축은 어드레스 단계에서 방전셀을 선택하기 위해 스캔 펄스의 전압을 인가하는 주사 전극 라인에 대응된다. 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동에 있어서는 R 전극에 스캔 펄스가 인가되기 때문에(도 6의 설명 부분에서 자세히 서술한다) 도 4에서의 세로축은 R 전극 라인에 대응된다고 할 수 있다.
도 5는 도 2c와 같은 전극 배치를 갖는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 있어 단위 프레임을 이루는 어느 하나의 서브 필드에서 각 전극에 인가되는 파형의 전압을 도시한 도면이다.
도 5를 보면 각 전극에 인가되는 전압은 다음과 같다.
도 5에서 보듯이 하나의 서브 필드(SF)는 리셋 단계(Pr), 어드레스 단계(Pa) 및 유지 방전 단계(Ps)를 구비한다.
리셋 단계(Pr)에서, 유지 전극(Xn)에는 접지 전압(Vg)으로 유지되다가 유지 전극 리셋 전압(Vx)으로 스텝식 상승하는 스텝 파형의 전압을 인가하고, 주사 전극(Yn)에는 접지 전압(Vg)으로 유지되다가(리셋 제 1 단계. Pr1) 주사 전극 제 1 전압(Vyr1)으로부터 주사 전극 제 2 전압(Vyr2)으로 램프식 상승한 뒤(리셋 제 2 단계. Pr2) 다시 주사 전극 제 1 전압(Vyr1)으로부터 주사 전극 제 3 전압(Vyr3)으로 램프식 하강하는(리셋 제 3 단계. Pr3) 파형의 전압을 인가하며, 어드레스 전극(Am)에는 접지 전압(Vg)을 인가함으로써 모든 방전셀을 초기화 상태로 만든다.
어드레스 단계(Pa)에서, 유지 전극(Xn)에는 유지 전극 리셋 전압(Vx)과 같은 전위의 유지 전극 어드레스 전압(Vx)을 인가하고, 주사 전극(Yn)에는 주사 전극 어드레스 제 1 전압(Vya1)으로 유지되다가 주사 전극 어드레스 제 2 전압(Vya2)이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 주사 전극 어드레스 제 1 전압(Vya1)으로 유지되는 하강 펄스 파형의 전압을 인가하며, 어드레스 전극(Am)에는 접지 전압(Vg)으로 유지되다가 어드레스 전극 어드레스 전압(Vaa)이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 접지 전압(Vg)으로 유지되는 상승 펄스 파형의 전압을 인가함으로써 유지 방전 단계(Ps)에서 유지 방전을 일으킬 방전셀을 선택한다.
유지 방전 단계(Ps)에서, 유지 전극(Xn)에는 접지 전압(Vg)과 유지 방전 전압(Vs)을 기 설정된 기간 간격만큼 교대로 인가하고, 주사 전극(Yn)에는 유지 전극 (Xn)에 인가되는 것과 반대로 유지 방전 전압(Vs)과 접지 전압(Vg)을 교대로 인가하며, 어드레스 전극(Am)에는 접지 전압(Vg)을 인가함으로써 어드레스 단계(Pa)에서 선택된 방전셀이 유지 방전을 일으키도록 한다.
위와 같은 구동 파형의 전압이 각 전극에 인가됨으로써, 리셋 단계에서는 리셋 방전(서로 다른 평면에 위치하는 전극간에 발생하는 대향 방전 또는 동일 평면에 위치하는 전극간에 발생하는 면 방전)이 발생하고, 어드레스 단계에서는 어드레스 방전(대향 방전)이 발생하며, 유지 방전 단계에서는 유지 방전(면 방전)이 발생하게 된다.
플라즈마 디스플레이 패널에 있어 단위 프레임에서의 휘도는 총 유지 방전 단계에서의 총 유지 방전 횟수에 비례하는데, 유지 방전은 강 방전 형태이어서 강 방전 과정에서 발생하는 가시 광선이 전방 패널을 투과하여 플라즈마 디스플레이 패널의 시청자의 시각을 자극하게 되는 것이다. 이에 비해, 리셋 단계에서의 리셋 방전과 어드레스 단계에서의 어드레스 방전은 약 방전 형태이어서 단위 프레임에서의 휘도에는 직접적인 영향을 미치지 않고, 단지 리셋 방전에 의해 방전셀의 초기화가 이루어 지고, 어드레스 방전에 의해 유지 방전이 일어나게 될 방전셀이 선택되게 되는 것이다. 따라서, 단위 프레임에서의 휘도에 영향을 미치는 표시 방전은 유지 방전 뿐이고, 리셋 방전과 어드레스 방전은 표시 방전에 해당되지 않는다고 할 수 있다.
리셋 단계에서의 리셋 방전이 정상적인 약 방전 형태로 이루어 지지 못하고 강 방전 형태로 발생하는 경우에는, 어드레스 단계에서 선택되지 않는 방전셀에 대 하여도, 유지 방전 단계에서 유지 방전이 일어나게 되어, 단위 프레임에서의 휘도 표현에 악영향을 미치게 된다. 따라서, 이러한 오 방전에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 표시 품질 저하를 방지하기 위하여는 안정적인 방전이 보장되는 구동 방법에 의해 구동되는 플라즈마 디스플레이 패널이 요구되고 있다.
특히, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서와 같이, 유지 방전 전극쌍(X 전극과 Y 전극)과 R 전극 모두를 방전셀의 측면에 배치하는 경우에는, 모든 전극이 동일 평면(또는 동일 곡면) 상에 위치하게 되므로 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하(Wall Charge)를 더욱더 정교하게 제어할 것이 요구된다.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 있어 단위 프레임을 이루는 어느 하나의 서브 필드에서 각 전극에 인가되는 파형의 전압을 도시한 도면이다.
리셋 방전에 의한 리셋 기능을 수행하는 리셋 펄스가 도 5에서는 주사 전극(Yn)에 인가되는데 비해 도 6에서는 R 전극(Rm)에 인가되는 점이 다르며, 특히 도 5에서의 리셋 제 1 단계(Pr1)에서는 주사 전극(Yn)에 접지 전압(Vg)이 인가되는 것에 비해 도 6에서의 리셋 제 1 단계(Pr1)에서는 접지 전압(Vg)으로 유지되다가 접지 전압으로부터 R 전극 리셋 제 1 전압(Vrr1)으로 램프식 하강하는 파형의 전압이 인가되는 점에 차이가 있다.
도 6에서 보듯이 하나의 서브 필드(SF)는 리셋 단계(Pr), 어드레스 단계(Pa) 및 유지 방전 단계(Ps)를 구비한다.
리셋 단계(Pr)에서 각 전극(Xn, Yn, Rm)에 인가되는 전압은 다음과 같다.
X 전극(Xn)에는 접지 전압(Vg)으로 유지되다가 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 X 전극 리셋 전압(Vx)으로 유지되는 스텝 파형의 전압을 인가한다. Y 전극(Yn)에는 접지 전압(Vg)을 인가한다.
리셋 제 1 단계(Pr1)에서 R 전극(Rm)에는, 접지 전압(Vg)으로 유지되다가, 접지 전압으로부터 접지 전압의 전위보다 낮은 전위의 R 전극 리셋 제 1 전압(Vrr1)으로 램프식 하강한 후, R 전극 리셋 제 1 전압(Vrr1)으로 유지되다가, R 전극 리셋 제 1 전압(Vrr1)으로부터 접지 전압(Vg)으로 스텝식 상승하여 접지 전압으로 유지되는 파형의 전압을 인가한다.
리셋 제 2 단계(Pr2)에서 R 전극(Rm)에는, 접지 전압(Vg)의 전위보다 높은 전위의 R 전극 리셋 제 2 전압(Vrr2)으로 유지되다가, R 전극 리셋 제 2 전압(Vrr2)으로부터 R 전극 리셋 제 2 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 리셋 제 3 전압(Vrr3)으로 램프식 상승한 후, R 전극 리셋 제 3 전압(Vrr3)으로 유지되는 파형의 전압을 인가한다.
리셋 제 3 단계(Pr3)에서 R 전극(Rm)에는, 접지 전압(Vg)의 전위보다 높은 전위의 R 전극 리셋 제 2 전압(Vrr2)으로부터 R 전극 리셋 제 2 전압의 전위보다 낮은 전위의 R 전극 리셋 제 4 전압(Vrr4)으로 램프식 하강한 후, R 전극 리셋 제 4 전압(Vrr4)으로 유지되는 파형의 전압을 인가한다.
도 6에서는 R 전극 리셋 제 4 전압(Vrr4)의 전위가 접지 전압(Vg)의 전위로 도시되고 있지만 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동에서는 R 전극 리셋 제 4 전압(Vrr4)의 전위를 접지 전압(Vg)의 전위보다 낮은 전위가 되도록 설 정하는 것도 가능하다.
어드레스 단계(Pa)에서 각 전극(Xn, Yn, Rm)에 인가되는 전압은 다음과 같다.
X 전극(Xn)에는 X 전극 리셋 전압(Vx)과 같은 전위의 X 전극 어드레스 전압(Vx)을 인가한다. Y 전극(Yn)에는 접지 전압(Vg)으로 유지되다가 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 Y 전극 어드레스 전압(Vya)이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 접지 전압으로 유지되는 펄스 파형의 전압을 인가한다.
R 전극(Rm)에는 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 어드레스 제 1 전압(Vra1)으로 유지되다가 R 전극 어드레스 제 1 전압(Vra1)의 전위보다 낮은 전위의 R 전극 어드레스 제 2 전압(Vra2. 도 6에서는 접지 전압 Vg와 같은 전위)이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 R 전극 어드레스 제 1 전압(Vra1)으로 유지되는 펄스 파형의 전압을 인가한다.
유지 방전 단계(Ps)에서 각 전극(Xn, Yn, Rm)에 인가되는 전압은 다음과 같다.
X 전극(Xn)에는 접지 전압(Vg)과 유지 방전 전압(Vs)을 기 설정된 기간 간격만큼 교대로 인가한다. Y 전극(Yn)에는 X 전극(Xn)에 인가되는 것과 반대로 유지 방전 전압(Vs)과 접지 전압(Vg)을 교대로 인가한다. R 전극(Rm)에는 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 서스테인 전압(Vrs)을 인가한다.
종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 주사 전극(도 5에서의 Yn)에는 리셋 제 1 단계(도 5에서의 Pr1)에서 접지 전압(Vg)을 인가하였으나, 본 발명에 따른 플라 즈마 디스플레이 패널의 주사 전극(도 6에서의 Rm)에는 리셋 제 1 단계(도 6에서의 Pr1)에서 하강 램프식 펄스 파형의 전압을 인가한다는 점에 특징이 있다고 할 수 있다. 리셋 제 1 단계(Pr1)에서 접지 전압 대신에 하강 램프식 펄스 파형의 전압을 인가함으로써 얻어지는 긍정적 효과는 이하에서 도 7a 내지 도 7f의 도면을 참조하여 설명한다.
도 7a 내지 도 7f는 도 6에서의 각각의 단계에서 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하의 분포를 도시한 도면이다.
도 7a는 최후의 유지 방전 후(Ps 종료시)의 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하의 분포를 도시하고 있다.
최후 유지 방전시에 X 전극에는 유지 방전 전압(Vs)이 인가되고 Y 전극에는 접지 전압(Vg)이 인가되며 R 전극에는 R 전극 서스테인 전압(Vrs)이 인가되는 경우를 고려하면, 최후 유지 방전으로 발생된 전하는 각 전극에 인가되는 전압에 의한 전기장에 이끌려 반대 극성의 전압이 인가되는 전극 부근에 쌓여 벽전하를 형성한다. 즉, 도 7a에서 보듯이 X 전극 부근에는 다량의 부극성(-)의 벽전하가, R 전극 부근에는 소량의 부극성의 벽전하가, Y 전극 부근에는 다량의 정극성(+)의 벽전하가 쌓이게 된다.
도 7b는 리셋 제 1 단계 종료시(Pr1 종료시)의 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하의 분포를 도시하고 있다.
리셋 제 1 단계시에 X 전극에는 접지 전압(Vg)이 인가되고 Y 전극에도 접지 전압(Vg)이 인가되며 R 전극에는 접지 전압으로부터 R 전극 리셋 제 1 전압(Vrr1) 으로 램프식 하강하는 하강 램프식 펄스 파형의 전압이 인가된다. 위와 같이 각 전극에 인가되는 전압이, 최후 유지 방전 후(Ps 종료시) 각 전극 부근에 쌓였던 벽전하에 의한 벽전압과 합쳐져서 방전 공간에 전기장을 제공하게 된다. 그 결과, R 전극과 Y 전극간에 미약한 리셋 방전(약 방전)이 일어나게 된다. 그러나 X 전극에는 다량의 부극성의 벽전하가 쌓여 있었기 때문에 R 전극과 X 전극간에는 방전이 일어나지 않는다. 방전으로 발생한 전하가 각 전극에 인가되는 전압에 의한 전기장에 이끌려 반대 극성의 전압이 인가되는 전극 부근에 쌓여 도 7b와 같은 형태의 벽전하를 형성한다. 즉, 도 7b에서 보듯이 X 전극 부근에는 다량의 부극성의 벽전하가, R 전극 부근에는 소량의 정극성의 벽전하가, Y 전극 부근에는 소량의 정극성의 벽전하가 쌓이게 된다.
도 7c는 리셋 제 2 단계 종료시(Pr2 종료시)의 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하의 분포를 도시하고 있다.
리셋 제 2 단계시에 X 전극에는 접지 전압(Vg)이 인가되고 Y 전극에도 접지 전압(Vg)이 인가되며 R 전극에는 R 전극 리셋 제 2 전압(Vrr2)으로부터 R 전극 리셋 제 3 전압(Vrr3)으로 램프식 상승하는 상승 램프식 펄스 파형의 전압이 인가된다. 위와 같이 각 전극에 인가되는 전압이, 리셋 제 1 단계 종료시(Pr1 종료시) 각 전극 부근에 쌓였던 벽전하에 의한 벽전압과 합쳐져서 방전 공간에 전기장을 제공하게 된다. 그 결과, R 전극과 X 전극간에 미약한 리셋 방전(약 방전)이 일어나게 된다. 방전으로 발생한 전하가 각 전극에 인가되는 전압에 의한 전기장에 이끌려 반대 극성의 전압이 인가되는 전극 부근에 쌓여 도 7c와 같은 형태의 벽전하를 형 성한다. 즉, 도 7c에서 보듯이 X 전극 부근에는 부극성의 벽전하가, R 전극 부근에는 다량의 부극성의 벽전하가, Y 전극 부근에는 정극성의 벽전하가 쌓이게 된다.
도 7d는 리셋 제 3 단계 종료시(Pr3 종료시)의 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하의 분포를 도시하고 있다.
리셋 제 3 단계시에 X 전극에는 X 전극 리셋 전압(Vx)이 인가되고 Y 전극에는 접지 전압(Vg)이 인가되며 R 전극에는 R 전극 리셋 제 2 전압(Vrr2)으로부터 R 전극 리셋 제 4 전압(Vrr4)으로 램프식 하강하는 하강 램프식 펄스 파형의 전압이 인가된다. 위와 같이 각 전극에 인가되는 전압이, 리셋 제 2 단계 종료시(Pr2 종료시) 각 전극 부근에 쌓였던 벽전하에 의한 벽전압과 합쳐져서 방전 공간에 전기장을 제공하게 된다. 그 결과 다시 미약한 리셋 방전이 발생하고, 방전으로 인해 발생한 전하는 각 전극 부근에 쌓여 도 7d와 같은 형태의 벽전하를 형성한다. 즉, 도 7d에서 보듯이 X 전극 부근에는 부극성의 벽전하가, R 전극 부근에는 부극성의 벽전하가, Y 전극 부근에는 정극성의 벽전하가 쌓이게 된다.
이상에서 살펴본 본 발명에 따른 리셋 단계의 특징을 검토한다.
종래와 같이 리셋 제 1 단계(Pr1)에서 주사 전극(도 5에서의 Yn, 도 6에서의 Rm)에 접지 전압을 인가하는 경우에는 리셋 제 1 단계(Pr1)에서는 따로 리셋 약 방전이 발생하지 않는다. 즉, 도 7a와 같은 벽전하 상태에서 바로 리셋 제 2 단계(Pr2)로 넘어가므로 R 전극과 Y 전극과의 리셋 약 방전 과정이 없이 R 전극과 X 전극과의 리셋 약 방전으로 진행되는 것이다. 이에 비해 본 발명에서는 리셋 제 1 단계(Pr1)에서 하강 램프식 펄스 파형의 전압을 인가함으로써, 리셋 제 1 단계(Pr1) 에서도 R 전극과 Y 전극간의 리셋 약 방전이 일어나도록 한다.
결과적으로 종래에는 최후 유지 방전 후(Ps 단계) 바로 R 전극과 X 전극과의 리셋 약 방전(Pr2 단계)으로 진행됐지만, 본 발명에서는 최후 유지 방전 후(Ps 단계) R 전극과 Y 전극과의 리셋 약 방전(Pr1 단계) 과정을 거쳐 R 전극과 X 전극과의 리셋 약 방전(Pr2 단계)으로 진행되게 된다. 종래에 비해 리셋 제 1 단계(Pr1)에서도 R 전과 Y 전극과의 리셋 약 방전 과정을 구비시킴으로써, 리셋 단계(Pr)에서 Y 전극 부근의 벽전하를 조금 더 정밀하게 제어하는 것이 가능하게 되는 것이다. 뿐만 아니라, 리셋 약 방전이 방전셀의 전면측 공간(X 전극과 R 전극 사이) 외에 배면측 공간(Y 전극과 R 전극 사이)에서도 일어나는 것이 되므로, 방전셀내의 방전 공간에 Priming Particle이 증가하여 낮은 방전 개시 전압을 가질 수 있도록 하여 이후의 어드레스 단계(Pa)나 유지 방전 단계(Ps)에서 방전이 용이해 진다.
이와 같이 리셋 제 1 단계(Pr1)에서 R 전과 Y 전극과의 리셋 약 방전 과정을 추가적으로 구비시켜 Y 전극 부근의 벽전하 제어 능력을 향상시키는 것에 본 발명의 특징이 있다고 할 수 있다. 리셋 단계(Pr)에서 안정적인 방전을 가능하게 하여 전체의 방전 안정성을 증가시키고, 방전 공간 내의 Priming Particle을 증가시켜 낮은 방전 개시 전압을 갖도록 하는 긍정적 효과를 기대할 수 있다.
상기한 바와 같은 리셋 제 1 단계(Pr1), 리셋 제 2 단계(Pr2) 및 리셋 제 3 단계(Pr3)를 거치면서 모든 방전셀은 균등한 벽전하 분포를 갖는 초기화 상태가 되고, 다음 단계인 어드레스 단계(Pa)에서 방전셀이 선택될 수 있도록 하는 준비를 갖추게 된다.
도 7e는 어드레스 단계 종료시(Pa 종료시)의 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하의 분포를 도시하고 있다.
어드레스 단계시에 X 전극(Xn)에는 X 전극 어드레스 전압(Vx)이 인가되고 Y 전극(Yn)에는 접지 전압(Vg)으로 유지되다가 Y 전극 어드레스 전압(Vya)이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 접지 전압으로 유지되는 펄스 파형의 전압이 인가되며 R 전극(Rm)에는 R 전극 어드레스 제 1 전압(Vra1)으로 유지되다가 R 전극 어드레스 제 2 전압(Vra2)이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 R 전극 어드레스 제 1 전압(Vra1)으로 유지되는 펄스 파형의 전압을 인가한다. 위와 같이 각 전극에 인가되는 전압이, 리셋 제 3 단계 종료시(Pr3 종료시) 각 전극 부근에 쌓였던 벽전하에 의한 벽전압과 합쳐져서 방전 공간에 전기장을 제공하게 된다. 그 결과, R 전극과 Y 전극간에 미약한 어드레스 방전(약 방전)이 일어나게 된다. 방전으로 발생한 전하가 각 전극에 인가되는 전압에 의한 전기장에 이끌려 반대 극성의 전압이 인가되는 전극 부근에 쌓여 도 7e와 같은 형태의 벽전하를 형성한다. 즉, 도 7e에서 보듯이 X 전극 부근에는 다량의 부극성의 벽전하가, R 전극 부근에는 정극성의 벽전하가, Y 전극 부근에는 다량의 정극성의 벽전하가 쌓이게 된다.
도 7f는 유지 방전 단계(Ps)에서 첫 유지 방전 종료시에 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하의 분포를 도시하고 있다.
유지 방전 단계(Ps)의 첫 유지 방전시에 X 전극(Xn)에는 접지 전압(Vg)을 인가하고 Y 전극(Yn)에는 X 전극(Xn)에 인가되는 것과 반대로 유지 방전 전압(Vs)을 인가하며(구동 방법에 따라서는 X 전극(Xn)에 유지 방전 전압(Vs)을 인가하고 Y 전 극(Yn)에 X 전극(Xn)에 인가되는 것과 반대로 접지 전압(Vg)을 인가할 수도 있다) R 전극(Rm)에는 R 전극 서스테인 전압(Vrs)을 인가한다. 위와 같이 각 전극에 인가되는 전압이, 어드레스 단계 종료시(Pa 종료시) 각 전극 부근에 쌓였던 벽전하에 의한 벽전압과 합쳐져서 방전 공간에 전기장을 제공하게 된다. 그 결과, R 전극과 Y 전극간에 미약한 어드레스 방전(약 방전)이 일어나게 된다. 방전으로 발생한 전하가 각 전극에 인가되는 전압에 의한 전기장에 이끌려 반대 극성의 전압이 인가되는 전극 부근에 쌓여 도 7f와 같은 형태의 벽전하를 형성한다. 즉, 도 7f에서 보듯이 X 전극 부근에는 다량의 정극성의 벽전하가, R 전극 부근에는 소량의 부극성의 벽전하가, Y 전극 부근에는 소량의 정극성의 벽전하가 쌓이게 된다.
이상에서는 도면에 도시된 구체적인 실시예를 참고하여 본 발명을 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하므로, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 기술을 가진 자라면 이로부터 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명의 보호 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 해석되어야 하고, 그와 동등 및 균등한 범위내에 있는 모든 기술적 사상은 본 발명의 보호 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 방전 공간을 효율적으로 활용하기 위하여 방절셀의 측면을 둘러싸도록 각 전극을 배치함으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 발광 효율을 향상시키고, 리셋 단계의 초기 단계에서 방전셀의 측면에 배치된 각 전극 부근에 쌓이는 벽전하에 대한 제어 능력을 증가시킬 수 있는 구동 전압을 인가함으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 방전의 안정성을 높이는 효과가 있다.

Claims (8)

  1. 서로 이격되어 평행하게 대향하는 전면 기판 및 배면 기판;
    상기 전면 기판과 상기 배면 기판 사이의 공간을 전면, 배면 및 측면을 구비하는 복수의 방전셀로 구획하는 격벽;
    상기 전면과 상기 배면에 평행하게 상기 측면을 둘러싸며, 상기 전면과 상기 배면에 평행한 방향으로 연장되는 X 전극 및 Y 전극;
    상기 X 전극과 상기 Y 전극의 사이에 위치하여 상기 전면과 상기 배면에 평행하게 상기 측면을 둘러싸며, 상기 전면과 상기 배면에 평행하고 상기 X 전극과 상기 Y 전극의 연장 방향에 수직하는 방향으로 연장되는 R 전극; 및
    상기 배면에 형성되는 형광체층을 구비하고,
    모든 방전셀을 초기화하는 리셋 단계, 유지 방전을 일으킬 방전셀을 선택하는 어드레스 단계 및 선택된 방전셀에 대하여 유지 방전을 수행하는 유지 방전 단계로 구분되는 파형의 전압에 의하여 구동되며,
    상기 리셋 단계에서, 상기 R 전극에는 제 1 하강 램프식 펄스 후 상승 램프식 펄스 뒤 제 2 하강 램프식 펄스를 갖는 파형의 전압이 인가되고, 상기 X 전극에는 상승 스텝 파형의 전압이 인가되며, 상기 Y 전극에는 접지 전압이 인가
    됨으로써 구동되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 하강 램프식 펄스는,
    상기 접지 전압으로 유지되다가, 상기 접지 전압으로부터 상기 접지 전압의 전위보다 낮은 전위의 R 전극 리셋 제 1 전압으로 램프식 하강한 후, 상기 R 전극 리셋 제 1 전압으로 유지되다가, 상기 R 전극 리셋 제 1 전압으로부터 상기 접지 전압으로 스텝식 상승하여 상기 접지 전압으로 유지되는 파형의 펄스인 것
    을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 상승 램프식 펄스는,
    상기 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 리셋 제 2 전압으로 유지되다가, 상기 R 전극 리셋 제 2 전압으로부터 상기 R 전극 리셋 제 2 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 리셋 제 3 전압으로 램프식 상승한 후, 상기 R 전극 리셋 제 3 전압으로 유지되는 파형의 펄스인 것
    을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 하강 램프식 펄스는,
    상기 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 리셋 제 2 전압으로부터 상기 R 전극 리셋 제 2 전압의 전위보다 낮은 전위의 R 전극 리셋 제 4 전압으로 램프식 하강한 후, 상기 R 전극 리셋 제 4 전압으로 유지되는 파형의 펄스인 것
    을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 R 전극 리셋 제 4 전압의 전위는 상기 접지 전압의 전위 또는 상기 접지 전압의 전위보다 낮은 전위인 것
    을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 상승 스텝 파형의 전압은,
    상기 접지 전압으로 유지되다가, 상기 접지 전압으로부터 상기 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 X 전극 리셋 전압으로 스텝식 상승하여 상기 X 전극 리셋 전압으로 유지되는 파형의 전압인 것
    을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 어드레스 단계에서,
    상기 X 전극에는 상기 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 X 전극 어드레스 전압을 인가하고, 상기 Y 전극에는 상기 접지 전압으로 유지되다가 상기 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 Y 전극 어드레스 전압이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 상기 접지 전압으로 유지되는 펄스 파형의 전압을 인가하며, 상기 R 전극에는 상기 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 어드레스 제 1 전압으로 유지되다가 상기 R 전극 어드레스 제 1 전압의 전위보다 낮은 전위의 R 전극 어드레스 제 2 전압이 기 설정된 기간 동안 유지된 후 다시 상기 R 전극 어드레스 제 1 전압으로 유지되는 펄스 파형의 전압을 인가하는 것
    을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 유지 방전 단계에서,
    상기 X 전극에는 상기 접지 전압과 유지 방전 전압을 기 설정된 기간 간격만큼 교대로 인가하고, 상기 Y 전극에는 상기 X 전극에 인가되는 것과 반대로 상기 유지 방전 전압과 상기 접지 전압을 교대로 인가하고, 상기 R 전극에는 상기 접지 전압의 전위보다 높은 전위의 R 전극 서스테인 전압을 인가하는 것
    을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
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