JPS6377872A - 新規臭素化チオフエン誘導体 - Google Patents
新規臭素化チオフエン誘導体Info
- Publication number
- JPS6377872A JPS6377872A JP21803986A JP21803986A JPS6377872A JP S6377872 A JPS6377872 A JP S6377872A JP 21803986 A JP21803986 A JP 21803986A JP 21803986 A JP21803986 A JP 21803986A JP S6377872 A JPS6377872 A JP S6377872A
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- JP
- Japan
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- expressed
- brominated
- compound
- oligomers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は下記式(1)で示される光学用プラスチック原
料として有用な新規な臭素化チオフェン誘導体に関する
。
料として有用な新規な臭素化チオフェン誘導体に関する
。
(但し、式中nは1または2を示す。)〈従来の技術〉
近年、無機光学材料に替る素材として、透明性合成樹脂
よシなる高屈折率樹脂は、その軽量性・耐衝撃性・成型
加工性・染色性が良好なことから光学用プラスチック材
料として適用分野を拡大しつつある。
よシなる高屈折率樹脂は、その軽量性・耐衝撃性・成型
加工性・染色性が良好なことから光学用プラスチック材
料として適用分野を拡大しつつある。
しかし、従来の光学用プラスチック材料として用いられ
ているジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹
脂は屈折率が1.49〜1.50と低いため、これから
得られる樹脂を例えば眼鏡用レンズにすると無機光学レ
ンズに比較して中心厚、コバ厚が大きくなる欠点があっ
た。
ているジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹
脂は屈折率が1.49〜1.50と低いため、これから
得られる樹脂を例えば眼鏡用レンズにすると無機光学レ
ンズに比較して中心厚、コバ厚が大きくなる欠点があっ
た。
〈発明が解決しようとする問題点〉
以上説明したように、従来の光学用プラスチック材料F
i種々の欠点を有しておシ改善が望まれている。そこで
本発明の目的も光学用プラスチック材料として有用な高
屈折率で透明性の優れた樹脂を与える単量体を提供する
ことにある。
i種々の欠点を有しておシ改善が望まれている。そこで
本発明の目的も光学用プラスチック材料として有用な高
屈折率で透明性の優れた樹脂を与える単量体を提供する
ことにある。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明者らは、上記目的を達成するために、検肘を重ね
た結果、本発明に至った。すなわち、本発明は文献未載
の前記式(1)で示される新規な臭素化チオフェン誘導
体を提供する。
た結果、本発明に至った。すなわち、本発明は文献未載
の前記式(1)で示される新規な臭素化チオフェン誘導
体を提供する。
本発明Kかかる新規な臭素化チオフェン誘導体として、
具体的には、3−ブロモ−2−メタクリロイルオキシメ
チルチオフェン、5−ブロモ−2−メタクリロイルオキ
シメチルチオフェン、3,4−ジブロモ−2−メタクリ
ロイルオキシチオフェン、3,5−ジブロモ−2−メタ
クリロイルオキシメチルチオフェン、4,5−ジブロモ
−2−メタクリロイルオキシメチルチオフェン等を挙げ
ることができる。
具体的には、3−ブロモ−2−メタクリロイルオキシメ
チルチオフェン、5−ブロモ−2−メタクリロイルオキ
シメチルチオフェン、3,4−ジブロモ−2−メタクリ
ロイルオキシチオフェン、3,5−ジブロモ−2−メタ
クリロイルオキシメチルチオフェン、4,5−ジブロモ
−2−メタクリロイルオキシメチルチオフェン等を挙げ
ることができる。
前記式(りで示される新規な臭素化チオフェン誘導体は
、例えば臭素化−2−ヒドロキシメチルチオフェンある
いは臭素化−2−ハロゲン化メチルチオフェンとメタク
リル酸誘導体とを反応させることによって製造できる(
下記式(n)、(2)参照)。
、例えば臭素化−2−ヒドロキシメチルチオフェンある
いは臭素化−2−ハロゲン化メチルチオフェンとメタク
リル酸誘導体とを反応させることによって製造できる(
下記式(n)、(2)参照)。
(但し、式中n#:t1または2、XはC1%Brまた
は工、Y td OH,CI、 Br ”! タh C
,〜C,O7ルキ)Lt基、Mはアルカリ金属をそれぞ
れを示す。)すなわち、臭素化−2−ヒドロキシメチル
チオフェンを出発物質として用いる場合、メタクリル酸
との脱水反応によるエステル化反応、メタクリル酸エス
テルとの脱アルコール反応にょるエステル交換反応、メ
タクリル酸ハライドとの脱ハロゲン化水素によるエステ
ル化反応を挙げることができる。また、臭素化−2−ハ
ロゲン化メチルチオフェンを出発物質として用いる場合
、メタクリル酸アルカリ金属塩との脱アルカリ金属ハロ
ゲン化物によるエステル生成反応によυ目的物質を得る
ことができる。
は工、Y td OH,CI、 Br ”! タh C
,〜C,O7ルキ)Lt基、Mはアルカリ金属をそれぞ
れを示す。)すなわち、臭素化−2−ヒドロキシメチル
チオフェンを出発物質として用いる場合、メタクリル酸
との脱水反応によるエステル化反応、メタクリル酸エス
テルとの脱アルコール反応にょるエステル交換反応、メ
タクリル酸ハライドとの脱ハロゲン化水素によるエステ
ル化反応を挙げることができる。また、臭素化−2−ハ
ロゲン化メチルチオフェンを出発物質として用いる場合
、メタクリル酸アルカリ金属塩との脱アルカリ金属ハロ
ゲン化物によるエステル生成反応によυ目的物質を得る
ことができる。
〈発明の効果〉
本発明によって提供される前記式(りで示される新規な
チオフェン誘導体は、置換基として重合性のメタクリロ
イル基を有しているため、それ自体で重合させるか、ま
たは各種のオレフィン性二重結合を有する化合物と共重
合させることによって、側鎖に臭素化されたチオフェン
環を持つポリマーやオリゴマーを得ることができる。そ
して、本発明の新規化合物を主成分とする樹脂は高屈折
率で透明性に優れているので光学用プラスチックとして
好適である。また、これらのポリマーやオリゴ剤 マーは、金属やガラスとの密着性の向上〆や樹脂の難燃
化剤としても用いることができる。
チオフェン誘導体は、置換基として重合性のメタクリロ
イル基を有しているため、それ自体で重合させるか、ま
たは各種のオレフィン性二重結合を有する化合物と共重
合させることによって、側鎖に臭素化されたチオフェン
環を持つポリマーやオリゴマーを得ることができる。そ
して、本発明の新規化合物を主成分とする樹脂は高屈折
率で透明性に優れているので光学用プラスチックとして
好適である。また、これらのポリマーやオリゴ剤 マーは、金属やガラスとの密着性の向上〆や樹脂の難燃
化剤としても用いることができる。
〈実施例〉
以下、本発明を実施例によシ具体的に説明する。
実施例1
撹拌機、温度計、ジムロート型冷却管及び滴下漏斗を備
えた容!300mのガラス製フラスコに、2−ブロモメ
チルジブロモチオフェン38.0g、メタクリル酸カリ
ウム13.9.9.ジメチルスルホキシドzoomtお
よびフェノチアジン0.02,9を仕込んだ。次いで、
撹拌しなから内温55〜60℃で5時間反応させた。反
応溶液を0.3 N −H−HC1)O00中にあけ、
ジエチルエーテル200rnlで3回抽出した。エーテ
ル層を水、水酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、
得られたエーテル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
えた容!300mのガラス製フラスコに、2−ブロモメ
チルジブロモチオフェン38.0g、メタクリル酸カリ
ウム13.9.9.ジメチルスルホキシドzoomtお
よびフェノチアジン0.02,9を仕込んだ。次いで、
撹拌しなから内温55〜60℃で5時間反応させた。反
応溶液を0.3 N −H−HC1)O00中にあけ、
ジエチルエーテル200rnlで3回抽出した。エーテ
ル層を水、水酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、
得られたエーテル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
エーテルを留去し、生成したエステルを減圧蒸留した。
沸点1)3〜1)4℃10.8〜1.0寵i(g、収!
−21,1g(収率56.3係、3,4−ジブロモ体1
8.7%、3.5−ジブロモ体48.41))、4,5
−ジブロモ体32.9%)。得られたエステルをカラム
クロマトグラフィーにより単離、精製した。
−21,1g(収率56.3係、3,4−ジブロモ体1
8.7%、3.5−ジブロモ体48.41))、4,5
−ジブロモ体32.9%)。得られたエステルをカラム
クロマトグラフィーにより単離、精製した。
次に得られたこの新規物質の構造決定のための分析結果
を示す。
を示す。
<3,4−ジブロモ体〉
0元素分析値
C(%) H(%) S (%) Br
(%)理論値 31.79 2.37 9.43
47.00分析値 32.88 2.29
9.08 47.43Q質量分析スペクトル EI m/e = 338,340,342(M+)
0 ’H−NFa (溶媒;CDtJs 内部標準物
g;TMS)δ■7.2pplIHチオフェン環 婁5.23四 2H−CH,− −1,95μ sHCH,− o IR1730ari−’ エステ/L/ I
/ >C=llO1620cnL−’ オレフ
ィン !/>c−c<1)50〜1)55α−1チオフ
ェン骨格<3,5−ジブロモ体〉 0元素分析値 C(%) II (%) S(%)Br(L:l
))理論値 31.79 2.37 9.43
47.00分析値 32.70 2.41 9
.10 47.090質量分析スペクトル EI m/e = 338 、340.342
(M )0 ’H−NMR(溶媒;CDC1,内部
標準物質;TMS)δ−7,0IllplIHチオフェ
ン環−5,23清 2H−CH,− ■1.95plIl 3HCH,−oIR1730
an−’ エステル ν >cm。
(%)理論値 31.79 2.37 9.43
47.00分析値 32.88 2.29
9.08 47.43Q質量分析スペクトル EI m/e = 338,340,342(M+)
0 ’H−NFa (溶媒;CDtJs 内部標準物
g;TMS)δ■7.2pplIHチオフェン環 婁5.23四 2H−CH,− −1,95μ sHCH,− o IR1730ari−’ エステ/L/ I
/ >C=llO1620cnL−’ オレフ
ィン !/>c−c<1)50〜1)55α−1チオフ
ェン骨格<3,5−ジブロモ体〉 0元素分析値 C(%) II (%) S(%)Br(L:l
))理論値 31.79 2.37 9.43
47.00分析値 32.70 2.41 9
.10 47.090質量分析スペクトル EI m/e = 338 、340.342
(M )0 ’H−NMR(溶媒;CDC1,内部
標準物質;TMS)δ−7,0IllplIHチオフェ
ン環−5,23清 2H−CH,− ■1.95plIl 3HCH,−oIR1730
an−’ エステル ν >cm。
1620an−’ オンフィン ν >c−c<
1)50〜1)55m−” チオフェン骨格<4,5
−ジブロモ体〉 軸素8析fE C(%) H(%) S(%)B・(
係)理論値 31.79 2.37 9.43 4
7.00分析値 32.92 2.50 9.13
46.99oJx量分析スペクトル EI m/e = 338.340.342 (M
”)0 ’H−NMR(溶媒;cDCz、 内部標
準物質;TMS)δ−6,9μ IHチオフェン還 御5.23窄 2H−CH,− −1,95四 3HCH,− QIR1730儒−1エステル ν 〉C−0162
0OrIL−’ オレフィン ν >cxc<
1)50〜1)55 cm−’ チオフェン環なお、
3,5−ジブロモ体の赤外線吸収スペクトルを第1図に
示す。
1)50〜1)55m−” チオフェン骨格<4,5
−ジブロモ体〉 軸素8析fE C(%) H(%) S(%)B・(
係)理論値 31.79 2.37 9.43 4
7.00分析値 32.92 2.50 9.13
46.99oJx量分析スペクトル EI m/e = 338.340.342 (M
”)0 ’H−NMR(溶媒;cDCz、 内部標
準物質;TMS)δ−6,9μ IHチオフェン還 御5.23窄 2H−CH,− −1,95四 3HCH,− QIR1730儒−1エステル ν 〉C−0162
0OrIL−’ オレフィン ν >cxc<
1)50〜1)55 cm−’ チオフェン環なお、
3,5−ジブロモ体の赤外線吸収スペクトルを第1図に
示す。
実施例2
実施例1と同様の装置にモノブロモ−2−ヒドロキシメ
チルチオフェン(3−ブロモ体30ii係、5−ブロモ
体70重f%)19.3g、トリエチルアミン20.2
1.クロロホルム200dおよびフェノチアジン0.0
13.9を仕込んだ。次いで、内温を20〜30℃に保
ち撹拌を続けながらメタグリル酸クロライド18.8#
を20分間で滴下した。滴下終了後頁に同温度で120
分間撹拌を続けた後、反応液を水、希塩酸、水、炭酸ナ
トリウム水溶液、水の順に洗浄した。得られた有機層を
無水硫酸ナトリウムを加え乾燥し、クロロホルムを減圧
留去した後、生成したエステルを減圧蒸留した。沸点1
)9〜121℃/ 1.5〜2.0 wIIHgo収量
16.5&(収率63.1%;3−ブロモ体19.9%
、5−ブロモ体s o、 1% )。得られたエステル
をカラムクロマトグラフィーによシ単離、精製した。
チルチオフェン(3−ブロモ体30ii係、5−ブロモ
体70重f%)19.3g、トリエチルアミン20.2
1.クロロホルム200dおよびフェノチアジン0.0
13.9を仕込んだ。次いで、内温を20〜30℃に保
ち撹拌を続けながらメタグリル酸クロライド18.8#
を20分間で滴下した。滴下終了後頁に同温度で120
分間撹拌を続けた後、反応液を水、希塩酸、水、炭酸ナ
トリウム水溶液、水の順に洗浄した。得られた有機層を
無水硫酸ナトリウムを加え乾燥し、クロロホルムを減圧
留去した後、生成したエステルを減圧蒸留した。沸点1
)9〜121℃/ 1.5〜2.0 wIIHgo収量
16.5&(収率63.1%;3−ブロモ体19.9%
、5−ブロモ体s o、 1% )。得られたエステル
をカラムクロマトグラフィーによシ単離、精製した。
次に得られたこの新規物質の構造決定のための分析結果
を示す。
を示す。
く3−ブロモ体〉
0元素分析値
C(係)H(%’) S−C%)Br(係)理論値
41.40 3.47 12.28 30.60分
析値 40.71 3.39 1).66 3
1.060質量分析スペクトル EI m/e = 260,262 (Mつo
’H−NMR(i媒;CDC1,内部標準物質;T
MS)嘗5.25岬 2 H−CH,− −1,951)P 3 HCII、 −oIR1
730cm−’ エステル ν 〉C−0C−0
l620” オレフィン ν >c−c<1)
50〜1)55 cm−’ チオフェン骨格く5−
プロ上体〉 0元素分析値 C(%)I−1(%) S(係)Br(%)理論値
41.40 3.47 12.28 30.60分析値
41.01 3.39 1).90 30.9
40質量分析スペクトル EI m、/e = 260. 262 (
M”)0 ’H−NMR(溶媒; CDCl、
内部標準物質;TMS)= 5.25 pP2 I−I
−CH,−−1,95P 3HCH3− oIR1730cIrL−’ エステル y >
cm。
41.40 3.47 12.28 30.60分
析値 40.71 3.39 1).66 3
1.060質量分析スペクトル EI m/e = 260,262 (Mつo
’H−NMR(i媒;CDC1,内部標準物質;T
MS)嘗5.25岬 2 H−CH,− −1,951)P 3 HCII、 −oIR1
730cm−’ エステル ν 〉C−0C−0
l620” オレフィン ν >c−c<1)
50〜1)55 cm−’ チオフェン骨格く5−
プロ上体〉 0元素分析値 C(%)I−1(%) S(係)Br(%)理論値
41.40 3.47 12.28 30.60分析値
41.01 3.39 1).90 30.9
40質量分析スペクトル EI m、/e = 260. 262 (
M”)0 ’H−NMR(溶媒; CDCl、
内部標準物質;TMS)= 5.25 pP2 I−I
−CH,−−1,95P 3HCH3− oIR1730cIrL−’ エステル y >
cm。
1620 cWL−’ オレフィン ν >cm
c<1)50〜1)550−1 チオフェン骨格
c<1)50〜1)550−1 チオフェン骨格
第1図は本発明にがかる3、5−ジブロモ−2−メタク
リロイルオキシメチルチオフェンの気体状態での赤外線
吸収スペクトルを示す図である。
リロイルオキシメチルチオフェンの気体状態での赤外線
吸収スペクトルを示す図である。
Claims (1)
- (1)下記式で示される新規臭素化チオフェン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、式中nは1または2を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21803986A JPS6377872A (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 | 新規臭素化チオフエン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21803986A JPS6377872A (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 | 新規臭素化チオフエン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6377872A true JPS6377872A (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=16713685
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21803986A Pending JPS6377872A (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 | 新規臭素化チオフエン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6377872A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010000504A1 (en) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | Interuniversitair Microelektronica Centrum | Polymerisable compounds for making opto-electronic devices |
WO2012058023A1 (en) | 2010-10-27 | 2012-05-03 | 3M Innovative Properties Company | Silicone resin composition having high refractive index |
-
1986
- 1986-09-18 JP JP21803986A patent/JPS6377872A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010000504A1 (en) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | Interuniversitair Microelektronica Centrum | Polymerisable compounds for making opto-electronic devices |
US8450604B2 (en) | 2008-06-30 | 2013-05-28 | Imec | Polymerisable compounds for making opto-electronic devices |
WO2012058023A1 (en) | 2010-10-27 | 2012-05-03 | 3M Innovative Properties Company | Silicone resin composition having high refractive index |
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