KR100529748B1 - Method for Purifying Sulfur Hexafluoride - Google Patents
Method for Purifying Sulfur Hexafluoride Download PDFInfo
- Publication number
- KR100529748B1 KR100529748B1 KR1019980014335A KR19980014335A KR100529748B1 KR 100529748 B1 KR100529748 B1 KR 100529748B1 KR 1019980014335 A KR1019980014335 A KR 1019980014335A KR 19980014335 A KR19980014335 A KR 19980014335A KR 100529748 B1 KR100529748 B1 KR 100529748B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- aluminate
- purifying
- purification
- impurity
- agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 title abstract description 6
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 6
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 title abstract description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 59
- -1 alkali metal aluminates Chemical class 0.000 claims abstract description 38
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 150000001341 alkaline earth metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 28
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 18
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 15
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 15
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical group [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 9
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 9
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000012629 purifying agent Substances 0.000 claims description 7
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- WJZPIORVERXPPR-UHFFFAOYSA-L tetramethylazanium;carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O.C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C WJZPIORVERXPPR-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 6
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 claims description 4
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 claims description 4
- KVOIJEARBNBHHP-UHFFFAOYSA-N potassium;oxido(oxo)alumane Chemical compound [K+].[O-][Al]=O KVOIJEARBNBHHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 3
- 239000003245 coal Substances 0.000 claims description 3
- YQNQTEBHHUSESQ-UHFFFAOYSA-N lithium aluminate Chemical compound [Li+].[O-][Al]=O YQNQTEBHHUSESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 3
- 239000011295 pitch Substances 0.000 claims description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 claims description 3
- APBDREXAUGXCCV-UHFFFAOYSA-L tetraethylazanium;carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O.CC[N+](CC)(CC)CC.CC[N+](CC)(CC)CC APBDREXAUGXCCV-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000571 coke Substances 0.000 claims description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 claims 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 34
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 4
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 4
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001211 electron capture detection Methods 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 3
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010893 electron trap Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005526 G1 to G0 transition Effects 0.000 description 1
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005935 Sulfuryl fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNAAFGQNGMFIHH-UHFFFAOYSA-N ctk8g8788 Chemical compound [S]F YNAAFGQNGMFIHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- BPFZRKQDXVZTFD-UHFFFAOYSA-N disulfur decafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)S(F)(F)(F)(F)F BPFZRKQDXVZTFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 239000006028 limestone Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- QTJXVIKNLHZIKL-UHFFFAOYSA-N sulfur difluoride Chemical compound FSF QTJXVIKNLHZIKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N sulfur tetrafluoride Chemical compound FS(F)(F)F QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBTWBSRJZRCYQV-UHFFFAOYSA-N sulfuryl difluoride Chemical compound FS(F)(=O)=O OBTWBSRJZRCYQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSJNBGSOIVSBBR-UHFFFAOYSA-N thionyl fluoride Chemical compound FS(F)=O LSJNBGSOIVSBBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/45—Compounds containing sulfur and halogen, with or without oxygen
- C01B17/4507—Compounds containing sulfur and halogen, with or without oxygen containing sulfur and halogen only
- C01B17/4515—Compounds containing sulfur and halogen, with or without oxygen containing sulfur and halogen only containing sulfur and fluorine only
- C01B17/453—Sulfur hexafluoride
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/30—Sulfur compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/151—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions, e.g. CO2
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
본 발명은 불순물을 함유한 설퍼 헥사플로라이드를 알칼리 토류 금속화합물, 알칼리 금속 알루미네이트 또는 테트라알킬암모늄 염으로부터 선택되는 한가지 이상의 화합물과 탄소질 고체로 이루어진 정제제와 접촉시키는 설퍼 헥사플로라이드의 정제방법에 관한 것이다. 본 발명의 정제 SF6는 기체의 절연매체로서 재활용화할 수 있다.The present invention provides a method for purifying sulfur hexafluoride in which a sulfur-containing hexafluoride containing impurities is contacted with a tablet comprising a carbonaceous solid and at least one compound selected from alkaline earth metal compounds, alkali metal aluminates or tetraalkylammonium salts. It is about. Purified SF 6 of the present invention can be recycled as an insulating medium of the gas.
Description
본 발명은 설퍼 헥사플로라이드의 정제방법, 보다 자세히 설명하면, 유해한 불순물을 함유하고 있는 회수된 설퍼 헥사플로라이드를 정제제와 접촉반응시키는 정제방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for purifying sulfur hexafluoride, and more particularly, to a method for purifying a recovered sulfur hexafluoride containing harmful impurities in contact with a purifying agent.
설퍼 헥사플로라이드(이하 SF6 이라함)는 기체로서 우수한 전기 절연성을 가지고 있기 때문에 차단기나 변압기 등의 기체 절연체로서 수요가 점차 증가하고 있다. SF6 자체는 화학적으로 안정하며 독성과 부식성을 가지고 있지 않다.Sulfur hexafluoride (hereinafter referred to as SF 6 ) has excellent electrical insulation as a gas, and thus demand for gas insulators such as breakers and transformers is gradually increasing. SF 6 itself is chemically stable and nontoxic and corrosive.
그러나, SF6 를 소형 변전설비의 기기 등에 사용하면, 차단기에서 코로나 방전과 아아크가 발생되는 등 강한 전계를 받게 되어 결과적으로 기기의 작동을 저하시키는 각종 불순물로 분해된다. 설퍼 테트라플로라이드 (이하 SF4 이라함), 설퍼 디플로라이드 (이하 SF2 이라함), 설퍼 모노플로라이드 (이하 S2F2 이라함) 등은 매우 반응성이 강한 물질로서, 만약 기기에 극소량의 수분이 존재하면 수분과 반응을 하여 하이드로 플로라이드 (이하 HF 이라함), 설파이트 기체 (이하 SO2 이라함), 티오닐 플로라이드 (이하 SOF2 이라함), 설퍼릴 플로라이드 (이하 SO2F2 이라함) 및 극소량의 설퍼 펜타플로라이드 (이하 S2F10 이라함) 등의 강한 강한 산성 물질로 형성된다. 상기 불순물에 포함되어 있는 SF6 기체를 사용하면, 사용기기의 성능이 저하되는데, 예로서 기기의 금속부분이 부식될 것이다. 따라서, 불순물들에 포함되어 있는 SF6 기체는 기기로부터 제거하여야 하며 적절한 시간에 대체시켜야 한다.However, when SF 6 is used in equipment of a small substation, etc., a strong electric field such as corona discharge and arc is generated in the circuit breaker, resulting in decomposition into various impurities that degrade the operation of the equipment. Sulfur tetrafluoride (hereinafter referred to as SF 4 ), sulfur difluoride (hereinafter referred to as SF 2 ), and sulfur monofluoride (hereinafter referred to as S 2 F 2 ) are very reactive substances, When water is present, it reacts with water to react with hydrofluoride (hereinafter referred to as HF), sulfite gas (hereinafter referred to as SO 2 ), thionyl fluoride (hereinafter referred to as SOF 2 ), and sulfuryl fluoride (hereinafter referred to as SOF 2 ). 2 F 2 ) and very small amounts of sulfur pentafluoride (hereinafter referred to as S 2 F 10 ). Use of SF 6 gas contained in the impurity degrades the performance of the equipment used, for example, metal parts of the equipment will be corroded. Therefore, the SF 6 gas contained in the impurities should be removed from the instrument and replaced in a timely manner.
SF6 기체는 고가이며 또한 셰계적인 지구 온난화 등 환경공해의 영향을 부정할 수 없으므로 최근에는 사용된 SF6 회수에 의한 SF6 의 재활용화와 회수된 SF6 로부터 위에서 지적한 바와 같이 유해한 불순물의 제거가 요청되고 있으며 이러한 요구에 부응하기 위한 몇몇 정제방법이 제안되고 있다. 예컨대, (1) 회수된 SF6 기체와 활성화 알루미나와 X-형의 합성 제올라이트 [일본특허공보 제 47-6205호)를 접촉시키는 건식방법, (2) 불순 기체 성분을 고형제인 전환제와 접촉시켜 고체 생성물과 이어서 기체흡수제 [일본특허공개공보 제 60-54723호)를 이용하여 흡수되는 비독성 기체제와 접촉시키는 습식방법, (3) 회수된 SF6 기체를 알칼리욕(수산화 칼슘 수용액)에서 기포화하는 방법(Hamano et al., SF6 Gas Recovering Apparatus in a High Electric Power Plant, 1996 Electric Society Conference) 및 (4) 회수된 SF6 기체와 리튬-치환된 거대망상구조의 이온교환수지를 접촉시키는 방법 (일본공개특허공보 제 6-211506호) 등이 알려지고 있다.SF 6 gas is expensive and can not deny the effects of environmental pollution such as global warming, so recently, recycling of SF 6 by recovery of used SF 6 and removal of harmful impurities from the recovered SF 6 as indicated above Several purification methods have been proposed to meet these demands. For example, (1) a dry method of contacting recovered SF 6 gas with activated alumina and X-type synthetic zeolite (Japanese Patent Publication No. 47-6205), and (2) contacting an impure gas component with a conversion agent which is a solid agent. Wet method of contacting a solid product with a non-toxic gas absorbed by using a gas absorbent (Japanese Patent Laid-Open No. 60-54723), and (3) recovering SF 6 gas in an alkali bath (aqueous calcium hydroxide solution). (4) contacting the recovered SF 6 gas with a lithium-substituted macroreticular ion exchange resin (Hamano et al., SF 6 Gas Recovering Apparatus in a High Electric Power Plant, 1996 Electric Society Conference) Japanese Patent Laid-Open No. 6-211506 and the like are known.
그러나, 상기 공지 자료에는 몇몇 문제점들을 가지고 있는 바, 예컨대, (1)의 방법에서는 SO2, SOF2, SO2F2, S2F10 등에 대하여 충분한 흡착효과를 얻지 못하며, (2)의 방법에서는 수산화 칼슘이 불순물과 반응하여 흡착제거되어야 할 수소가 생성된다. 그러나, 생성된 수소는 가연성이며 또한 이 방법에서는 제거능력이 충분하지 않다. (3)의 방법은 습식방법이므로 대규모의 장치가 요구되며, (4)의 방법에서는 고가의 흡수제를 사용하여야 하며, 습식방법이므로 개스가 다량의 물에 오염될 것이다. 따라서, 상기 방법들은 비경제적이며 산업화에 부적합하다.However, there are some problems in the above-mentioned document, for example, the method of (1) does not obtain sufficient adsorption effect on SO 2 , SOF 2, SO 2 F 2 , S 2 F 10, etc., and the method of (2) In calcium hydroxide reacts with impurities to produce hydrogen that must be adsorbed and removed. However, the hydrogen produced is combustible and the removal capacity is not sufficient in this method. The method of (3) is a wet method, so a large-scale device is required. In the method of (4), an expensive absorbent must be used, and since the method is wet, the gas will be contaminated with a large amount of water. Thus, these methods are uneconomical and unsuitable for industrialization.
상기의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 불순물을 함유하고 있는 SF6로부터 단순하면서도 유해한 불순물을 제거하는 정제된 SF6의 제조방법을 제공하고자 한다.In order to solve the above problems, the present invention is to provide a method for producing purified SF 6 to remove simple and harmful impurities from SF 6 containing impurities.
본 발명은 불순물을 함유한 SF6를 알칼리 토류 금속화합물, 알칼리 금속 알루미네이트류 또는 테트라알킬암모늄 염으로된 군 중에서 선택되는 1종 이상의 화합물과 탄소질 고체로 구성된 정제제와 접촉시키는 SF6의 정제방법을 제공하는 것이다.The present invention provides purification of SF 6 by contacting SF 6 containing impurities with a tablet comprising a carbonaceous solid and at least one compound selected from the group consisting of alkaline earth metal compounds, alkali metal aluminates or tetraalkylammonium salts. To provide a way.
상기 SF6의 불순물로는 SO2, S2F2, SF2, SF4, S2F10, SOF2로 구성된 군으로부터 선택되는 한가지 이상을 포함한다.The impurities of SF 6 include at least one selected from the group consisting of SO 2 , S 2 F 2 , SF 2 , SF 4 , S 2 F 10 , and SOF 2 .
상기 알칼리 토류 금속화합물 정제제는 칼슘, 마그네슘, 바륨 및 스트론튬의 옥사이드류, 하이드록사이드류, 카르보네이트류 또는 나이트레이트류로 구성되는 군으로부터 선택하는 것이 바람직하다.The alkaline earth metal compound refining agent is preferably selected from the group consisting of oxides, hydroxides, carbonates or nitrates of calcium, magnesium, barium and strontium.
상기 알칼리 금속 알루미네이트류 정제제는 리튬 알루미네이트, 나트륨 알루미네이트, 칼륨 알루미네이트 또는 세슘 알루미네이트로 구성되는 군으로부터 선택하는 것이 바람직하다.The alkali metal aluminate tablets are preferably selected from the group consisting of lithium aluminate, sodium aluminate, potassium aluminate or cesium aluminate.
상기 테트라알킬암모늄염 정제제는 테트라메틸암모늄 하이드록사이드, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드, 테트라메틸암모늄 카르보네이트, 테트라에틸암모늄 카르보네이트, 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 클로라이드, 테트라메틸암모늄 알루미네이트 또는 테트라에틸암모늄 알루미네이트 로 구성되는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다.The tetraalkylammonium salt tablets are tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetramethylammonium carbonate, tetraethylammonium carbonate, tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetramethylammonium aluminate Or tetraethylammonium aluminate.
상기 탄소질 고체 정제제는 코크스 분말, 석탄, 차르탄, 챠콜, 피치, 활성탄 또는 카본블랙으로 구성되는 군으로부터 한가지 이상을 선택하는 것이 바람직하다. 상기 정제제의 비표면적은 80 m2/g ∼ 1000 m2/g 범위의 것이 바람직하다.Preferably, the carbonaceous solid tablet is selected from the group consisting of coke powder, coal, chartantan, charcoal, pitch, activated carbon or carbon black. The specific surface area of the tablet is preferably in the range of 80 m 2 / g to 1000 m 2 / g.
또한, 상기 정제제의 평균 세공경은 7 Å ∼ 1500 Å 범위의 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the average pore diameter of the said refiner exists in the range of 7 GPa-1500 GPa.
상기에 의해 정제된 SF6중에 함유되는 HF의 농도는 중량으로 0.1 ppm을 넘지 않는 것이 바람직하다.The concentration of HF contained in SF 6 purified by the above is preferably not more than 0.1 ppm by weight.
또한, 상기에 의해 정제된 SF6의 정제방법은 탈수공정이 부가되어 있는 것이 바람직하며, 이 탈수공정은 탈수제로서 제올라이트를 사용하는 것이 바람직하다. 상기에 의해 정제된 SF6 중에 함유되는 수분의 농도는 중량으로 50 ppm 이하로 되는 것이 바람직하다.In the purification method of SF 6 purified as described above, a dehydration step is preferably added, and in this dehydration step, zeolite is preferably used as the dehydrating agent. The concentration of water contained in the refining SF 6 by the preferably is less than 50 ppm by weight.
불순물이 함유된 상기의 SF6공정은 먼저 탄소질 고체와 알칼리 토류 금속 화합물로 구성된 펠렛상의 상기 정제제와 접촉을 한 후 알칼리 금속 알루미네이트와 탄소질 고체에 담지된 테트라알킬암모늄 염 중에 한가지 이상으로 구성된 정제제와 접촉시킨 다음, 상기 접촉단계의 각각에 탈수공정을 가하는 것이 바람직하다.The above-mentioned SF 6 process containing impurities is first contacted with the tablet on the pellet composed of a carbonaceous solid and an alkaline earth metal compound and then to at least one of the tetraalkylammonium salts supported on the alkali metal aluminate and the carbonaceous solid. It is preferred to contact the configured tablets and then to apply a dehydration process to each of the contacting steps.
본 발명의 SF6 정제방법은 기체 차단기 (GCN) 등의 기체 절연기기에 사용되며, 코로나 방전이나 또는 차단시에 발생하는 전기 아아크 등에 의해 분해되어 유해한 불순물을 생성시킨 SF6 (이하 "불순 SF6" 이라함)로부터 이의 유해한 불순물을 제거하고 재생화 등의 정제공정에 적용된다.The SF 6 purification method of the present invention is used in gas insulators such as gas circuit breakers (GCN), and SF 6 (hereinafter referred to as "impurity SF 6 ") that is decomposed by corona discharge or electric arc generated during interruption to generate harmful impurities. It is applied to the purification process such as regeneration and the removal of its harmful impurities.
이러한 기체 절연기기에 사용된 후의 불순 SF6은 일반적으로 HF, SF4, SF2, S2F2, SO2, SOF2, SO2F2, S2F10 등의 부식성이며 유해한 불순물을 포함한다.Impurity SF 6 after use in such gas insulators is generally HF, SF 4 , SF 2 , S 2 F 2 , SO 2 , SOF 2 , SO 2 F 2 , Corrosive and harmful impurities such as S 2 F 10 .
본 발명의 정제방법의 한 실시예에 의하면, 예컨대, 알칼리 토류 금속 화합물, 알칼리 금속 알루미네이트 또는 테트라알킬암모늄 염으로 이루어진 군 중에서 한가지 이상의 화합물과 탄소질 고체로 구성된 정제제를 반응관에 충전하고 상기 불순 SF6을 실온에서 반응관을 통하여 기체흐름으로 통과시킨다. 이에 따라, 불순 SF6 중의 불순물은 정제제에 의해 흡착되어 실질적으로 유해한 불순물을 포함하지 않은 SF6 (이하 "정제 SF6" 이라함)을 간편하고도 효과적으로 회수할 수 있다.According to one embodiment of the purification method of the present invention, for example, a purification agent composed of at least one compound and a carbonaceous solid from the group consisting of an alkaline earth metal compound, an alkali metal aluminate or a tetraalkylammonium salt is charged into a reaction tube, and Impurity SF 6 is passed through the reaction tube in a gas stream at room temperature. Accordingly, impurities in impurity SF 6 are adsorbed by the refining agent and are substantially free of SF 6 (hereinafter referred to as "purified SF 6 "). Can be recovered simply and effectively.
얻어진 정제 SF6을 상기의 기체 절연기기 등에 재생함에 있어서, 정제 SF6 중의 수분이 중량으로 50 ppm 이하가 되어야 바람직하다. 이것은 상기 SF6 정제공정에서, 예컨대, 탈수제로서 제올라이트를 사용하여 탈수공정에 첨가함으로써 달성할 수 있다.In regenerating the obtained tablet SF 6 to the above gas insulator, the water content of the tablet SF 6 is preferably 50 ppm or less by weight. This can be achieved by adding to the dehydration step in the SF 6 purification step, for example using zeolite as the dehydrating agent.
본 발명의 각 구성요소에 대하여 상세히 설명하고자 한다.It will be described in detail for each component of the present invention.
본 발명에 사용되는 정제제는 알칼리 토류 금속 화합물, 알칼리 금속 알루미네이트 또는 테트라알킬암모늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 한가지 이상의 화합물과 탄소질 고체로 구성된다.The tablets used in the present invention consist of carbonaceous solids and at least one compound selected from the group consisting of alkaline earth metal compounds, alkali metal aluminates or tetraalkylammonium salts.
일반적으로, 본 발명의 탄소질 고체는 SF6의 분해로부터 나온 대부분의 불순물을 흡착하는데에 효과적이지만 불순 SF6 은 탄소질 고체의 흡착능을 저하시키게 하는 상당량의 HF을 포함하고 있다. 본 발명에 의하면, 불순 SF6내의 모든 유해한 불순물은 알칼리 토류 금속 화합물, 알칼리 금속 알루미네이트 또는 테트라알킬 암모늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 한가지 이상의 화합물과 결합된 탄소질 고체와의 접촉에 의해 효과적으로 제거할 수 있다. 본 발명자들은 특수한 이론으로 제한을 하고자 하는 것이 아니라, 알칼리 토류 금속 화합물, 알칼리 금속 알루미네이트 또는 테트라알킬암모늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 한가지 이상의 화합물이 현저하게 효과적으로 HF의 상당량을 제거하며, 다른 불순물과 함께, 대체로 본 발명의 정제제에 의해 불순 SF6의 유해한 불순물을 효과적으로 제거에 촉진하는 것으로 사료된다.In general, the carbonaceous solids of the present invention are effective at adsorbing most of the impurities resulting from the decomposition of SF 6 but the impure SF 6 contains a significant amount of HF which causes the adsorptive capacity of the carbonaceous solids to be lowered. According to the present invention, all harmful impurities in impurity SF 6 can be effectively removed by contact with a carbonaceous solid combined with at least one compound selected from the group consisting of alkaline earth metal compounds, alkali metal aluminates or tetraalkyl ammonium salts. Can be. The inventors do not intend to be bound by a particular theory, but one or more compounds selected from the group consisting of alkaline earth metal compounds, alkali metal aluminates or tetraalkylammonium salts remarkably effectively remove significant amounts of HF, and Together, it is generally believed that the purifying agent of the present invention facilitates the effective removal of harmful impurities of impurity SF 6 .
여하튼, 탄소질 고체와 알칼리 토류 금속 화합물, 알칼리 금속 알루미네이트 또는 테트라알킬암모늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 한가지 이상의 화합물로 구성된 정제제는 불순 SF6로부터 유해한 불순물을 선별적으로 효과적인 제거와 함께 정제 SF6를 얻게 되는 것을 알게 되었다.In any case, a tablet comprising one or more compounds selected from the group consisting of carbonaceous solids and alkaline earth metal compounds, alkali metal aluminates or tetraalkylammonium salts may be used to purify harmful SF from impurities SF 6 with selective removal of harmful impurities. We found that we get 6 .
상기 알칼리 토류 금속 화합물은 칼슘, 마그네슘, 바륨 또는 스트론튬의 옥사이드, 하이드록사이드, 카르보네이트, 나이트레이트 등으로 구성되는데, 이들을 단독으로 또는 두가지 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 가운데, 산화 칼슘, 수산화 칼슘, 탄산 칼슘 및 질산 칼슘이 바람직하며, 더욱 상세하게는 생석회, 소석회 또는 석회석이 바람직한데 그 이유는 이들이 저렴하고 취급이 용이하기 때문이다.The alkaline earth metal compound is composed of an oxide of calcium, magnesium, barium or strontium, hydroxide, carbonate, nitrate, and the like, which may be used alone or in combination of two or more thereof. Of these, calcium oxide, calcium hydroxide, calcium carbonate and calcium nitrate are preferred, and more particularly quicklime, slaked lime or limestone are preferred because they are inexpensive and easy to handle.
상기 알칼리 금속 알루미네이트는 리튬 알루미네이트, 나트륨 알루미네이트, 칼륨 알루미네이트 또는 세슘 알루미네이트로 구성되는데, 이들을 단독으로 또는 두가지 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이 중에서도 나트륨 알루미네이트와 칼륨 알루미네이트가 바람직한데 그 이유는 용이하게 구득할 수 있기 때문이다. 그러나 나트륨 알루미네이트가 가장 바람직하다.The alkali metal aluminate is composed of lithium aluminate, sodium aluminate, potassium aluminate or cesium aluminate, and these may be used alone or in combination of two or more thereof. Among these, sodium aluminate and potassium aluminate are preferable because they can be easily obtained. But sodium aluminate is most preferred.
상기 테트라알킬암모늄 염은 테트라메틸암모늄 하이드록사이드, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드, 테트라메틸암모늄 카르보네이트, 테트라에틸암모늄 카르보네이트, 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 클로라이드, 테트라메틸암모늄 알루미네이트 또는 테트라에틸암모늄 알루미네이트로 구성되는데, 이들을 단독으로 또는 두가지 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 가운데, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드, 테트라메틸암모늄 카르보네이트, 테트라메틸암모늄 클로라이드 또는 테트라메틸암모늄 알루미네이트가 바람직한데 그 이유는 용이하게 구득할 수 있기 때문이다. 그러나, 테트라메틸암모늄 카르보네이트가 가장 바람직하다. 테트라메틸암모늄 카르보네이트와 테트라메틸암모늄 알루미네이트는 테트라메틸암모늄 하이드록사이드를 카르보네이트 기체 또는 수산화 알루미늄과의 반응에 의해 제조할 수 있다.The tetraalkylammonium salts may be tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetramethylammonium carbonate, tetraethylammonium carbonate, tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetramethylammonium aluminate or Tetraethylammonium aluminate, which may be used alone or in combination of two or more. Among these, tetramethylammonium hydroxide, tetramethylammonium carbonate, tetramethylammonium chloride or tetramethylammonium aluminate is preferable because it can be easily obtained. However, tetramethylammonium carbonate is most preferred. Tetramethylammonium carbonate and tetramethylammonium aluminate can be prepared by reaction of tetramethylammonium hydroxide with a carbonate gas or aluminum hydroxide.
상기 탄소질 고체는 코크스, 석탄, 차르탄, 챠콜, 피치, 활성탄 또는 카본블랙으로 구성되는데, 이들 중에 단독으로 또는 두가지 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 탄소질 탄소의 모양은 분말, 세립상 또는 펠렛의 형태이다. 상기 세립상은 구형 이거나 또는 파쇄형이거나 분말의 형태이다. 상기 탄소질 고체는 비표면적이 100 m2/g ∼ 2500 m2/g 의 범위가 바람직하나, 더욱 바람직한 것은 500 m2/g ∼ 2000 m2/g 의 범위이다. 특히 바람직한 탄소질 고체로서는 분말상의 차르탄과 세립상 형태의 활성탄이다.The carbonaceous solid is composed of coke, coal, chartan, charcoal, pitch, activated carbon or carbon black, and may be used alone or in combination of two or more thereof. The carbonaceous carbon is in the form of powder, fine grains or pellets. The fine phase is spherical or crushed or in the form of a powder. The carbonaceous solid is preferably in the range of 100 m 2 / g to 2500 m 2 / g, but more preferably in the range of 500 m 2 / g to 2000 m 2 / g. Particularly preferred carbonaceous solids are powdered chartan and activated carbon in fine grain form.
상기 정제제는 여러 가지 방법에 의해 제조할 수 있다. 예컨대, 나트륨 알루미네이트 등의 수용액에 탄소질 고체로서 활성탄 등을 침지시켜, 담지형의 정제제를 얻을 수 있다. 다른 방법으로는 예컨대, 소석회 분말 등과 차르탄 분말 등과 일정 비율로 혼합하고 물을 가하여 혼합하여 취급이 용이한 입자의 펠렛상으로 성형한 후 건조하면 펠렛형의 정제제가 얻어진다.The tablet can be prepared by various methods. For example, activated carbon or the like can be immersed in an aqueous solution such as sodium aluminate as a carbonaceous solid to obtain a supported tablet. As another method, for example, a mixture of slaked lime powder and tarthan powder may be mixed in a predetermined ratio, mixed with water, molded into pellets for easy handling, and dried to obtain pellet-type tablets.
상기 정제제가 담지형의 경우, 예컨대, 알칼리 금속 알루미네이트 및/또는 테트라알킬암모늄 염의 탄소질 고체에의 담지량은 탄소질 고체로서 활성탄을 사용하는 경우, 활성탄 100 ml에 대해 1 ∼ 30 g의 범위가 바람직하다. 만약, 상기 담지형 제제가 1 g/ml 이하이면, 정제효과가 충분하지 못하며, 30 g/100ml 이상이면, 탄소질 고체에 미세기공이 채워지고 정제 효과도 감소된다. 상기 담체는 7 ∼ 300 Å 범위의 세공경을 가지는 것이 바람직하다. 일반적으로, 담지형 제제가 바람직한데 그 이유는 상기 담지형 제제의 역할을 위한 많은 비표면적을 가지기 때문이다.When the tablet is supported, for example, the amount of alkali metal aluminate and / or tetraalkylammonium salt supported on the carbonaceous solid is in the range of 1 to 30 g per 100 ml of activated carbon when the activated carbon is used as the carbonaceous solid. desirable. If the supported formulation is 1 g / ml or less, the purification effect is not sufficient, and if it is 30 g / 100 ml or more, the carbonaceous solid is filled with micropores and the purification effect is also reduced. The carrier preferably has a pore diameter in the range of 7 to 300 mm 3. In general, supported formulations are preferred because they have a large specific surface area for the role of such supported formulations.
상기 정제제가 펠렛형의 경우, 예컨대, 알칼리 토류 금속 화합물과 탄소질 고체의 혼합비율은 특수한 조성물에 따라 다르나, 탄소질 고체와 동일 중량이거나 또는 그 이상으로 하는 것이 바람직하다.In the case where the tablet is in the form of pellets, for example, the mixing ratio of the alkaline earth metal compound and the carbonaceous solid depends on the special composition, but preferably equal to or more than the carbonaceous solid.
담지형 또는 펠렛형이던 간에 상기 정제제는 충분히 건조시켜야 한다. 건조에는 건조 기체로서 질소, 헬륨 또는 아르곤과 같은 불활성 기체를 사용하여 수행하는 것이 바람직하다.The tablets, whether supported or pelletized, should be sufficiently dried. Drying is preferably carried out using an inert gas such as nitrogen, helium or argon as a drying gas.
상기 정제제의 비표면적은 80 m2/g ∼ 1000 m2/g 의 범위가 바람직하며, 특히 100 m2/g ∼ 700 m2/g 의 범위가 바람직하다. 또한 상기 정제제의 평균 세공경은 7 - 1500 Å 범위가 바람직하며, 특히 7 Å ∼ 1100 Å 의 범위가 바람직하다. 이러한 범위를 벋어나면 정제 효과가 저하된다. 정제제를 제조함에 있어서, 상기 정제제의 비표면적과 평균 세공경은 소재, 배합비율, 제조방법, 조건 등의 선택에 따라 조정할 수 있다.The specific surface area of the tablet is preferably in the range of 80 m 2 / g to 1000 m 2 / g, particularly preferably in the range of 100 m 2 / g to 700 m 2 / g. Moreover, the range of 7-1500 mm <3> is preferable and, as for the average pore diameter of the said refiner, the range of 7 kPa-1100 kPa is especially preferable. Leaving this range, the purification effect is lowered. In preparing the tablet, the specific surface area and average pore diameter of the tablet can be adjusted according to the selection of the material, the blending ratio, the production method, and the conditions.
상기 정제제가 담지형의 경우, 비표면적이 300 m2/g ∼ 800 m2/g 범위의 것이 바람직하며, 특히 400 m2/g ∼ 600 m2/g 의 범위가 바람직하다. 또한, 상기 정제제의 세공경은 4 Å ∼ 200 Å 범위의 것이 바람직하며, 8 Å ∼ 100 Å 범위의 것이 더욱 바람직하다.In the case where the tablet is supported, the specific surface area is preferably in the range of 300 m 2 / g to 800 m 2 / g, particularly preferably in the range of 400 m 2 / g to 600 m 2 / g. Moreover, the pore diameter of the said tablet is preferably in the range of 4 kPa to 200 kPa, more preferably in the range of 8 kPa to 100 kPa.
각각의 탈수공정 후, 불순 SF6는 먼저 펠렛형 정제제로 처리한 다음 담지형 정제제로 처리하는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 펠렛형 정제제는 악화되지 않고 상당량의 HF를 제거할 수 있는데 비해, 담지형 정제제는 불순 SF6에서의 여타 다른 불순물을 더욱 효과적으로 제거하는 반면 HF에 의해 악화 되기 때문이다.After each dehydration step, impure SF 6 is preferably treated with pelletized tablets followed by supported tablets. Because pelletized tablets can remove significant amounts of HF without deterioration, supported tablets are deteriorated by HF while more effectively removing other impurities in impure SF 6 .
불순 SF6를 정제제로 정제하기 위하여, 불순 SF6는 정제제를 접촉시켜 할 수 있다. 정제공정을 거쳐야 하는 불순 SF6에서의 불순물 농도는 중량으로 2.0 % 이하이어야 한다. 만약 불순물의 농도가 상기의 양 보다 많으면, 다량의 정제제가 필요로 하며 정제시간도 더욱 길어지게 된다.In order to purify impure SF 6 with a tablet, impure SF 6 may be brought into contact with the tablet. The impurity concentration in impurity SF 6 which must be subjected to the purification process should be 2.0% or less by weight. If the concentration of impurities is higher than the above amount, a large amount of purification agent is required and the purification time is longer.
정제제와 접촉할 경우, 불순 SF6는 기체 또는 액체의 형태이지만, 기체상태의 불순 SF6로 접촉시키는 것이 바람직하다. 접촉방법으로는 일반적으로 유체-고체 접촉에 사용되는 고정상 방식 뿐만 아니라 유동상 방식이나 이동상 방식 등 어떠한 방법이라도 이용가능하다. 그러나 고정상 방식이 바람직하다. 기체-고체 접촉방법을 이용할 경우, 접촉공정의 압력은 특별히 한정할 필요가 없으나 경제적인 측면에서 볼 때, 대기압 ∼ 2 MPa의 범위가 바람직하다. 또한 접촉공정의 온도도 특별히 한정할 필요가 없으나 예컨대, -40 ∼ 100℃의 범위내에서 선택하는 것이 좋다. 특별한 사정이 없으면 경제적인 측면으로 볼 때 접촉온도는 상온으로 하는 것이 바람직하다.When contacted with a purifying agent, impure SF 6 is in the form of a gas or a liquid, but contacting with gaseous impurity SF 6 is preferred. As the contact method, any method such as a fluidized bed method or a mobile bed method may be used, as well as a fixed bed method generally used for fluid-solid contact. However, the stationary phase system is preferred. In the case of using the gas-solid contacting method, the pressure in the contacting process does not need to be particularly limited, but from an economic point of view, the range of atmospheric pressure to 2 MPa is preferable. Moreover, although the temperature of a contact process does not need to specifically limit, For example, it is good to select in the range of -40-100 degreeC. If there is no special situation, it is preferable to keep the contact temperature at room temperature from an economical point of view.
위에서 설명한 바와 같이, 정제제와의 접촉공정에 있어서, 불순 SF6는 예컨대, HF 농도로서 0.1 중량 ppm 이하(할로겐 이온 분석이나 또는 이온 크로마토그래피로 측정)의 수준까지 정제가 가능하다. 상기의 정제조건에서 S 이온의 양은 SO-로서 0.1 중량 ppm이하 (이온 크로마토그래피로 측정)로 된다. SO2, SF2, SF4, SO2F2 및 SOF2 와 같은 다른 유해한 불순물도 개스 크로마토그래피나 (GC) 또는 개스 크로마토그래피/질량분석 (GC/MAS)에 의해 검출한계 이하 (0.1 중량 ppm 이하)로 할 수 있다.As described above, in the contact process with the purification agent, impure SF 6 can be purified, for example, to a level of 0.1 wt ppm or less (as measured by halogen ion analysis or ion chromatography) as the HF concentration. Under the above purification conditions, the amount of S ions is SO - as 0.1-ppm or less (measured by ion chromatography). Other harmful impurities such as SO 2 , SF 2 , SF 4 , SO 2 F 2 and SOF 2 are also below the limit detected by gas chromatography or (GC) or gas chromatography / mass spectrometry (GC / MAS) (0.1 ppm by weight). It can be set as follows).
상기의 접촉공정에서 얻어진 정제 SF6를 기체 절연매체로서 재생하기 위해, SF6 분해의 한가지 요인인 수분을 충분히 제거하여야 한다. 따라서, 본 발명의 SF6 정제방법에서는 수분 함량을 철저하게 관리하는 탈수공정을 부가시키는 것이 바람직하다. 이 탈수공정은 상기의 접촉공정 후 예컨대, 탈수제로서 합성 제올라이트 등을 이용하여 기체-고체 접촉에 의해 행하는 것이 바람직하다. 이 탈수공정에 이용되는 적합한 탈수제는 합성 제올라이트이며, 특히 상품명으로 몰레큐라 시이버스 (Molecular Sieves)로 알려진 일반적으로 알려진 분자체 중에서 적절한 세립경 범위의 것을 선택하여 사용하면 좋다.In order to regenerate the purified SF 6 obtained in the above contact process as a gas insulating medium, water, which is one factor of SF 6 decomposition, must be sufficiently removed. Therefore, in the SF 6 refining method of the present invention, it is preferable to add a dehydration step to thoroughly control the water content. This dehydration step is preferably carried out by gas-solid contact using, for example, a synthetic zeolite or the like as the dehydrating agent after the above-mentioned contact step. Suitable dehydrating agents used in this dehydration step are synthetic zeolites, and in particular, a suitable particle size range may be selected and used from generally known molecular sieves known as Molecular Sieves.
분자체를 이용하여 기체-고체 접촉 탈수공정에 있어서, 바람직한 반응압력은 대기압 ∼ 2 MPa 의 범위, 바람직한 반응온도는 -40 ∼ 100℃의 범위 특히 경제적인 측면에서 볼 때 상온에서 운전하는 것이 바람직하다. 이 탈수공정에서 정제 SF6중의 수분함량을 중량으로 50 ppm 이하, 특히 바람직한 수분함량 한계는 중량으로 10 ppm 이하가 바람직하다.In the gas-solid contact dehydration process using molecular sieves, the preferred reaction pressure is in the range of atmospheric pressure to 2 MPa, and the preferred reaction temperature is in the range of -40 to 100 ° C. . In this dehydration step, the water content in the refined SF 6 is 50 ppm or less by weight, and particularly preferably, the water content limit is 10 ppm or less by weight.
본 발명에 의하면, 불순물을 함유하고 있는 SF6 를 탄소질 고체와 함께 알칼리 토류 금속화합물, 알칼리 금속 알루미네이트 또는 테트라알킬암모늄 염으로 구성된 군 중에서 한가지 이상을 함유한 정제제와 접촉하는 것이다. 따라서, 불순 SF6 중에 유해한 불순물을 대규모의 장치를 필요치 않고 간편하면서도 효과적으로 제거할 수 있다. 추가로, 본 발명의 정제공정에서 탈수공정을 부가하여 SF6 분해의 한가지 요인이 되는 수분을 감소시킴으로써 기체 절연 매체로서의 정제 SF6로 재생할 수 있다.According to the present invention, SF 6 containing an impurity is contacted with a carbonaceous solid with a purifying agent containing at least one selected from the group consisting of alkali earth metal compounds, alkali metal aluminates or tetraalkylammonium salts. Therefore, harmful impurities in impurity SF 6 can be removed simply and effectively without the need for a large-scale device. In addition, in the purification step of the present invention, a dehydration step may be added to reduce the water which is one factor of SF 6 decomposition, thereby regenerating the purified SF 6 as a gas insulation medium.
다음의 실시예는 본 발명을 더욱 상세히 예증하여 준다.The following examples illustrate the invention in more detail.
실시예Example
불순 SFImpurity SF 6 6 시료sample
시험을 위해, 다음의 불순 SF6를 제조하였다.For the test, the following impure SF 6 was prepared.
(불순 SF6 시료 No 1)(Impurity SF 6 sample No 1)
SF6는 (소아 덴코사 제품, 순도 : 99.999% 이상, 할로겐 이온 : 1 중량 ppm 이하)를 개스절연개폐시험장치에 약 0.5 MPa의 충전압까지 충전하고 개스절연개폐시험을 반복한 후 이 개스를 진공건조하고 냉각한 실린더용기에 채취하여 불순 SF6 시료 No 1으로 정하였다.SF 6 is charged with a gas densitization tester to a charging pressure of about 0.5 MPa (sodium denko company, purity: 99.999%, halogen ions: 1 ppm by weight or less), and the gas insulation test is repeated. A vacuum dried and cooled cylinder container was taken and determined as impure SF 6 sample No. 1.
얻어진 불순 SF6 시료 No 1을 전자포획 검출기 (GC/ECD), 불꽃 광도 검출기, 열전도 검출기 및 개스 크로마토그래피/질량스펙트로그래피 (GC/MS) 등의 여러 검출기를 이용하여 개스 크로마토그래피로 분석하였다. 또한, 할로겐 이온 분석 (이온 크로마토그래피)과 수분함량분석도 채택(수정 오실레이터법)하였다.The obtained impurity SF 6 sample No 1 was analyzed by gas chromatography using various detectors such as an electron trap detector (GC / ECD), a flame photodetector, a thermal conductivity detector, and gas chromatography / mass spectrometry (GC / MS). Halogen ion analysis (ion chromatography) and water content analysis were also adopted (modified oscillator method).
분석결과는 중량기준 ppm 단위로 표시하였다 (한 성분의 양은 H2O를 제외한 모든 성분들의 총량과 비교하였다. H2O의 경우, H2O 중량/총중량).The results are expressed in ppm based on the weight of (the amount of one component compared to the total amount of the components other than the H 2 O. In the case of H 2 O, H 2 O by weight / total weight).
성분분석값 (단위 : 중량 ppm) Component Analysis Value (Unit: Weight ppm)
(불순 SF6 시료 No 2)(Impurity SF 6 sample No 2)
불순 SF6 시료 No 2의 시료를 제조하기 위해, 시판용 설파 테트라플로라이드 (SF4)와 설파 펜타플로라이드 (S2F10)를 상기의 불순 SF6 시료 No 1에 가하였다.To prepare a sample of Impurity SF 6 Sample No 2, commercially available sulfa tetrafluoride (SF 4 ) and sulfa pentafluoride (S 2 F 10 ) were added to the above impurity SF 6 sample No 1.
불순 SF6 시료 No 2의 분석결과는 아래와 같다. S2F10의 분석은 전자 포획검출기 개스 크로마토그래피 (GC/ECD)에 의해 측정하였다.The analysis results of impurity SF 6 sample No 2 are as follows. Analysis of S 2 F 10 was determined by electron trap detector gas chromatography (GC / ECD).
성분분석값 (단위 : 중량 ppm) Component Analysis Value (Unit: Weight ppm)
정제제의 제조Preparation of Tablets
아래의 세가지 정제제를 제조하였다.Three tablets were prepared.
정제제의 제조Preparation of Tablets
(정제제 No 1)(Tablet No 1)
25 %의 나트륨 알루미네이트 수용액 40 ml에 입상 활성탄(비표면적 : 1200 m2/g, 입경 : 0.5 ∼ 2 ㎜) 100ml를 침지시키고 1시간 동안 교반시켰다. 여과후 상기 담지 탄소를 스테인레스 관에서 질소개스하에 200℃의 온도에서 3시간동안 건조시켜 수분을 함유하지 않은 나트륨 알루미네이트-담지 활성탄(활성탄에 10g의 담지된 NaAlO2/100 ml)을 얻어, 이것을 정제제 No 1이라 하였다.100 ml of granular activated carbon (specific surface area: 1200 m 2 / g, particle size: 0.5 to 2 mm) was immersed in 40 ml of 25% aqueous sodium aluminate solution and stirred for 1 hour. It takes the impregnated activated carbon (a NaAlO 2/100 ml loading of 10g on activated carbon), this - after filtering the impregnated carbon a to the stainless tube to dry for 3 hours at a temperature of 200 ℃ under nitrogen gas sodium containing no water-aluminate Refining agent No1 was called.
정제제 No 1의 비표면적은 약 570 m2/g이고, 평균 기공의 크기는 약 14 Å이었다.The specific surface area of the tablet No 1 was about 570 m 2 / g, and the average pore size was about 14 mm 3 .
(정제제 No 2)(Tablet No 2)
25 %의 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 수용액 40 ml에 입상 활성탄(비표면적 : 1200 m2/g, 입경 : 0.5 ∼ 2 ㎜) 100ml를 침지시키고 1시간 동안 교반하였다. 여과 후 상기 담지 탄소를 스테인레스 관에서 질소개스하에 50℃의 온도에서 5시간동안 건조시켜 수분을 함유하지 않은 테트라메틸암모늄 하이드록사이드-담지 활성탄[활성탄에 10g의 담지된 (CH3)4NOH/100 ml]을 얻어, 이것을 정제제 No 2라 하였다.In 40 ml of 25% aqueous tetramethylammonium hydroxide solution, 100 ml of granular activated carbon (specific surface area: 1200 m 2 / g, particle diameter: 0.5 to 2 mm) was immersed and stirred for 1 hour. After filtration, the supported carbon was dried for 5 hours at a temperature of 50 ° C. under a nitrogen gas in a stainless tube, thereby containing no water and containing tetramethylammonium hydroxide-supported activated carbon [10 g of (CH 3 ) 4 NOH / 100 ml] was obtained as Purifier No 2.
정제제 No 2의 비표면적이 약 560 m2/g이고, 평균 세공경의 크기는 약 13 Å이었다.The specific surface area of tablet No2 was about 560 m <2> / g, and the average pore diameter was about 13 mm <3>.
(정제제 No 3)(Tablet No 3)
입자의 크기가 250 ㎛ 이하의 차르탄과 입자의 크기가 250 ㎛ 이하의 소석회를 중량으로 1 : 3의 비율로 배합하고 헨셀 혼합기에서 혼합한 물을 가하여 조립화한 다음, 110 ℃에서 4시간 동안 건조시키고 질소분위기하에 800℃에서 8시간 동안 열처리하여 탈수소성시켰다. 얻어진 소성물을 2 ∼ 4 ㎜의 크기로 펠렛화하였다. 이를 정제제 No 3이라 하였다.Charcoal particles having a particle size of 250 μm or less and calcined lime having a particle size of 250 μm or less are mixed at a weight ratio of 1: 3, and granulated by adding water mixed in a Henschel mixer, followed by granulation at 110 ° C. for 4 hours. It was dried and dehydrogenated by heat treatment at 800 ° C. for 8 hours under nitrogen atmosphere. The resulting fired product was pelletized to a size of 2 to 4 mm. This was called Purifier No3.
정제제 No 3은 탄소 (C)와 산화칼슘 (CaO)을 주 성분으로 하며, 비표면적이 약 120 m2/g이고, 평균 기공의 크기는 약 1000 Å이었다.Purifier No 3 was mainly composed of carbon (C) and calcium oxide (CaO), and the specific surface area was about 120 m 2 / g, and the average pore size was about 1000 mm 3 .
정제실험Purification Experiment
(실시예 1)(Example 1)
75 ml 용량의 SUS 실린더에 40 ml의 상기 정제제 No 1을 충전하고 여기에 상기 불순 SF6 시료 No 1을 실온에서 12 Nl/hr 의 속도로 공급하였다.A 75 ml SUS cylinder was charged with 40 ml of the above No 1 tablet and fed the impure SF 6 sample No 1 at a rate of 12 Nl / hr at room temperature.
실린더의 출구에서 개스를 채취한 다음 개스 크로마토그래피와 할로겐 이온 분석을 행하였다. 할로겐 이온 분석은 초순수에서 채취된 출구의 개스를 일정 시간동안 흡입하여 수행하였고 이 초순수를 이온 크로마토그래피에 의해 분석하였다.The gas was taken out from the exit of the cylinder, and then subjected to gas chromatography and halogen ion analysis. Halogen ion analysis was performed by suctioning the gas of the outlet taken from ultrapure water for a predetermined time, and the ultrapure water was analyzed by ion chromatography.
분석결과는 다음과 같다.The analysis results are as follows.
성분 분석값 (단위 : 중량 ppm, - : 측정한계 이하를 표시) Component analysis value (unit: weight ppm,-: display below measurement limit)
상기의 결과로부터 정제제 No 1에 의해, 불순 SF6 시료 No 1 중의 유해한 불순물이 효과적으로 제거되었음을 나타내고 있다.The above results indicate that the purification agent No 1 effectively removed the harmful impurities in the impure SF 6 sample No 1.
(실시예 2)(Example 2)
75 ml 용량의 SUS 실린더에 40 ml의 상기 정제제 No 2를 충전하고 여기에 상기 불순 SF6 시료 No 1을 실온에서 20 Nl/hr 의 속도로 공급하였다.A 75 ml volume of SUS cylinder was charged with 40 ml of the above No 2 tablet and fed with impure SF 6 sample No 1 at a rate of 20 Nl / hr at room temperature.
실린더의 출구에서 개스를 채취한 다음 실시예 1과 같이 개스 크로마토그래피와 할로겐 이온 분석을 행하였다.Gas was collected from the outlet of the cylinder, and then gas chromatography and halogen ion analysis were performed as in Example 1.
분석결과는 다음과 같다.The analysis results are as follows.
성분 분석값 (단위 : 중량 ppm, - : 측정한계 이하를 표시) Component analysis value (unit: weight ppm,-: display below measurement limit)
상기의 결과로부터 정제제 No 2에 의해, 불순 SF6 시료 No 1 중의 유해한 불순물이 효과적으로 제거되었음을 밝히고 있다.From the above results, it was found that the purification agent No 2 effectively removed the harmful impurities in the impure SF 6 sample No 1.
(실시예 3)(Example 3)
실시예 2에서 얻어진 출구 개스 시료로부터 수분을 제거하는 실험을 수행하였다.An experiment was conducted to remove moisture from the outlet gas sample obtained in Example 2.
75 ml 용량의 SUS 실린더에 60 ml의 시판되고 있는 합성 제올라이트 (몰레큘러 시이버 3 Å, 제조사명 : 유니온 쇼아 주식회사)를 충전시키고 여기에 실시예 2에서 얻어진 출구 개스 시료를 유입하고 이 실린더의 배출개스의 수분함량을 분석하였다. 수분 함량은 중량으로 5 ppm 이하이었다.A 75 ml SUS cylinder was charged with 60 ml of commercial zeolite (Molecular Siber 3, manufactured by Union Shoa Co., Ltd.), and the outlet gas sample obtained in Example 2 was introduced therein and the cylinder was discharged. The moisture content of the gas was analyzed. The moisture content was 5 ppm or less by weight.
실시예 3의 방법에 의한 시료중의 수분제거가 매우 효과적인 것임을 보여주고 있다.It is shown that the water removal in the sample by the method of Example 3 is very effective.
(실시예 4)(Example 4)
두 개의 75 ml 용량인 SUS 실린더를 연결시켰다.Two 75 ml capacity SUS cylinders were connected.
제 1의 75 ml 용량인 SUS 실린더에 40 ml의 정제제 No 3을 충전하고 제 2의 실린더에는 40 ml의 정제제 No 1을 충전시켰다. 불순 SF6 시료 N0 1을 실온에서 20 Nl/hr의 속도로 제 1 실린더에서 제 2 실린더까지 공급하였다. 제 2의 실린더의 출구에서 개스를 채취하고 실시예1과 동일하게 개스분석 및 할로겐 이온 분석을 수행하였다.A first 75 ml capacity SUS cylinder was charged with 40 ml of tablet No 3 and a second cylinder was filled with 40 ml of tablet No 1. Impurity SF 6 sample NO 1 was fed from the first cylinder to the second cylinder at a rate of 20 Nl / hr at room temperature. Gas was taken from the outlet of the second cylinder and gas analysis and halogen ion analysis were performed in the same manner as in Example 1.
분석결과는 다음과 같다.The analysis results are as follows.
성분 분석값 (단위 : 중량 ppm, - : 측정한계 이하를 표시) Component analysis value (unit: weight ppm,-: display below measurement limit)
상기의 결과로부터 정제제 No 1 및 N0 3의 병용이 유해한 불순물의 제거 뿐만 아니라 퍼플루오로탄소류 (CF4, C2F6)의 제거에 효과적임을 보여주고 있다.The above results show that the combination of the purification agents No 1 and NO 3 is effective for the removal of perfluorocarbons (CF 4 , C 2 F 6 ) as well as the removal of harmful impurities.
(실시예 5)(Example 5)
75 ml 용량의 SUS 실린더에, 40 ml의 상기 정제제 No 1을 충전하고 여기에 불순 SF6 시료 N0 2를 실온에서 12 Nl/hr의 속도로 공급하였다.A 75 ml SUS cylinder was charged with 40 ml of the above No. 1 tablet and fed with impure SF 6 sample NO 2 at a rate of 12 Nl / hr at room temperature.
실린더의 출구에서 개스를 채취하고 실시예 1과 동일한 방법으로 개스 크로마토그래피와 할로겐 이온 분석을 수행하였다. S2F10은 전자 포획 검출 개스 크로마토그래피 (GC/ECD)에 의해 분석하였다.Gas was extracted from the outlet of the cylinder, and gas chromatography and halogen ion analysis were performed in the same manner as in Example 1. S 2 F 10 was analyzed by electron capture detection gas chromatography (GC / ECD).
분석결과는 다음과 같다.The analysis results are as follows.
성분 분석값 (단위 : 중량 ppm, - : 측정한계 이하를 표시) Component analysis value (unit: weight ppm,-: display below measurement limit)
상기의 결과로부터 정제제 No 1에 의해, 불순 SF6 시료 No 2 중의 SF4와 S2F10 뿐만 아니라 유해한 불순물을 효과적으로 제거되었음을 나타내고 있다.The above results indicate that the purification agent No 1 effectively removed not only the SF 4 and S 2 F 10 in the impure SF 6 sample No 2 but also harmful impurities.
본 발명의 설퍼 헥사플로라이드 정제방법은 불순물을 함유하고 있는 설퍼 헥사플로라이드를 알칼리 토류 금속화합물, 알칼리 금속 알루미네이트 또는 테트라알킬암모늄 염으로부터 선택되는 한가지 이상의 화합물과 탄소질 고체로 이루어진 정제제와 접촉시키는 정제방법으로서, 본 발명에서는 대규모의 장치를 필요치 않으면서 간편하고도 효과적으로 유해한 불순물을 제거할 수 있다. 또한 본 발명의 정제방법은 탈수공정을 부착함으로써 SF6 분해의 한가지 요인인 수분을 제거할 수 있으며, 또한 정제 SF6를 기체의 절연매체로서 재활용화할 수 있다.The method for purifying sulfur hexafluoride of the present invention comprises contacting a sulfur-containing hexafluoride containing impurities with a purifying agent comprising a carbonaceous solid and at least one compound selected from alkaline earth metal compounds, alkali metal aluminates or tetraalkylammonium salts. In the present invention, in the present invention, harmful impurities can be removed simply and effectively without requiring a large-scale apparatus. In addition, the purification method of the present invention can remove water, which is one factor of SF 6 decomposition, by attaching a dehydration process, and recycle purified SF 6 as an insulating medium of gas.
Claims (13)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10986697A JP3882018B2 (en) | 1997-04-25 | 1997-04-25 | Method for purifying sulfur hexafluoride |
JP109866/1997 | 1997-04-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19980081619A KR19980081619A (en) | 1998-11-25 |
KR100529748B1 true KR100529748B1 (en) | 2006-03-06 |
Family
ID=14521192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019980014335A Expired - Fee Related KR100529748B1 (en) | 1997-04-25 | 1998-04-22 | Method for Purifying Sulfur Hexafluoride |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3882018B2 (en) |
KR (1) | KR100529748B1 (en) |
DE (1) | DE19818435A1 (en) |
GB (1) | GB2324482B (en) |
TW (1) | TW375531B (en) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3882018B2 (en) * | 1997-04-25 | 2007-02-14 | 昭和電工株式会社 | Method for purifying sulfur hexafluoride |
DE10223336B4 (en) * | 2002-05-25 | 2006-07-20 | Fred Stemmer Gmbh Recycling | Process for the neutralization of decomposition products formed in plants containing sulfur hexafluoride (SF6) |
GB2414701A (en) | 2004-06-05 | 2005-12-07 | Black & Decker Inc | Rotary spindle for a power tool |
WO2006037458A1 (en) * | 2004-10-01 | 2006-04-13 | Merck Patent Gmbh | Electronic devices containing organic semi-conductors |
US8357228B2 (en) | 2007-10-12 | 2013-01-22 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | Gas purification method |
FR2992871B1 (en) * | 2012-07-05 | 2015-02-20 | Dehon S A | PURIFICATION DEVICE AND METHOD FOR REGENERATING SF6 |
CN105727686B (en) * | 2016-03-25 | 2017-12-08 | 张玲 | A kind of method for adsorbing purification sulfur hexafluoride |
CN113155913B (en) * | 2021-04-21 | 2022-07-08 | 浙江大学 | Gas sensor for detecting sulfur hexafluoride decomposition products and preparation method thereof |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4652438A (en) * | 1985-11-18 | 1987-03-24 | Gte Laboratories Incorporated | Chemical vapor purification of fluorides |
US4959101A (en) * | 1987-06-29 | 1990-09-25 | Aga Ab | Process for degassing aluminum melts with sulfur hexafluoride |
US5298229A (en) * | 1991-04-22 | 1994-03-29 | Hercules Incorporated | Purification of sulfur hexafluoride |
JPH10297910A (en) * | 1997-04-25 | 1998-11-10 | Showa Denko Kk | Purification method of sulfur hexafluoride |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1212945B (en) * | 1964-07-07 | 1966-03-24 | Kali Chemie Ag | Process for the removal of sulfuryl fluoride from gas mixtures containing sulfur hexafluoride |
US5536302A (en) * | 1994-03-23 | 1996-07-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Adsorbent for removal of trace oxygen from inert gases |
-
1997
- 1997-04-25 JP JP10986697A patent/JP3882018B2/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-04-22 KR KR1019980014335A patent/KR100529748B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-24 GB GB9808849A patent/GB2324482B/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-24 TW TW087106334A patent/TW375531B/en not_active IP Right Cessation
- 1998-04-24 DE DE19818435A patent/DE19818435A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4652438A (en) * | 1985-11-18 | 1987-03-24 | Gte Laboratories Incorporated | Chemical vapor purification of fluorides |
US4959101A (en) * | 1987-06-29 | 1990-09-25 | Aga Ab | Process for degassing aluminum melts with sulfur hexafluoride |
US4959101B1 (en) * | 1987-06-29 | 1992-02-25 | Aga Ab | |
US5298229A (en) * | 1991-04-22 | 1994-03-29 | Hercules Incorporated | Purification of sulfur hexafluoride |
JPH06211506A (en) * | 1991-04-22 | 1994-08-02 | Hercules Inc | Rfining of hexafluoride sulfur |
JPH10297910A (en) * | 1997-04-25 | 1998-11-10 | Showa Denko Kk | Purification method of sulfur hexafluoride |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HK1012850A1 (en) | 1999-08-13 |
GB2324482B (en) | 2001-07-04 |
JPH10297910A (en) | 1998-11-10 |
GB2324482A (en) | 1998-10-28 |
JP3882018B2 (en) | 2007-02-14 |
DE19818435A1 (en) | 1998-10-29 |
GB9808849D0 (en) | 1998-06-24 |
TW375531B (en) | 1999-12-01 |
KR19980081619A (en) | 1998-11-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4587114A (en) | Method for separating carbon dioxide from mixed gas | |
US3976447A (en) | Removal of hydrogen fluoride from gaseous mixture by absorption on alkaline earth metal fluoride | |
CA1239771A (en) | Promoted scavenger for purifying hcl-contaminated gases | |
EP1307416B1 (en) | Process for preparing octafluorocyclobutane | |
KR100529748B1 (en) | Method for Purifying Sulfur Hexafluoride | |
EP0776246B1 (en) | Process for regenerating nitrogen-treated carbonaceous chars used for hydrogen sulfide removal | |
AU2009336619A1 (en) | Method for removing sulphur, nitrogen and halogen impurities from a synthetic gas | |
JP2001017831A (en) | Treating agent for halogen gas | |
EP0902725B1 (en) | Method of separating and selectively removing hydrogen contaminant from process streams | |
JP2572616B2 (en) | How to remove carbon dioxide | |
KR102439151B1 (en) | High-purity sulfur hexafluoride purification apparatus and purification method using same | |
CN110280211B (en) | Drying agent of perfluoroisobutyronitrile, preparation method and application thereof | |
JPS58124516A (en) | Separation of carbon monooxide from mixed gas | |
US7326279B2 (en) | Method for removing harmful substance in vent gas | |
WO1993023159A1 (en) | Purification process | |
JP2000225338A (en) | S2F10 Decomposition Reagent and Decomposition Method | |
CA1052292A (en) | Removal of hydrogen fluoride from gaseous mixture by absorption on alkaline earth metal fluoride | |
JPH08141357A (en) | Carbon dioxide separating method at high temperature | |
JPH0999216A (en) | Hazardous gas purifier | |
JP3340513B2 (en) | Hazardous gas purification method | |
JPS6253223B2 (en) | ||
JP3515766B2 (en) | Removal method of carbon disulfide | |
JP3292311B2 (en) | Purification method of methanol | |
RU2047329C1 (en) | Chemical absorbing agent for fluorine-containing gas capture | |
JPH0710339B2 (en) | Carbon monoxide adsorbent |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 19980422 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20030419 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 19980422 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20050228 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20050818 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20051111 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20051114 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20081110 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20081110 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |