KR100274826B1 - Shadow mask and its manufacturing method _ - Google Patents
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Abstract
본 발명은 디스플레이용 칼라 브라운관에 사용되는 새도우 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 칼라 디스플레이 튜브 브라운관 제조시 전자빔의 진행을 용이하게 하고 섀도우 마스크의 기계적 강도를 향상시킨 것에 관한 것이다.The present invention relates to a shadow mask used in a color cathode ray tube for a display and a method of manufacturing the shadow mask, and more particularly, to a method for facilitating the progress of an electron beam and improving a mechanical strength of a shadow mask in manufacturing a color display tube cathode ray tube.
본 발명의 섀도우 마스크 및 그 제조 방법에 의하면, 대공은 타다각형, 소공은 원형상으로 제작하여 섀도우 마스크를 브라운관에 장착, 제작시 전자빔의 진행방향과 일치되도록 타다각형을 회전하여 배치하고, 또한 관통공 및 튜브 패널의 공경형성을 균일하게 확보하는 동시에 섀도우 마스크내 관통공의 위치에 따라서 전자빔이 충분히 통과할 수 있는 크기로 변화시켜 배치함으로써 전자빔 통과와는 상관없는 부분을 에칭시키지 않아 섀도우 마스크의 기계적 강도를 향상시킬 수 있고 각 위치에 따라서 전자빔이 충분히 통과할 수 있도록 테이퍼를 형성하였다.According to the shadow mask of the present invention and the method for manufacturing the shadow mask, it is possible to manufacture the shadow mask with a polygonal shape and the circular hole with a circular shape, mount the shadow mask on the cathode ray tube, rotate the ridge polygon so as to coincide with the advancing direction of the electron beam, The hole and the tube panel can be uniformly formed and the electron beam can be sufficiently passed therethrough according to the position of the through hole in the shadow mask so that the portion not related to the passage of the electron beam is not etched, A taper was formed so that the strength could be improved and the electron beam could pass sufficiently according to each position.
Description
본 발명은 디스플레이용 칼라 브라운관에 사용되는 새도우 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 칼라 디스플레이 튜브(Color Display Tube:CDT) 브라운관 제조시 전자빔의 진행을 용이하게 하고, 섀도우 마스크의 기계적 강도를 향상시킨 섀도우 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a shadow mask used in a color cathode ray tube for a display and a method of manufacturing the shadow mask. More particularly, the present invention relates to a shadow mask used for a color cathode ray tube A shadow mask and a manufacturing method thereof.
일반적으로, 섀도우 마스크는 전자총에서 방사된 전자빔을 브라운관 패널(panel) 내면의 R·G·B 각각에 해당하는 화소에 닿게하는 색선별 전극 기능을 하는 장치이다.Generally, a shadow mask is a device that functions as a color-selecting electrode that makes an electron beam emitted from an electron gun come in contact with a pixel corresponding to each of R, G, and B on the inner surface of a cathode ray tube panel.
도 1은 섀도우 마스크의 전체 구성도로서, 전자빔이 통과되는 관통공으로 형성된 유효부(10)와 브라운관에 장착될 수 있도록 하는 외주부(20)로 구성된다.FIG. 1 is an overall view of a shadow mask, which comprises an effective portion 10 formed of a through hole through which an electron beam passes, and an outer peripheral portion 20 capable of being mounted on a cathode ray tube.
도 2는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 스크린 측에서 본 관통공 형상을 나타낸 평면도이고, 도 3a는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 유효부 중앙에 형성된 관통공의 단면형상도이고, 도 3b는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 유효부의 중앙 주변부에 형성된 관통공의 단면형상도이다.FIG. 3 is a cross-sectional view of a through hole formed at the center of the effective portion of the shadow mask according to the prior art, and FIG. 3B is a cross- Sectional view of a through hole formed at the center peripheral portion of the effective portion of the shadow mask according to the embodiment of the present invention.
중심부인 A지점에서는 소공(12)이 대공(14)의 중심에 위치하고, 중심부의 주변인 B,C,D지점에서는 소공(24)이 대공(22)에 대하여 전자빔이 진행하는 방향으로 형성되어 있다.At the center point A, the small hole 12 is located at the center of the air hole 14 and the small holes 24 are formed in the direction of the electron beam toward the air hole 22 at the points B, C and D around the center.
전자빔은 섀도우 마스크의 전자총 측면의 소공에서 스크린 측면의 대공으로 진행하여 브라운관 패널 내면에 입사된다. 관통공의 일정한 배열로 된 유효부(10)를 통과하는 전자빔은 섀도우 마스크의 중심부에서는 수직으로 입사되고 주변부에서는 편향요크에 의해 일정 각도로 경사지게 입사된다.The electron beam travels from the pores on the side of the electron gun of the shadow mask to the air on the side of the screen and is incident on the inner surface of the cathode ray tube panel. The electron beam passing through the effective portion 10 having a constant arrangement of the through-holes is vertically incident at the central portion of the shadow mask, and incident at a peripheral portion thereof obliquely at an angle by the deflection yoke.
이러한 특징으로 인하여 섀도우 마스크는 도 2, 도 3a 및 도 3b와 같은 구조로 형성되며, 주변부에서는 전자빔의 통과를 용이하게 하기 위하여 중심부에 형성된 관통공의 테이퍼(16)보다 B,C,D 지점에 형성된 관통공의 테이퍼(18)를 더 크게 형성하여 전자빔 투과가 용이하도록 형성되어 있다.2, 3A, and 3B. In order to facilitate the passage of the electron beam at the peripheral portion, the shadow mask is formed at the positions B, C, and D with respect to the taper 16 of the through- The taper 18 of the formed through hole is formed to be larger so as to facilitate electron beam transmission.
최근의 CDT용 브라운관은 점차 고정세화, FST(Flat Square Tube)화, 대형화 및 튜브 전장 길이 축소를 통한 전자빔 투과 각도 증대 등 더욱 더 고정도화 되어간다. 여기에 따라 섀도우 마스크에 관해서도 관통공의 피치와 공경 등 모든 부분에서도 고정세화 및 대형화되어 가는 경향이며, 또 섀도우 마스크의 열팽창으로 발생되는 도밍현상에 의하여 정확한 전자빔의 통과가 이루어지지 않아 브라운관의 화면 표현 문제 발생에 대한 대책 요구 및 브라운관의 충격 완화, 강화 특성에 대하여 새도우 마스크의 기계적 강도의 향상도 요구되어지고 있다.Recently, CDT cathode ray tubes are becoming more and more fixed, such as increasingly flattened, flat-square tube (FST), larger size, and increasing electron beam transmission angle through reduction of tube length. As a result, the shadow mask tends to become finer and larger in all areas, such as the pitch and pore size of the through-hole. Further, due to the dome phenomenon caused by the thermal expansion of the shadow mask, There is also a demand for countermeasures against the occurrence of problems, and also for improving the mechanical strength of the shadow mask in order to alleviate the impact of the cathode ray tube and to enhance the characteristics thereof.
브라운관이 FST화 및 대형화 됨에 따라 섀도우 마스크의 주변부에 투과되는 전자빔의 경사는 더 크게 형성되어지며, 전자빔이 충분히 섀도우 마스크를 통과하여 브라운관 패널에 입사되도록 요구된다. 이러한 이유로 섀도우 마스크 주변부에 있어서는 도 3에 표시된 테이퍼(taper)를 종래보다 크게 형성되어진 형태로 만들어져야 한다.As the cathode ray tube becomes FST and larger, the inclination of the electron beam transmitted to the peripheral portion of the shadow mask is made larger, and the electron beam is required to sufficiently pass through the shadow mask and enter the cathode ray tube panel. For this reason, the taper shown in Fig. 3 should be formed in the peripheral portion of the shadow mask to have a shape larger than that of the prior art.
여기에 섀도우 마스크의 도밍 현상 및 기계적 강도 향상을 위한 대책으로 섀도우 마스크의 소재 및 두께를 변경하는 방법을 사용하거나, 소공 및 대공을 전자빔이 통과될 수 있는 최소 형태만 유지하고 불필요한 부분은 에칭시키지 않게 하여 섀도우 마스크의 체적을 보다 크게 하여 기계적 강도를 향상시키는 방법이 제안되었다.As a countermeasure for improving the shadowing phenomenon and mechanical strength of the shadow mask, a method of changing the material and thickness of the shadow mask is used, or the pores and the air holes are maintained in the minimum form through which the electron beam can pass and the unnecessary portions are not etched Thereby increasing the volume of the shadow mask and improving the mechanical strength.
그러나, 이와 같이 구성된 종래의 섀도우 마스크 및 그 제작 방법에 의하면, 섀도우 마스크의 주변부에 형성된 관통공의 테이퍼(18)를 크게 확보하기 위해서는 소공(24)과 대공(22)을 도 4와 같이 전자빔 진행방향으로 중심 이동을 많이 해 주어야 한다. 이러한 경우, 실제 브라운관 패널 상의 공경 형상이 균일하지 못하고 편차가 심해지며 브라운관 패널의 품질에 안 좋은 영향을 주는 등의 문제점이 있었다.However, according to the conventional shadow mask and the method for fabricating the shadow mask constructed as described above, in order to secure the taper 18 of the through hole formed in the peripheral portion of the shadow mask, the small hole 24 and the air hole 22 are moved You have to make a lot of center shift in the direction. In this case, there is a problem that the pore shape on the actual CRT panel is not uniform, the deviation becomes worse, and the quality of the CRT panel is adversely affected.
이에, 본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 그 목적으로 하는 바는 칼라 디스플레이 튜브(CDT) 브라운관 제조시 전자빔의 진행을 용이하게 하고, 섀도우 마스크의 기계적 강도를 향상시킨 섀도우 마스크 및 그 제조 방법을 제공하는데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a shadow mask which facilitates the progress of an electron beam during manufacture of a color display tube (CDT) cathode ray tube and improves the mechanical strength of the shadow mask, And a method of manufacturing the same.
도 1은 일반적인 섀도우 마스크의 전체 구성도Fig. 1 is an overall configuration diagram of a general shadow mask
도 2는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 스크린 측에서 본 관통공 형상을 나타낸 평면도2 is a plan view showing a shape of a through hole seen from the screen side of a shadow mask according to the related art
도 3a는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 유효부 중앙에 형성된 관통공의 단면형상도FIG. 3A is a cross-sectional view of a through hole formed at the center of an effective portion of a conventional shadow mask
도 3b는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 유효부 중앙 주변부에 형성된 관통공의 단면형상도FIG. 3B is a cross-sectional view of the through hole formed in the center peripheral portion of the effective portion of the shadow mask according to the prior art
도 4는 종래 기술에 따른 섀도우 마스크의 테이퍼 확보를 위하여 대공 중심이동을 나타낸 평면도FIG. 4 is a plan view showing the movement of the center of the hole for securing taper of the shadow mask according to the related art.
도 5는 본 발명에 의한 섀도우 마스크의 유효부를 나타낸 평면도5 is a plan view showing an effective portion of the shadow mask according to the present invention.
도 6은 본 발명에 의한 섀도우 마스크의 유효부 주변부에 형성된 관통공의 형상도6 is a view showing the shape of the through hole formed in the peripheral portion of the effective portion of the shadow mask according to the present invention
도 7은 본 발명에 의한 섀도우 마스크의 대공 및 소공 원판 플레이트 형상도FIG. 7 is a cross-sectional view of a shadow mask according to the present invention,
도 8은 본 발명에 의한 섀도우 마스크의 유효부 및 주변부에 형성된 관통공의 단면형상도FIG. 8 is a cross-sectional view of a through hole formed in an effective portion and a peripheral portion of a shadow mask according to the present invention
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Description of the Related Art [0002]
10 : 유효부10: valid part
14, 32 : 중앙부에 형성된 관통공의 대공14, 32: air hole formed in the center portion
12, 34 : 중앙부에 형성된 관통공의 소공12, 34: Pores of the through hole formed at the center portion
16 : 중심부의 테이퍼 18 : 주변부 테이퍼16: center taper 18: peripheral taper
20 : 외주부20:
22, 42 : 주변부에 형성된 관통공의 대공22, 42: air hole formed in the peripheral portion
24, 44 : 주변부에 형성된 관통공의 소공24, 44: Pore of the through hole formed in the peripheral part
71 : 테이퍼에 형성되는 큰 원형의 대공원판 플레이트71: a large circular large plate formed on the taper plate
72 : 테이퍼에 형성되는 작은 원형의 대공원판 플레이트72: a small circular large plate formed on the taper plate
73 : 소공원판 플레이트73: Small plate plate plate
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 섀도우 마스크 제조 방법은,In order to achieve the above object, a shadow mask manufacturing method of the present invention comprises:
대략 사각 형상을 하는 철판의 대각선이 교차하는 중앙부에 관통공을 형성시키되 앞면과 뒷면의 관통공 지름이 각각 다른 소공 및 대공을 형성시키는 공정과,A step of forming a through hole at a central portion where diagonal lines of an approximately square plate intersect with each other to form pores and apertures having different diameters of through holes on the front surface and the back surface,
상기 중앙부에서 주변부쪽으로 갈수록 크기와 형상이 변화도록 관통공의 대공을 형성시키되 크기가 다른 2개의 원형을 연결하여 형성시키는 공정과,Forming a through hole of the through hole so as to vary in size and shape from the central portion toward the peripheral portion, and connecting the two circular portions having different sizes to each other;
상기 대공 안에 원형으로 된 소공을 형성시키되 중앙부쪽에 형성시키는 공정과,A step of forming a circular hole in the air hole,
상기 대공과 소공이 형성된 섀도우 마스크에 감광액을 도포시키는 공정과,Applying a photosensitive liquid to a shadow mask on which the large holes and small holes are formed;
상기 감광액이 도포된 철판의 양면을 각각 노광한 후 현상처리시키는 공정과,A step of exposing and developing both surfaces of the iron plate coated with the photosensitive liquid,
상기 현상처리된 철판을 양면에서 동시에 에칭시키는 공정을 포함한 것을 특징으로 한다.And simultaneously etching the developed steel sheet on both sides.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다른 섀도우 마스크 제조 방법은,According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a shadow mask,
대략 사각 형상을 하는 철판의 대각선이 교차하는 중앙부에 관통공을 형성시키되 앞면과 뒷면의 관통공 지름이 각각 다른 소공 및 대공을 형성시키는 공정과,A step of forming a through hole at a central portion where diagonal lines of an approximately square plate intersect with each other to form pores and apertures having different diameters of through holes on the front surface and the back surface,
상기 중앙부에서 주변부쪽으로 갈수록 크기와 형상이 변화도록 관통공의 대공을 형성시키되 크기가 다른 2개의 원형을 연결하여 형성시키는 공정과,Forming a through hole of the through hole so as to vary in size and shape from the central portion toward the peripheral portion, and connecting the two circular portions having different sizes to each other;
상기 대공 안에 원형으로 된 소공을 형성시키되 중앙부쪽에 형성시키는 공정과,A step of forming a circular hole in the air hole,
상기 대공과 소공이 형성된 섀도우 마스크에 감광액을 도포시키는 공정과,Applying a photosensitive liquid to a shadow mask on which the large holes and small holes are formed;
상기 감광액이 도포된 철판의 양면을 각각 노광한 후 현상처리시키는 공정과,A step of exposing and developing both surfaces of the iron plate coated with the photosensitive liquid,
상기 현상처리된 철판을 일정량의 에칭은 양면에서 동시에 한 후 한쪽 면만을 에칭시키는 공정을 포함한 것을 특징으로 한다.And a step of etching a predetermined amount of the developed steel plate at one time by etching the same at both sides simultaneously.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 섀도우 마스크는,In order to attain the above object, in the shadow mask of the present invention,
대략 사각 형상을 하는 철판의 대각선이 교차하는 중앙부에 관통공을 형성하되 앞면과 뒷면의 관통공 지름이 각각 다른 소공 및 대공을 형성하고,A through hole is formed at a central portion where diagonal lines of an approximately square plate cross each other. A through hole and a through hole having different through hole diameters are formed on the front surface and the rear surface,
상기 중앙부에서 주변부쪽으로 갈수록 크기와 형상이 변화도록 관통공의 대공을 형성하되 크기가 다른 2개의 원형을 연결하여 형성하고,A plurality of circular protrusions having different sizes are formed by connecting the protrusions of the through holes so that the size and the shape of the protrusions are changed from the central portion toward the peripheral portion,
상기 대공 안의 중앙부쪽에 원형으로 된 소공을 형성시킨 것을 특징으로 한다.And a circular hole is formed in the center of the air hole.
이때, 상기 대공은 중앙부에서는 전자빔의 진행방향과 일치하도록 배치하고,At this time, the air hole is arranged so as to coincide with the traveling direction of the electron beam in the central portion,
주변부에서는 소공에 대하여 대공의 중심점을 전자빔의 진행방향으로 이동시켜 형성한 것이 바람직하다.It is preferable that the peripheral portion is formed by moving the central point of the air hole with respect to the small hole in the advancing direction of the electron beam.
이하, 본 발명의 일실시예에 관하여 첨부도면을 참조하면서 상세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
또, 실시예를 설명하기 위한 모든 도면에서 동일한 기능을 갖는 것은 동일한 부호를 사용하고 그 반복적인 설명은 생략한다.In all the drawings for explaining the embodiment, those having the same function are denoted by the same reference numerals, and a repetitive description thereof will be omitted.
도 5는 본 발명에 의한 섀도우 마스크의 유효부를 나타낸 평면도이고, 도 6은 본 발명에 의한 섀도우 마스크의 유효부의 주변에 형성된 관통공의 형상도를 나타낸 것이다.FIG. 5 is a plan view showing an effective portion of a shadow mask according to the present invention, and FIG. 6 is a view showing the shape of a through hole formed around the effective portion of the shadow mask according to the present invention.
상기 도면에 나타낸 것과 같이, 본 발명에 의한 섀도우 마스크는, 종래의 원형 형상인 대공을 중심부에서는 원형으로 형성하고, 주변부로 가면서 크기와 형상을 변화시켜 형성시켰다.As shown in the drawings, the shadow mask according to the present invention is formed by circularly forming the air hole, which is a circular shape in the prior art, and changing the size and shape while moving to the peripheral portion.
그리고, 소공은 종래와 같이 원형상으로 형성하며, 대공의 장축(a)방향을 섀도우 마스크의 중심부 즉, 전자빔의 입사방향과 일치하도록 하여 주변부에서 전자빔이 충분히 통과하여 브라운관 패널에 입사하도록 하는 것과 동시에 전자빔의 통과와는 상관없는 부분은 에칭시키지 않게 하여 섀도우 마스크의 기계적 강도를 향상시켰다.The pores are formed in a circular shape as in the conventional art, and the long axis (a) of the large aperture is made to coincide with the central portion of the shadow mask, that is, the incident direction of the electron beam, The portion not related to the passage of the electron beam is not etched, thereby improving the mechanical strength of the shadow mask.
이렇게 형성된 주변부 B, C, D지점의 소공 원판 플레트(54)에 대공 원판 플레트(52)의 중심점을 전자빔 진행방향으로 이동시켜 충분한 테이퍼(Taper)량을 확보하여 전자빔 투과에 용이하도록 형성시킨다.The center point of the circular disk plat 52 is moved in the electron beam advancing direction to the small circular plate plat 54 at the peripheral portions B, C, and D formed as described above to secure a sufficient amount of taper so as to facilitate electron beam transmission .
또한, 본 발명의 섀도우 마스크 제조방법은, 큰 원 형상과 작은 원 형상을 도 7에 도시된 바와 같이 형성한 대공 원판 플레트(71,72)와 원형의 소공 원판 플레트(73)를 이용하여 감광액이 도포된 철판을 노광, 현상, 에칭하도록 한다.In addition, the shadow mask manufacturing method of the present invention is a method of manufacturing a shadow mask by using a circular circular plate platters 71 and 72 and circular circular circular plate platters 73 having a large circular shape and a small circular shape as shown in FIG. 7 The steel plate coated with the photosensitive liquid is exposed, developed, and etched.
그리고, 상기 대공 원판 플레트(71,72) 내의 공은 중심 방향 즉, 전자빔의 진행방향에 따라 대공의 장축(a) 방향을 설정하여 원판 플레트를 만든다.Then, the holes in the air platelet plates 71 and 72 are set in the direction of the major axis (a) of the air gap according to the center direction, that is, the traveling direction of the electron beam, thereby forming the disk platelet.
즉, 종래의 섀도우 마스크는 대공 및 소공 형상이 도 2에 나타낸 것과 같이 모두 원형 형상을 하고 있는데 비해, 본 발명의 섀도우 마스크는 소공이 종래와 같이 원형으로 되어 있고, 대공은 도 7에 도시된 바와 같이 다른 두 원형(71,72)을 연결하여 형성시킨 것으로 되어있다. 또한 상기 대공의 전체 형상(42)의 장축(a)방향을 섀도우 마스크의 중심방향 즉, 전자빔의 진행방향과 일치시킨다.That is, in the shadow mask of the related art, both the air hole and the pore shape have a circular shape as shown in Fig. 2, whereas the shadow mask of the present invention has a circular shape like the conventional one, And the other two circular shapes 71 and 72 are connected to each other. Further, the direction of the long axis (a) of the entire shape of the air hole 42 is made to coincide with the center direction of the shadow mask, that is, the traveling direction of the electron beam.
도 5에 도시된 바와 같이, 중심부에서는 대공(32)을 원형으로 형성시키고 차츰 주변부로 가면서 다른 두원이 연결된 형상으로 형성시킨다. 결국 상기 섀도우 마스크의 유효부(10)내 관통공은 각 해당되는 위치에 따라서 그 크기 및 관통공의 장축(a)방향이 결정된다.As shown in FIG. 5, the air hole 32 is formed in a circular shape at the central portion, and the other two members are connected to each other while gradually moving toward the peripheral portion. As a result, the size of the through hole in the effective portion 10 of the shadow mask and the direction of the long axis (a) of the through hole are determined according to the corresponding positions.
이와 같이 하여 상기 섀도우 마스크 주변부의 테이퍼(18) 형성은 전자빔이 투과되는 큰 원형(71) 부분에 확보하여 크기가 종래보다 크게 형성이 가능해지며, 또한 전자빔의 통과와는 상관없는 작은 원형(72)은 최대한 에칭 면적을 시키지 않아 섀도우 마스크의 체적 즉, 중량을 크게 하여 기계적 강도를 향상시킬 수 있다.In this way, the formation of the taper 18 in the peripheral portion of the shadow mask can be ensured in the large circular portion 71 through which the electron beam is transmitted, so that the size can be made larger than in the prior art. Further, the small circular portion 72, Can increase the volume or weight of the shadow mask without increasing the etching area as much as possible, thereby improving the mechanical strength.
다음은 상기 섀도우 마스크의 제조 방법에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Next, a method of manufacturing the shadow mask will be described with reference to the accompanying drawings.
먼저, 대공 원판 플레트는 도 7에 도시된 바와 같이 다른 두 원형(71,72)을 연결시킨 형상을 제작하며, 상기 섀도우 마스크의 관통공의 위치에 따라 크기 및 장축(a)방향을 달리 형성시킨다. 여기에서 소공은 종래의 형상과 같이 원형으로 형성된 소공 원판 플레트를 제작한다.As shown in FIG. 7, the large circular plate fitter has a shape in which the other two circular rings 71 and 72 are connected to each other, and the size and the major axis (a) direction are formed differently according to the positions of the through holes of the shadow mask . Herein, the pores are formed into a round shape as in the conventional shape.
주변부 B, C, D지점의 소공 원판 플레트에 대공 원판 플레트의 중심점을 이동시켜 충분한 테이퍼량을 확보하여 전자빔 투과에 용이하도록 형성시킨다. 이와 같이 제작된 대공 원판 플레트와 소공 원판 플레트를 노광기에 장착하여 감광액이 도포된 철판의 양면을 각각 노광한 후 현상처리를 한다. 현상처리 후 철판을 양면에서 동시에 에칭하거나 또는 일정량의 에칭은 양면을 동시에 한 후 한쪽면만을 에칭하여 원하는 관통공을 형성시킨다.The central point of the platen disc plate is moved to the small disc platters at the peripheral portions B, C, and D so as to secure a sufficient amount of taper so as to facilitate the electron beam penetration. The thus fabricated circular disk plate and small circular disk plate are mounted on an exposure machine to expose the both surfaces of the iron plate coated with the photosensitive liquid, respectively, and then subjected to development processing. After the development process, the steel plate is simultaneously etched on both sides or a certain amount of etching is performed on both sides simultaneously, and only one side is etched to form a desired through-hole.
섀도우 마스크의 크기에 따라 상기 철판의 두께를 달리하여 사용하며, 도 8에 도시된 바와 같이 0.12㎜두께의 인바르(Invar)재 철판에 대공에 있어서는 단축 = 80
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 섀도우 마스크 및 그 제조 방법에 의하면, 대공은 다른 두 원형을 연결한 형상이고 소공은 원형상으로 제작하여 섀도우 마스크를 브라운관에 장착, 제작시 전자빔의 진행방향과 일치되도록 대공을 회전하여 배치하고, 또한 관통공 및 튜브 패널의 공경형성은 균일하게 확보하는 동시에 섀도우 마스크내 관통공의 위치에 따라서 전자빔이 충분히 통과할 수 있는 크기로 변화시켜 배치함으로써 전자빔 통과와는 상관없는 부분을 에칭시키지 않아 섀도우 마스크의 기계적 강도를 향상시킬 수 있고 각 위치에 따라서 전자빔이 충분히 통과할 수 있도록 테이퍼를 형성하였다.As described above, according to the shadow mask of the present invention and its manufacturing method, the air holes are formed by connecting the other two circular shapes, and the small holes are formed in a circular shape, and the shadow mask is mounted on the cathode ray tube, And the pores of the through-hole and the tube panel are uniformly secured, and at the same time, the electron beam passes through the shadow mask in such a manner that the electron beam can sufficiently pass therethrough according to the position of the through-hole, It is possible to improve the mechanical strength of the shadow mask and to form the taper so that the electron beam can pass sufficiently according to each position.
또한, 제조 방법에 있어서도 대공 원판 플레트는 다른 두 원형을 연결한 형상으로 관통공의 위치에 따라서 장축방향과 크기를 다르게 묘화 작성하고, 또한 대공측 형상으로 인하여 노광 및 에칭에서 보다 쉽게 주변부 테이퍼 확보가 가능한 효과가 있다.Also, in the manufacturing method as well, the airplane platelet is formed by connecting the other two circles and drawing the major axis direction and the size differently depending on the positions of the through holes. Further, since the airplane side shape makes it easier to secure the peripheral portion taper in exposure and etching There is a possible effect.
아울러 본 발명의 바람직한 실시예들은 예시의 목적을 위해 개시된 것이며, 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가등이 가능할 것이며, 이러한 수정 변경등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, additions and substitutions are possible, within the spirit and scope of the invention, and that such modifications are intended to fall within the scope of the following claims something to do.
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