KR0177315B1 - Test pattern structure for optical path control - Google Patents
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Abstract
본 발명은 외부로부터 인가되는 전기적 신호에 의하여 압전 재료가 압전 변형을 나타냄으로서 액츄에이터가 구동될 때 액츄에이터를 구성하고 반사면으로 작용하는 상부 전극의 반사 효율을 향상시키기 위하여 상기 상부 전극에 이소 컷팅부를 형성시킬 때 상기 이소 컷팅부의 전기적 단락 여부를 용이하게 확인하기 위한 테스트 패턴 구조에 관한 것으로 이러한 테스트 패턴 구조는 구동 기판상에 복수개의 액츄에이터가 형성된 모듈 주위의 여백 공간에 형성되어 있으며, 순차적으로 형성된 제1도전층과, 구동층과 제2도전층으로 이루어져 있고 제2도전층은 소정크기를 갖는 복수개의 갭에 의하여 분리된 복수개의 구획으로 구성되어 있으며 이에 의해서 제2도전층을 구성하는 구획들의 작동 상태에 의하여 광로 조절 장치를 구성하는 상부 전극의 이소 컷팅부의 전기적 단락 여부를 용이하게 확인할 수 있다.According to the present invention, the piezoelectric material exhibits a piezoelectric deformation by an electrical signal applied from the outside, thereby forming an iso cut portion in the upper electrode to improve the reflection efficiency of the upper electrode which forms the actuator and acts as a reflecting surface when the actuator is driven. The test pattern structure for easily confirming whether the iso-cutting part is an electrical short circuit when formed, the test pattern structure is formed in the margin space around the module formed with a plurality of actuators on the drive substrate, the first formed sequentially The second conductive layer is composed of a conductive layer, a driving layer, and a second conductive layer, and the second conductive layer is composed of a plurality of partitions separated by a plurality of gaps having a predetermined size, thereby operating states of the partitions forming the second conductive layer. Of the upper electrode constituting the optical path control device by Cattle can easily confirm whether an electrical short cut portion.
Description
본 발명은 투사형 표시 장치로 사용되는 광로 조절 장치의 테스트 패턴 구조에 관한 것으로서, 특히 상부 전극의 광반사 효율을 향상시키기 위하여 형성된 상부전극용 이소 컷팅부의 전기적 단락 여부를 용이하게 확인할 수 있는 광로 조절 장치용 테스트 패턴 구조에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a test pattern structure of an optical path control device used as a projection display device, and more particularly, an optical path control device that can easily check whether an electrical short circuit of an iso cutting part for an upper electrode is formed to improve light reflection efficiency of the upper electrode. For a test pattern structure.
일반적으로, 화상 표시 장치로 사용되는 평판 디스플레이 장치(FPD)는 무게, 부피, 및 전력 소모가 큰 진공관(CRT)을 대체하기 위한 평판 표시 장치로서, 투사형 디스플레이와 직시형 디스플레이로 구분되며 또한 이러한 디스플레이 장치는 PDP, EL, LED, FED등과 같이 전계에 의하여 전자를 방출하는 방출형 디스플레이 장치와 LCD, ECD, DMD, AMA, GLV 등과 같이 전자를 방출하지 않는 비방출형 디스플레이 장치로 구분된다. 이때, 상기 AMA(actuated mirror array)는 신호 전극 및 공통 전극사이에 압전 재료가 개재되어 있는 캔틸레버 구조의 액츄에이터를 복수개 구비한 광로 조절 장치의 구동 소자로서 압전 재료의 압전 변형에 의하여 광원으로부터 방사되는 백색광을 스크린상에 반사시키는 작용을 나타내며, 전자-광학적 비선형 특성을 향상시키기 위하여 능동 소자가 능동 행렬 구동 방식(active matrix addrssing)으로 구성된 액티브 매트릭스(active matrix)상에 형성된다.In general, a flat panel display (FPD), which is used as an image display device, is a flat panel display device for replacing a vacuum tube (CRT) having a high weight, volume, and power consumption, and is classified into a projection display and a direct view display. Devices are classified into emission type display devices that emit electrons by electric fields, such as PDPs, EL, LEDs, and FEDs, and non-emission display devices that do not emit electrons, such as LCDs, ECDs, DMDs, AMAs, and GLVs. In this case, the actuated mirror array (AMA) is a driving element of an optical path control device including a plurality of cantilever-type actuators having a piezoelectric material interposed between a signal electrode and a common electrode, and white light emitted from a light source by piezoelectric deformation of the piezoelectric material. Is reflected on the screen, and active elements are formed on an active matrix composed of active matrix addrssing to improve the electro-optical nonlinear characteristics.
제1도에 도시되어 있는 바와 같이, 액츄에이터(10)는 액티브 매트릭스가 내장된 구동 기판(11)상에 캔틸레버 구조로 형성되어서 지지부로 작용하는 멤브레인(10a)과, 상기 멤브레인(10a)상에 순차적으로 형성된 하부전극(10b), 변형부(10c), 및 상부 전극(10d)으로 이루어져 있으며, 상기 하부 전극(10b)은 상기 액티브 매트릭스의 능동 소자(도시되어 있지 않음)와 전기적으로 연결되어서 신호 전극으로 작용하는 반면에 상기 상부 전극(10d)은 반사 특성이 양호한 공통 전극으로 작용한다.As shown in FIG. 1, the actuator 10 is formed in a cantilever structure on a drive substrate 11 having an active matrix embedded therein, and acts on a membrane 10a serving as a support, and sequentially on the membrane 10a. And a lower electrode 10b, a deformable portion 10c, and an upper electrode 10d, the lower electrode 10b being electrically connected to an active element (not shown) of the active matrix so as to be connected to the signal electrode. On the other hand, the upper electrode 10d acts as a common electrode having good reflection characteristics.
따라서, 상기 능동 소자를 통하여 상기 하부 전극(10b)에 전기적 신호가 인가되면 상기 하부 전극(10b)과 상부 전극(10d)사이의 전위차 발생에 의하여 상기 변형부(10c)가 압전 변형을 나타내어서 상기 액츄에이터(10)가 구동하게 되며 그 결과 반사면으로 작용하는 상기 상부 전극(10d)의 표면으로 입사된 광원의 백색광이 반사되어서 도시되어 있지 않은 스크린상에 화상을 표시하게 된다.Therefore, when an electrical signal is applied to the lower electrode 10b through the active element, the deformation portion 10c exhibits piezoelectric deformation by generating a potential difference between the lower electrode 10b and the upper electrode 10d. The actuator 10 is driven so that the white light of the light source incident on the surface of the upper electrode 10d serving as the reflecting surface is reflected to display an image on a screen not shown.
그러나, 제1도에 표시된 바와 같이, 상기 액츄에이터(10)가 외부로부터의 전기적 신호에 의하여 구동되는 제1액츄에이터(I) 및 제2액츄에이터(II)로 구성되어 있는 경우에 상기 제1액츄에이터(I)를 구성하는 상부 전극(10d)이 소정의 곡률 반경을 갖는 곡선 형상으로 형성되므로 이러한 곡선 형상의 상부 전극(10d)의 표면으로부터 백색광을 반사시키는 효율은 상기 제2액츄에이터(II)를 구성하고 평탄한 상태로 유지된 상부 전극(10d)의 표면으로부터 백색광을 반사시키는 효율에 비하여 떨어지게 된다.However, as shown in FIG. 1, when the actuator 10 is comprised by the 1st actuator I and the 2nd actuator II driven by the electric signal from the exterior, the said 1st actuator I Since the upper electrode 10d constituting the upper electrode 10d is formed in a curved shape having a predetermined radius of curvature, the efficiency of reflecting white light from the surface of the curved upper electrode 10d constitutes the second actuator II and is flat. It is inferior to the efficiency of reflecting white light from the surface of the upper electrode 10d held in the state.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소시키기 위하여 안출된 것으로 본 발명의 목적은 외부로부터 인가되는 전기적 신호에 의하여 액츄에이터가 구동될 때 상부 전극을 평탄한 상태로 유지시키기 위하여 상부 전극과 하부 전극사이에 전위차가 발생되지 않도록 상기 상부 전극의 일부분을 제거하여서 이소 컷팅부를 형성시킬 때 상기 이소 컷팅부의 전기적 단락 상태를 용이하게 확인할 수 있는 광로 조절 장치용 테스트 패턴 구조를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide an upper surface between the upper electrode and the lower electrode to keep the upper electrode flat when the actuator is driven by an electrical signal applied from the outside. The present invention provides a test pattern structure for an optical path control device that can easily check an electrical short state of the iso cutting part when the iso cut part is formed by removing a portion of the upper electrode so that a potential difference is not generated.
본 발명에 따르면, 상기의 목적은 구동 기판상에 복수개의 액츄에이터가 형성된 모듈 주위의 여백 공간에 형성되어 있으며, 순차적으로 적층된 제1도전층과, 구동층과, 제2도전층으로 이루어져 있고 상기 제2도전층은 소정 크기를 갖는 복수개의 갭에 의하여 분리된 복수개의 구획으로 구성되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 테스트 패턴 구조에 의해서 달성된다.According to the present invention, the above object is formed in a margin space around a module having a plurality of actuators formed on a driving substrate, and comprises a first conductive layer, a driving layer, and a second conductive layer which are sequentially stacked. The second conductive layer is achieved by a test pattern structure for an optical path control device, characterized in that it is composed of a plurality of sections separated by a plurality of gaps having a predetermined size.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 복수개 갭의 선폭 크기는 상호 상이한 크기를 갖는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the line width sizes of the plurality of gaps are characterized by having different sizes from each other.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 복수개 구획의 크기는 동일한 크기로 이루어져 있는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the invention, the size of the plurality of compartments is characterized in that it consists of the same size.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 제2도전층은 4개의 갭에 의하여 분리된 5개의 구획으로 구성되는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the second conductive layer is characterized by consisting of five compartments separated by four gaps.
제1도는 일반적인 광로 조절 장치의 액츄에이터의 작동 상태를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing an operating state of an actuator of a general optical path control device.
제2도는 본 발명에 따른 테스트 패턴 구조를 구비한 실리콘 기판을 도시한 평면도.2 is a plan view showing a silicon substrate having a test pattern structure according to the present invention.
제3도는 상부 전극용 이소 컷팅부의 테스트 패턴 구조를 도시한 평면도.3 is a plan view showing a test pattern structure of an iso cutting portion for an upper electrode.
제4도는 본 발명에 따른 액츄에이터의 작동 상태를 도시한 단면도.4 is a cross-sectional view showing the operating state of the actuator according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
30 : 테스트 패턴 구조 31 : 제1도전층30: test pattern structure 31: the first conductive layer
32 : 구동층 33 : 제2도전층32: drive layer 33: second conductive layer
33a,33b,33c,33d,33e : 구획 34a,34b,34c,34d : 갭33a, 33b, 33c, 33d, 33e: compartment 34a, 34b, 34c, 34d: gap
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
제2도는 본 발명의 일실시예에 따라서 구동 기판상에 테스트 패턴 구조가 형성된 것을 도시한 평면도이고, 제3도는 본 발명의 일실시예에 따른 테스트 패턴 구조를 도시한 평면도이고, 제4도는 본 발명에 따른 광로 조절 장치의 액츄에이터 구동 상태를 도시한 단면도이다.2 is a plan view showing a test pattern structure formed on a driving substrate according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a plan view showing a test pattern structure according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is sectional drawing which shows the actuator drive state of the optical path control apparatus which concerns on this invention.
즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 광로 조절 장치용 테스트 패턴 구조(30)는 도시되어 있지 않은 능동 소자가 매트릭스 구조로 내장되어 있는 구동 기판(21)상에 복수개의 액츄에이터가 형성된 모듈(22) 주위의 여백 공간에 형성되어 있으며, 순차적으로 적층된 제1도전층(31)과, 구동층(32)과, 제2도전층(33)으로 이루어져 있고 상기 제2도전층(33)은 소정 크기를 갖는 복수개의 갭(34)에 의하여 분리된 복수개의 구획으로 구성된다. 이때, 본 발명에 따른 광로 조절 장치용 테스트 패턴 구조(30)는 제2도에 확대 도시되어 있는 바와 같이 상기 구동 기판(21)상의 모듈(22)상에 다수의 증착 공정 및 식각 공정에 의하여 소정 형상으로 형성된 복수개의 액츄에이터를 형성시킬 때 상기 모듈(22) 주위의 여백 공간에 형성된다.That is, the test pattern structure 30 for the optical path control apparatus according to an embodiment of the present invention is a module 22 in which a plurality of actuators are formed on a driving substrate 21 in which an active element (not shown) is embedded in a matrix structure. The first conductive layer 31, the driving layer 32, and the second conductive layer 33 are sequentially formed in a marginal space around the second conductive layer 33, and the second conductive layer 33 has a predetermined size. It consists of a plurality of compartments separated by a plurality of gaps 34 having a. At this time, the test pattern structure 30 for the optical path control apparatus according to the present invention is predetermined by a plurality of deposition processes and etching processes on the module 22 on the drive substrate 21 as shown in an enlarged view in FIG. When forming a plurality of actuators formed in the shape is formed in the margin space around the module 22.
즉, 상기 모듈(22)상의 액츄에이터를 구성하고 지지부로 작용하는 멤브레인(도시되어 있지 않음)상에 스퍼터링 증착 공정과 같은 진공 증착 공정에 의하여 구리 또는 백금과 같은 도전성 금속을 소정 두께로 증착시킴으로서 하부 전극(22a)을 형성시킬 때 상기 테스트 패턴 구조(30)를 구성하는 상기 제1도전층(31)은 상기 구동 기판(21)상의 여백 공간에 소정의 패턴 구조로 형성된다. 또한, 상기 하부 전극(22a)상에 졸-겔 공정 또는 화학 기상 증착 공정(CVD)에 의하여 압전 특성을 나타내는 압전 세라믹 또는 전왜 세라믹을 소정 두께로 증착시킴으로서 상기 액츄에이터를 구성하는 변형부(22b)를 형성시킬 때 상기 제1도전층(31)상에 구동층(32)이 소정의 패턴 구조로 형성된다. 이때, 상기 구동층(32)의 선폭 크기는 상기 제1도전층(31)의 선폭 크기에 비하여 수 ㎛ 정도 축소된 선폭의 크기를 가지며 이에 의해서 상기 구동층(32)의 패턴 구조를 통하여 상기 제1도전층(31)의 일부가 노출된다.That is, by forming an actuator on the module 22 and depositing a conductive metal such as copper or platinum to a predetermined thickness by a vacuum deposition process such as a sputtering deposition process on a membrane (not shown) serving as a support, the lower electrode When forming 22a, the first conductive layer 31 constituting the test pattern structure 30 is formed in a predetermined pattern structure in a margin space on the driving substrate 21. In addition, the deformable portion 22b constituting the actuator is deposited on the lower electrode 22a by depositing a piezoelectric ceramic or an electrostrictive ceramic exhibiting piezoelectric characteristics to a predetermined thickness by a sol-gel process or chemical vapor deposition process (CVD). When formed, the driving layer 32 is formed on the first conductive layer 31 in a predetermined pattern structure. In this case, the line width of the driving layer 32 has a size of a line width reduced by several μm compared to the line width of the first conductive layer 31, and thus, the line width of the driving layer 32 is increased through the pattern structure of the driving layer 32. A part of the one conductive layer 31 is exposed.
그리고, 상기 변형부(22b)상에 상기된 바와 같은 스퍼터링 증착 공정의 진공 증착 공정에 의하여 백금 또는 구리와 같은 도전성 금속을 소정 두께로 증착시킴으로써 상부 전극(22c)을 형성시킬 때 상기 구동층(32)상에 제2도전층(33)이 형성된다. 이때, 제2도를 참조하면, 상기 액츄에이터를 구성하는 상부 전극(22c)을 평탄한 상태로 유지시켜서 광반사 효율을 향상시킬 수 있도록 외부 신호에 의하여 상기 액츄에이터가 구동될 때 상기 상부 전극(22c)이 곡률 반경을 구비하지 않는 평탄한 상태로 유지시키기 위하여 습식 식각 공정 또는 건식 식각 공정에 의하여 상기 상부 전극(22c) 표면상의 일부를 제거함으로서 소정 크기의 갭을 형성시키며 상기 갭은 상부 전극용 이소 컷팅부(24)로 작용한다.The driving layer 32 is formed when the upper electrode 22c is formed by depositing a conductive metal such as platinum or copper to a predetermined thickness by the vacuum deposition process of the sputtering deposition process as described above on the deformable portion 22b. The second conductive layer 33 is formed on the. At this time, referring to FIG. 2, when the actuator is driven by an external signal, the upper electrode 22c constituting the actuator can be maintained in a flat state to improve light reflection efficiency. In order to maintain a flat state without a radius of curvature, a portion of the upper electrode 22c surface is removed by a wet etching process or a dry etching process to form a gap having a predetermined size, and the gap is an iso-cutting portion for the upper electrode. Acts as 24).
한편, 제3도를 참조하면, 상기된 바와 같이 상부 전극용 이소 컷팅부(24)를 형성시킬 때 상기 제2도전층(33)도 통상의 포토리쏘그래피 공정에 의해서 패터닝되어 복수 개의 갭(34)이 형성된다. 즉, 제2도전층(33)의 상부에 포토레지스트(PR)를 도포하여 감광막을 형성하고, 상기 제2도전층을 패터닝하기 위한 소정 패턴이 기설정되어 있는 마스크를 통해서 상기 감광막을 노광한 후, 현상에 의해서 감광막을 패터닝한다. 이후, 감광막을 식각 마스크로 사용하여 그 감광막의 하부에 위치한 제2도전층(33)을 식각하므로써 제2도전층(33)을 패터닝한다. 그 결과, 상기 제2도전층(33)은 소정 크기를 갖는 복수개의 갭(34), 즉 테스트 패턴용 이소-컷팅부가 형성되고, 이와 같은 복수개의 갭(34)에 의하여 제2도전층(33)은 분리된 복수개의 구획으로 나뉜다.Meanwhile, referring to FIG. 3, when forming the iso cutting portion 24 for the upper electrode as described above, the second conductive layer 33 is also patterned by a conventional photolithography process to form a plurality of gaps 34. ) Is formed. That is, after the photoresist PR is coated on the second conductive layer 33 to form a photoresist film, the photoresist film is exposed through a mask having a predetermined pattern for patterning the second conductive layer. The photosensitive film is patterned by the development. Subsequently, the second conductive layer 33 is patterned by etching the second conductive layer 33 positioned below the photosensitive film using the photosensitive film as an etching mask. As a result, the second conductive layer 33 is formed with a plurality of gaps 34 having a predetermined size, that is, an iso-cutting portion for a test pattern, and the second conductive layer 33 is formed by the plurality of gaps 34. ) Is divided into a plurality of separate compartments.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제2도전층(33)은 4개의 갭(34a,34b,34c,34d)에 의하여 분리된 5개의 구획(33a,33b,33c,33d,33e)으로 구성된다.According to an embodiment of the present invention, the second conductive layer 33 is composed of five compartments 33a, 33b, 33c, 33d, 33e separated by four gaps 34a, 34b, 34c, 34d. do.
여기에서, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따르면, 상기 식각 공정에 의하여 상기 제2도전층(33)에 형성되는 4개 갭(34a,34b,34c,34d)의 각각의 선폭 크기는 상이한 크기로 유지되어 있는 반면에 상기 4개의 갭에 의하여 분리된 상기 5개 구획(33a,33b,33c,33d,33e)의 크기는 동일한 크기로 유지된다.Here, according to a preferred embodiment of the present invention, the size of each line width of the four gaps 34a, 34b, 34c, 34d formed in the second conductive layer 33 by the etching process is different in size While retained, the sizes of the five compartments 33a, 33b, 33c, 33d, 33e separated by the four gaps remain the same.
따라서, 상기 모듈(22)상의 액츄에이터를 구성하는 상기 상부 전극(22c)상에 형성된 이소 컷팅부(24)의 선폭 크기와 동일한 크기를 갖는 상기 테스트 패턴 구조(30)상의 하나의 갭을 특정시키기 상기 특정된 하나의 갭을 중심으로 양측에 형성된 상기 제2도전층(33)의 2개 구획을 특정시킨다. 이때, 상기 특정된 2개의 구획을 탐침등을 사용하여서 전기적 통전 시험을 수행하여서 상기 특정된 갭에 의하여 상기 2개의 특정된 구획이 완전하게 전기적으로 단선되었는지의 여부를 확인할 수 있으며 이에 의해서 상기 액츄에이터의 상부전극(22c)의 이소 컷팅부(24)가 전기적으로 단선되었는지를 확인할 수 있다.Accordingly, specifying one gap on the test pattern structure 30 having the same size as the line width of the iso cutting portion 24 formed on the upper electrode 22c constituting the actuator on the module 22. Two sections of the second conductive layer 33 formed on both sides with respect to one specified gap are specified. At this time, an electrical conduction test may be performed on the two specified compartments using a probe lamp to determine whether the two specified compartments are completely electrically disconnected by the specified gap, thereby determining the It is possible to check whether the iso cutting portion 24 of the upper electrode 22c is electrically disconnected.
한편, 상기된 바와 같이 액츄에이터의 상부 전극(22c)의 이소 컷팅부(24)의 선폭 크기와 상이한 크기를 갖는 다수의 갭을 상기 테스트 패턴 구조(30)의 제2도 전층(33)에 형성시킴으로서 상기 특정된 선폭 크기를 갖는 액츄에이터의 상부 전극(22c)의 이소 컷팅부(24)를 형성시키는 조건과 동일한 조건으로 다른 선폭 크기를 갖는 상부 전극용 이소 컷팅부(24)를 형성시킬 때의 이소 컷팅부의 전기적 단락 여부를 예측할 수 있다.On the other hand, as described above, by forming a plurality of gaps having a size different from the line width of the iso cutting portion 24 of the upper electrode 22c of the actuator in the second conductive layer 33 of the test pattern structure 30 Iso cutting when forming the iso cutting part 24 for upper electrodes which has another line width size on the same conditions as the iso cutting part 24 of the upper electrode 22c of the actuator which has the said specified line width size. Predict whether a negative electrical short circuit occurs.
제4도에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따라서 상부 전극(22c)상에 이소 컷팅부(24)를 형성시킬 때 비록 외부로부터의 전기적 신호가 인가됨으로서 액츄에이터가 구동시 상부 전극이 평탄한 상태로 유지되어 있는 경우(도면 부호 IV참조)에 광반사 효율에 큰 차이가 발생되지 않지만 상기 액츄에이터의 구동시 상부 전극이 소정의 각도로 경사지는 경우(도면 부호 III 참조)에 상기 이소컷팅부(24) 선폭의 끝단부터 자유 단부사이에 해당되는 상기 상부 전극(22c)에는 전위가 인가되지 않으므로 평탄한 표면 상태를 유지하게 되므로 광반사 효율을 향상시킨다.As shown in FIG. 4, even when an iso cutting portion 24 is formed on the upper electrode 22c according to an embodiment of the present invention, an electrical signal from the outside is applied so that the upper electrode when the actuator is driven. When the flat state is maintained (see reference numeral IV), a large difference in light reflection efficiency does not occur, but the isocutting is performed when the upper electrode is inclined at a predetermined angle when driving the actuator (see reference numeral III). Since the potential is not applied to the upper electrode 22c between the end of the line 24 and the free end, the flat surface state is maintained, thereby improving light reflection efficiency.
이상, 상기 내용은 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명이 속하는 분야의 당업자는 청구 범위에 기재된 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있다.The foregoing has merely described a preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make modifications and variations to the present invention without changing the subject matter of the present invention described in the claims. Can be added.
따라서, 본 발명에 따르면, 외부로부터 인가되는 전기적 신호에 의하여 압전재료가 압전 변형을 나타냄으로서 액츄에이터가 구동될 때 액츄에이터를 구성하고 반사면으로 작용하는 상부 전극의 반사 효율을 향상시키기 위하여 상기 상부 전극에 이소 컷팅부를 형성시킬 때 테스트 패턴 구조에 의하여 상기 이소 컷팅부의 전기적 단락 여부를 용이하게 확인할 수 있다.Therefore, according to the present invention, the piezoelectric material exhibits a piezoelectric deformation by an electrical signal applied from the outside, so that the upper electrode is configured to improve the reflection efficiency of the upper electrode which constitutes the actuator and acts as a reflecting surface when the actuator is driven. When the iso cutting part is formed, it is easy to check whether the iso cutting part is electrically shorted by the test pattern structure.
Claims (4)
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| KR1019960008473A KR0177315B1 (en) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | Test pattern structure for optical path control |
Applications Claiming Priority (1)
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| KR1019960008473A KR0177315B1 (en) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | Test pattern structure for optical path control |
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Family Applications (1)
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| KR1019960008473A KR0177315B1 (en) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | Test pattern structure for optical path control |
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1996
- 1996-03-27 KR KR1019960008473A patent/KR0177315B1/en not_active IP Right Cessation
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| KR970066707A (en) | 1997-10-13 |
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