KR100318387B1 - Flat mask and method of manufacturing shadow mask for cathode ray tube using the same - Google Patents
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Abstract
음극선관에서 색선별 기능을 하는 새도우 마스크를 위한 플랫 마스크로서, 새도우 마스크의 제조 공정시 포밍 공정을 이룰 때에, 유공부의 대각부 주변에 일어나는 전자빔 통과공의 변형을 방지하도록 하기 위해, 전자총에서 방출된 전자빔이 해당 형광체에 랜딩되도록 형광체 스크린의 내면에 장착되는 새도우 마스크에 있어서, 상기 전자빔이 통과되는 복수의 빔 통과공을 구비하는 유공부와; 이 유공부의 사방 가장자리로부터 연장 형성되는 스컷트부;를 포함하고, 각각의 빔 통과공은 서로 마주보는 두쌍의 대향면을 갖는 사각 슬롯으로 이루어지며, 상기 빔 통과공중, 상기 유공부의 대각 주변부에 위치하는 빔 통과공이, 적어도 한쌍의 마주보는 대향면을 유공부의 장축 또는 단축 방향에 대하여 경사진 각도로 형성하여 이루어진다.Flat masks for shadow masks that perform color screening in cathode ray tubes, which are emitted from an electron gun to prevent deformation of the electron beam through-holes that occur around the diagonals of the perforations during the forming process of the shadow mask. A shadow mask mounted on an inner surface of a phosphor screen such that the electron beam is landed on the phosphor, the shadow mask comprising: a hole having a plurality of beam passing holes through which the electron beam passes; And a cut portion extending from all four edges of the perforated portion, wherein each beam passing hole is formed of a rectangular slot having two pairs of opposing surfaces facing each other, and among the beam passing holes, a diagonal periphery of the hole portion. The beam through hole located at is formed by forming at least one pair of opposing facing surfaces at an angle inclined with respect to the long axis or short axis direction of the hole.
Description
본 발명은 음극선관용 새도우 마스크에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 말하자면 플랫 마스크를 포밍(forming)시, 빔 통과공의 변형을 방지할 수 있도록 한 플랫 마스크와 이를 이용한 새도우 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a shadow mask for a cathode ray tube, and more particularly, to a flat mask and a method for manufacturing a shadow mask using the same to prevent deformation of the beam passing hole when forming the flat mask.
일반적으로 음극선관에서 사용되는 새도우 마스크는, 음극선관의 작용시 전자총에서 출사된 전자빔이 형광면에 랜딩될 수 있도록 하기 위해, 복수의 빔 통과공을 형성하고 있다.In general, the shadow mask used in the cathode ray tube forms a plurality of beam passing holes so that the electron beam emitted from the electron gun can be landed on the fluorescent surface upon the action of the cathode ray tube.
이러한 새도우 마스크는, 소위 유공부라 불리우는 유효 화면부에 복수의 빔통과공을 형성한 플랫 마스크(flat mask)가 프레스로 포밍되어 이루지게 되는 바, 이 포밍 공정에 의해 상기 유공부의 사방으로는 플랫 마스크를 마스크 프레임에 조립하기 위한 스컷트부가 형성되어지게 된다.The shadow mask is formed by pressing a flat mask formed with a plurality of beam through holes formed in an effective screen portion called a hole, by flat pressing. A cut portion for assembling the mask to the mask frame is formed.
상기 플랫 마스크에 형성되는 복수의 빔 통과공은, 음극선관의 특성에 따라 도트 또는 슬롯 형상으로 이루어지게 되며, 이들은 통상 유공부의 전체에 걸쳐 동일한 방향성을 갖고 형성된다.The plurality of beam passing holes formed in the flat mask are formed in a dot or slot shape according to the characteristics of the cathode ray tube, and they are usually formed with the same directivity over the whole of the hole.
이러한 종래의 음극선관용 새도우 마스크를 도면을 통해 살펴 보면 다음과 같다.Looking at the shadow mask for a conventional cathode ray tube through the drawings as follows.
도 4는 종래의 새도우 마스크를 위한 플랫 마스크의 부분 평면도로서, 음극선관의 어스팩트비에 맞추어 형성된 유공부(10a)에는 전자총에서 방출된 전자빔이 통과되는 복수의 빔 통과공(10b)이 형성되고. 상기 유공부(10a)의 외측으로 마스크(1)의 사방 테두리부분으로는 포밍공정을 통해 굽힘 가공되어 마스크 프레임의 측면부에 용접되는 스컷트부(10c)가 마련된다.4 is a partial plan view of a flat mask for a conventional shadow mask, a plurality of beam through holes (10b) through which the electron beam emitted from the electron gun is formed in the hole (10a) formed in accordance with the aspect ratio of the cathode ray tube . The cutout portion 10c which is bent through the forming process and welded to the side surface of the mask frame is formed on the four sides of the mask 1 to the outside of the hole 10a.
이 때, 상기 빔 통과공(10b)은, 도 5에 도시한 바와 같이, 유공부(10a)의 전면에 걸쳐 동일한 방향성을 가지면서, 소정의 수직 피치와 수평 피치를 가지고 형성된다. 도 5에 도시된 빔 통과공(10b)은 이 도면을 기준으로 볼 때, 유공부의 단축 방향을 동일한 방향으로 하면서 슬롯 타입으로 형성되고 있다.At this time, as shown in Fig. 5, the beam through hole 10b is formed with a predetermined vertical pitch and a horizontal pitch while having the same directivity over the entire surface of the perforation portion 10a. The beam through hole 10b shown in FIG. 5 is formed in the slot type while making the minor axis direction of the hole part the same direction based on this figure.
그런데, 상기와 같이 유공부(10a)의 전면에 걸쳐 상기 빔 통과공(10b)이 동일한 방향성을 가지고 형성된 플랫 마스크(1)는, 실질적으로 포밍공정을 실시할 때 상기 빔 통과공(10b)의 방향성이 흐트러지게 되며, 최종적으로 완성된 마스크(1)의 빔 통과공(10b)이 동일한 형상으로 형성되지 못하는 문제점이 있다.As described above, the flat mask 1 having the same directionality of the beam passing holes 10b over the entire surface of the hole 10a has substantially the same shape as that of the beam passing holes 10b. The directionality is disturbed, and there is a problem in that the beam passing holes 10b of the finally completed mask 1 are not formed in the same shape.
특히, 상기 빔 통과공(10b)의 제조 상태 불량은, 상기 유공부(10a)의 대각 주변부에서 더욱 크게 일어나고 있는데, 이처럼 빔 통과공(10b)이 포밍공정시 최초 방향성(상하좌우 대칭형상)을 지속적으로 유지하지 못하고 상하좌우 비대칭으로 형성되면, 전자빔을 통과시킬 때에 갖게 되는 여유도를 떨어 뜨리는 등의 문제점을 유발하게 된다.In particular, the manufacturing failure of the beam through hole (10b) is occurring in the periphery of the periphery of the hole (10a) is larger, such that the beam through hole (10b) in the forming process in the initial direction (up, down, left, right, symmetrical shape) If it is not continuously maintained and is formed asymmetrically up, down, left, and right, it causes problems such as deterioration of the margin of the electron beam.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 포밍 공정을 통해 일어나는 빔 통과공의 방향성 변형을 방지할 수 있도록 한 플랫 마스크와 이를 이용한 음극선관용 새도우 마스크의 제조 방법을 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a flat mask and a method for manufacturing a shadow mask for cathode ray tube using the same, which can prevent the directional deformation of the beam passing hole caused by the forming process. In providing.
이에 본 발명은 상기 목적을 실현하기 위하여,In order to realize the above object,
전자총에서 방출된 전자빔이 해당 형광체에 랜딩되도록 형광체 스크린의 내면에 장착되는 새도우 마스크에 있어서,상기 전자빔이 통과되는 복수의 빔 통과공을 구비하는 유공부와;A shadow mask mounted on an inner surface of a phosphor screen such that an electron beam emitted from an electron gun is landed on a corresponding phosphor, the shadow mask comprising: a hole having a plurality of beam passing holes through which the electron beam passes;
이 유공부의 사방 가장자리로부터 연장 형성되는 스컷트부를 포함하고,각각의 빔 통과공은 서로 마주보는 두쌍의 대향면을 갖는 사각 슬롯으로 이루어지며, 상기 빔 통과공중, 상기 유공부의 대각 주변부에 위치하는 빔 통과공이, 적어도 한쌍의 마주보는 대향면을 유공부의 장축 또는 단축 방향에 대하여 경사진 각도로 형성하여 이루어지는 플랫 마스크를 제안한다.And a cut portion extending from all four edges of the perforated portion, wherein each beam passing hole is formed of a rectangular slot having two pairs of opposing surfaces facing each other, and is located at the diagonal periphery of the hole passing hole. A flat mask is proposed in which a beam through hole is formed by forming at least a pair of opposing facing surfaces at an angle inclined with respect to the long axis or short axis direction of the hole.
또한, 본 발명은 상기 목적을 실현하기 위하여,In addition, the present invention to realize the above object,
복수의 빔 통과공이 형성될 유공부와 이 유공부의 사방 가장자리로부터 연장 형성되는 스컷트부가 설정되어 있는 원판상의 상기 유공부에 서로 마주보는 두쌍의 대향면을 갖는 사각 슬롯 형상의 빔 통과공을 형성하되, 상기 유공부의 대각 방향 주변부의 빔 통과공은 적어도 한쌍의 대향면이 유공부의 장축 또는 단축 방향에 대하여 경사진 각도로 형성하고, 상기 주변부 이외의 유공부 부분에는 각 대향면이 유공부의 장축 또는 단축 방향에 대하여 평행하게 전자빔 통과공을 형성하여 이루는 플랫 마스크 형성 단계와;Forming a rectangular slot-shaped beam through hole having two pairs of opposing surfaces facing each other in the hole on the disc, on which a hole portion in which a plurality of beam passage holes are to be formed and a cut portion extending from all four edges of the hole portion are set; However, at least one pair of opposing surfaces is formed at an angle inclined with respect to the long axis or short axis direction of the perforated portion, and each of the opposing portions is formed in the perforated portion other than the periphery. A flat mask forming step of forming an electron beam through-hole in parallel with a major axis or a minor axis of the;
상기 플랫 마스크 상에 설정된 성형면을 기준으로 상기 스컷트부를 굽힘 가공하는 포밍 단계를 포함하는 음극선관용 새도우 마스크의 제조 방법을 제안한다.A method of manufacturing a shadow mask for a cathode ray tube includes a forming step of bending the cut part on the basis of a molding surface set on the flat mask.
도 1은 본 발명에 관련하는 음극선관을 도시한 절개 사시도이고,1 is a cutaway perspective view showing a cathode ray tube according to the present invention,
도 2는 본 발명에 관련하는 플랫 마스크를 도시한 평면도이고,2 is a plan view showing a flat mask according to the present invention;
도 3은 본 발명에 관련하는 새도우 마스크의 전자빔 통과공을 도시한 도면이고,3 is a view showing an electron beam through hole of the shadow mask according to the present invention,
도 4는 종래의 음극선관용 새도우 마스크의 플랫 마스크를 도시한 부분 평면도이고,4 is a partial plan view showing a flat mask of a shadow mask for a conventional cathode ray tube,
도 5는 종래의 음극선관용 새도우 마스크의 전자빔 통과공을 도시한 도면이다.5 is a view showing an electron beam through hole of a shadow mask for a conventional cathode ray tube.
이하, 본 발명을 명확히 하기 위한 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시예와 관련되는 음극선관을 도시한 절개 사시도로서, 도시된 바와 같이 상기 음극선관은 유리 재질로 이루어진 패널(2), 펀넬(4), 넥크부(6)의 조합체인 진공관으로 형성된다.1 is a perspective view showing a cathode ray tube according to an embodiment of the present invention, as shown in the cathode ray tube is a combination of a panel 2, a funnel 4, a neck 6 made of a glass material It is formed into a vacuum tube.
이 진공관의 구성을 자세히 살펴 보면 우선, 상기 패널(2)은 대략 장방형의 꼴로 이루어지면서 이의 내면에는 도트 또는 스트라이프 형상으로 형성된 형광막이 포함된 형광체 스크린(8)이 형성된다.Looking at the configuration of the vacuum tube in detail, first, the panel 2 is formed in a substantially rectangular shape, and a phosphor screen 8 including a fluorescent film formed in a dot or stripe shape is formed on an inner surface thereof.
이러한 패널(2)에 연결 설치되는 상기 펀넬(4)은, 전체적으로 깔대기 형상을 취하는 바, 그 외주상에는 전자빔(B)의 편향을 위해 자계를 형성하는 편향 요크(10)가 설치되고, 이 펀넬(4)에 연결 설치되는 넥크부(6)에는 R,G,B 3개의 전자빔(B)을 발생시키기 위한 전자총(12)이 삽입 설치된다.The funnel 4 connected to the panel 2 has a funnel shape as a whole, and a deflection yoke 10 is formed on the outer circumference thereof to form a magnetic field for deflection of the electron beam B. 4, an electron gun 12 for inserting R, G, B three electron beams B is inserted into and installed in the neck part 6 connected to the neck.
또한, 상기 패널(1)의 내측에는 상기 음극선관에서 색선별 장치로서 작용하는 새도우 마스크(14)가 마스크 프레임(16)에 의해 지지되어 설치되는 바, 이 새도우 마스크(14)는 주지된 바와 같이 복수의 빔 통과공(14a)이 형성되는 유공부(14b)와, 이 유공부(14b)의 사방 가장자리로부터 연장되어 굽힘 형성되는 스컷트부(14c)를 포함하여 이루어진다. 이 때, 이 새도우 마스크(14)도 상기 유공부(14b)를 상기 패널(2)에 대응하여 대략 장방형으로 이루면서 이 유공부(14b)에 도시한 바와 같이 일정한 곡률을 주어 형성한다.In addition, a shadow mask 14 serving as a color screening device in the cathode ray tube is supported and installed inside the panel 1, and the shadow mask 14 is known as described above. And a hole portion 14b in which a plurality of beam passage holes 14a are formed, and a cut portion 14c extending and bent from the four edges of the hole portion 14b. At this time, the shadow mask 14 is also formed in a substantially rectangular shape corresponding to the panel 2 while giving the constant curvature as shown in the perforated portion 14b.
이에 상기와 같이 형성되는 상기 음극선관은, 상기 전자총(12)으로부터 발생된 전자빔(B)을 상기 편향 요크(10)에 의해 상기 패널(2)의 장축방향(H) 및 단축방향(V)로 편향시켜, 상기 전자빔(B)이 상기 새도우 마스크(14)의 하나의 빔 통과공(14a)에서 컨버어젼스 되도록 한 후, 이를 상기 형광체 스크린(8)에 충돌시켜 이 때 발생되는 빛으로 소정의 화상을 구현하게 된다.In the cathode ray tube formed as described above, the electron beam B generated from the electron gun 12 is moved in the major axis direction H and the minor axis direction V of the panel 2 by the deflection yoke 10. Deflecting, so that the electron beam B is converged in one beam through hole 14a of the shadow mask 14, and then collides with the phosphor screen 8 to produce a predetermined amount of light. The image will be implemented.
이러한 음극선관에서, 상기 새도우 마스크(14)는 다음과 같은 플랫 마스크를 이용하여 제조되어진다.In this cathode ray tube, the shadow mask 14 is manufactured using the following flat mask.
도 2는 본 실시예에 따른 플랫 마스크(140)를 도시한 평면도로서, 이 플랫 마스크(140)는 상기한 스컷트부(14c)가 상기 유공부(14b)로부터 굽힘 가공되기 전의 평탄한 상태의 마스크를 나타낸다.2 is a plan view showing a flat mask 140 according to the present embodiment, which is a mask in a flat state before the cut portion 14c is bent from the hole portion 14b. Indicates.
도시된 바와 같이 상기 플랫 마스크(140)에는, 상기한 유공부(14b)의 자리가 임의의 크기로 설정되며, 이 유공부(14b)의 사방 외측으로는 스컷트부(14c)가 연장 형성된다.As shown in the flat mask 140, the position of the hole 14b is set to an arbitrary size, and the cut portion 14c extends outward from all sides of the hole 14b. .
물론, 상기 유공부(14) 내에는 복수의 빔 통과공(14a,14'a)이 임의의 패턴을 유지하여 형성되며, 상기 스컷트부(14c)의 코너부나 이의 중심부 가장자리에는, 코너 노치(corner notch)(14d)와 가이드 노치(guide notch)(14e)가 형성되어 있다.Of course, a plurality of beam passing holes 14a and 14'a are formed in the perforated portion 14 while maintaining an arbitrary pattern, and a corner notch (at the corner portion of the cut portion 14c or a central edge thereof) is formed. A corner notch 14d and a guide notch 14e are formed.
이러한 플랫 마스크(140)에서, 상기한 빔 통과공(14a,14'a)은, 상기 유공부(14b)에 있어 이의 대각부 주변부에 형성되는 형상과, 상기 대각부 주변부 이외의 부분에 형성되는 형상을 달리하게 된다.In such a flat mask 140, the beam through holes 14a and 14'a are formed in the shape of the perforated portion 14b around the diagonal portion thereof, and in portions other than the diagonal portion peripheral portion thereof. The shape will be different.
즉, 상기 대각부 주변부 이외의 부분에 형성되는 전자빔 통과공(14a)은, 도 5에 도시한 있듯이, 마스크의 상하좌우 방향으로 대칭인 통상적인 사각 슬롯으로 이루어진다.That is, the electron beam through hole 14a formed in portions other than the diagonal portion peripheral portion, as shown in Fig. 5, is composed of ordinary rectangular slots symmetrical in the vertical, vertical, left and right directions of the mask.
이에 반하여, 상기 유공부(14b)의 대각부 주변부에 형성되는 빔 통과공(14'a)은, 도 3에 도시한 바와 같이 적어도 마주 보는 한쌍의 대향면을 유공부의 장축(H) 또는 단축(V) 방향에 대해 경사진 각도로 형성하여 마스크의 상하좌우 방향으로 비대칭으로 형성한다.On the contrary, as shown in FIG. 3, the beam through hole 14'a formed at the periphery of the diagonal portion of the perforated portion 14b has a long axis H or a short axis of a pair of opposing surfaces facing each other. It is formed at an inclined angle with respect to the (V) direction and formed asymmetrically in the vertical, vertical, left and right directions of the mask.
다시 말해, 상기 전자빔 통과공(14'a)은, 상기 유공부(14a)의 단축(V) 방향을 따라 배치되는 장공으로 이루어지면서, 상기 단축(V) 방향 상에 배치되는 대향면을 장축(H) 방향에 대해 경사진 각도로 형성한다. 이 때, 상기 대향면이 갖는 경사 방향은, 상기 유공부(14a)의 대각(D) 방향에 맞추어 이루어짐이 바람하다.In other words, the electron beam through hole 14'a is formed of a long hole disposed along the short axis V direction of the hole 14a, and has a long axis of the opposite surface disposed on the short axis V direction. H) is formed at an inclined angle with respect to the direction. At this time, the inclined direction of the opposing surface is preferably made to match the diagonal D direction of the hole 14a.
이와 같은 빔 통과공(14a,14'a)은 마스크 원판상에 일반적인 감광액 도포,노광,현상,에칭 공정 등을 실시하여 형성하며, 빔 통과공이 형성된 플랫 마스크(140)는, 소정의 수소 열처리(annealing)를 거친 후, 포밍 공정으로 옮겨져 상기한 스컷트부(14c)가 굽힘 가공되도록 성형된다. 여기서 이 포밍 공정은 상기 플랫 마스크(14c)상에 설정된 성형면(14f)을 기준으로 행해지게 된다.The beam through holes 14a and 14'a are formed by applying general photosensitive liquid coating, exposure, development, and etching processes on the mask disc, and the flat mask 140 having the beam through holes formed therein may be subjected to predetermined hydrogen heat treatment ( After annealing, it is transferred to a forming process and the above cut portion 14c is molded to bend. Here, this forming step is performed based on the forming surface 14f set on the flat mask 14c.
여기서 이 포밍 공정은, 통상과 같이 프레스에 의한 가공 방법에 따라 이루어지게 되는 바, 상기 플랫 마스크(140)가 프레스에 의해 포밍될 때, 상기 유공부(14b)의 대각부 주위에 형성된 상기한 빔 통과공(14'a)은 포밍 완료후 마스크(140)의 중앙부에 있는 빔 통과공(14a)과 동일한 형상을 갖도록 변형을 일으키게 된다.즉, 본 발명에서는 기존의 플랫 마스크를 포밍할 때 발생되는 빔 통과공의 변형 정도에 맞추어 상기 유공부(14b) 대각부 주변부에 형성되는 빔 통과공(14'a)을 미리 경사진 각도로 형성해 놓고 이를 포밍하게 됨으로써, 이에 대한 최종적인 왜곡 변형을 방지할 수 있게 되는 것이다.Here, the forming process is performed according to a processing method by a press as usual, and when the flat mask 140 is formed by a press, the beam formed around the diagonal portion of the hole 14b. The through hole 14'a is deformed to have the same shape as the beam through hole 14a at the center of the mask 140 after the forming is completed. That is, in the present invention, when the existing flat mask is formed, The beam through hole 14'a formed at the periphery of the diagonal portion of the perforated part 14b is formed at an inclined angle in advance according to the degree of deformation of the beam through hole, thereby forming the beam through hole 14'a to prevent final distortion deformation thereof. It will be possible.
이에 상기한 포밍 공정에 따라 상기 유공부(14b)의 전면에 걸쳐 빔 통과공이 최초에 원하던 설계치(사각 슬롯)대로 모양을 갖추면서 상기 플랫 마스크(140)가 새도우 마스크(14)로 성형되면, 이 새도우 마스크(14)는 이후의 탈지 및 흑화 공정을 거쳐 최종적으로 완성되어지게 된다.Accordingly, when the flat mask 140 is molded into the shadow mask 14 while the beam passing hole is shaped to the desired design value (square slot) over the entire surface of the hole 14b according to the forming process described above, The shadow mask 14 is finally completed through a subsequent degreasing and blackening process.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였으나, 본 발명은이에 한정되는 것은 아니고 특허 청구의 범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하는 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, this also belongs to the scope of the present invention.
상기와 같이 본 발명에 의한 음극선관용 새도우 마스크용 플랫 마스크는, 최종 완성된 새도우 마스크의 빔 통과공이 유공부에 있어 부분적으로 찌그러져 성형되는 것을 방지하도록 한다.As described above, the flat mask for shadow mask for cathode ray tube according to the present invention prevents the beam passing hole of the final shadow mask from being partially crushed and molded in the perforated part.
따라서, 본 발명의 플랫 마스크는 해당 새도우 마스크의 빔 통과공이 전자빔에 대한 충분한 통과 여유도를 갖도록 하여, 이에 따른 양호한 작용으로 음극선관의 품위를 향상시키는데 효과를 가지게 된다.Therefore, the flat mask of the present invention has the effect that the beam through hole of the shadow mask has a sufficient margin of passage for the electron beam, thereby improving the quality of the cathode ray tube with a good effect.
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