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KR100329878B1 - 염료이동을억제하는세제조성물 - Google Patents

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KR100329878B1
KR100329878B1 KR1019950701582A KR19950701582A KR100329878B1 KR 100329878 B1 KR100329878 B1 KR 100329878B1 KR 1019950701582 A KR1019950701582 A KR 1019950701582A KR 19950701582 A KR19950701582 A KR 19950701582A KR 100329878 B1 KR100329878 B1 KR 100329878B1
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더 프록터 앤드 갬블 캄파니
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Abstract

본 발명은 폴리아민 N-옥사이드 함유 중합체와 테레프탈레이트계 중합체를 포함하는 염료 이동 억제 조성물에 관한 것이다.

Description

염료 이동을 억제하는 세제 조성물
발명의 분야
본 발명은 세척시 직물들 사이의 염료 이동을 억제하는 조성물 및 방법에 관한 것이다.
발명의 배경
현재 직물을 세탁하는 도중에 발생되는 대표적인 지속적이고 귀찮은 문제점중의 하나는 일부 착색된 직물에서 염료가 세탁 용액으로 방출된 다음 염료가 함께 세탁하는 다른 직물로 이동하는 것이다.
이러한 문제점을 극복하는 한 가지 방법은 염색된 직물을 세탁할 때 방출된 불안정한 염료가 세탁 도중에 다른 세탁물에 결합되기 전에 이들을 착화시키거나 흡수하는 것이다. 중합체는 염료 이동을 억제시키기 위해 세제 조성물에 사용되어 왔다[참조: EP-A-0 102 923, DE-A-2 814 329, FR-A-2 144 721 및 EP-265 257].
계류중인 유럽 특허원 제922O2168.8호에는 폴리아민 N-옥사이드 함유 중합체를 포함하는 염료 이동 억제 조성물이 기재되어 있다.
염료 결합 이외에, 일부 착색된 직물로부터 염료가 세척 용액으로 방출되는 경향을 방지하는데도 중요하다. 본 발명에 이르러 테레프탈레이트계 방오 중합체를 상기 폴리아민 N-옥사이드 염료 이동 억제 조성물에 가하는 경우 일반적인 염료 이동 억제 성능을 나타내는 것으로 밝혀졌다.
이러한 발견은 색상 블리딩을 방지하고 용해되거나 현탁된 염료의 이동을 제거하는데 매우 효과적인 세제 조성물을 형성한다.
본 발명의 또 다른 양태에 따른 방법은 또한 착색 직물에 대한 세탁 방법을 제공한다.
테레프탈레이트계 방오 중합체는 또한 당해 분야의 문헌에 기재되어 있다[참조: GB 2 137 221, US 4,116,885, US 132,680, EP 185 427, EP 199 403, EP 241 985 및 EP 241 984].
발명의 요약
본 발명은 폴리아민 N-옥사이드 중합체(A)와 테레프탈레이트계 중합체(B)를 포함하는 염료 이동 억제 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 조성물은 필수 성분으로서 폴리아민 N-옥사이드 중합체(A)와 테레프탈레이트계 중합체(B)를 포함한다.
(A) 폴리아민 N-옥사이드 중합체
폴리아민 N-옥사이드 중합체는 다음 일반식을 갖는다:
상기식에서,
P는 N-0 그룹이 결합될 수 있는 중합성 단위, N-0 그룹이 일부를 형성하는중합성 단위 또는 이들의 배합물이고,
X는 0 또는 1이고,
R은 N-0 그룹 중의 질소가 결합될 수 있거나 N-0 그룹 중의 질소가 일부를 형성하는 지방족, 에톡시화 지방족, 방향족, 헤테로사이클릭, 지환족 그룹 또는 이
들의 배합물이다.
N-0 그룹은 다음 일반식으로 나타낼 수 있다:
상기식에서,
R1, R2 및 R3은 N-0 그룹 중의 질소가 결합될 수 있거나 N-0그룹 중의 질소가 일부를 형성하는 지방족, 방향족, 헤테로사이클릭, 지환족 그룹 또는 이들의 배합물이고,
x 및/또는 y 및/또는 z는 0 또는 1이다.
N-0 그룹은 중합성 단위(P)의 일부이거나 중합체성 주쇄에 결합될 수 있거나 이들의 배합물일 수 있다.
N-0 그룹이 중합성 단위의 일부를 형성하는 적합한 폴리아민 N-옥사이드는 R이 지방족, 방향족, 지환족 또는 헤테로사이클릭 그룹으로부터 선택되는 폴리아민N-옥사이드를 포함한다.
상기 폴리아민 N-옥사이드의 한 부류는 N-0그룹 중의 질소가 R-그룹의 일부를 형성하는 폴리아민 N-옥사이드의 그룹을 포함한다. 바람직한 폴리아민 N-옥사이드는 R이 헤테로사이클릭 그룹(예: 피리딘, 피롤, 이미다졸, 피롤리딘, 피페리딘 및 이의 유도체)인 것이다. 또 다른 부류의 상기 폴리아민 N-옥사이드는 N-0 그룹중의 질소가 R-그룹에 결합된 폴리아민 N-옥사이드의 그룹을 포함한다.
다른 적합한 폴리아민 N-옥사이드는 N-0 그룹이 중합성 단위에 결합된 폴리아민 옥사이드이다. 바람직한 부류의 이들 폴리아민 N-옥사이드는 R이 방향족, 헤테로사이클릭 또는 지환족 그룹이고 N-0 작용성 그룹 중의 질소가 상기 R 그룹의 일부인 일반식(1)의 폴리아민 N-옥사이드이다.
이들 부류의 예에는 R이 헤테로사이클릭 화합물(예 피리딘, 피롤, 이미다졸 및 이의 유도체)인 폴리아민 옥사이드가 있다.
또 다른 바람직한 부류의 폴리아민 N-옥사이드는 R이 방향족, 헤테로사이클릭 또는 지환족 그룹이고 N-0 작용성 그룹 중의 질소가 상기 R 그룹에 결합된 일반식(1)의 폴리아민 옥사이드이다.
이들 부류의 예에는 R 그룹이 방향족 그룹(예: 페닐)인 폴리아민 옥사이드이다.
형성된 아민 옥사이드 중합체가 수용성이고 염료 이동 억제 특성을 갖는 한 어떠한 중합체 주쇄도 사용할 수 있다. 적합한 중합체성 주쇄의 예에는 폴리비닐, 폴리알킬렌, 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리아크릴레이트 및 이의 혼합물이 있다.
본 발명의 아민 N-옥사이드 중합체중 아민 N-옥사이드에 대한 아민의 비는 전형적으로 10:1 내지 1:1OOOOOO이다. 그러나, 폴리아민 옥사이드 중합체에 존재하는 아민 옥사이드 그룹의 양은 적절한 공중합에 의해 또는 적절한 N-산화도에 의해 변화될 수 있다. 바람직한 아민 N-옥사이드에 대한 아민의 비는 3:1 내지 1:1OOOOOO이다. 본 발명의 중합체는 실질적으로 한 종류의 단량체가 아민 N-옥사이드이고 다른 종류의 단량체가 N-옥사이드이거나 그 이외의 것인 경우 랜덤 또는 블럭 공중합체를 포함한다.
폴리아민 N-옥사이드 중의 아민 옥사이드 단위의 PKa는 <10, 바람직하게는 <7, 보다 바람직하게는 <6이다.
폴리아민 옥사이드는 거의 임의의 중합도로 수득할 수 있다. 중합도는 중요하지 않는데, 단 물질은 목적하는 수용성 및 염료-현탁능을 갖어야 한다.
평균 분자량은 전형적으로 500 내지 1000,000, 보다 바람직하게는 1000 내지 500,000, 가장 바람직하게는 5000 내지 100,000이다.
본 발명의 폴리아민 N-옥사이드는 전형적으로 염료 이동 억제 조성물의 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 10중량%, 보다 바람직하게는 0.05 내지 1중량%, 가장 바람직하게는 0.05 내지 0.5중량%이다.
(B) 테레프탈레이트계 방오 중합체
놀랍게도, 본 발명에 이르러 폴리아민 N-옥사이드 중합체를 함유하는 세제 조성물의 일반적인 염료 이동 억제 성능은 테레프탈레이트계 방오 중합체를 가함으로써 개선될 수 있음이 밝혀졌다.
테레프탈레이트계 방오 중합체가 직물로 흡착되는 용량은 폴리아민 N-옥사이드 중합체에 의해 개선되는 것으로 생각된다. 이러한 결과로 인해, 방오 중합체는 세척 용액에 침지된 직물의 표면상에 보다 우수하게 흡착된다. 또한, 주쇄 구조는 말단 그룹이 방오 특성을 부여하면서 중합체가 직물에 흡착되는데 중요한 것으로 생각된다. 이어서, 흡착된 폴리에스테르는 직물 상에 필름을 형성하는데, 이는 직물을 블리딩으로부터 보호한다. 테레프탈레이트계 중합체와 폴리아민 N-옥사이드 함유 중합체의 배합물은 색상 블리딩을 방지하고 용해되거나 현탁된 염료의 이동을 제거하는데 매우 효과적인 염료 이동 억제 조성물을 형성할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 전체 염료 이동 억제 조성물의 중량을 기준으로 하여 테레프탈레이트계 방오 중합체 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.05 내지 5중량%를 포함한다. 이러한 방오 중합체는 당해 분야의 문헌에 널리 기재되어 있다[참조: US 4,116,885, US 4,132,680, EP 185 427, EP 199 403, EP 241 985 및 EP 241 984].
본원에서 사용하기에 적합한 중합체는 일반식
X-[(OCH2CH(Y))n(OR5)m]-[(A-R1-A-R2)u(A-R3-A-R2)v]-A-R4-A-[(R50)m(CH(Y)CH2O)n]-X의 중합체를 포함한다. 상기 일반식에서, 잔기 -[(A-R1-A-R2)u(A-R3-A-R2)v]-A-R4-A는 화합물의 올리고머 또는 중합체 주쇄를 형성한다.
결합 A 잔기는 필수적으로잔기이다. 즉, 본 발명의 화합물은 폴리에스테르이다. 본원에서 사용되는 용어 "A 잔기는 필수적으로잔기이다"는 A 잔기가 완전히 잔기이루어지거나(우레탄)과 같은 결합 잔기로 부분적으로 치환된 화합물을 언급한다. 이들 다른 결합 잔기를 사용하는 부분 치환 정도는 방오 특성에 크게 영향을 미치지 않는 정도이어야 한다.
바람직하게는, 결합 잔기 A는 주로(예: 100%) 잔기이루어진다.
다시 말하면, 각각의 A는
R1잔기는 필수적으로 1,4-페닐렌 잔기이다. 본원에서 사용되는 용어 "R1잔기는 필수적으로 1,4-페닐렌 잔기이다"는 R1잔기가 주로 1,4-페닐렌 잔기로 이루어지거나 다른 아릴렌 또는 알크아릴렌 잔기, 알킬렌 잔기, 알케닐렌 잔기 또는 이의 혼합물로 부분적으로 치환된 화합물을 언급한다. 1,4-페닐렌을 부분적으로 치환시킬 수 있는 아릴렌 및 알크아릴렌 잔기는 1,3-페닐렌, 1,2-페닐렌, 1,8-나프틸렌, 1,4-나프틸렌, 2,2-비페닐렌, 4,4'-비페닐렌 및 이의 혼합물을 포함한다. 부분적으로 치환될 수 있는 알킬렌 및 알케닐렌 잔기는 에틸렌, 1,2-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,5-펜틸렌, 1,6-헥사메틸렌, 1,7-헵타메틸렌, 1,8-옥타메틸렌, 1,4-사이클로헥실렌 및 이의 혼합물을 포함한다.
1,4-페닐렌 이외의 잔기로 R1잔기를 부분적으로 치환시키는 정도는 화합물의 방오 특성에 크게 영향을 미치지 않는 정도이어야 한다. 일반적으로, 허용될 수 있는 부분 치환 정도는 화합물의 주쇄 길이에 좌우될 것이다. 다시 말하면, 주쇄가 길면 길수록 1,4-페닐렌 잔기에 대한 부분 치환은 더 커질 수 있다. 통상적으로, R1이 1,4-페닐렌 잔기 약 50 내지 100%(1,4-페닐렌 이외의 잔기 0 내지 약 5O%)로 이루어진 화합물은 적절한 방오 활성을 갖는다. 예를 들면, 본 발명에 따라 제조되고 테레프탈산(1,4-페닐렌)에 대한 이소프탈산(1,3-페닐렌)의 mol비가 40:60인 폴리에스테르는 적절한 방오 활성을 갖는다. 그러나, 섬유 제조시 사용되는 대부분의 폴리에스테르는 에틸렌 테레프탈레이트 단위를 포함하기 때문에, 일반적으로 최대의 방오 활성을 위해 1,4-페닐렌 이외의 잔기를 사용하는 부분 치환 정도를 최소화시키는 것이 바람직하다. 바람직하게는, R1잔기는 주로(예: 1OO%), 1,4-페닐렌 잔기로 이루어진다. 다시 말하면, 각각의 R1잔기는 1,4-페닐렌이다.
R2잔기는 필수적으로 에틸렌 잔기이거나 C1-C4알킬 또는 알콕시 치환체를 갖는 치환된 에틸렌 잔기이다. 본원에서 사용되는 용어 "R2잔기는 필수적으로 에틸렌 잔기이거나 C1-C4알킬 또는 알콕시 치환체를 갖는 치환된 에틸렌 잔기이다"는 R2잔기가 주로 에틸렌 또는 치환된 에틸렌 잔기이거나 다른 혼화성 잔기로 부분적으로 치환시킨 본 발명의 화합물을 언급한다. 이들 다른 잔기의 예에는 선형 C3-C6알킬렌 잔기(예: 1,3-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,5-펜틸렌 또는 1,6-헥사메틸렌), 1,2-사이클로알킬렌 잔기(예: 1,2-사이클로헥실렌), 1,4-사이클로알킬렌 잔기(예: 1,4-사이클로헥실렌 및 1,4-디메틸렌사이클로헥실렌), 폴리옥시알킬화 1,2-하이드록시알킬렌및 옥시알킬렌 잔기(예:또는 -CH2CH2OCH2CH2-)을 포함한다.
이들 다른 잔기로 R2잔기를 부분적으로 치환시키는 정도는 화합물의 방오 특성에 크게 영향을 미치지 않는 정도이어야 한다. 일반적으로, 허용될 수 있는 부분 치환 정도는 화합물의 주쇄 길이에 좌우될 것이다. 다시 말하면, 주쇄가 길면 길수록 부분 치환은 더 커질 수 있다. 통상적으로, R2가 에틸렌 또는 치환된 에틸렌잔기 약 20 내지 100%(다른 혼화성 잔기 0 내지 약 8O%)로 이루어진 화합물은 적절한 방오 활성을 갖는다. 예를 들면, 본 발명에 따라 제조되고 에틸렌 글리콜(에틸렌)에 대한 디에틸렌 글리콜(-CH2CH2OCH2CH2-)의 mOl비가 75:25인 폴리에스테르는 적절한 방오 활성을 갖는다. 그러나, 최대의 방오 활성을 위해, 특히 옥시알킬렌 잔기를 사용하는 부분 치환 정도를 최소화시키는 것이 바람직하다. 본 발명에 따라 폴리에스테르를 제조하는 동안, 소량의 이들 옥시알킬렌 잔기(디알킬렌 글리콜로서)가 전형적으로 부 반응에서 글리콜로부터 형성된 다음 폴리에스테르로 혼입된다. 바람직하게는, R2는 에틸렌 또는 치환된 에틸렌 잔기 약 80 내지 100%와 다른 혼화성 잔기 0 내지 약 20%를 포함한다.
R2잔기에 있어서, 적합한 에틸렌 또는 치환된 에틸렌 잔기는 에틸렌, 1,2-프로필렌, 1,2-부틸렌, 1,2-헥실렌, 3-메톡시-1,2-프로필렌 및 이의 혼합물을 포함한다. 바람직하게는, R2잔기는 필수적으로 에틸렌 잔기, 1,2-프로필렌 잔기 또는 이의 혼합물이다. 에틸렌 잔기가 보다 다량으로 혼입되면 화합물의 방오 활성이 향상되는 경향이 있다. 놀랍게도, 1,2-프로필렌 잔기가 다량으로 혼입되면 화합물의 수용해도를 향상시킨다.
R3잔기에 있어서, 적합한 치환된 C2-C18하이드로카빌렌 잔기는 치환된 C2-C12알킬렌, 알케닐렌, 아릴렌, 알크아릴렌 등의 잔기를 포함할 수 있다. 치환된 알킬렌 또는 알케닐렌 잔기는 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭일 수 있다. 또한, R3잔기는 모두 동일하거나(예: 모두 치환된 아릴렌) 혼합물(예: 치환된 아릴렌과 치환된 알킬렌의 혼합물)일 수 있다. 바람직한 R3잔기는 치환된 1,3-페닐렌 잔기이다.
치환된 R3잔기는 바람직하게는 단지 하나의 -SO3M, -COOM, -0-[(R5O)m(CH(Y)CH2O)n]-X 또는 -A-[(R2-A-R4-A)]w-[(R5O)m(CH(Y)CH2O)n]-X 치환체를 갖는다. M은 수소이거나 다른 혼화성 수용성 양이온일 수 있다. 적합한 수용성 양이온은 수용성 알칼리 금속, 예를 들면, 칼륨(K+), 특히 나트륨(Na+) 뿐만 아니라 암모늄(NH4 +)을 포함한다. 또한, 적합한 치환된 암모늄 양이온은 다음 일반식을 갖는다:
상기식에서,
R1및 R2는 각각 C1-C20하이드로카빌 그룹(예: 알킬, 하이드록시알킬)이거나 함께 탄소수 4 내지 6의 사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환(예: 피페리딘, 모르폴린)을 형성하고,
R3은 C1-C20하이드로카빌 그룹이며,
R4는 H(암모늄) 또는 C1-C20하이드로카빌 그룹(4급 아민)이다.
전형적으로 치환된 암모늄 양이온 그룹은 R4가 H(암모늄) 또는 C1-C4알킬, 특히 메틸(4급 아민)이고, R1이 C10-C18알킬, 특히 C12-C14알킬이며 R2및 R3이 각각 C1-C4알킬, 특히 메틸인 그룹이다.
일반식 -A-[(R2-A-R4-A)]w-[(R5O)m(CH(Y)CH2O)n]-X 치환체를 갖는 R3잔기는 측쇄 주쇄 화합물을 제공한다. 일반식 -A-[(R2-A-R4-A)]w-R2-A 잔기를 갖는 R3잔기는 가교결합된 주쇄 화합물을 제공한다. 사실, 측쇄 주쇄 화합물을 제조하기 위해 사용되는 합성법은 전형적으로 적어도 소량의 가교결합된 주쇄 화합물을 제공한다.
잔기 -[(R5O)m(CH(Y)CH2O)n]- 및 -[(0CH(Y)CH2)n(OR5)m]-중 잔기 -(R5O)- 및 -(CH(Y)CH2O)-는 함께 혼합되거나 바람직하게는 -(R5O)- 및 -(CH(Y)CH2O)- 잔기의 블럭을 형성할 수 있다. 바람직하게는 -(R5O)- 잔기의 블럭은 화합물의 주쇄 다음에 위치한다. R5가 잔기 -R2-A-R6인 경우, m은 1이고, 또한 잔기 -R2-A-R6-은 바람직하게는 화합물의 주쇄 다음에 위치한다. R5에 있어서, 바람직한 C3-C4알킬렌은 C3H6(프로필렌)이고, R5가 C3-C4알킬렌인 경우, m은 바람직하게는 0 내지 약 5이고, 가장 바람직하게는 0이다. R6은 바람직하게는 메틸렌 또는 1,4-페닐렌이다. 잔기 -(CH(Y)CH2O)-는 바람직하게는 잔기 -[(R5O)m(CH(Y)CH2O)n]-의 약 75중량% 이상, 가장 바람직하게는 m이 O인 잔기 -[(R5O)m(CH(Y)CH2O)n]-의 100%를 차지한다.
각각의 잔기 -[(R5O)m(CH(Y)CH2O)n]-중 Y 치환체는 에테르 잔기 -CH2(0CH2CH2)pO-X이거나, 더욱 전형적으로 이러한 에테르 잔기와 H의 혼합물이고 p는 0 내지 100이지만, 전형적으로는 0이다. Y 치환체가 혼합물인 경우, 잔기 -(CH(Y)CH2O)n-는 다음 잔기로 나타낼 수 있다:
상기식에서,
n1은 1 이상이고,
n1+n2의 합은 n에 대한 값이다.
전형적으로, n1은 약 1 내지 약 10의 평균 값을 갖는다. 잔기및 -(CH2CH2O)n2-는 함께 혼합될 수 있지만, 전형적으로및 -(CH2CH2O)n2- 잔기의 블럭을 형성할 수 있다. X는 수소, C1-C4알킬 또는(여기서, R7은 C1-C4알킬이다)일 수 있다. X는 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이다. 각각의 n에 대한 값은 약 6 이상이지만, 바람직하게는 약 10 이상이다. 각각의 n에 대한 값은 일반적으로 약 12 내지 약 113이다. 전형적으로, 각각의 n에 대한 값은 약 12 내지 약 43의 범위이다.
주쇄 잔기 -(A-R1-A-R2)- 및 -(A-R3-A-R2)-는 함께 혼합되거나 -(A-R1-A-R2)- 및 -(A-R3-A-R2)- 잔기의 블럭을 형성할 수 있다. u+v의 값은, 본 발명의 화합물이 충분한 방오 활성을 갖도록 하기 위해 약 3 이상이 필요한 것으로 밝혀졌다. u+v의 최대 값은 일반적으로 화합물을 제조하는 방법에 의해 결정되는데, 약 25 이하일 수 있다. 다시 말하면, 본 발명의 화합물은 올리고머 또는 저분자량의 중합체이다. 전형적으로 섬유 제조시 사용되는 폴리에스테르는 본 발명의 화합물과 비교하면 훨씬 큰 분자량을 갖는다. 예를 들면 에틸렌 테레프탈레이트 단위가 약 50 내지 약 250이다. 전형적으로 본 발명의 화합물의 u+v의 합은 약 3 내지 약 10이다.
일반적으로, R3잔기가 치환체 -COOM 또는 -SO3M을 갖지 않는 경우, u+v 값이 크면 클수록 화합물의 용해도는 작아진다. 또한 n의 값이 증가함에 따라, u+v의 값은 화합물이 세탁하는 동안에 직물에 보다 우수하게 침착되도록 증가되어야 한다. R3잔기가 치환체 -A-[(R2-A-R4-A)]w2-[(R5O)m(CH(Y)CH20)n]-X(측쇄 주쇄 화합물) 또는 -A-[(R2-A-R4-A)]w-R2-A-(가교결한된 주쇄 화합물)를 갖는 경우, w의 값은 전형적으로 1 이상이고 화합물을 제조하는 방법에 의해 결정된다. 이들 측쇄 및 가교결합된 주쇄 화합물에 있어서, u+v+w의 값은 약 3 내지 약 25이다.
이러한 부류의 중합체에서 바람직한 화합물은 다음 일반식의 블럭 폴리에스테르이다.
상기식에서,
R1잔기는 모두 1,4-페닐렐 잔기이고,
R2잔기는 필수적으로 에틸렌 잔기, 1,2-프로필렌 잔기 또는 이의 혼합물이며,
R3잔기는 모두 칼륨이거나 바람직하게는 나트륨 5-설포-1,3-페닐렌 잔기 또는 5번 위치에 치환체을 갖는 치환된 1,3-페닐렌 잔기이고,
R4잔기는 R1또는 R3잔기이거나 이의 혼합물이며,
X는 각각 에틸이거나 바람직하게는 메틸이고,
n1은 각각 1 내지 약 5이며,
n1+n2의 합은 약 12 내지 약 43이고,
w가 0인 경우 u+v는 약 3 내지 약 10이며
w가 1 이상인 경우 u+v+w는 약 3 내지 약 10이다.
특히 바람직한 블럭 플리에스테르는 v가 0인 블럭 폴리에스테르, 예를 들면, 선형 블럭 폴리에스테르이다. 이들 가장 바람직한 선형 블럭 폴리에스테르에 있어서, u는 전형적으로 약 3 내지 약 8이다. 이들 선형 블록 폴리에스테르의 수용성은 u가 약 3 내지 약 5인 경우가 가장 크다.
본원에서 사용하기에 적합한 다른 중합체는 일반식의 중합체를 포함한다. 상기 일반식에서, 잔기 -[(A-R1-A-R2)u(A-R1-A-R3)v]-A-R1-A-는 화합물의 올리고머 또는 중합체 주쇄를 형성한다. 그룹 X-[(OCH2CH(Y))n(OR4)m]- 및 -[(R4O)m(CH(Y)CH2O)n]-X는 일반적으로 올리고머/중합체 주쇄의 말단에서 결합된다.
결합 A 잔기는 필수적으로즉, 본 발명의 화합물은 폴리에스테르이다. 본원에서 사용되는 용어 "A 잔기는 필수적으로잔기이다"는 A 잔기가 완전히 잔기 이루어지거나(아미드), 및(우레탄)과 같은 결합 잔기로 부분적으로 치환된 화합물을 언급한다. 이들 다른 결합 잔기를 사용하는 부분 치환 정도는 방오 특성에 크게 영향을 미치지 않는 정도이어야 한다.
바람직하게는, 결합 잔기 A는 주로(예: 100%) 잔기이루어진다.
즉, A는 각각
R1잔기는 필수적으로 1,4-페닐렌 잔기이다. 본원에서 사용되는 용어 "R1잔기는 필수적으로 1,4-페닐렌 잔기이다"는 R1잔기가 주로 1,4-페닐렌 잔기로 이루어지거나, 다른 아릴렌 또는 알크아릴렌 잔기, 알킬렌 잔기, 알케닐렌 잔기 또는 이의 혼합물로 부분적으로 치환된 화합물을 언급한다. 1,4-페닐렌에 대해 부분적으로 치환될 수 있는 아릴렌 및 알크아릴렌 잔기는 1,3-페닐렌, 1,2-페닐렌, 1,8-나프틸렌, 1,4-나프틸렌, 2,2-비페닐렌, 4,4'-비페닐렌 및 이의 혼합물을 포함한다. 부분적으로 치환될 수 있는 알킬렌 및 알케닐렌 잔기는 에틸렌, 1,2-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,5-펜틸렌, 1,6-헥사메틸렌, 1,7-헵타메틸렌, 1,8-옥타메틸렌, 1,4-사이클로헥실렌 및 이의 혼합물을 포함한다.
이들 다른 아릴렌, 알크아릴렌, 알킬렌 및 알케닐렌 잔기는 치환되지 않거나, 하나 이상의 -SO3M, -COOM 또는 -A-R7-[A-R1-A-R7-0]w-X 치환체 또는 또 다른 R1잔기에 가교결합된 하나 이상의 잔기 -A-R7-[A-R1-A-R7]w-X(여기서, R7은 잔기 R2또는 R3이고, w는 0 또는 1 이상이다)를 가질 수 있다. 바람직하게는, 이들 치환된 R1잔기는 단지 하나의 -SO3M, -COOM 또는 -A-R7-[A-R1-A-R7-0]w-X 치환체를 갖는다. M은 수소이거나 혼화성 수용성 양이온일 수 있다. 적합한 수용성 양이온은 수용성알칼리 금속, 예를 들면, 칼륨(K+), 특히 나트륨(Na+) 뿐만 아니라 암모늄(NH4 +)을 포함한다. 또한 적합한 치환된 암모늄 양이온은 다음 일반식을 갖는다:
상기식에서,
R1및 R2는 각각 C1-C20하이드로카빌 그룹(예: 알킬, 하이드록시알킬)이거나 함께 탄소수 4 내지 6의 사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환(예: 피페리딘, 모르폴린)을 형성하고,
R3은 C1-C20하이드로카빌 그룹이며,
R4는 H(암모늄) 또는 C1-C20하이드로카빌 그룹(4급 아민)이다.
전형적으로 치환된 암모늄 양이온성 그룹은 R4가 H(암모늄) 또는 C1-C4알킬, 특히 메틸(4급 아민)이고 R1이 C10-C18알킬, 특히 C12-C14알킬이며 R2및 R3이 각각 C1-C4알킬, 특히 메틸인 치환된 암모늄 양이온성 그룹이다.
-A-R7-[A-R1-A-R7-0]w-X 치환체를 갖는 R1잔기는 측쇄 주쇄 화합물을 제공한다. -A-R7-[A-R1-A-R7]w-A- 잔기를 갖는 R1잔기는 가교결합된 주쇄 화합물을 제공한다. 사실, 전형적으로 측쇄 주쇄 화합물을 제조하기 위해 사용되는 합성법은 적어도 소량의 가교결합된 주쇄 화합물을 제공한다.
R1잔기에 있어서, 1,4-페닐렌 이외의 잔기로 부분적으로 치환시키는 정도는 화합물의 방오 특성에 크게 영향을 미치지 않는 정도이어야 한다. 일반적으로, 허용될 수 있는 부분 치환 정도는 화합물의 주쇄 길이에 좌우될 것이다. 즉, 주쇄가 길면 길수록 1,4-페닐렌 잔기에 대한 부분 치환이 더 커질 수 있다. 일반적으로, R1이 1,4-페닐렌 잔기 약 50 내지 100%(1,4-페닐렌 이외의 잔기 0 내지 약 50%)로 이루어진 화합물은 적절한 방오 활성을 갖는다. 그러나, 섬유 제조시 사용되는 대부분의 폴리에스테르가 에틸렌 테레프탈레이트 단위를 포함하므로, 일반적으로 최대의 방오 활성을 위해 1,4-페닐렌 이외의 잔기를 사용하는 부분 치환 정도를 최소화시키는 것이 바람직하다. 바람직하게는, R1잔기는 주로(예: 1OO%) 1,4-페닐렌 잔기로 이루어진다. 다시 말하면, 각각의 R1잔기는 1,4-페닐렌이다.
R2잔기는 필수적으로 C1-C4알킬 또는 알콕시 치환체를 갖는 치환된 에틸렌 잔기이다. 본원에서 사용되는 용어 " R2잔기는 필수적으로 C1-C4알킬 또는 알콕시 치환체를 갖는 치환된 에틸렌 잔기이다"는 R2가 주로 치환된 에틸렌 잔기로 이루어지거나, 다른 혼화성 잔기로 부분적으로 치환된 본 발명의 화합물을 언급한다. 이들 다른 잔기의 예는 선형 C2-C6알킬렌 잔기(예: 에틸렌, 1,3-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,5-펜틸렌 또는 1,6-헥사메틸렌), 1,2-사이클로알킬렌 잔기(예: 1,2-사이클로헥실렌), 1,4-사이클로알킬렌 잔기(예: 1,4-사이클로헥실렌 및 1,4-디메틸렌-사이클로헥실렌), 폴리옥시알킬화 1,2-하이드록시알킬렌(예:) 및 옥시알킬렌 잔기 (예: -CH2CH2OCH2CH2-)를 포함한다.
R2잔기에 있어서, 이들 다른 잔기로 부분적으로 치환시키는 정도는 화합물의 방오 특성 및 용해도 특성에 크게 영향을 미치지 않는 정도이어야 한다. 일반적으로, 허용될 수 있는 부분 치환 정도는 목적하는 방오 특성 및 용해도 특성, 화합물의 주쇄 길이(예: 일반적으로 주쇄가 길면 길수록 부분 치환은 더 커질 수 있다) 및 포함된 잔기의 종류(예: 일반적으로 에틸렌 잔기를 사용하는 부분 치환이 크면 클수록 용해도는 저하된다)에 좌우될 것이다. 통상적으로, R2가 에틸렌 잔기 약 20 내지 1OO%(다른 혼화성 잔기 0 내지 약 8O%)로 이루어진 화합물은 적절한 방오 활성을 갖는다. 그러나, 일반적으로 최대의 방오 활성과 용해도 특성을 위해 상기와 같은 부분 치환을 최소화시키는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 폴리에스테르를 제조하는 동안, 소량의 옥시알킬렌 잔기(디알킬렌 글리콜로서)가 부 반응에서 글리콜로부터 형성된 다음 폴리에스테르에 혼입된다. 바람직하게는, R2는 치환된 에틸렌잔기 약 80 내지 100%와 다른 혼화성 잔기 0 내지 약 20%를 포함한다. R2잔기에 있어서, 적합한 치환된 에틸렌 잔기는 1,2-프로필렌, 1,2-부틸렌, 3-메톡시-1,2-프로필렌 및 이의 혼합물을 포함한다. 바람직하게는, R2잔기는 필수적으로 1,2-프로필렌 잔기이다.
R3잔기는 필수적으로 폴리옥시에틸렌 잔기 -(CH2CH2O)q-CH2CH2-이다. 본원에서 사용되는 용어 "R3잔기는 필수적으로 폴리옥시에틸렌 잔기 -(CH2CH2O)q-CH2CH2- 이다"는 R3이 주로 이러한 폴리옥시에틸렌 잔기로 이루어지거나 다른 혼화성 잔기를 추가로 포함하는 본 발명의 화합물을 언급한다. 이들 다른 잔기의 예는 C3-C6옥시알킬렌 잔기(예: 옥시프로필렌 및 옥시부틸렌), 폴리옥시알킬렌 잔기(예: 폴리옥시프로필렌 및 폴리옥시부틸렌) 및 폴리옥시알킬화 1,2-하이드록시알킬렌 옥사이드)를 포함한다.
이들 다른 잔기가 혼입되는 정도는 화합물의 방오 특성에 크게 영향을 미치지 않는 정도이어야 한다. 통상적으로, 본 발명의 화합물에서, 폴리옥시에틸렌 잔기는 각각의 R3잔기를 약 50 내지 1OO% 포함한다. 바람직하게는, 폴리옥시에틸렌 잔기는 각각의 R3잔기를 약 90 내지 1OO% 포함한다. 본 발명에 따라 폴리에스테르를 제조하는 동안, 소량의 옥시알킬렌 잔기가 부 반응에서 폴리옥시에틸렌 잔기에 결합되어 R3잔기에 혼입된다.
폴리옥시에틸렌 잔기에 있어서, q의 값은 약 9 이상, 바람직하게는 약 12 이상이다. 통상적인 q의 값은 약 12 내지 약 180이다. 전형적으로. q의 값은 약 12 내지 약 90이다.
잔기 -[(R4O)m(CH(Y)CH2O)n]- 및 -[(OCH(Y)CH2)n(OR4)m]- 중의 잔기 -(R4O)- 및 -(CH(Y)CH2O)- 는 함께 혼합될 수 있거나, 바람직하게는 -(R4O)- 및 -(CH(Y)CH2O)- 잔기의 블럭을 형성할 수 있다. 바람직하게는, -(R4O)- 잔기의 블럭은 화합물의 주쇄 다음에 위치한다, R4가 잔기 -R2-A-R5-인 경우, m은 1이고, 또한, 잔기 -R2-A-R5는 바람직하게는 화합물의 주쇄 다음에 위치한다. R4에 있어서, 바람직한 C3-C4알킬렌은 C3H6(프로필렌)이다. R1가 C3-C4알킬렌인 경우, m은 바람직하게는 0 내지 약 10, 가장 바람직하게는 0이다. R5는 바람직하게는 메틸렌 또는 1,4-페닐렌이다. 잔기 -(CH(Y)CH2O)-는 바람직하게는 잔기 -[(R4O)m(CH(Y)CH2O)n]- 중의 약 75중량%, 이상을 차지하고 가장 바람직하게는 100중량%(m은 0이다)를 차지한다.
각각의 잔기 -[(R5O)m(CH(Y)CH2O)n]- 중의 Y 치환체는 H, 에테르 잔기 -CH2(OCH2CH2)pO-X(여기서, P는 0 내지 100이지만, 전형적으로는 0이다) 또는 당해 에테르 잔기와 H의 혼합물이다. 전형적으로, Y 치환체는 모두 H이다. Y 치환체가 에테르 잔기와 H의 혼합물인 경우, 잔기 -(CH(Y)CH2O)n-는 다음 잔기로 나타낼 수 있다:
상기식에서,
n1은 1 이상이고,
n1+n2의 합은 n에 대한 값이다.
전형적으로, n1은 약 1 내지 약 10의 평균값을 갖는다. 잔기은 함께 혼합될 수 있지만, 전형적으로는잔기의 블록을 형성할 수 있다. X는 H,C1-C4 알킬 또는여기서, R7은 C1-C4알킬이다)일 수 있다.
X는 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이다. 각각의 n의 값은 통상적으로 약 6 이상이지만, 바람직하게는 약 10 이상이다. 각각의 n의 값은 통상적으로 약 12 내지 약 113이다. 전형적인 각각의 n의 값은 약 12 내지 약 45이다.
주쇄 잔기 -(A-R1-A-R2)- 및 -(A-R1-A-R3)-은 -(A-R1-A-R2)- 및 -(A-R1-A-R3)- 잔기의 블럭을 형성하거나, 전형적으로는 함께 랜덤하게 혼합될 수 있다. 이들 주쇄 잔기에 있어서, u의 평균 값은 약 2 내지 약 50일 수 있고, v의 평균 값은 약 1 내지 약 20일 수 있으며 u+v의 평균 값은 약 3 내지 약 70일 수 있다. u, v 및 u+v의 평균 값은 일반적으로 화합물을 제조하는 방법에 의해 결정된다. 일반적으로, v의 평균 값이 보다 크거나 u+v의 평균 값이 보다 작을 수록 화합물의 용해도는 더욱 커진다. 전형적으로, u의 평균 값은 약 5 내지 약 20이고, v의 평균 값은 약 1 내지 약 10이며 u+v의 평균 값은 약 6 내지 약 30이다. 일반적으로 v에 대한 u의 비는 약 1 이상이고, 전형적으로는 약 1 내지 약 6이다.
이러한 부류의 중합체에서 바람직한 화합물은 다음 일반식의 폴리에스테르이다:
상기식에서,
R1은 각각 1,4-페닐렌 잔기이고,
R2는 필수적으로 1,2-프로필렌 잔기이며,
R3은 필수적으로 폴리옥시에틸렌 잔기 -(CH2CH2O)q-CH2CH2- (여기서, q는 약 12 내지 약 90이다)이고,
X는 각각 에틸이거나, 바람직하게는 메틸이며,
n은 각각 약 12 내지 약 45이고,
u의 평균 값은 약 5 내지 약 20이며,
v의 평균 값은 약 1 내지 약 10이고,
u+v의 평균 값은 약 6 내지 약 30이고,
v에 대한 u의 비는 약 1 내지 약 6이다.
본원에서 사용하기에 매우 바람직한 중합체는 일반식
의 중합체(여기서, X는 임의의 적합한 캡핑 그룹일 수 있고, 각각의 X는 H, 탄소수 1 내지 약 4, 바람직하게는 1 내지 2의 알킬 그룹 또는 아실 그룹으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는데, 가장 바람직하게는 알킬이다)이다. n은 수 용해도에 따라 선택되는데, 일반적으로 약 10 내지 약 50, 바람직하게는 약 10 내지 약 25의 평균 값이다. u의 선택은 이온 세기가 비교적 큰 액체 세제를 제형화하는데 중요하다. u가 5 이상인 매우 작은 물질이 바람직하게는 약 1Omol% 이하, 보다 바람직하게는 5mol% 이하, 가장 바람직하게는 1mol% 이하이어야 한다. 추가로, u가 3 내지 5인 물질은 2Omol% 이상, 바람직하게는 4Omol% 이상이어야 한다.
R1잔기는 필수적으로 1,4-페닐렌 잔기이다. 본원에서 사용되는 용어 "R1잔기는 필수적으로 1,4-페닐렌 잔기이다"는 R1잔기가 주로 1,4-페닐렌 잔기로 이루어지거나, 다른 아릴렌 또는 알크아릴렌 잔기, 알킬렌 잔기, 알케닐렌 잔기 또는 이의 혼합물로 부분적으로 치환된 화합물을 언급한다. 1,4-페닐렌에 대해 부분적으로 치환될 수 있는 아릴렌 및 아크아릴렌 잔기는 1,3-페닐렌, 1,2-페닐렌, 1,8-나프틸렌, 1,4-나프틸렌, 2,2-비페닐렌, 4,4'-비페닐렌 및 이의 혼합물을 포함한다. 부분적으로 치환될 수 있는 알킬렌 및 알케닐렌 잔기는 에틸렌, 1,2-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,5-펜틸렌, 1,6-헥사메틸렌, 1,7-헵타메틸렌, 1,8-옥타메틸렌, 1,4-사이클로헥실렌 및 이의 혼합물을 포함한다.
R1잔기에 있어서, 1,4-페닐렌 이외의 잔기로 부분적으로 치환시키는 정도는 화합물의 방오 특성에 크게 영향을 미치지 않는 정도이어야 한다. 일반적으로, 허용될 수 있는 부분 치환 정도는 화합물의 주쇄 길이에 좌우될 것이다. 다시 말하면, 주쇄가 길면 길수록 1,4-페닐렌 잔기에 대한 부분 치환은 더 커질 수 있다. 통상적으로, R1이 1,4-페닐렌 잔기를 약 50 내지 100%(1,4-페닐렌 이외의 잔기 0 내지 약 5O%) 포함하는 화합물은 적절한 방오 활성을 갖는다. 예를 들면, 본 발명에 따라 제조되고 테레프탈산(1,4-페닐렌)에 대한 이소프탈산(1,3-페닐렌)의 mol비가 40:60인 폴리에스테르는 적절한 방오 활성을 갖는다. 그러나, 섬유 제조시 사용되는 대부분의 폴리에스테르가 에틸렌 테레프탈레이트 단위를 포함하기 때문에, 일반적으로 최대의 방오 활성을 위해 1,4-페닐렌 이외의 잔기로 부분 치환시키는 정도를 최소화시키는 것이 바람직하다. 바람직하게는, R1잔기는 주로(예, 100%) 1,4-페닐렌 잔기로 이루어진다. 즉, 각각의 R1잔기는 1,4-페닐렌이다.
R2잔기에 있어서, 적합한 에틸렌 또는 치환된 에틸렌 잔기는 에틸렌, 1,2-프로필렌, 1,2-부틸렌, 1,2-헥실렌, 3-메톡시-1,2-프로필렌 및 이의 혼합물을 포함한다. 바람직하게는, R2잔기는 필수적으로 에틸렌 잔기이거나, 바람직하게는 1,2-프로필렌 잔기 또는 이의 혼합물이다. 에틸렌 잔기가 다량으로 혼입되면 화합물의 방오 활성이 향상될지라도, 혼입된 양은 수 용해도에 의해 제한된다. 놀랍게도,1,2-프로필렌 잔기가 다량으로 혼입되면 화합물의 수 용해도와 방오 활성에 크게 영향을 미치지 않는 등방성 수성 세제 조성물을 형성하는 능력을 향상시키는 경향이 있다.
본 발명에 있어서, 1,2-프로필렌 잔기 또는 이와 유사한 측쇄 동등물을 사용하면 상당량의 방오 성분을 중질의 액체 세제 조성물에 혼입시키는 것을 최대화시키는데 매우 중요하다. 바람직하게는 R2잔기의 약 75 내지 약 100%, 보다 바람직하게는 약 90 내지 약 1OO%는 1,2-프로필렌 잔기이다.
일반적으로, 냉각(15℃) 에탄올에 가용성인 방오 성분은 또한 본 발명의 조성물에서 유용하다.
n의 평균 값은 약 10 이상이지만, n 값은 분산되어 있다. 각각의 n의 값은 일반적으로 약 10 내지 약 50이다. 각각의 n의 평균 값은 바람직하게는 약 10 내지 약 25이다.
방오 성분을 제조하기 위한 바람직한 방법은 u가 6 이상인 물질을 상당 부분이 포함하는 전형적인 분산을 갖는 중합체를 저온, 예를 들면, 약 10℃ 내지 약 15℃, 바람직하게는 약 13℃ 이하에서 필수적으로 무수 에탄올로 추출시키는 단계를 포함한다. 에탄올 가용성 분획은 중합체에 사실상 거의 존재하지 않으며 등방성 중질 액체, 특히 빌더 수준이 높은 액체로 훨씬 용이하게 혼입된다. u가 약 3 이하인 중합체는 필수적으로 방오 효과를 제공하는데 중요하지 않을지라도, 이들은 보다 높은 u값 보다 용이하게 혼입될 수 있다.
방오 성분을 제조하기 위한 보다 바람직한 방법은 직접 합성하는 것이다.
방오 성분과 이의 제조방법에 대한 보다 포괄적인 설명은 본원에서 참조로 인용되고, 1984년 12월 21일자로 유겐 피. 고셀링크(Eugene P. Gosselink)에 의해 출원되어 계류중인 미합중국 특허원 제684,511호에 기재되어 있다.
본원에서 사용하기에 가장 바람직한 중합체는 다음 일반식의 중합체이다:
상기식에서,
X는 메틸이고,
n은 16이며,
R1은 1,4-페닐렌 잔기이고,
R2는 1,2-프로필렌 잔기이며,
u는 필수적으로 3 내지 5이다.
세제 부가물
본 조성물은 세탁시 사용되는 통상적인 세제 조성물에 첨가제로서 편리하게 사용된다. 본 발명은 또한 세제 성분을 함유하여 세제 조성물로서 작용하는 염료 이동 억제 조성물을 포함한다.
다양한 종류의 계면활성제를 세제 조성물에 사용할 수 있다. 전형적인 음이온성, 비이온성, 양쪽성 및 쯔비터이온성 부류의 계면활성제 목록과 이들의 종류는 1972년 5월 23일자로 노리스(Norris)에게 허여된 미합중국 특허 제3,664,961호에 기재되어 있다.
음이온성 계면활성제 혼합물, 특히 중량비가 5:1 내지 1:2, 바람직하게는 3:1 내지 2:3, 보다 바람직하게는 3:1 내지 1:1인 설포네이트와 설페이트 계면활성제의 혼합물이 본원에서 특히 적합하다. 바람직한 설포네이트는 알킬 라디칼의 탄소수가 9 내지 15, 특히 11 내지 13인 알킬 벤젠 설포네이트 및 지방산이 C12-C18지방산 공급원, 바람직하게는 C16-C18지방산 공급원으로부터 유도되는 α-설폰화 메틸 지방산 에스테르를 포함한다. 각각의 경우에, 양이온은 알칼리 금속, 바람직하게는 나트륨이다. 바람직한 설페이트 계면활성제는 알킬 라디칼의 탄소수가 10 내지 20, 바람직하게는 10 내지 16이고 평균 에톡시화도가 1 내지 6인 에톡시 설페이트와 임의로 혼합된 알킬 라디칼의 탄소수가 12 내지 18인 알킬 설페이트이다. 본원에서 바람직한 알킬 설페이트의 예에는 탈로우 알킬 설페이트, 코코넛 알킬 설페이트 및 C14-C15알킬 설페이트가 있다. 각각의 경우에 양이온은 알칼리 금속 양이온, 바람직하게는 나트륨이다.
본 발명에서 유용한 비이온성 계면활성제의 한 부류는 평균 친수성-친유성 발런스(HLB)가 8 내지 17, 바람직하게는 9.5 내지 13.5, 보다 바람직하게는 10 내지 12.5인 계면활성제를 제공하는 에틸렌 옥사이드와 소수성 잔기의 응축물이다. 소수성(친유성) 잔기는 성질이 지방족 또는 방향족일 수 있고 임의의 특정한 소수성 그룹과 함께 응축된 폴리옥시에틸렌 그룹의 길이는 쉽게 조절하여 친수성 및 소수성 원소의 발런스가 목적하는 정도인 수용성 화합물을 수득할 수 있다.
특히 바람직한 이러한 종류의 비이온성 계면활성제는 알콜 1mol당 에틸렌 옥사이드 3 내지 8mol을 함유하는 C9-C151차 알콜 에톡실레이트, 특히 알콜 1mol당 에틸렌 옥사이드 6 내지 8mol을 함유하는 C14-C151차 알콜 및 알콜 1mol당 에틸렌 옥사이드 3 내지 5mol을 함유하는 C12-C141차 알콜이다.
또 다른 부류의 비이온성 계면활성제는 일반식 RO(CnH2nO)tZx의 알킬 폴리글리코사이드 화합물[여기서; Z는 글루코스로부터 유도된 잔기이고, R은 탄소수 12 내지 18의 포화된 소수성 알킬 그룹이며, t는 0 내지 10이고, n은 2 또는 3이며 x는 1.3 내지 4이다]을 포함한다. 이러한 화합물은 미반응 지방 알콜 10% 이하 및 단쇄 알킬 폴리글리코사이드 50% 이하를 포함한다. 이러한 종류의 화합물과 세제로서의 이의 용도는 문헌[참조: EP-B 0 070 077, 0 075 996 및 0 094 118]에 기재되어 있다.
또한, 적합한 비이온성 계면활성제는 다음 일반식의 폴리 하이드록시 지방산 아미드 계면활성제이다:
상기식에서,
R1은 H이거나 C1-4하이드로카빌, 2-하이드록시 에틸, 2-하이드록시 프로필 또는 이의 혼합물이고,
R2는 C5-31하이드로카빌이며,
Z는 쇄에 직접 결합된 3개 이상의 하이드록실과 함께 선형 하이드로카빌 쇄를 갖는 폴리하이드록시하이드로카빌 또는 이의 알콕시화 유도체이다.
바람직하게는, R1은 메틸이고, R2는 코코넛 알킬과 같은 직쇄 C11-15알킬 또는 알케닐 쇄이거나 이의 혼합물이며 Z는 환원 아민화 반응에서 환원 당(예: 글루코스, 프럭토스, 말토스, 락토스)로부터 유도된다.
본 발명에 따른 조성물은 추가로 빌더 시스템을 포함할 수 있다. 본원에서 사용하기에 적합한 임의의 통상적인 빌더 시스템은 알루미노실리케이트 물질, 실리케이트, 폴리카복실레이트, 지방산, 에틸렌디아민 테트라아세테이트 및 금속 이온봉쇄제, 예를 들면, 아미노폴리포스포네이트, 특히 에틸렌디아민 테트라메틸렌 포스폰산 및 디에틸렌 트리아민 펜타메틸렌포스폰산이다. 주위 환경적 이유 때문에 덜 바람직할지라도, 포스페이트 빌더 또한 본원에서 사용할 수 있다. 적합한 빌더는 무기 이온 교환 물질, 통상적으로 무기 수화된 알루미노실리케이트 물질, 보다 특히 수화된 합성 제올라이트(예: 수화된 제올라이트 A, X, B 또는 HS)이다. 또 다른 적합한 무기 빌더 물질은 층화된 실리케이트, 예를 들면, SKS-6(훽스트)이다. SKS-6은 나트륨 실리케이트(Na2Si2O5)로 이루어진 결정성 층화된 실리케이트이다. 본원에서 사용하기에 적합한 폴리카복실레이트 빌더는 바람직하게는 수용성 염 형태인 시트르산, 일반식 R-CH(COOH)CH2(COOH)의 석신산(여기서, R은 C10-C20알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 C12-C16알킬 또는 알케닐이거나, 하이드록실, 설포 설폭실 또는 설폰 치환체로 치환될 수 있다)의 유도체를 포함한다. 구체적으로 예를 들면, 라우릴 석시네이트, 미리스틸 석시네이트, 팔미틸 석시네이트, 2-도데세닐석시네이트, 2-테트라데세닐 석시네이트를 포함한다. 석시네이트 빌더는 나트륨, 칼륨, 암모늄 및 알칸올암모늄 염과 같은 이들의 수용성 염 형태로 사용하는 것이 바람직하다.
기타 적합한 폴리카복실레이트는 미합중국 특허 제4,663,071호에 기재된 바와 같은, 옥소디석시네이트 및 타르트레이트 모노석신산과 타르트레이트 디석신산의 혼합물이 있다.
특히 본원에서 액체 조성물에 사용하기에 적합한 지방산 빌더는 포화되거나 불포화된 C10-C18지방산 뿐만 아니라 상응하는 비누이다. 바람직한 포화된 종류는 알킬 쇄의 탄소수가 12 내지 16인 것이다. 바람직한 불포화 지방산은 올레산이다.
과립형 조성물에 사용하기에 바람직한 빌더 시스템은 제올라이트 A와 같은 수불용성 알루미노실리케이트 빌더와 시트르산과 같은 수용성 카복실레이트 킬레이트제의 혼합물을 포함한다.
본원에서 과립형 조성물에 사용하기 위한 빌더 시스템의 일부를 형성할 수 있는 다른 빌더 물질은 무기 물질(예: 알칼리 금속 탄산염, 중탄산염, 실리케이트)및 유기 물질(예: 유기 포스포네이트, 아미노 폴리알킬렌 포스포네이트 및 아미노 폴리카복실레이트)을 포함한다.
다른 적합한 수용성 유기 염은, 폴리카복실산이 2개 이하의 탄소 원자에 의해 서로 분리된 2개 이상의 카복실 라디칼을 포함하는, 단독중합체성 또는 공중합체성 산 또는 이의 염이다. 이러한 종류의 중합체는 GB-A 제1,596,756호에 기재되어 있다. 이러한 염의 예에는 분자량이 2,000 내지 5,000인 폴리아크릴레이트, 및 말레산 무수물과의 공중합체가 있는데, 이러한 공중합체의 분자량은 20,000 내지 70,000, 특히 약 40,000이다.
세제 빌더 염은 조성물에, 통상 10 내지 80중량%, 바람직하게는 20 내지 70중량%, 보다 바람직하게는 30 내지 60중량%의 양으로 함유한다.
세제 조성물에 사용되는 다른 성분, 예를 들면, 표백제, 거품 형성제 또는 억제제, 효소 및 이에 대한 안정화제 또는 활성화제, 오물 현탁제, 방오제, 광택제. 연마제, 살균제, 변색 억제제, 착색제 및 향료를 사용할 수 있다.
색상 보호 이점을 제공하는 테크놀러지와의 혼합물이 특히 바람직하다. 이들 테크놀러지의 예에는 폴리비닐피롤리돈 중합체 및 염료 이동 억제 특성을 갖는 다른 중합체가 있다. 이러한 테크놀러지의 또 다른 예에는 색상 유지/회복용 셀룰라제가 있다.
본 발명에 따른 세제 조성물은 액체, 페이스트 또는 과립 형태일 수 있다. 본 발명에 따른 과립형 조성물은 또한 "농축된 형태"일 수 있다. 다시 말하면, 이들은 통상적인 과립형 세제 보다 비교적 고밀도, 즉 550 내지 95Og/l를 가질 수 있다. 이러한 경우, 본 발명에 따른 과립형 세제 조성물은 통상적인 과립형 세제에 비해 소량의 "무기 충전제 염"을 함유할 것이다. 전형적인 충전제 염은 설페이트 및 클로라이드의 알칼리 토금속 염, 전형적으로 나트륨 설페이트이다. "농축" 세제는 전형적으로 충전제 염을 10% 이하로 포함한다. 본 발명에 따른 액체 세제 조성물은 통상적인 액체 세제에 비해 소량의 물을 함유할 것이다.
본 발명은 또한 착색된 직물과 함께 직물을 세탁하는 도중에 용해 및 현탁된 염료가 하나의 직물에서 다른 직물로 이동하는 것을 억제시키는 방법에 관한 것이다. 당해 방법은 상기된 바와 같은 세탁 용액을 직물과 접촉시키는 단계를 포함한다.
본 발명의 방법은 세척 과정 중에 수행하는 것이 편리하다. 세척 과정은 바람직하게는 5 내지 75℃, 특히 20 내지 60℃에서 수행하지만, 중합체는 95℃ 이하에서 효과적이다. 처리 용액의 pH는 바람직하게는 7 내지 11, 특히 7.5 내지 10.5이다.
본 발명의 방법 및 조성물은 또한 세탁 도중에 첨가제로서 사용할 수도 있다.
하기 실시예는 본 발명의 조성물을 예시하는 의미이지, 하기 특허청구의 범위에 기재된 본 발명의 범주를 제한하거나 한정하는 것이 아니다.
실시예 I
본 발명에 따라 제조된 액체 세제 조성물은 다음 조성을 갖는다:
선형 알킬벤젠 설포네이트 10
알킬 설페이트 4
지방 알콜 (C12-C15) 에톡실레이트 12
지방산 10
올레산 4
시트르산 1
NaOH 3.4
프로판디올 1.5
에탄올 10
폴리(4-비닐피리딘)-N-옥사이드 0.3
테레프탈레이트계 중합체 0.4
기타 100으로 만든다
실시예 II
본 발명에 따라 제조된 농축 과립형 세제 조성물은 다음 조성을 갖는다:
선형 알킬 벤젠 설포네이트 11.40
탈로우 알킬 설페이트 1.80
C45알킬 설페이트 3.00
7회 에톡시화된 C45알콜 4.00
11회 에톡시화된 탈로우 알콜 1.80
분산제 0.07
실리콘 유체 0.80
삼나트륨 시트레이트 14.00
시트르산 3.00
제올라이트 32.50
말레산 악틸산 공중합체 5.00
DETMPA 1.00
셀룰라제 (활성 단백질) 0.03
알칼라제/BAN 0.60
리파제 0.36
나트륨 실리케이트 2.00
나트륨 설페이트 3.50
글리코스 10.00
폴리(4-비닐피리딘)-N-옥사이드 0.3
테레프탈레이트계 중합체 0.4
기타 100으로 만든다
실시예 III 내지 VI
본 발명에 따른 조성물은 하기 실시예로 추가로 설명될 것이다. 다음의 액체 세제 조성물은 기재된 성분들을 기재된 비율(중량%)로 혼합하여 제조한다. 이들 조성물은 폴리하이드록시 지방산 아미드 계면활성제와 보레이트 및/또는 프로판디올로 이루어진 pH-점프 시스템(pH-Jump System)을 포함한다. 조성물은 pH 7 이하, 바람직하게는 pH 6.5에서 제형화된다. 희석시키면, 이들 제형은 pH 7.4 이상의 세척액을 제공한다. 이러한 pH-점프는 특정한 pH에서는 불안정하고 보다 낮은 pH에서는 제형화되는 조성물을 제공한다. 이러한 조성물의 예에는 보다 낮은 pH에서 중합체의 안정성이 보다 우수한 중합체 함유 조성물이다. pH-점프 시스템의 다른 이점은 전처리시의 개선된 표백 가능한 색소 제거와 낮은 제형화 비용을 포함하는데, 이때보다 높은 pH를 수득하기 위해서는 보다 적은 중화제가 필요하다.
(1) DC 3421은 다우 코닝으로부터 시판되는 실리콘 오일이다.
(2) 다우 코닝으로부터 시판되는 실리콘 글리콜 유화제.

Claims (6)

  1. (a) 폴리(4-비닐피리딘)-N-옥사이드인 폴리아민-N-옥사이드 함유 중합체 및 (b) 테레프탈레이트계 중합체를 포함하는 세제 조성물로서,
    상기 폴리아민-N-옥사이드 함유 중합체가 상기 세제 조성물의 중량을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 10%의 함량으로 존재하고, 상기 테레프탈레이트계 중합체가 상기 세제 조성물의 중량을 기준으로 약 0.01 내지 약 10 %의 함량으로 존재하는 세제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 폴리아민 N-옥사이드 중합체의 평균 분자량이 약 500 내지 약 1,000,000인 세제 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 폴리아민 N-옥사이드 중합체의 평균 분자량이 약 1,000 내지 약 500,000인 세제 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 폴리아민 N-옥사이드 중합체의 평균 분자량이 약 5,000 내지 약 100,000인 세제 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 테레프탈레이트 중합체가 하기 일반식의 구조를 갖는세제 조성물.
    로 이루어진 그룹에서 선택되고;
    R1은 1,4-페닐렌, 아릴렌, 알크아릴렌, 알킬렌, 알케닐렌 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택되고,
    R2는 C1-C4알킬 또는 알콕시 치환체를 갖는 치환된 에틸렌 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택되고;
    R3는 선형, 분지형 또는 환형의 치환된 C2-C18하이드로카빌렌으로 이루어진 그룹에서 선택되고;
    R4는 1,4-페닐렌, 아릴렌, 알크아릴렌, 알킬렌, 알케닐렌, 선형, 분지형 또는 환형의 치환된 C2-C18하이드로카빌렌 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택되고;
    R5는 C1-C4알킬 또는 알콕시 치환체를 갖는 에틸렌, 그룹 A 치환체, 메틸렌, 1,4-페닐렌 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택되고;
    Y는 에테르 잔기 -CH2(OCH2CH2)pO-X (여기서, P는 0 내지 100임), H 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고;
    X는 H, C1-C4알킬, 및 -C-R7(R7은 C1-C4알킬임)으로 이루어진 그룹에서 선택되고;
    n은 6 내지 113 범위의 수이고,
    m은 0 내지 5 범위의 수이고,
    u +v는 3 내지 25 범위이다.
  6. 제5항에 있어서, 상기 테레프탈레이트계 중합체가 하기식의 블록 중합체인 세제 조성물:
    여기서, n +m 의 합은 12 내지 43이다.
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