KR100423952B1 - back light unit having asymmetric light guide pattern - Google Patents
back light unit having asymmetric light guide pattern Download PDFInfo
- Publication number
- KR100423952B1 KR100423952B1 KR10-2001-0025870A KR20010025870A KR100423952B1 KR 100423952 B1 KR100423952 B1 KR 100423952B1 KR 20010025870 A KR20010025870 A KR 20010025870A KR 100423952 B1 KR100423952 B1 KR 100423952B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- light guide
- guide plate
- light
- pattern portion
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710097943 Viral-enhancing factor Proteins 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
- G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
- G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
- G02B6/0035—Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided on the surface of the light guide or in the bulk of it
- G02B6/0038—Linear indentations or grooves, e.g. arc-shaped grooves or meandering grooves, extending over the full length or width of the light guide
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
- G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
- G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
- G02B6/0035—Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided on the surface of the light guide or in the bulk of it
- G02B6/0036—2-D arrangement of prisms, protrusions, indentations or roughened surfaces
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
- G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
- G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
- G02B6/0058—Means for improving the coupling-out of light from the light guide varying in density, size, shape or depth along the light guide
- G02B6/0061—Means for improving the coupling-out of light from the light guide varying in density, size, shape or depth along the light guide to provide homogeneous light output intensity
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Planar Illumination Modules (AREA)
Abstract
비대칭 도광패턴부를 가지는 면광원 장치을 개시한다. 본 발명은 각 부위에서 균일한 조도로 광을 확산 및 산란시킬 수 있도록 레이저 빔 가공에 의하여 단면이 비대칭 형상인 그루브가 다수개 패턴화된 도광패턴부가 아랫면에 형성된 도광판과, 도광판의 측벽에 적어도 하나 이상 설치되는 발광수단과, 도광판의 하부에 설치되는 반사판을 포함하며, 레이저스캔 미러부와, 레이저 발진부를 도광판과의 상대적인 위치관계를 조절하여 레이저 빔을 도광판으로 편향시켜 스캐닝함으로써 도광패턴부를 형성시키는 가공시간을 줄일 수가 있게된다.A surface light source device having an asymmetric light guide pattern portion is disclosed. The present invention provides a light guide plate having a light guide pattern portion having a plurality of grooves having an asymmetrical cross section patterned by laser beam processing so as to diffuse and scatter light with uniform illuminance at each portion, and at least one sidewall of the light guide plate. And a light emitting means installed above, and a reflecting plate installed under the light guide plate, and adjusting the relative positional relationship between the laser scan mirror portion and the laser oscillation portion to deflect the laser beam to the light guide plate to form the light guide pattern portion. Machining time can be reduced.
Description
본 발명은 면광원 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 도광패턴부의 패턴 형상이 개선된 비대칭 도광패턴부를 가지는 면광원 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a surface light source device, and more particularly, to a surface light source device having an asymmetric light guide pattern portion having an improved pattern shape of the light guide pattern portion.
통상적으로, 액정표시소자와 같은 수광형 평판표시장치나, 조명간판등에 사용되는 면광원 장치는 일본공개특허공보 소60-216435호, 한국특허출원번호 제93-11174호, 제94-26117호, 제94-33115호, 제94-26116호에 개시되어 있다.In general, surface light source devices used in light-receiving flat panel display devices such as liquid crystal display devices, lighting signs, etc. are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-216435, Korean Patent Application Nos. 93-11174, 94-26117, 94-33115, 94-26116.
상술한 특허들에 개시된 면광원 장치는 밀폐된 공간부를 가진 용기의 내부에 교호적으로 격벽이 설치되어 사행(蛇行) 형상의 방전공간이 형성되고, 이 방전공간의 양 단부에는 각 전극이 설치되어 이들 방전으로 방전공간내에 형성된 형광체층을 여기시켜 발광하거나, 도광판의 측벽에 발광수단이 설치되어 광을 도광시킨후 확산시키는 구조를 가진다.In the surface light source device disclosed in the above-mentioned patents, partition walls are alternately installed inside a container having a closed space to form a meandering discharge space, and each electrode is provided at both ends of the discharge space. These discharges have a structure in which the phosphor layer formed in the discharge space is excited to emit light, or light emitting means is provided on the sidewall of the light guide plate to guide light and diffuse the light.
이중에서, 가장자리 발광방식(edge light)을 채용한 면광원 장치는 도광판의 아랫면에 반사판이 설치되고, 윗면에 확산판이나, 프리즘 쉬트등이 설치되며, 측벽에 적어도 하나 이상의 발광수단이 설치된다. 발광수단으로는 냉음극형광램프(cold cathode fluorescent lamp,CCFL) 또는 LED등이 이용된다.Among them, in the surface light source device employing the edge light method, a reflecting plate is provided on the lower surface of the light guide plate, a diffusion plate, a prism sheet, or the like is provided on the upper surface thereof, and at least one light emitting means is provided on the side wall. As the light emitting means, a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) or an LED lamp is used.
이와 같이 구성된 면광원 장치는 발광수단으로부터 조사된 광이 도광판으로 조사되고, 이 도광판으로 안내된 광은 반사판에 의하여 각 부위에서 비교적 균일한 조도를 가지며 상부로 반사되고, 이 광은 확산판이나 프리즘 쉬트를 통하여 전방으로 확산된다.In the surface light source device configured as described above, the light irradiated from the light emitting means is irradiated to the light guide plate, and the light guided to the light guide plate is reflected upwardly with a relatively uniform illuminance at each part by a reflecting plate, and the light is diffused or a prism. It spreads forward through the sheet.
이때, 도광판에는 투명한 아크릴 수지의 일면으로부터 입사되는 광을 산란 및 확산시키기 위하여 도광패턴부를 다수개 형성시키게 된다. 도광패턴부는 이와 상응한 패턴을 가진 마스크를 이용하여 인쇄방식으로 형성시키거나, 도광판의 아랫면에 스크레이퍼를 이용하여 V자형의 스크래치를 무인쇄방식으로 형성시켰다.In this case, a plurality of light guide patterns are formed on the light guide plate to scatter and diffuse light incident from one surface of the transparent acrylic resin. The light guide pattern portion was formed by a printing method using a mask having a corresponding pattern, or a V-shaped scratch was formed by a non-printing method using a scraper on the bottom surface of the light guide plate.
그런데, 인쇄방식은 잉크의 제조 및 인쇄공정이 복잡하고, 인쇄된 패턴부의 탈락이 심하거나 얼룩지는등의 불량률이 많아서 생산수율이 낮으며, 인쇄가 제대로 되지 않은 도광판의 재사용이 불가능하게 되어 제조원가의 상승요인으로 작용한다.However, the printing method is complicated in the manufacture of the ink and printing process, there is a lot of defect rate, such as severe dropout or staining of the printed pattern portion, the production yield is low, it is impossible to reuse the light guide plate that is not properly printed, It acts as a synergistic factor.
무인쇄방식은 스크래치를 형성하는 가공법이 기계적으로 이루어지므로 미세한 패턴부의 형성이 어렵고, 균일한 광의 확산 및 산란이 이루어지지 않게 된다. 또한, 도광판의 두께가 얇아지는 경우에는 스크래치의 깊이와 산란정도에 따라 그 간격을 좁히기 어려워서 패턴이 보이게 되고, 다수의 스크래치를 순차적으로 형성시켜야 하므로 도광판이 대형화될수록 단위 가공시간이 길어져 생산 효율이 저하된다. 특히, 가공된 선폭을 증가시키는 경우에는 가공시 마찰면적의 증가로 인한 마찰열에 의하여 도광판의 변형이 발생하게 된다.In the non-printing method, since the processing method for forming the scratch is made mechanically, it is difficult to form a fine pattern portion, and uniform diffusion and scattering of light are not achieved. In addition, when the thickness of the light guide plate becomes thin, it is difficult to narrow the gap according to the depth of the scratch and the degree of scattering, and thus the pattern is visible. Since a large number of scratches must be formed in sequence, the unit processing time becomes longer as the light guide plate becomes larger, and the production efficiency decreases. do. In particular, when the processed line width is increased, deformation of the light guide plate occurs due to frictional heat due to an increase in the friction area during processing.
종래의 기술에 따르면, 이러한 현상을 방지하기 위하여 레이저 가공법으로도광판에 도광패턴부를 형성하였다. 즉, 레이저 장치로부터 발진된 레이저 빔을 도광판상에 스캐닝하여 소정 패턴을 가지는 도광패턴부를 형성시키게 된다. 이에 따라, 인쇄방식이나 무인쇄방식시 발생되는 패턴부의 탈락이나, 얼룩짐, 열적변형, 미세한 패턴형성의 어려움을 극복할 수 있다.According to the related art, in order to prevent such a phenomenon, the light guide pattern portion is formed on the light guide plate by laser processing. That is, the laser beam oscillated from the laser device is scanned on the light guide plate to form a light guide pattern portion having a predetermined pattern. Accordingly, it is possible to overcome the difficulty of dropping, spotting, thermal deformation, and fine pattern formation in the pattern portion generated during the printing method or the non-printing method.
이때, 도광패턴부는 발광수단으로부터 조사되는 광을 반사, 확산 및 산란시킬 수 있도록 다양한 패턴으로 존재가 가능하다. 이를테면, 도트형이나, 직선형이나, 도트형과 직선형이 조합된 혼합형등의 그루브(groove)로 이루어진다고 할 수 있다. 그리고, 그루브의 크기는 일반적으로 발광수단으로 멀어질수록 그 크기를 점차적으로 확장시켜 도광량을 증가시키게 된다.In this case, the light guide pattern part may exist in various patterns to reflect, diffuse, and scatter the light emitted from the light emitting means. For example, it can be said that it consists of grooves, such as a dot type | mold, a straight type | mold, a mixed type which combined dot type and straight type | mold. In addition, the size of the groove generally increases gradually as the distance from the light emitting means increases the light guide amount.
그런데, 종래의 레이저 가공법에 따른 도광패턴부의 형성은 다음과 같은 문제점이 있다.However, the formation of the light guide pattern portion according to the conventional laser processing method has the following problems.
레이저 장치를 이용할 경우에는 도광판의 가공면에 대하여 레이저 빔이 수직된 위치에 정렬되어야 한다. 이를 위하여, XY 스테이지를 이용하여 도광판에 대하여 레이저 장치를 X축 및 Y축으로 직선왕복운동을 시켜서 위치를 변화시키게 된다. 다음으로, 도광판의 일면에 레이저 빔을 스캐닝하여 소정의 도광패턴부를 형성시키게 된다.When using a laser device, the laser beam should be aligned at a position perpendicular to the processing surface of the light guide plate. To this end, the position is changed by performing a linear reciprocating motion of the laser device on the X and Y axes with respect to the light guide plate using the XY stage. Next, a predetermined light guide pattern portion is formed by scanning a laser beam on one surface of the light guide plate.
이러한 방식은 XY 스테이지를 왕복운동시켜서 가공하는 방식이므로 가공시간이 길어지게 되어 생산효율이 저하된다. 특히, 최근에는 도광판이 대형화되어 가는 추세인데, 가공면적이 커질수록 왕복운동시 걸리는 시간이 비례적으로 길어지게 되어서 도광패턴부의 가공시간이 증대된다. 또한, XY 스테이지를 기계적으로 구동시킴에 따라서, 미세한 패턴을 요구시 정밀도가 저하되는 문제점이 있다.This method is a method of processing by reciprocating the XY stage, so the processing time becomes longer, the production efficiency is lowered. In particular, in recent years, the light guide plate has become larger in size, and as the processing area increases, the time taken for the reciprocating motion is proportionally longer, thereby increasing the processing time of the light guide pattern portion. In addition, as the XY stage is mechanically driven, there is a problem that the precision is lowered when a fine pattern is required.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 도광판의 일면에 형성되어 광의 산란 및 확산을 가져오는 도광패턴부의 형성에 따른 생산성을 향상시킬 수 있으며, 휘도의 균일도를 유지할 수 있는 비대칭 도광패턴부를 가지는 면광원 장치을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above problems, can be improved on the productivity of the light guide pattern is formed on one surface of the light guide plate to cause the scattering and diffusion of light, asymmetric light guide pattern that can maintain the uniformity of brightness It is an object to provide a surface light source device having a portion.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 면광원 장치의 분리사시도,1 is an exploded perspective view of a surface light source device according to a first embodiment of the present invention;
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 면광원 장치를 일부 절제하여 도시한 단면도,2 is a cross-sectional view showing a part of the surface light source device according to the second embodiment of the present invention;
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 면광원 장치를 일부 절제하여 도시한 단면도,3 is a cross-sectional view showing a part of the surface light source device according to the third embodiment of the present invention;
도 4는 본 발명의 도광패턴부를 제조하기 위한 시스템을 도시한 구성도,4 is a configuration diagram showing a system for manufacturing the light guide pattern portion of the present invention;
도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 도광패턴부의 형상을 도시한 개략적인 단면도,5a to 5c are schematic cross-sectional views showing the shape of the light guide pattern portion of the present invention;
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 도광판의 영역을 구분하여 도시한 개략적인 평면도,6 is a schematic plan view illustrating an area of a light guide plate according to an embodiment of the present invention;
도 7은 도 6의 도광영역에 대한 도광효율을 도시한 그래프.FIG. 7 is a graph showing light guiding efficiency for the light guiding area of FIG. 6. FIG.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>
10...면광원 장치 11...도광패턴부10 ... Surface light source device 11 ... Light guide pattern part
12...도광판 13...발광수단12.Light guide plate 13 ... Light emitting means
14...반사판 15...확산판14 ... Reflector 15 ... Diffuser
21...커버부재 22...광확산부21 ... cover member 22 ... light diffuser
32...프리즘부 43...레이저스캔 미러부32.Prism part 43.Laser scan mirror part
44...갈바노미터 45a,45b...반사경44 Galvanometer 45a, 45b Reflector
47...렌즈부47.Lens section
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 비대칭 도광패턴부를 가지는 면광원 장치는,In order to achieve the above object, the surface light source device having an asymmetric light guide pattern of the present invention,
각 부위에서 균일한 조도로 광을 확산 및 산란시킬 수 있도록 레이저 빔 가공에 의하여 단면이 비대칭 형상인 그루브가 다수개 패턴화된 도광패턴부가 아랫면에 형성된 도광판;A light guide plate having a light guide pattern portion having a plurality of grooves having an asymmetrical cross section patterned by laser beam processing so as to diffuse and scatter light with uniform illuminance at each portion;
상기 도광판의 측벽에 적어도 하나 이상 설치된 발광수단; 및Light emitting means installed on at least one sidewall of the light guide plate; And
상기 도광판의 하부에 설치되는 반사판;을 포함하는 것을 특징으로 한다.And a reflective plate installed under the light guide plate.
또한, 상기 도광패턴부는 도광판의 중앙부로부터 주변부로 갈수록 그루브의 경사각이 크게 형성된 것을 특징으로 한다.In addition, the light guide pattern portion is characterized in that the inclination angle of the groove is formed larger toward the peripheral portion from the central portion of the light guide plate.
게다가, 상기 도광패턴부는 도광판에 대하여 수직으로 설치되는 레이저스캔 미러부와 레이저 발진부의 상대적인 위치변경에 따라서 출력되는 레이저 빔의 편향각에 따라서 경사각이 설정되는 것을 특징으로 한다.In addition, the light guide pattern portion is characterized in that the inclination angle is set in accordance with the deflection angle of the laser beam output in accordance with the relative position change of the laser scan mirror portion and the laser oscillation portion installed perpendicular to the light guide plate.
나아가, 상기 도광패턴부는 그 선폭이 300 내지 600 마이크로미터인 것을 특징으로 한다.Further, the light guide pattern portion is characterized in that the line width of 300 to 600 micrometers.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 면광원 장치(10)를 도시한 것이다.1 shows a surface light source device 10 according to an embodiment of the present invention.
도면을 참조하면, 상기 면광원 장치(10)는 도광패턴부(11)가 형성된 도광판(12)과, 상기 도광판(12)의 측벽에 적어도 하나 이상 설치되어 상기 도광판(12)으로 빛을 조사하는 발광수단(13)과, 상기 도광판(12)의 하부에 설치되어 빛을 상부로 반사시키는 반사판(14)과, 상기 도광판(12)의 상부에 설치되어 빛을 전방으로 산란 및 확산시키는 확산판(15)을 포함한다. 이때, 상기 발광수단(13)으로는 냉음극 형광램프나, LED가 이용된다.Referring to the drawings, the surface light source device 10 is provided with at least one light guide plate 12 having the light guide pattern portion 11 and at least one sidewall of the light guide plate 12 to irradiate light to the light guide plate 12. A light emitting means 13, a reflector 14 disposed below the light guide plate 12 to reflect light upwards, and a diffuser plate disposed above the light guide plate 12 to scatter and diffuse light forward; 15). In this case, as the light emitting means 13, a cold cathode fluorescent lamp or an LED is used.
상기 도광패턴부(11)는 상기 도광판(12)의 아랫면에 레이저 빔 가공으로 소정의 패턴으로 형성되는데, 도트형이나, 직선형이나, 도트형과 직선형이 조합된 혼합형으로 된 그루브로 가공되어 있다. 이외에도, 사각형이나 격자형이나, 이러한 것들의 조합에 의한 그루브로 가공될 수도 있다. 이때, 그루브의 단면 형상은 상호 대칭적이지 않고, 비대칭적이다. 이는 추후 기술될 레이저 시스템과 도광판(12)과의 상대적인 위치설정에 따른 레이저 빔의 편향 각도에 따라 가공되기 때문이다.The light guide pattern portion 11 is formed on a lower surface of the light guide plate 12 in a predetermined pattern by laser beam processing. The light guide pattern portion 11 is processed into a groove having a dot shape, a straight shape, or a combination of dot and straight shapes. In addition, it may be processed into a square or lattice, or a groove by a combination of these. At this time, the cross-sectional shape of the grooves is not asymmetrical to each other, but asymmetrical. This is because it is processed according to the deflection angle of the laser beam according to the relative positioning between the laser system and the light guide plate 12 which will be described later.
그리고, 상기 도광패턴부(11)의 각 그루브는 발광수단(13)으로부터 멀어질수록 그 크기를 변화시켜서 도광량을 점차적으로 증가시켜 상기 발광수단(13)으로부터 멀어짐에 따른 휘도저하를 방지하는 것이 바람직하다. 이때, 그루브의 선폭은 일정한 설계규칙에 따라 정하여진다.Each groove of the light guide pattern portion 11 changes its size as it moves away from the light emitting means 13 to gradually increase the amount of light guide, thereby preventing a decrease in luminance caused by moving away from the light emitting means 13. desirable. At this time, the line width of the groove is determined according to a certain design rule.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 면광원 장치(20)를 도시한 것이다.2 shows a surface light source device 20 according to a second embodiment of the present invention.
여기서, 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조번호는 동일한 기능을 하는 동일한 부재를 가리킨다.Here, the same reference numerals as in the above-described drawings indicate the same members having the same function.
도면을 참조하면, 상기 면광원 장치(20)는 레이저빔 가공에 의하여 비대칭의 그루브로 이루어진 도광패턴부(11)를 가지는 도광판(12)과, 상기 도광판(12)의 측벽에 적어도 하나 이상 설치되는 발광수단(13)과, 상기 도광판(12)의 하부에 설치되는 반사판(14)과, 상기 발광수단(13)을 감싸는 커버부재(21)를 포함한다.Referring to the drawings, the surface light source device 20 is provided with a light guide plate 12 having a light guide pattern portion 11 formed of an asymmetric groove by laser beam processing, and at least one side is provided on the side wall of the light guide plate 12. It includes a light emitting means 13, a reflecting plate 14 provided below the light guide plate 12, and a cover member 21 surrounding the light emitting means (13).
그리고, 상기 도광판(12)의 윗면에는 미세한 스크래치가 형성되어 이루어진 광확산부(22)가 형성되어 있다. 상기 광확산부(22)는 발광수단(13)으로부터 조사된 광(화살표)이 도광판(12)의 전면으로 균일하게 확산가능하도록 그 형성밀도가 부위에 따라 다르게 형성될 수가 있다.In addition, the light diffusion part 22 formed with a fine scratch is formed on the upper surface of the light guide plate 12. The light diffusing portion 22 may have a different density depending on the site so that light (arrow) irradiated from the light emitting means 13 can be uniformly diffused to the entire surface of the light guide plate 12.
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 면광원 장치(30)를 도시한 것이다.3 shows the surface light source device 30 according to the third embodiment of the present invention.
도면을 참조하면, 상기 면광원 장치(30)는 레이저 빔 가공에 의하여 비대칭의 그루브가 패턴화된 도광패턴부(11)가 아랫면에 형성된 도광판(12)과, 상기 도광판(12)의 측벽에 적어도 하나 이상 설치되는 발광수단(13)과, 상기 발광수단(13)을 감싸며 상기 도광판(12)의 반대방향으로 조사되는 광을 도광판(12)으로 재입사가능하도록 반사막이 내면에 형성된 커버부재(21)를 포함한다.Referring to the drawings, the surface light source device 30 includes at least a light guide plate 12 having a light guide pattern portion 11 in which an asymmetric groove is patterned by laser beam processing on a lower surface thereof, and at least on sidewalls of the light guide plate 12. One or more light emitting means 13 and a cover member 21 having a reflective film formed on an inner surface of the light guide plate 12 so as to surround the light emitting means 13 and to re-enter light irradiated in the opposite direction of the light guide plate 12 to the light guide plate 12. ).
그리고, 상기 도광판(12)의 윗면에는 상기 발광수단(13)으로부터 조사된 광(화살표)이 도광판(13)을 통하여 안내되어 전방으로 집속 또는 일정각도 이내로 광이 출력되도록 미세한 간격으로 스크래치가 형성되어 이루어진 프리즘부(32)가 형성되어 있다. 상기 프리즘부(32)가 형성되면, 액정표시장치로 입사되는 광량을 증대시키고, 콘트라스트를 높이기 위한 별도의 프리즘 쉬트를 설치할 필요가 없을 수도 있다.In addition, the light (arrow) irradiated from the light emitting means 13 is guided through the light guide plate 13 on the upper surface of the light guide plate 12, so that scratches are formed at minute intervals so that light is focused forward or within a predetermined angle. The formed prism portion 32 is formed. When the prism portion 32 is formed, it may not be necessary to provide a separate prism sheet for increasing the amount of light incident on the liquid crystal display and increasing the contrast.
상술한 실시예들에서 살펴본 바와 같이, 도광판(12)의 일면에는 상기 발광수단(13)으로부터 조사되는 광을 산란, 반사 및 확산시켜 도광판(12)의 전영역에 걸쳐서 균일한 조명이 가능하도록 도광패턴부(11)를 형성시키고, 상기 도광패턴부(11)는 레이저 시스템을 이용하여 비대칭적인 형상으로 된 다수개의 그루브로 형성되어 있다.As described in the above-described embodiments, one surface of the light guide plate 12 is light guided so as to scatter, reflect and diffuse the light emitted from the light emitting means 13 to enable uniform illumination over the entire area of the light guide plate 12. The pattern portion 11 is formed, and the light guide pattern portion 11 is formed of a plurality of grooves having an asymmetric shape by using a laser system.
여기서, 상기 도광패턴부(11)는 도광판(12)을 이루는 원소재, 이를테면 아크릴 수지로의 열흡수가 가능한 적외선 영역의 레이저 빔을 도광판(12)의 X축 및 Y축 방향으로 스캐닝하게 되어 이루어진다.Here, the light guide pattern portion 11 is made by scanning the laser beam in the infrared region capable of absorbing heat to the raw material, for example, acrylic resin constituting the light guide plate 12 in the X-axis and Y-axis direction of the light guide plate 12. .
이때, 레이저 시스템은 도광판(12)에 대하여 XY 스테이지와 같은 기계적인 구동에 의하여 이동하여 레이저 빔을 발진하여 도광패턴부(11)를 형성시키는 것이 아니라, 레이저 발진부로부터 출력된 레이저 빔을 편향시켜 도광패턴부(11)를 형성시키게 된다. 이 편향된 빔에 의하여 도광패턴부(12)는 그 단면이 비대칭성을 가지게 된다.At this time, the laser system does not move the light guide plate 12 by mechanical driving such as XY stage to oscillate the laser beam to form the light guide pattern portion 11, but instead deflect the laser beam output from the laser oscillator. The pattern portion 11 is formed. The deflected beam causes the light guide pattern portion 12 to have an asymmetry in cross section.
상기 도광패턴부(11)를 형성시키는 과정을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the process of forming the light guide pattern portion 11 will be described in detail.
도 4에 도시된 바와 같이, 도광패턴부(11)의 패턴에 대한 데이터를 패턴설계부(41)로부터 전송받아서 제어부(42)를 통하여 패턴의 좌표값과 일치하는도광판(12)상에 패턴이 형성되고자 하는 영역에 해당되는 위치신호를 레이저스캔 미러부(43)에 보내게 된다.As shown in FIG. 4, a pattern is formed on the light guide plate 12 that receives data about the pattern of the light guide pattern unit 11 from the pattern design unit 41 and matches the coordinate value of the pattern through the control unit 42. The position signal corresponding to the desired area is sent to the laser scan mirror 43.
상기 레이저주사 미러부(43)는 예컨대 좌우나 상하로 미소회전을 하는 갈바노미터(galvanometer,44)의 축상에 반사경(45a)(45b)을 결합하여 레이저 빔의 방향을 조절하게 된다. 주지하는 바대로, 갈바노미터(44)는 회전축상에 코일과 같은 제동작용을 하는 기구를 설치하여 회전각도와 방향을 제어하고, 전류가 끊어지면 코일의 복원력에 의하여 회전축이 원래의 위치로 되돌아온다.The laser scanning mirror portion 43 adjusts the direction of the laser beam by coupling the reflecting mirrors 45a and 45b on the axis of the galvanometer 44 which rotates microscopically to the left and right or up and down, for example. As is known, the galvanometer 44 controls the rotation angle and direction by installing a mechanism such as a coil on the rotating shaft, and when the current is cut off, the rotating shaft is returned to its original position by the restoring force of the coil. come.
한편, 상기 제어부(42)를 통하여 상기 레이저스캔 미러부(43)에 동기화된 펄스신호를 레이저 발진부(46)로 보내어 상기 도광판(12)의 패턴이 형성되고자 하는 영역으로 선택적으로 레이저 빔을 스캐닝하게 된다.Meanwhile, a pulse signal synchronized to the laser scan mirror 43 is transmitted to the laser oscillator 46 through the controller 42 to selectively scan the laser beam to an area where the pattern of the light guide plate 12 is to be formed. do.
이에 따라, 상기 레이저 발진부(46)로부터 출력된 레이저 빔은 일정방향에서 갈바노미터(44)의 축상에 결합된 적어도 하나 이상의 반사경(45a)(45b)에 의하여 그 진행방향이 바뀌게 되고, 렌즈부(47)를 통과하면서, 상기 도광판(12)의 일면에 도광패턴부(11)를 형성시키게 된다.Accordingly, the laser beam output from the laser oscillation unit 46 is changed in the traveling direction by at least one reflector 45a, 45b coupled to the axis of the galvanometer 44 in a predetermined direction, the lens unit While passing through 47, the light guide pattern part 11 is formed on one surface of the light guide plate 12.
이처럼, 상기 도광판(12)에 형성되는 도광패턴부(11)는 XY 스테이지상에 설치되어 기계적 구동으로 직선왕복운동시켜서 형성시키는 것이 아니라, 상기 레이저 발진부(46)에 대하여 레이저스캔 미러부(43)의 반사경(45a)(45b) 위치를 상대적으로 조정하게 되어 레이저 빔을 도광판(12)의 패턴이 형성되는 영역에 편향시킴에 따라 이루어진다.As such, the light guide pattern portion 11 formed on the light guide plate 12 is not formed on the XY stage by linear reciprocating motion by mechanical driving, but instead of the laser scan mirror portion 43 with respect to the laser oscillation portion 46. The positions of the reflectors 45a and 45b are relatively adjusted to deflect the laser beam in the region where the pattern of the light guide plate 12 is formed.
이러한 방식으로 가공된 도광패턴부(11)는 레이저 빔의 편향되는 각도에 따라 비대칭적인 형상의 그루브가 형성되어진다.In the light guide pattern portion 11 processed in this manner, grooves having an asymmetric shape are formed according to the deflection angle of the laser beam.
도 5a 내지 도 5c는 이러한 도광패턴부(11)의 단면을 도시한 것이다.5A to 5C show a cross section of the light guide pattern portion 11.
도면을 참조하면, 상기 도광판(12)에 대하여 수직으로 레이저 빔을 조사하게 되면, 상기 도광판(12)에는 제1 그루브(11a)가 형성되어진다. 상기 제1 그루브(11a)는 도 4에 설명한 바 있는 레이저 발진부(46)로부터 발진된 레이저 빔이 레이저스캔 미러부(43)를 통하여 도광판(12)에 수직으로 입사되므로 좌우대칭적인 형상을 가지게 된다.(도 5a)Referring to the drawings, when the laser beam is irradiated perpendicularly to the light guide plate 12, a first groove 11a is formed in the light guide plate 12. The first groove 11a has a bilaterally symmetrical shape since the laser beam oscillated from the laser oscillator 46 as described in FIG. 4 is incident perpendicularly to the light guide plate 12 through the laser scan mirror 43. (FIG. 5A)
상기 레이저 발진부(46)로부터 발진된 레이저 빔이 상기 레이저스캔 미러부(43)에 의하여 소정 각도를 가지고 도광판(12)의 일측으로 입사되면, 상기 도광판(12)에는 제2 그루브(11b)가 형성되어진다. 상기 제2 그루브(11b)는 상기 레이저스캔 미러부(43)와 도광판(12)의 수직축으로부터 α각도만큼 경사지게 도광판(12)에 입사하게 되므로, 그 단면이 비대칭적인 형상을 가지게 된다.(도 5b)When the laser beam oscillated from the laser oscillation unit 46 is incident to one side of the light guide plate 12 at a predetermined angle by the laser scan mirror unit 43, a second groove 11b is formed in the light guide plate 12. It is done. Since the second groove 11b is incident on the light guide plate 12 at an angle of inclination from the vertical axis of the laser scan mirror portion 43 and the light guide plate 12, the cross section has an asymmetrical shape (FIG. 5B). )
한편, 상기 제2 그루브(11b)가 형성되는 영역과 반대되는 도광판(12)의 영역에는 레이저 빔이 레이저스캔 미러부(43)와 도광판(12)의 수직축으로부터 β각도만큼 경사지게 입사하게 되어서, 상기 제2 그루브(11b)의 경사방향과 반대방향으로 비대칭적인 제3 그루브(11c)가 형성하게 된다.(도 5c)On the other hand, the laser beam is incident on the region of the light guide plate 12 opposite to the region where the second groove 11b is formed to be inclined by β angle from the vertical axis of the laser scan mirror portion 43 and the light guide plate 12. The third groove 11c is asymmetrically formed in the direction opposite to the inclination direction of the second groove 11b. (FIG. 5C).
결과적으로, 상기 레이저 발진부(46)로부터 발진되는 레이저 빔은 상기 레이저스캔 미러부(43)를 통하여 상기 도광판(12)에 입사하면서, 상기 도광판(12)의 중앙을 기준으로 하여 좌우 영역으로 레이저 빔의 편향각에 따라서 경사진 비대칭 형상을 가지는 다수개의 그루브가 형성된다.As a result, the laser beam oscillated from the laser oscillation unit 46 is incident on the light guide plate 12 through the laser scan mirror unit 43, and the laser beam is moved to the left and right regions with respect to the center of the light guide plate 12. A plurality of grooves having an inclined asymmetrical shape according to the deflection angle of is formed.
이때, 그루브의 비대칭 정도는 그루브가 레이저 빔에 대한 광학적 중심축으로부터 멀어질수록 경사각이 증가하는 것에 대응하여 증가하게 된다. 이에 따라, 광의 산란 및 확산이 보다 우수하며, 패턴의 형상과 도광판(12)에서의 형성밀도에 따라 휘도의 균일성을 조절할 수 있을 것이다.At this time, the degree of asymmetry of the grooves increases in response to the increase of the inclination angle as the grooves move away from the optical central axis with respect to the laser beam. Accordingly, the scattering and diffusion of the light is more excellent, and the uniformity of luminance may be adjusted according to the shape of the pattern and the density of formation in the light guide plate 12.
한편, 상기 도광패턴부(11)의 설계시 고려해야 할 사항은 휘도의 향상과 균일도의 확보이다.On the other hand, matters to be considered in designing the light guide pattern portion 11 is to improve the brightness and ensure uniformity.
휘도는 가공되는 방법과 패턴부가 도광판(12)으로부터 형성되는 영역을 최적화되는 과정을 통하여 결정되어지는데, 레이저 시스템처럼 비접촉 방식을 이용하는 경우에는 접촉식 방식보다 식각정도가 더욱 크기 때문에 소폭 향상되는 특성을 나타낸다.The luminance is determined by optimizing the processing method and the area where the pattern portion is formed from the light guide plate 12. In the case of using a non-contact method such as a laser system, the luminance is slightly improved since the etching degree is larger than that of the contact method. Indicates.
균일도는 도광판(12)의 중앙부에서 최고치를 나타내도록 하여야 하고, 주변부로 갈수록 점차적으로 낮아지게 된다. 일반적으로, 중앙부에 대한 주변부, 또는 최고 휘도에 대한 최저 휘도의 비율이 70% 이상이 되도록 요구된다. 이러한 균일도의 조절은 레이저 시스템을 이용한 가공에서는 상기 도광패턴부(11)의 크기나 패턴간의 간격을 조절하여 제어하는 것이 가능하다고 할 수 있다.The uniformity should be the highest at the center of the light guide plate 12 and gradually decreases toward the periphery. Generally, the ratio of the peripheral portion to the center portion, or the minimum luminance to the highest luminance, is required to be 70% or more. This uniformity can be controlled by controlling the size of the light guide pattern portion 11 or the spacing between patterns in the processing using a laser system.
도 6에 도시된 바와 같이, 도광판(12)의 도광영역을 주변부(Ⅰ)와, 중앙부(Ⅲ)와, 주변부(Ⅰ)와 중앙부(Ⅲ) 사이의 중간부(Ⅱ)로 분류하면 각 영역의 전체휘도의 산술평균치는 I<Ⅱ<Ⅲ의 관계를 유지하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 6, the light guiding region of the light guide plate 12 is divided into a peripheral portion (I), a central portion (III), and an intermediate portion (II) between the peripheral portion (I) and the central portion (III). It is preferable that the arithmetic mean value of the overall luminance is maintained in the relation of I <II <III.
이러한 휘도의 분포는 가장자리 방식의 면광원 장치의 경우에는 발광수단(13)과 인접한 도광판(12)의 주변부에서 광의 강도가 가장 높기 때문에 상기 도광패턴부(11)의 크기 또는 조밀도를 조절하는 것에 의하여 가능하다.In the case of the edge type surface light source device, since the intensity of light is the highest at the periphery of the light guide plate 12 adjacent to the light emitting means 13, the size or density of the light guide pattern portion 11 is controlled. Is possible.
상술한 바대로, 도광판(12)의 중앙부(Ⅲ)에 대한 주변부(Ⅰ)의 휘도비가 70% 이상이 되도록 패턴화시키는 것이 휘도의 균일특성을 유지할 수 있다. 이때, Ⅰ 영역은 도광영역의 100%에 해당되며, Ⅱ 영역은 도광영역의 36%에 해당되며, Ⅲ 영역은 도광영역의 4%에 해당된다.As described above, patterning the luminance ratio of the peripheral portion I to the central portion III of the light guide plate 12 to 70% or more can maintain the uniformity characteristic of the luminance. In this case, region I corresponds to 100% of the light guide region, region II corresponds to 36% of the light guide region, and region III corresponds to 4% of the light guide region.
이를 기준으로 하여 도광패턴부(11)의 선폭변화에 따른 도광효율을 영역별로 측정하면 다음과 같다.Based on this, the light guiding efficiency according to the line width change of the light guiding pattern part 11 is measured for each area as follows.
도 7은 도 6의 상기 도광판(11)의 Ⅳ-Ⅳ선을 따라 절개하여 도광패턴부(11)의 선폭변화에 따른 도광영역별로 도광효율에 대한 그래프이다.FIG. 7 is a graph illustrating light guiding efficiency for each light guiding region according to line width change of the light guiding pattern 11 by cutting along line IV-IV of the light guiding plate 11 of FIG. 6.
이때, X축은 각 영역을 구분하여 표시한 것이고, Y축은 도광효율을 나타낸 것이다. 여기서, 도광효율은 300 × 300 mm의 가공면적을 가지는 도광판(12)을 다수개로 분할하여, 각 분할면의 중심점의 휘도를 측정한 다음에, 휘도의 균일도가 70% 이상을 충족시킬 때의 평균휘도를 기준(I0)으로 하여, 패턴의 선폭변화에 따른 휘도가 가장 높은 것을 상대휘도(I)로서 나타낸 것이다.At this time, the X-axis is to display each area separately, the Y-axis represents the light guide efficiency. Here, the light guiding efficiency is divided into a plurality of light guiding plates 12 having a processing area of 300 × 300 mm, the luminance of the center point of each divided surface is measured, and then the average when the uniformity of the luminance satisfies 70% or more. With the luminance as the reference I 0 , the highest luminance corresponding to the line width change of the pattern is shown as the relative luminance I.
표 1은 도광패턴부(11)의 선폭에 따른 각 영역별 도광효율을 수치화시킨 값이다.Table 1 is a value obtained by numerically guiding the light guide efficiency of each region according to the line width of the light guide pattern portion 11.
도 7과 표 1을 참조하면, 도광패턴부(11)의 선폭이 300 마이크로미터인 경우(A곡선)에는 도광판(12)을 Ⅳ-Ⅳ로 절개한 Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ,Ⅱ,Ⅰ 영역별로 도광효율이 0.78, 0.89, 1, 0.89, 0.78으로, 대략 위로 완만하게 볼록한 곡선을 나타내보였다.Referring to FIG. 7 and Table 1, in the case where the line width of the light guide pattern portion 11 is 300 micrometers (curve A), each of I, II, III, II, and I regions in which the light guide plate 12 is cut in IV-IV The light guide efficiencies were 0.78, 0.89, 1, 0.89, 0.78, showing a gentle upward convex curve.
도광패턴부(11)의 선폭이 400, 500 마이크로미터인 경우(B 및 C곡선)에는 Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ,Ⅱ,Ⅰ 영역별로 도광효율이 각각 0.82, 0.88, 1, 0.88, 0.82와, 0.89, 0.92, 1, 0.92, 0.89로서, A 곡선보다 더욱 완만한 볼록 곡선을 나타내보였다.When the line width of the light guide pattern portion 11 is 400, 500 micrometers (B and C curves), the light guide efficiency is 0.82, 0.88, 1, 0.88, 0.82, and 0.89 for each of I, II, III, II, and I regions. , 0.92, 1, 0.92, 0.89, showing a more gentle convex curve than the A curve.
도광패턴부(11)의 선폭이 600 마이크로미터인 경우(D곡선)에는 Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ,Ⅱ,Ⅰ 영역별로 도광효율이 0.98, 0.97, 1, 0.97, 0.98이다.When the line width of the light guide pattern portion 11 is 600 micrometers (D curve), the light guide efficiency is 0.98, 0.97, 1, 0.97, and 0.98 for each of I, II, III, II, and I regions.
반면에, 도광패턴부(11)의 선폭이 700, 800 마이크로미터인 경우(E, F곡선)에는 각 영역별로 도광효율이 1.05, 1.02, 1, 1.02, 1.05와, 1.16, 1.09, 1, 1.09, 1.16로서, 대략 아래로 완만하게 오목한 곡선을 나타내였다.On the other hand, when the line width of the light guide pattern portion 11 is 700 and 800 micrometers (E, F curve), the light guide efficiency is 1.05, 1.02, 1, 1.02, 1.05 and 1.16, 1.09, 1, 1.09 for each region. , 1.16, exhibiting a slightly concave curve approximately downward.
결과적으로, 도광패턴부(11)의 선폭이 600 마이크로미터 이상이 되면, 발광수단(13)으로부터 입사되는 도광판(12)의 주변부(Ⅰ)의 상대적인 휘도가 높아지게 되어서 휘도의 균일도 특성인 70% 이상은 달성되지만, Ⅰ<Ⅱ<Ⅲ의 관계를 만족시키는 것이 어렵게 되어 외관품위를 저해시키게 된다.As a result, when the line width of the light guide pattern portion 11 becomes 600 micrometers or more, the relative luminance of the peripheral portion I of the light guide plate 12 incident from the light emitting means 13 becomes high, resulting in a uniformity characteristic of the luminance of 70% or more. Is achieved, but it becomes difficult to satisfy the relationship of I <II <III, which hinders the appearance quality.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 비대칭 도광패턴부를 가지는 면광원 장치는 레이저 시스템의 레이저스캔 미러부와, 레이저 발진부를 도광판과의 상대적인 위치관계를 조절하여 레이저 빔을 도광판으로 편향시켜 스캐닝함으로써 도광판에 도광패턴부를 형성시키는 가공시간을 줄일 수가 있게됨에 따라서, 생산효율을 향상시킬 수가 있으며, 이에 따른 제조원가도 절감된다. 또한, 도광패턴부의 선폭을 일정폭으로 유지하면서, 비대칭적인 구조를 가지게 됨에 따라 광의 산란, 반사 및 확산을 더욱 향상시킬 수 있다.As described above, the surface light source device having the asymmetric light guide pattern portion according to the present invention adjusts the relative positional relationship between the laser scan mirror portion and the laser oscillation portion of the laser system by deflecting the laser beam to the light guide plate and scanning the light guide plate. As the processing time for forming the light guide pattern portion can be reduced, the production efficiency can be improved, and thus the manufacturing cost is reduced. In addition, while maintaining the line width of the light guide pattern portion at a constant width, it has an asymmetric structure, it is possible to further improve the scattering, reflection and diffusion of light.
본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, this is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0025870A KR100423952B1 (en) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | back light unit having asymmetric light guide pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0025870A KR100423952B1 (en) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | back light unit having asymmetric light guide pattern |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020086131A KR20020086131A (en) | 2002-11-18 |
KR100423952B1 true KR100423952B1 (en) | 2004-03-22 |
Family
ID=27704615
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-0025870A Expired - Fee Related KR100423952B1 (en) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | back light unit having asymmetric light guide pattern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100423952B1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010110497A1 (en) * | 2009-03-24 | 2010-09-30 | Bae Jae Nam | Backlight device with localised dimming function |
KR101607050B1 (en) | 2015-02-17 | 2016-03-28 | 곽구희 | Application methods toughness and excellent grain pattern this streetlight Holding visibility is excellent grain pattern is produced by coating is formed |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103314324B (en) * | 2011-01-21 | 2016-09-28 | 尹兑重 | Utilize light guide plate machining device and the processing method thereof of laser |
TWI455783B (en) * | 2012-01-02 | 2014-10-11 | Hortek Crystal Co Ltd | Laser process method and workpiece formed by laser process method thereof |
KR20170005934A (en) | 2015-07-06 | 2017-01-17 | 희성전자 주식회사 | Laser manufacturing apparatus |
CN105005163A (en) * | 2015-08-24 | 2015-10-28 | 张荣顺 | Liquid crystal panel taking laser as backlight |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020078354A (en) * | 2001-04-09 | 2002-10-18 | 삼성전자 주식회사 | Backlight assembly and liquid crystal display device using thereof |
-
2001
- 2001-05-11 KR KR10-2001-0025870A patent/KR100423952B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020078354A (en) * | 2001-04-09 | 2002-10-18 | 삼성전자 주식회사 | Backlight assembly and liquid crystal display device using thereof |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010110497A1 (en) * | 2009-03-24 | 2010-09-30 | Bae Jae Nam | Backlight device with localised dimming function |
KR101607050B1 (en) | 2015-02-17 | 2016-03-28 | 곽구희 | Application methods toughness and excellent grain pattern this streetlight Holding visibility is excellent grain pattern is produced by coating is formed |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20020086131A (en) | 2002-11-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100799156B1 (en) | Light guide plate, manufacturing method thereof, liquid crystal display device using the same | |
KR101144091B1 (en) | Light guide panel and apparatus for forming pattern on light guide panel | |
EP1930651B1 (en) | Light source device and vehicle lighting device | |
EP0962694B1 (en) | Planar light source unit | |
US6491411B2 (en) | Sheet-like light source device | |
US6467922B1 (en) | Method and apparatus for laser machining light guides, light guides obtained thereby, and back-lit screens incorporating such light guides | |
TWI474085B (en) | Surface light source device and liquid crystal display device | |
KR100253635B1 (en) | Light guiding body, method of manufacturing thereof, and plane-light source | |
JP2000352719A (en) | Light guide plate for liquid crystal display device, and its production | |
KR100809583B1 (en) | Laser pattern processing equipment | |
KR100423952B1 (en) | back light unit having asymmetric light guide pattern | |
KR101144092B1 (en) | Apprtus for forming pattern on light guide panel | |
JP2000098383A (en) | Transparent light guiding plate and its production | |
KR20080001775A (en) | Light guide plate and backlight unit using the same | |
KR100952202B1 (en) | Apparatus for forming pattern on light guide panel | |
KR100413837B1 (en) | The method of pattern making of light guide panel | |
KR20030010289A (en) | Backlight unit | |
KR100465014B1 (en) | Pattern forming apparatus for light guide panel | |
KR100396434B1 (en) | Pattern forming apparatus for light guide panel | |
KR20030078305A (en) | Light Guide Plate and Backlight Unit using thereof | |
KR100460790B1 (en) | Back light unit having light guide panel formed discontinuous pattern | |
KR100513956B1 (en) | Back light unit and the fabrication method thereof | |
JP2012221617A (en) | Manufacturing method of light guide plate | |
JPH11202331A (en) | Light guide plate | |
KR100646137B1 (en) | Light guide plate for backlight unit |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20010511 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20030328 Patent event code: PE09021S01D |
|
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20031030 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20030328 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |
|
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
PJ0201 | Trial against decision of rejection |
Patent event date: 20031119 Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal Patent event code: PJ02012R01D Patent event date: 20031030 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PJ02011S01I Appeal kind category: Appeal against decision to decline refusal Decision date: 20040226 Appeal identifier: 2003101004518 Request date: 20031119 |
|
AMND | Amendment | ||
PB0901 | Examination by re-examination before a trial |
Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event date: 20031125 Patent event code: PB09011R02I Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal Patent event date: 20031119 Patent event code: PB09011R01I Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event date: 20030528 Patent event code: PB09011R02I |
|
B701 | Decision to grant | ||
PB0701 | Decision of registration after re-examination before a trial |
Patent event date: 20040226 Comment text: Decision to Grant Registration Patent event code: PB07012S01D Patent event date: 20040119 Comment text: Transfer of Trial File for Re-examination before a Trial Patent event code: PB07011S01I |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20040309 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20040310 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20070216 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20080215 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20090309 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20100309 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20110302 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20120309 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130305 Year of fee payment: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20130305 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140306 Year of fee payment: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20140306 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150305 Year of fee payment: 12 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20150305 Start annual number: 12 End annual number: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160307 Year of fee payment: 13 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160307 Start annual number: 13 End annual number: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170309 Year of fee payment: 14 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170309 Start annual number: 14 End annual number: 14 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180309 Year of fee payment: 15 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180309 Start annual number: 15 End annual number: 15 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190305 Year of fee payment: 16 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20190305 Start annual number: 16 End annual number: 16 |
|
PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20211220 |