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KR100238963B1 - A repair circuit of semiconductor memory device - Google Patents

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KR100238963B1
KR100238963B1 KR1019960044945A KR19960044945A KR100238963B1 KR 100238963 B1 KR100238963 B1 KR 100238963B1 KR 1019960044945 A KR1019960044945 A KR 1019960044945A KR 19960044945 A KR19960044945 A KR 19960044945A KR 100238963 B1 KR100238963 B1 KR 100238963B1
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윤종용
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Abstract

본 발명은 퓨즈가 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 외부 조건의 변화에 따른 디코딩 결함이 발생하는 것을 방지하기 위한 반도체 메모리 장치의 리페어 회로에 관한 것이다. 이러한 회로에 의하면, 퓨즈가 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 외부 조건의 변화에 따른 디코딩 결함을 방지하기 위해 반전 수단으로서 인버터의 출력 단자에 트립 포인트 변화 수단을 구현하였다. 상기 트립 포인트 변화 수단의 제4 MOS 트랜지스터의 게이트에 인가되는 제어 신호에 의해, 반도체 메모리 장치의 정상적인 동작시와 상기 퓨즈가 커팅된 상태의 검증시 상기 인버터의 트립 포인트를 바꾸어 줄 수 있다. 따라서, 상기 트립 포인트를 바꾸어 줌으로써, 상기 두 동작간의 센싱 마진을 줄 수 있고, 이로써 디코딩 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있다.The present invention relates to a repair circuit for a semiconductor memory device for preventing a decoding defect from occurring due to a change in an external condition when the fuse is not electrically disconnected completely. According to this circuit, when the fuse is not electrically disconnected completely, the trip point changing means is implemented at the output terminal of the inverter as an inversion means in order to prevent decoding defects caused by changes in external conditions. The trip point of the inverter can be changed during normal operation of the semiconductor memory device and verification of the state where the fuse is cut by the control signal applied to the gate of the fourth MOS transistor of the trip point changing means. Accordingly, by changing the trip point, it is possible to reduce the sensing margin between the two operations, thereby preventing decoding defects from occurring.

Description

반도체 메모리 장치의 리페어 회로Repair circuit of semiconductor memory device

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 퓨즈가 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 외부 조건의 변화에 따른 디코딩 결함이 발생하는 것을 방지하기 위한 반도체 메모리 장치의 리페어 회로에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a repair circuit for a semiconductor memory device for preventing decoding defects caused by changes in external conditions when the fuse is not completely electrically disconnected.

반도체 메모리 장치의 일렉트릭 리페어 회로(a electrical repair circuit of semiconductro memory device)는 패키지 상태에서 상기 반도체 메모리 장치에 결함이 발생할 경우 이를 리페어하기 위한 것이다. 상기 결함이 생긴 반도체 메모리 장치를 상기 일렉트릭 리페어 회로를 통해 리페어함으로써, 상기 반도체 메모리 장치의 수율(yield) 향상에 큰 영향이 미칠 수 있다. 상기 일렉트릭 리페어는 폴리 퓨즈(poly fuse)를 이용하며, 상기 퓨즈에 강한 전류를 가해주었을 때 상기 퓨즈가 끊어지는 것을 이용하여 디코딩해 준다.An electrical repair circuit of a semiconductor memory device of a semiconductor memory device is for repairing a defect in the semiconductor memory device in a package state. By repairing the defective semiconductor memory device through the electric repair circuit, the yield of the semiconductor memory device can be greatly improved. The electric repair uses a poly fuse and decodes it by using a break of the fuse when a strong current is applied to the fuse.

제1도에는 종래의 반도체 메모리 장치의 리페어 회로를 보여주는 회로도가 도시되어 있다.FIG. 1 is a circuit diagram showing a repair circuit of a conventional semiconductor memory device.

제1도를 참조하면, 제1 및 제2전원 단자(1,2)를 통해 각각 제1 및 제2전원 전압(Vcc, Vss)이 입력되고, 출력 단자(3)를 통해 출력 신호(S_OUT)가 출력된다. 상기 제1전원 단자(1)와 상기 제2전원 단자(2) 사이에 퓨즈(F1)가 연결되어 있다. 그리고, 도전 경로(L1)는 상기 제1전원 단자(1)를 통해 전달되는 제1전원 전압(Vcc)과 상기 퓨즈(F1)를 통해 전달되는 제2전원 전압(Vss) 중 어느 하나의 전압 레벨로 챠지된다. 상기 도전 경로(L1)에 게이트가 연결된 제1 MOS 트랜지스터(Q1)는 상기 제1전원 전압(Vcc)과 상기 출력 단자(3) 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되어 있다. 그리고, 상기 도전 경로(L1)에 게이트가 연결된 제2 MOS 트랜지스터(Q2)는 상기 출력 단자(3)와 상기 제2전원 단자(2) 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되어 있다. 여기서, 상기 도전 경로(L1)에 챠지된 신호가 로우 레벨일 경우 상기 제1 MOS 트랜지스터(Q1)를 통해 하이 레벨을 출력하고, 상기 도전 경로(L1)에 챠지된 신호가 하이 레벨일 경우에는 상기 제2 MOS 트랜지스터(Q2)를 통해 로우 레벨을 출력하는 인버터로 구성되어 있다. 여기서, 상기 제1 MOS 트랜지스터(Q1)는 p형 도전형의 채널이며, 상기 제2 MOS 트랜지스터(Q2)는 n형 도전형의 채널인 트랜지스터이다.Referring to FIG. 1, first and second power supply voltages Vcc and Vss are input through first and second power supply terminals 1 and 2, respectively, and output signal S_OUT is provided through output terminal 3. [ Is output. A fuse F1 is connected between the first power supply terminal 1 and the second power supply terminal 2. The conductive path L1 is connected to one of the first power supply voltage Vcc transmitted through the first power supply terminal 1 and the second power supply voltage Vss transmitted through the fuse F1 Respectively. A source-drain channel is connected between the first power source voltage Vcc and the output terminal 3 of the first MOS transistor Q1 whose gate is connected to the conductive path L1. A source-drain channel is connected between the output terminal 3 and the second power source terminal 2 of the second MOS transistor Q2 having a gate connected to the conductive path L1. Here, when the signal charged in the conductive path L1 is at the low level, the high level is outputted through the first MOS transistor Q1. When the signal charged in the conductive path L1 is at the high level, And an inverter outputting a low level through the second MOS transistor Q2. Here, the first MOS transistor Q1 is a p-type conductivity type channel and the second MOS transistor Q2 is a n-type conduction type channel.

제1도에 도시된 반도체 메모리 장치의 리페어 회로는 상기 퓨즈(F1)를 커팅하기 전에는 상기 제1 MOS 트랜지스터(Q1)의 채널이 도통되어 출력 단자(3)에 하이 레벨의 신호가 출력된다. 그리고, 상기 퓨즈(F1)가 커팅되었을 경우에는 제2 MOS 트랜지스터(Q2)의 채널이 도통되어 로우 레벨의 신호를 출력하게 된다. 그리고, 상기 퓨즈(F1)가 완전하게 전기적으로 커팅되었을 경우에는 문제가 발생되지 않지만, 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 상기 회로는 온도, 동작 속도, 공급전압(Vcc) 그리고 그라운드 잡음(GND noise) 등의 외부 조건의 변화에 따라 영향을 받게 된다. 상기 퓨즈(F1)가 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 저항 성분(R1)을 가지게 되며 이러한 상태의 등가 회로가 제2도에 도시되어 있다. 제2도에 도시된 바와같이, 제1도에 도시된 퓨즈(F1)가 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 제1 및 제2 MOS 트랜지스터(Q1,Q2)로 구성된 인버터(10)의 출력 신호(S_OUT)는 하이 레벨(high level)과 로우 레벨(low level)이 아닌 상기 두 레벨 사이의 값을 가지게 된다. 만약, 상기 인버터(10)의 논리적으로 변화되는 변화점(트립 포인트, trip point)을 Vcc/2이라 하면, 상기 저항 성분(R1)에 의해 Vcc/2에 비해 소정 레벨 높은 전압이 상기 인버터(10)의 도전 경로(L1)에 인가될 수 있다. 이로서, 상기 인버터(10)의 출력 신호 레벨이 Vcc/2에 비해 소정 레벨 낮은 전압이 나오게 되고, 로직 게이트를 거친 후에는 로우 레벨(low level)로 인식하게 된다.In the repair circuit of the semiconductor memory device shown in FIG. 1, the channel of the first MOS transistor Q1 is turned on before the fuse F1 is cut, and a high level signal is output to the output terminal 3. When the fuse F1 is cut, the channel of the second MOS transistor Q2 is turned on to output a low level signal. When the fuse F1 is completely cut electrically, no problem occurs. However, if the fuse F1 is not electrically disconnected completely, the circuit can be operated at a temperature, an operation speed, a supply voltage Vcc and a ground noise (GND noise) And the like. When the fuse F1 is not completely disconnected electrically, it has a resistance component R1, and an equivalent circuit of this state is shown in FIG. As shown in FIG. 2, when the fuse F1 shown in FIG. 1 is not electrically disconnected completely, the output signal of the inverter 10 composed of the first and second MOS transistors Q1 and Q2 S_OUT) has a value between the two levels that are not high level and low level. If a logically changing transition point (trip point) of the inverter 10 is Vcc / 2, a voltage higher by a predetermined level than Vcc / 2 is applied to the inverter 10 To the conductive path Ll of the first conductive layer. As a result, the output signal level of the inverter 10 becomes lower than Vcc / 2 by a predetermined level, and after passing through the logic gate, it is recognized as a low level.

그러나, 상술한 바와 같은 반도체 메모리 장치의 리페어 회로에 의하면, 퓨즈(F1)가 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 온도, 전원 전압(Vcc), 트랜지스터들의 특성 및 동작 속도 등과 같은 외부 조건의 변화에 따라 인버터(10)는 논리적으로 다른 결과를 출력하게 된다. 따라서, 상기 외부 조건의 변화에 따라 디코딩 결함이 발생하는 문제점이 생겼다.However, according to the repair circuit of the semiconductor memory device as described above, when the fuse F 1 is not completely cut off electrically, it is possible to prevent the fuse F 1 from being damaged by a change in external conditions such as temperature, power supply voltage Vcc, Inverter 10 outputs a logically different result. Therefore, there is a problem that a decoding defect occurs according to the change of the external condition.

따라서 본 발명의 목적은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 퓨즈가 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 외부 조건의 변화에 따른 디코딩 결함이 발생하는 것을 방지하기 위한 반도체 메모리 장치의 리페어 회로를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide a repair circuit for a semiconductor memory device for preventing decoding defects caused by changes in external conditions when the fuse is not completely electrically disconnected, .

제1도는 종래의 반도체 메모리 장치의 리페어 회로를 보여주는 회로도.FIG. 1 is a circuit diagram showing a repair circuit of a conventional semiconductor memory device; FIG.

제2도는 제1도의 문제점을 보여주는 회로도.Figure 2 is a circuit diagram showing the problem of Figure 1;

제3도는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 리페어 회로의 회로를 보여주는 회로도.FIG. 3 is a circuit diagram showing a circuit of a repair circuit of a semiconductor memory device according to a preferred embodiment of the present invention; FIG.

제4도는 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 리페어 회로의 회로를 보여주는 회로도.FIG. 4 is a circuit diagram showing a circuit of a repair circuit of a semiconductor memory device according to another preferred embodiment of the present invention. FIG.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS

1 : 제1전원 단자 2 : 제2전원 단자1: first power terminal 2: second power terminal

4 : 제어 단자 10 : 반전 수단4: control terminal 10: inverting means

20 : 트립 포인트 변화 수단20: trip point changing means

상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일특징에 의하면, 제1전원 전압이 입력되는 제1전원단자와; 제2전원 전압이 입력되는 제2전원 단자와; 출력 신호가 출력되는 출력 단자와; 외부로부터 제어 신호가 인가되는 제어 단자와; 상기 제1전원 단자와 상기 제2전원 단자 사이에 연결된 퓨즈와; 상기 제1전원 단자를 통해 전달되는 제1전원 전압과 상기 퓨즈를 통해 전달되는 제2전원 전압 중 어느 하나의 전압 레벨로 챠지되는 도전 경로와; 상기 도전 경로에 챠지되는 신호와 위상이 반전된 신호를 출력하는 반전 수단과; 상기 제어 단자를 통해 인가되는 제어 신호에 응답하여, 상기 반전 수단의 트립 포인트를 변화시키는 트립 포인트 변화 수단을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a power supply device comprising: a first power supply terminal receiving a first power supply voltage; A second power supply terminal to which a second power supply voltage is input; An output terminal for outputting an output signal; A control terminal to which a control signal is applied from the outside; A fuse connected between the first power terminal and the second power terminal; A conductive path charged at a voltage level of a first power supply voltage transmitted through the first power supply terminal and a second power supply voltage transmitted through the fuse; An inverting means for outputting a signal inverted in phase with a signal charged in the conductive path; And trip point changing means for changing a trip point of the inverting means in response to a control signal applied through the control terminal.

이 회로의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 트립 포인트 변화 수단은; 상기 제1전원 단자와 접속점 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되며, 상기 도전 경로에 게이트가 연결된 제3 MOS 트랜지스터와; 상기 접속점과 상기 출력 단자 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되며, 상기 제어 단자에 게이트가 연결된 제4 MOS 트랜지스터로 구비되어 있다.In a preferred embodiment of this circuit, the trip point changing means comprises: A third MOS transistor having a source-drain channel connected between the first power supply terminal and a connection point, and a gate connected to the conductive path; And a fourth MOS transistor having a source-drain channel connected between the connection point and the output terminal, and a gate connected to the control terminal.

이 회로의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 제3 및 제4 MOS 트랜지스터는 p형 도전형의 채널임을 특징으로 한다.In a preferred embodiment of this circuit, the third and fourth MOS transistors are p-type conductivity-type channels.

이와같은 회로에 의해서, 인버터의 논리적인 변화점을 변화시킴으로서 외부 조건의 변화에 따른 디코딩 결함의 발생을 방지할 수 있다.With such a circuit, it is possible to prevent the occurrence of decoding defects due to changes in external conditions by changing the logical change point of the inverter.

본 발명의 신규한 반도체 메모리 장치의 리페어 회로는, 제3도를 참조하면, 제1전원 전압(Vcc)이 입력되는 제1전원 단자(1)와, 제2전원 전압(Vss)이 입력되는 제2전원 단자(2)와, 출력 신호(S_OUT)가 출력되는 출력 단자(3)와, 외부로부터 제어 신호(CS)가 인가되는 제어 단자(4)와, 상기 제1전원 단자(1)와 상기 제2전원 단자(2) 사이에 연결된 퓨즈(F1)와, 상기 제1전원 단자(1)를 통해 전달되는 제1전원 전압(Vcc)과 상기 퓨즈(F1)를 통해 전달되는 제2전원 전압(Vss) 중 어느 하나의 전압 레벨로 챠지되는 도전 경로(L1)와, 상기 도전경로(L1)에 챠지되는 신호와 위상이 반전된 신호를 출력하는 반전 수단(10)과, 상기 제어 단자(4)를 통해 인가되는 제어 신호(CS)에 응답하여, 상기 반전 수단(10)의 트립 포인트를 변화시키는 트립 포인트 변화 수단(20)으로 구성되어 있다.Referring to FIG. 3, a repair circuit of a novel semiconductor memory device according to the present invention includes a first power supply terminal 1 to which a first power supply voltage Vcc is input and a second power supply terminal 1 to which a second power supply voltage Vss is input A control terminal 4 to which a control signal CS is externally applied; a first power supply terminal 1 and a second power supply terminal 2; A first power supply voltage Vcc transmitted through the first power supply terminal 1 and a second power supply voltage Vcc passing through the fuse F1; Vss), inverting means (10) for outputting a signal inverted in phase with a signal to be charged in the conductive path (L1) And a trip point changing means 20 for changing a trip point of the inverting means 10 in response to a control signal CS applied through the inverting means 10.

이러한 회로에 의하면, 퓨즈(F1)가 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 외부 조건의 변화에 따른 디코딩 결함을 방지하기 위해 반전 수단으로서 인버터(10)의 출력 단자(3)에 트립 포인트 변화 수단(20)을 구현하였다. 상기 트립 포인트 변화 수단(20)의 제4 MOS 트랜지스터(Q4)의 게이트에 인가되는 제어신호(CS)에 의해, 반도체 메모리 장치의 정상적인 동작시와 상기 퓨즈가 커팅된 상태를 검증할 때 상기 인버터(10)의 트립 포인트를 바꾸어 줄 수 있다. 따라서, 트립 포인트를 바꾸어 줌으로써, 상기 두 동작간의 센싱 마진을 줄 수 있고, 이로써 디코딩 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to this circuit, when the fuse F1 is not electrically disconnected completely, the output terminal 3 of the inverter 10 is connected to the trip point changing means 20 ). The control signal CS applied to the gate of the fourth MOS transistor Q4 of the trip point changing means 20 causes the inverter to operate normally when the semiconductor memory device is in operation and when the fuse is cut, 10) can be changed. Accordingly, by changing the trip point, it is possible to reduce the sensing margin between the two operations, thereby preventing decoding defects from occurring.

제3도 내지 제4도에 있어서, 제1도 내지 제2도에 도시된 구성요소와 동일한 기능을 가지는 구성요소에 대해서 동일한 참조번호를 병기한다.In FIGS. 3 to 4, the same reference numerals are used for components having the same functions as the components shown in FIGS. 1 to 2.

제3도에는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 리페어 회로를 보여주는 회로도가 도시되어 있다.FIG. 3 is a circuit diagram showing a repair circuit of a semiconductor memory device according to a preferred embodiment of the present invention.

제3도를 참조하면, 제1 및 제2전원 단자(1,2)를 통해 제1전원 전압(Vcc) 및 제2전원 전압(Vss)이 각각 입력되며, 출력 단자(3)를 통해 출력 신호(S_OUT)가 출력된다. 그리고, 제어 단자(4)에는 외부로부터 제어 신호(CS)가 인가되며, 상기 제1전원 단자(1)와 상기 제2전원 단자(2) 사이에 퓨즈(F1)가 연결되어 있다. 도전 경로(L1)는 상기 제1전원 단자(1)를 통해 전달되는 제1전원 전압(Vcc)과 상기 퓨즈(F1)를 통해 전달되는 제2전원 전압(Vss) 중 어느 하나의 전압 레벨로 챠지된다. 그리고, 반전 수단(10)은 상기 도전 경로(L1)에 챠지되는 신호와 위상이 반전된 신호를 출력하며, 트립 포인트 변화 수단(20)은 상기 제어 단자(4)를 통해 인가되는 제어 신호(CS)에 응답하여, 상기 반전 수단(10)의 트립 포인트를 변화시킨다.Referring to FIG. 3, a first power supply voltage Vcc and a second power supply voltage Vss are input through the first and second power supply terminals 1 and 2, respectively. (S_OUT) is output. A control signal CS is externally applied to the control terminal 4 and a fuse F1 is connected between the first power terminal 1 and the second power terminal 2. [ The conductive path L1 is connected to the first power supply voltage Vcc through the first power supply terminal 1 and the second power supply voltage Vss transmitted through the fuse F1, do. The inverting means 10 outputs a signal whose phase is inverted from the signal charged in the conductive path L1 and the trip point changing means 20 outputs a control signal CS applied through the control terminal 4 , Changes the trip point of the inverting means (10).

여기서, 상기 반전 수단(10)은 상기 제1전원 단자(1)와 상기 출력 단자(3) 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되며, 상기 도전 경로(L1)에 게이트가 연결된 제1 MOS 트랜지스터(Q1)와, 상기 출력 단자(3)와 상기 제2전원 단자(2) 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되며, 상기 도전 경로(L1)에 게이트가 연결된 제2 MOS 트랜지스터(Q2)로 이루어졌다. 그리고, 상기 트립 포인트 변화 수단(20)에 있어서, 상기 도전 경로(L1)에 게이트가 연결된 제3 MOS 트랜지스터(Q3)는 상기 제1전원 단자(1)와 접속점(N1) 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되어 있다. 그리고, 상기 제어 단자(4)에 게이트가 연결된 제4 MOS 트랜지스터(Q4)는 상기 접속점(N1)과 상기 출력 단자(3) 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되어 있다. 상기 제1 MOS 트랜지스터(Q1)와 제3 및 제4 MOS 트랜지스터(Q3,Q4)는 p형 도전형의 채널인 트랜지스터이고, 상기 제2 MOS 트랜지스터(Q2)는 n형 도전형의 채널인 트랜지스터이다.The inverting means 10 includes a first MOS transistor Q1 connected to a source-drain channel between the first power supply terminal 1 and the output terminal 3 and a gate connected to the conductive path L1, And a second MOS transistor Q2 having a source-drain channel connected between the output terminal 3 and the second power supply terminal 2 and a gate connected to the conductive path L1. In the trip point changing means 20, the third MOS transistor Q3 whose gate is connected to the conductive path L1 is connected between the first power supply terminal 1 and the node N1, Is connected. A fourth MOS transistor Q4 having a gate connected to the control terminal 4 has a source-drain channel connected between the node N1 and the output terminal 3. [ The first MOS transistor Q1 and the third and fourth MOS transistors Q3 and Q4 are p-channel transistors and the second MOS transistor Q2 is an n-channel transistor .

제4도에는 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 리페어 회로를 보여주는 회로도가 도시되어 있다.FIG. 4 is a circuit diagram showing a repair circuit of a semiconductor memory device according to another preferred embodiment of the present invention.

제4도에 도시된 바와같이, 제3도에 도시된 트립 포인트 변화 수단(20)의 구성요소 및 위치가 변화된 다른 실시예이다. 상기 트립 포인트 변화 수단(30)은 출력 단자(3)와 제2접속점 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되며, 외부로부터 제어신호(CS)가 인가되는 제어 단자(5)에 게이트가 연결된 제5 MOS 트랜지스터(Q5)와, 도전 경로(L1)에 게이트가 연결되며, 상기 제2접속점(N2)과 제2전원 단자(2) 사이에 소오스-드레인 채널이 연결된 제6 MOS 트랜지스터(Q6)로 이루어졌다.As shown in FIG. 4, this is another embodiment in which the components and positions of the trip point changing means 20 shown in FIG. 3 are changed. The trip point changing means 30 is connected between the output terminal 3 and the second connection point with a source-drain channel connected to the control terminal 5 to which a control signal CS is applied, A transistor Q5 and a sixth MOS transistor Q6 having a gate connected to the conductive path L1 and a source-drain channel connected between the second node N2 and the second power supply terminal 2 .

이하 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 참조 도면 제3도 내지 제4도에 의거하여 설명한다.Hereinafter, reference will be made to FIGS. 3 to 4 according to a preferred embodiment of the present invention.

먼저, 제3도에 도시된 퓨즈(F1)를 전기적으로 끊고 난 후, 상기 퓨즈(F1)가 전기적으로 완전하게 끊어졌는지의 유, 무를 검증(verify)할 경우 트립 포인트 변화 수단(20)의 제어 단자(4)에 로우 레벨(low level)의 신호를 인가함으로써, 인버터(10)의 트립 포인트를 올려준다. 상기와 같이, 상기 인버터(10) 트립 포인트를 바꾸게 되면, 상기 퓨즈(F1)가 저항 성분(R1)을 가지고 끊어지는 경우 검증 동작에서 로직이 바뀌지 않기 때문에 다시 한번 일렉트릭 퓨즈(F1)를 커팅할 수 있도록 검증 기능을 수행할 수 있다. 만약, 검증시 로직이 살짝 바뀌는 상태로 커팅이 된다면 실제 동작상에서는 상기 트립 포인트 변화 수단(20)의 제어 단자(4)에 하이 레벨(high level)의 신호를 인가함으로써, 마진(margin)을 준다. 따라서, 외부 조건의 변화에 따라 디코딩 결함이 발생할 가능성을 줄일 수 있다. 그리고, 제4도에 도시된 다른 실시예의 경우 외부로부터 제어 신호(CS)가 인가되는 제어 단자(5)에 정상 동작시 하이 레벨의 신호를, 일렉트릭 리페어 검증시 로우 레벨의 신호를 인가함으로써, 상술한 제3도와 동일한 결과를 얻을 수 있다.First, after electrically disconnecting the fuse F1 shown in FIG. 3, if it is verified whether or not the fuse F1 is electrically disconnected completely, the control of the trip point changing means 20 By applying a low level signal to the terminal 4, the trip point of the inverter 10 is raised. As described above, when the trip point of the inverter 10 is changed, the logic is not changed in the verify operation when the fuse F1 is cut off with the resistance component R1, so that the electric fuse F1 can be cut again A verification function can be performed. If cutting is performed in a state where the logic is slightly changed at the time of verification, a high level signal is applied to the control terminal 4 of the trip point changing means 20 in actual operation to give a margin. Therefore, it is possible to reduce the possibility of occurrence of decoding defects according to changes in external conditions. 4, by applying a high-level signal to the control terminal 5 to which the control signal CS is externally applied in normal operation and a low-level signal in the electric repair verification mode, The same result as in the third step can be obtained.

상술한 바와 같이, 퓨즈가 전기적으로 완전하게 끊어지지 않았을 경우 외부 조건의 변화에 따른 디코딩 결함을 방지하기 위해 반전 수단으로서 인버터의 출력 단자에 트립 포인트 변화 수단을 구현하였다. 상기 트립 포인트 변화 수단의 제4 MOS 트랜지스터의 게이트에 인가되는 제어 신호에 의해, 반도체 메모리 장치의 정상적인 동작시와 상기 퓨즈가 커팅된 상태의 검증시 상기 인버터의 트립 포인트를 바꾸어 줄 수 있다. 따라서, 상기 트립 포인트를 바꾸어 줌으로써, 상기 두 동작간의 센싱 마진을 줄 수 있고, 이로서 디코딩 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있다.As described above, when the fuse is not electrically disconnected completely, the trip point changing means is implemented at the output terminal of the inverter as inverting means in order to prevent decoding defects caused by changes in external conditions. The trip point of the inverter can be changed during normal operation of the semiconductor memory device and verification of the state where the fuse is cut by the control signal applied to the gate of the fourth MOS transistor of the trip point changing means. Accordingly, by changing the trip point, it is possible to reduce the sensing margin between the two operations, thereby preventing decoding defects from occurring.

Claims (3)

제1전원 전압(Vcc)이 입력되는 제1전원 단자(1)와; 제2전원 전압(Vss)이 입력되는 제2전원 단자(2)와; 출력 신호(S_OUT)가 출력되는 출력 단자(3)와; 외부로부터 제어 신호(CS)가 인가되는 제어 단자(4)와; 상기 제1전원 단자(1)와 상기 제2전원 단자(2) 사이에 연결된 퓨즈(F1)와; 상기 제1전원 단자(1)를 통해 전달되는 제1전원 전압(Vcc)과 상기 퓨즈(F1)를 통해 전달되는 제2전원 전압(Vss) 중 어느 하나의 전압 레벨로 챠지되는 도전 경로(L1)와; 상기 도전 경로(L1)에 챠지되는 신호와 위상이 반전된 신호를 출력하는 반전 수단(10)과; 상기 제어 단자(4)를 통해 인가되는 제어 신호(CS)에 응답하여, 상기 반전 수단(10)의 트립 포인트를 변화시키는 트립 포인트 변화 수단(20)을 포함하는 반도체 메모리 장치의 리페어 회로.A first power source terminal 1 to which a first power source voltage Vcc is input; A second power supply terminal 2 to which a second power supply voltage Vss is input; An output terminal 3 for outputting an output signal S_OUT; A control terminal 4 to which a control signal CS is externally applied; A fuse F1 connected between the first power supply terminal 1 and the second power supply terminal 2; A conductive path L1 charged with a voltage level of a first power voltage Vcc transmitted through the first power terminal 1 and a second power voltage Vss transmitted through the fuse F1, Wow; Inverting means (10) for outputting a signal inverted in phase with a signal to be charged in the conductive path (L1); And trip point changing means (20) for changing a trip point of said inverting means (10) in response to a control signal (CS) applied through said control terminal (4). 제1항에 있어서, 상기 트립 포인트 변화 수단(20)은; 상기 제1전원 단자(1)와 접속점(N1) 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되며, 상기 도전 경로(L1)에 게이트가 연결된 제3 MOS 트랜지스터(Q3)와; 상기 접속점(N1)과 상기 출력 단자(3) 사이에 소오스-드레인 채널이 연결되며, 상기 제어 단자(4)에 게이트가 연결된 제4 MOS 트랜지스터(Q4)로 구비된 반도체 메모리 장치의 리페어 회로.2. The apparatus of claim 1, wherein the trip point changing means (20) comprises: A third MOS transistor Q3 having a source-drain channel connected between the first power supply terminal 1 and the node N1 and having a gate connected to the conductive path L1; And a fourth MOS transistor (Q4) having a source-drain channel connected between the node (N1) and the output terminal (3) and a gate connected to the control terminal (4). 제2항에 있어서, 상기 제3 및 제4 MOS 트랜지스터(Q3,Q4)는 p형 도전형의 채널인 반도체 메모리 장치의 리페어 회로.3. The repair circuit of claim 2, wherein said third and fourth MOS transistors (Q3, Q4) are p-channel transistors.
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