JPS6351492A - フオトクロミツク性材料 - Google Patents
フオトクロミツク性材料Info
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- JPS6351492A JPS6351492A JP19527086A JP19527086A JPS6351492A JP S6351492 A JPS6351492 A JP S6351492A JP 19527086 A JP19527086 A JP 19527086A JP 19527086 A JP19527086 A JP 19527086A JP S6351492 A JPS6351492 A JP S6351492A
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 53
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 abstract description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 13
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- -1 indoline compound Chemical class 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 230000009935 nitrosation Effects 0.000 description 4
- 238000007034 nitrosation reaction Methods 0.000 description 4
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 241000894007 species Species 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- YHWMFDLNZGIJSD-UHFFFAOYSA-N 2h-1,4-oxazine Chemical compound C1OC=CN=C1 YHWMFDLNZGIJSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 2
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTUKGBOUHWYFGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-trimethyl-2-methylideneindole Chemical compound C1=CC=C2N(C)C(=C)C(C)(C)C2=C1 ZTUKGBOUHWYFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC(N=C=O)=C1 VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 1-(2H-benzotriazol-5-yl)-3-methyl-8-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carbonyl]-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound CN1C(=O)N(c2ccc3n[nH]nc3c2)C2(CCN(CC2)C(=O)c2cnc(NCc3cccc(OC(F)(F)F)c3)nc2)C1=O YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDVITFMRUUGIBF-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-1,3-dihydroindole Chemical compound C1=CC=C2NC(=C)CC2=C1 FDVITFMRUUGIBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000009917 Crataegus X brevipes Nutrition 0.000 description 1
- 235000013204 Crataegus X haemacarpa Nutrition 0.000 description 1
- 235000009685 Crataegus X maligna Nutrition 0.000 description 1
- 235000009444 Crataegus X rubrocarnea Nutrition 0.000 description 1
- 235000009486 Crataegus bullatus Nutrition 0.000 description 1
- 235000017181 Crataegus chrysocarpa Nutrition 0.000 description 1
- 235000009682 Crataegus limnophila Nutrition 0.000 description 1
- 235000004423 Crataegus monogyna Nutrition 0.000 description 1
- 240000000171 Crataegus monogyna Species 0.000 description 1
- 235000002313 Crataegus paludosa Nutrition 0.000 description 1
- 235000009840 Crataegus x incaedua Nutrition 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 101000650578 Salmonella phage P22 Regulatory protein C3 Proteins 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001040920 Triticum aestivum Alpha-amylase inhibitor 0.28 Proteins 0.000 description 1
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical group [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N allyl isocyanate Chemical compound C=CCN=C=O HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- LKPFBGKZCCBZDK-UHFFFAOYSA-N n-hydroxypiperidine Chemical compound ON1CCCCC1 LKPFBGKZCCBZDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフォトクロミック性材料に関するものであり、
更に詳しくは、樹脂よりなるマトリックス中におけるフ
ォトクロミック物質の耐溶出性の高いフォトクロミック
性材料に関するものである。
更に詳しくは、樹脂よりなるマトリックス中におけるフ
ォトクロミック物質の耐溶出性の高いフォトクロミック
性材料に関するものである。
近年、光照射の有無によって可逆的に色調の変化を呈す
るフォトクロミック物質の利用が、調光材料、記録材料
等の分野において注目されるに到り、特に有機フォトク
ロミック物質は、その色調変化の程度が相当に大きいこ
と、各種の樹脂を始めとする有機材料に対する分散性が
良いこと等の点で有用視されているが、反面、フォトク
ロミック作用の繰り返し耐性が低いという致命的な欠点
を有しているため、未だ実用化されるに至っていない。
るフォトクロミック物質の利用が、調光材料、記録材料
等の分野において注目されるに到り、特に有機フォトク
ロミック物質は、その色調変化の程度が相当に大きいこ
と、各種の樹脂を始めとする有機材料に対する分散性が
良いこと等の点で有用視されているが、反面、フォトク
ロミック作用の繰り返し耐性が低いという致命的な欠点
を有しているため、未だ実用化されるに至っていない。
従来から知られている有機フォトクロミック物質の中で
フォトクロミック作用の繰り返し耐性が比較的良好なも
のとしては、スピロナフトオキサジン化合物を挙げるこ
とができ、例えば、特公昭45−28892号公報、特
公昭49−48631号公報、特開昭48−23783
号公報、特開昭55−36284号公報、特開昭60−
53586号公報、特開昭60−112880号公報お
よび特開昭61−138686号公報等に、1,3.3
−トリノチルスビロ〔インドリン−2,3’−(3H)
−ナフト(2,1−b) (I,4)オキサジン〕およ
びその誘導体が開示されており、またそのフォトクロミ
ック作用の繰り返し耐性を更に一層向上させるための試
みがなされている。
フォトクロミック作用の繰り返し耐性が比較的良好なも
のとしては、スピロナフトオキサジン化合物を挙げるこ
とができ、例えば、特公昭45−28892号公報、特
公昭49−48631号公報、特開昭48−23783
号公報、特開昭55−36284号公報、特開昭60−
53586号公報、特開昭60−112880号公報お
よび特開昭61−138686号公報等に、1,3.3
−トリノチルスビロ〔インドリン−2,3’−(3H)
−ナフト(2,1−b) (I,4)オキサジン〕およ
びその誘導体が開示されており、またそのフォトクロミ
ック作用の繰り返し耐性を更に一層向上させるための試
みがなされている。
斯かる有機フォトクロミック物質を用いて実用上を用な
フォトクロミック性材料を得るためには、通常高分子量
物質よりなるマトリックス中に当該フォトクロミック物
質を分散状態で含有させることが必要とされる。然るに
、実際に得られるフォトクロミック作用は、当該マトリ
ックス中におけるフォトクロミック物質の分散の状態に
よって影響を受ける。このため、良好なフォトクロミッ
ク作用を得るために最適な分散状態を実現することので
きる分散手段が模索されているが、未だ確立されたもの
は知られていない。
フォトクロミック性材料を得るためには、通常高分子量
物質よりなるマトリックス中に当該フォトクロミック物
質を分散状態で含有させることが必要とされる。然るに
、実際に得られるフォトクロミック作用は、当該マトリ
ックス中におけるフォトクロミック物質の分散の状態に
よって影響を受ける。このため、良好なフォトクロミッ
ク作用を得るために最適な分散状態を実現することので
きる分散手段が模索されているが、未だ確立されたもの
は知られていない。
フォトクロミック物質の具体的な分散手段としては、
A)混練り法またはキャスティング法等により有機フォ
トクロミック物質をマトリックス中に含有させる手段、 B)高密度の三次元架橋構造を有するマトリックスに、
有機フォトクロミック物質を拡散により浸透させて含有
させる手段、 C)高密度の三次元架橋構造を形成する架橋性組成物中
に有機フォトクロミック物質を分散させておき、当該架
橋性組成物を架橋させて三次元網目構造のマトリックス
中に有機フォトクロミック物質を固定する手段、 D)二重結合を存する有機フォトクロミック物質を単独
若しくは他の重合性単量体と共に重合させることにより
、形成される高分子鎖中に有機フォトクロミック物質を
固定する手段、が一般的なものとして考えられる。
トクロミック物質をマトリックス中に含有させる手段、 B)高密度の三次元架橋構造を有するマトリックスに、
有機フォトクロミック物質を拡散により浸透させて含有
させる手段、 C)高密度の三次元架橋構造を形成する架橋性組成物中
に有機フォトクロミック物質を分散させておき、当該架
橋性組成物を架橋させて三次元網目構造のマトリックス
中に有機フォトクロミック物質を固定する手段、 D)二重結合を存する有機フォトクロミック物質を単独
若しくは他の重合性単量体と共に重合させることにより
、形成される高分子鎖中に有機フォトクロミック物質を
固定する手段、が一般的なものとして考えられる。
一方、フォトクロミック物質においては、フォトクロミ
ック作用の繰り返し耐性が良いこと、高い安定性を有す
ること、光の照射の有無に対応して可逆的な色調変化が
容易に生ずること、また光が照射されたときに生ずる着
色種が十分に安定であること等、物質自体が優れた特性
を存することが基本的に要求されるほか、実際上、マト
リックス中に分散された状態においても光の照射に伴う
色調変化の程度が大きいこと、並びに耐溶出性が高いこ
と、即ち溶剤等によってマトリックスから当1亥フォト
クロミック物質が?8出しないことが要求される。
ック作用の繰り返し耐性が良いこと、高い安定性を有す
ること、光の照射の有無に対応して可逆的な色調変化が
容易に生ずること、また光が照射されたときに生ずる着
色種が十分に安定であること等、物質自体が優れた特性
を存することが基本的に要求されるほか、実際上、マト
リックス中に分散された状態においても光の照射に伴う
色調変化の程度が大きいこと、並びに耐溶出性が高いこ
と、即ち溶剤等によってマトリックスから当1亥フォト
クロミック物質が?8出しないことが要求される。
斯かる要請を考慮して既述の手段A−Dを検討すると、
AおよびBの手段は有機フォトクロミック物質の耐溶出
性の点で問題があり、またCの手段においても、フォト
クロミック物質の溶出を防止するためには架橋の密度を
相当に高いものとする必要があるが、そのようなマトリ
ックス中においてはフォトクロミ7り物質の光による変
態機能が大きく制約されるようになって良好なフォトク
ロミック作用が光重されず、結局得られる色調の変化の
程度が低くなるおそれが大きい。更にCおよびDの手段
においては、架橋性組成物や重合性組成物中に既にフォ
トクロミック物質が含有されているため、その架橋また
は重合処理において当該フォトクロミック物質が劣化し
てその優れたフォトクロミック特性が失われる可能性が
ある。例えば、アリルイソシアネートやグリシジルメク
クリレートの重合時にヒドロキシ基を存するフォトクロ
ミック物質を存在させて重合処理を行なうと、フォトク
ロミック物質が反応して重合体と結合し、優れた耐溶出
性を得ることが可能であるが、重合の進行時におけるラ
ジカルによってフォトクロミック化合物が劣化する可能
性があり、この点において良好な特性を有するフォトク
ロミック性材料を得ることができない。
AおよびBの手段は有機フォトクロミック物質の耐溶出
性の点で問題があり、またCの手段においても、フォト
クロミック物質の溶出を防止するためには架橋の密度を
相当に高いものとする必要があるが、そのようなマトリ
ックス中においてはフォトクロミ7り物質の光による変
態機能が大きく制約されるようになって良好なフォトク
ロミック作用が光重されず、結局得られる色調の変化の
程度が低くなるおそれが大きい。更にCおよびDの手段
においては、架橋性組成物や重合性組成物中に既にフォ
トクロミック物質が含有されているため、その架橋また
は重合処理において当該フォトクロミック物質が劣化し
てその優れたフォトクロミック特性が失われる可能性が
ある。例えば、アリルイソシアネートやグリシジルメク
クリレートの重合時にヒドロキシ基を存するフォトクロ
ミック物質を存在させて重合処理を行なうと、フォトク
ロミック物質が反応して重合体と結合し、優れた耐溶出
性を得ることが可能であるが、重合の進行時におけるラ
ジカルによってフォトクロミック化合物が劣化する可能
性があり、この点において良好な特性を有するフォトク
ロミック性材料を得ることができない。
本発明の目的は、フォトクロミック作用の繰返し耐性が
優れたフォトクロミック物質が樹脂よりなるマトリック
ス中に含有されてなり、当該フォドクロミンク物質の耐
溶出性が高いフォトクロミック性材料を提供することに
ある。
優れたフォトクロミック物質が樹脂よりなるマトリック
ス中に含有されてなり、当該フォドクロミンク物質の耐
溶出性が高いフォトクロミック性材料を提供することに
ある。
本発明のフォトクロミック性材料は、下記一般式(I)
で示されるフォトクロミック物質を、エポキシ樹脂の前
駆体またはウレタン樹脂の前駆体と反応硬化させること
によって得られることを特徴とする。
で示されるフォトクロミック物質を、エポキシ樹脂の前
駆体またはウレタン樹脂の前駆体と反応硬化させること
によって得られることを特徴とする。
R:
〔式中、aおよびbは各々0または1でありかつa+b
=lであり、+1.は水素原子、ハロゲン原子、シアン
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基を示し、R,は
低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基、各種置換
子り−ルアルキル基、”’fCHt ”)’−COOR
を示す、但しRは低級アルキル基、nは1〜6の整数を
示す、〕 本発明に用いるフォトクロミック物質は、核置換ヒドロ
キシ基を含有するスピロナフトオキサジン化合物であり
、これは他のスピロナフトオキサジン化合物と同様に、
良好なフォトクロミック作用の繰返し耐性を有する上、
分子内にヒドロキシ基を有するため、エポキシ樹脂前駆
体のエポキシ基、またはウレタン樹脂前駆体のイソシア
ヌール基と反応することにより、それぞれエポキシ樹脂
またはウレタン樹脂に結合した状態で含有されることと
なる。この結果、フォトクロミック物質の耐溶出性がき
わめて高くなり、溶剤等によってフォトクロミック物質
が溶出することのないフォトクロミック性材料を得るこ
とができる。しかもエポキシ樹脂の前駆体やウレタン樹
脂の前駆体との反応硬化において、使用するスピロナフ
トオキサジン化合物のフォトクロミック性能が劣化する
ような要素は実際上殆どない。
=lであり、+1.は水素原子、ハロゲン原子、シアン
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基を示し、R,は
低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基、各種置換
子り−ルアルキル基、”’fCHt ”)’−COOR
を示す、但しRは低級アルキル基、nは1〜6の整数を
示す、〕 本発明に用いるフォトクロミック物質は、核置換ヒドロ
キシ基を含有するスピロナフトオキサジン化合物であり
、これは他のスピロナフトオキサジン化合物と同様に、
良好なフォトクロミック作用の繰返し耐性を有する上、
分子内にヒドロキシ基を有するため、エポキシ樹脂前駆
体のエポキシ基、またはウレタン樹脂前駆体のイソシア
ヌール基と反応することにより、それぞれエポキシ樹脂
またはウレタン樹脂に結合した状態で含有されることと
なる。この結果、フォトクロミック物質の耐溶出性がき
わめて高くなり、溶剤等によってフォトクロミック物質
が溶出することのないフォトクロミック性材料を得るこ
とができる。しかもエポキシ樹脂の前駆体やウレタン樹
脂の前駆体との反応硬化において、使用するスピロナフ
トオキサジン化合物のフォトクロミック性能が劣化する
ような要素は実際上殆どない。
本発明のフォトクロミック性材料は、勿論単体として得
ることもできるが、特にフォトクロミック作用が要求さ
れる各種の基体の表面上にINとして形成する態様にお
いて適用することが可能でありかつ有利である。ここに
基体としては、例えば装飾材料、記録材料、光学材料等
、広い範囲から選択することができる。
ることもできるが、特にフォトクロミック作用が要求さ
れる各種の基体の表面上にINとして形成する態様にお
いて適用することが可能でありかつ有利である。ここに
基体としては、例えば装飾材料、記録材料、光学材料等
、広い範囲から選択することができる。
以下本発明について具体的に説明する。
本発明においては、上記一般式(I)で示される核置換
ヒドロキシ基を有するスピロナフトオキサジン化合物を
フォトクロミック物質として使用する。
ヒドロキシ基を有するスピロナフトオキサジン化合物を
フォトクロミック物質として使用する。
斯かるスピロナフトオキサジン化合物の代表的な例とし
ては、 9°−ヒドロキシ−1,3,3−トリメチルスピロ〔イ
ンドリン−2,3’−(3H)−ナフト(2,1−b)
(I,4)オキサジン〕、 9°−ヒドロキシ−1−ベンジル−3,3−ジメチルス
ピロ(インドリン−2,3’−(3H)ナフト〔2゜1
−b)(I,4)オキサジン、 8′−ヒドロキシ−1,3,3−トリメチルスピロ〔イ
ンドリン−2,3°−(3H)−ナフトC2,1−b)
(I,4)オキサジン〕、 8゛−ヒドロキシ−5−クロロ−1,3,3−)ジメチ
ルスピロ〔インドリン−2,3°−(3H)−ナフト(
2,1−b) (I,4)オキサジン〕、8゛−ヒドロ
キシ−1−ベンジル−1,3,3−トリメチルスピロ〔
インドリン−2,3°−(3H)−ナフ) (2,1−
b) (I,4)オキサジン〕、7”−ヒドロキシ−5
−メトキシ−1,3,1)ジメチルスピロ〔インドリン
−2,3°−(3H)ナフト(2,1−b) (I,4
)オキサジン〕、6°−ヒドロキシ−1,3,3−トリ
メチルスピロ〔インドリン−2,3″−(3H)ナフト
(2,1−b)(I,4)オキサジン〕、 その他を挙げることができる。
ては、 9°−ヒドロキシ−1,3,3−トリメチルスピロ〔イ
ンドリン−2,3’−(3H)−ナフト(2,1−b)
(I,4)オキサジン〕、 9°−ヒドロキシ−1−ベンジル−3,3−ジメチルス
ピロ(インドリン−2,3’−(3H)ナフト〔2゜1
−b)(I,4)オキサジン、 8′−ヒドロキシ−1,3,3−トリメチルスピロ〔イ
ンドリン−2,3°−(3H)−ナフトC2,1−b)
(I,4)オキサジン〕、 8゛−ヒドロキシ−5−クロロ−1,3,3−)ジメチ
ルスピロ〔インドリン−2,3°−(3H)−ナフト(
2,1−b) (I,4)オキサジン〕、8゛−ヒドロ
キシ−1−ベンジル−1,3,3−トリメチルスピロ〔
インドリン−2,3°−(3H)−ナフ) (2,1−
b) (I,4)オキサジン〕、7”−ヒドロキシ−5
−メトキシ−1,3,1)ジメチルスピロ〔インドリン
−2,3°−(3H)ナフト(2,1−b) (I,4
)オキサジン〕、6°−ヒドロキシ−1,3,3−トリ
メチルスピロ〔インドリン−2,3″−(3H)ナフト
(2,1−b)(I,4)オキサジン〕、 その他を挙げることができる。
以上のようなスピロナフトオキサジン化合物は、少なく
とも1つのβ位にヒドロキシ基を有し、かつその隣のα
位をニトロソ化することのできるジヒドロキシナフタレ
ンを用い、これをニトロソ化し、対応するインドリン化
合物をエタノール、トルエン等の適当な溶剤の存在下に
沸点還流して反応させることによって合成することがで
きる。また前記インドリン化合物の代わりに対応するイ
ンドリニウム塩化合物を用いても合成することが可能で
ある。また触媒としてトリエチルアミン等の塩基を加え
ることもできる。このスピロナフトオキサジン化合物は
、必要に応じて再結晶法、カラム分離法、活性炭処理法
等の手法を利用して精製することにより、純品を得るこ
とができる。
とも1つのβ位にヒドロキシ基を有し、かつその隣のα
位をニトロソ化することのできるジヒドロキシナフタレ
ンを用い、これをニトロソ化し、対応するインドリン化
合物をエタノール、トルエン等の適当な溶剤の存在下に
沸点還流して反応させることによって合成することがで
きる。また前記インドリン化合物の代わりに対応するイ
ンドリニウム塩化合物を用いても合成することが可能で
ある。また触媒としてトリエチルアミン等の塩基を加え
ることもできる。このスピロナフトオキサジン化合物は
、必要に応じて再結晶法、カラム分離法、活性炭処理法
等の手法を利用して精製することにより、純品を得るこ
とができる。
本発明のフォトクロミック性材料においてマトリックス
を構成するエポキシ樹脂またはウレタン樹脂には特に制
限はな(、いかなる種類のものをも用いることができる
。
を構成するエポキシ樹脂またはウレタン樹脂には特に制
限はな(、いかなる種類のものをも用いることができる
。
エポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ
基を含む高分子量化合物およびそのエポキシ基の開環反
応によって生成する樹脂が用いられ、好ましくはエポキ
シ基を含む化合物と活性水素化合物との反応生成物が用
いられる。
基を含む高分子量化合物およびそのエポキシ基の開環反
応によって生成する樹脂が用いられ、好ましくはエポキ
シ基を含む化合物と活性水素化合物との反応生成物が用
いられる。
ここに活性水素化合物としてはビスフェノールA1ビス
フエノールF等のフェノール系化合物、ポリプロピレン
グリコール、水素化ビスフェノールA等のアルコール系
化合物等のヒドロキシ基含有化合物、ダイマー酸等のカ
ルボン酸含有化合物、インシアナート基等のアミン含有
化合物等を挙げることができる0反応を促進するための
硬化剤として、脂肪族ポリアミン、アミドアミン、ポリ
アミド、芳香族ポリアミン、酸無水物、触媒性硬化剤等
を用いることもできる。
フエノールF等のフェノール系化合物、ポリプロピレン
グリコール、水素化ビスフェノールA等のアルコール系
化合物等のヒドロキシ基含有化合物、ダイマー酸等のカ
ルボン酸含有化合物、インシアナート基等のアミン含有
化合物等を挙げることができる0反応を促進するための
硬化剤として、脂肪族ポリアミン、アミドアミン、ポリ
アミド、芳香族ポリアミン、酸無水物、触媒性硬化剤等
を用いることもできる。
ウレタン樹脂としては、ウレタン結合を繰り返し有する
樹脂、好ましくはジイソシアナートとポリオールとの反
応生成物が用いられる。ジイソシアナートとしては、ヘ
キサメチレンジイソシアナート等の脂肪族ジイソシアナ
ート、イソホロンジイソシアナート、シクロヘキサン−
1,4−ジイソシアナート等の脂環族ジイソシアナート
、キシリレンジイソシアナート、1,3−ジフェニルプ
ロパン−1,3−ジイソシアナート等の芳香環を有する
脂肪族イソシアナート、1−メチル−2,4−フェニレ
ンジイソシアナート、ジフェニルメタン−4゜4゛−ジ
イソシアナート等の芳香族イソシアナート、その他を好
ましく用いることができ、またポリオールとしては、例
えばポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール
、アクリルポリオ−等を好ましく用いることができる。
樹脂、好ましくはジイソシアナートとポリオールとの反
応生成物が用いられる。ジイソシアナートとしては、ヘ
キサメチレンジイソシアナート等の脂肪族ジイソシアナ
ート、イソホロンジイソシアナート、シクロヘキサン−
1,4−ジイソシアナート等の脂環族ジイソシアナート
、キシリレンジイソシアナート、1,3−ジフェニルプ
ロパン−1,3−ジイソシアナート等の芳香環を有する
脂肪族イソシアナート、1−メチル−2,4−フェニレ
ンジイソシアナート、ジフェニルメタン−4゜4゛−ジ
イソシアナート等の芳香族イソシアナート、その他を好
ましく用いることができ、またポリオールとしては、例
えばポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール
、アクリルポリオ−等を好ましく用いることができる。
更に好ましい特性のウレタン樹脂を得るために、ウレタ
ン反応においてエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、トリメチロールプロパン等を加えることもでき
る。
ン反応においてエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、トリメチロールプロパン等を加えることもでき
る。
またウレタン化反応を促進するために、ジイソシアナー
トとポリオールの混合物中に触媒としてジブチルチンジ
ラウレート、1.2,2.6.6−ベンタメチルー4−
ヒドロキシピペリジン等を加えて硬化温度を低下させる
ことも可能である。
トとポリオールの混合物中に触媒としてジブチルチンジ
ラウレート、1.2,2.6.6−ベンタメチルー4−
ヒドロキシピペリジン等を加えて硬化温度を低下させる
ことも可能である。
これらのエポキシ樹脂またはウレタン樹脂は、その最終
生成物が無色のものであることが好ましい。
生成物が無色のものであることが好ましい。
本発明において、フォトクロミック物質は上記のエポキ
シ樹脂の前駆体またはウレタン樹脂の前駆体と混合され
、フォトクロミック物質の分子中のヒドロキシ基が、エ
ポキシ樹脂の前駆体中のエポキシ基またはウレタン樹脂
の前駆体中のインシアナート基と反応することにより、
フォトクロミック物質がそれら樹脂中に化学的に結合さ
れた状態で含有されることとなる。従って本発明フォト
クロミック性材料は、フォトクロミック物質の耐溶出性
が非常に高いものである。ここにエポキシ樹脂の前駆体
またはウレタン樹脂の前駆体とは、それら樹脂の原料の
混合物、オリゴマーなどであり、熱、その他の手段によ
、ってエポキシ樹脂またはウレタン樹脂を与えるものを
いう。
シ樹脂の前駆体またはウレタン樹脂の前駆体と混合され
、フォトクロミック物質の分子中のヒドロキシ基が、エ
ポキシ樹脂の前駆体中のエポキシ基またはウレタン樹脂
の前駆体中のインシアナート基と反応することにより、
フォトクロミック物質がそれら樹脂中に化学的に結合さ
れた状態で含有されることとなる。従って本発明フォト
クロミック性材料は、フォトクロミック物質の耐溶出性
が非常に高いものである。ここにエポキシ樹脂の前駆体
またはウレタン樹脂の前駆体とは、それら樹脂の原料の
混合物、オリゴマーなどであり、熱、その他の手段によ
、ってエポキシ樹脂またはウレタン樹脂を与えるものを
いう。
本発明のフォトクロミック性材料におけるエポキシ樹脂
またはウレタン樹脂とフォトクロミック物質の割合は、
樹脂100重量部当り0.01〜50重量部、好ましく
は0.05〜40重量部とされる。この範囲外では良好
なフォトクロミック作用を有するフォトクロミック性材
料を得ることが困難である。
またはウレタン樹脂とフォトクロミック物質の割合は、
樹脂100重量部当り0.01〜50重量部、好ましく
は0.05〜40重量部とされる。この範囲外では良好
なフォトクロミック作用を有するフォトクロミック性材
料を得ることが困難である。
本発明の実施は種々の態様で行うことができるが、例え
ばガラス板、レンズ体、透明な樹脂フィルム等よりなる
基体の表面に、既述のフォトクロミック物質と、エポキ
シ樹脂の前駆体またはウレタン樹脂の前駆体とを混合し
てなる塗布液を塗布し、加熱処理等により硬化反応せし
めることにより、本発明フォトクロミック性材料による
薄層を形成した光学部材等を製造することができる。こ
のように樹脂の前駆体を使用することにより、その硬化
中にフォトクロミック物質が樹脂と化学的に結合しなが
ら一体化するので製造が容易であり、また前駆体は低分
子量であるので粘度の低い塗布液が得られ、従って塗布
が容易であるという利点がある。
ばガラス板、レンズ体、透明な樹脂フィルム等よりなる
基体の表面に、既述のフォトクロミック物質と、エポキ
シ樹脂の前駆体またはウレタン樹脂の前駆体とを混合し
てなる塗布液を塗布し、加熱処理等により硬化反応せし
めることにより、本発明フォトクロミック性材料による
薄層を形成した光学部材等を製造することができる。こ
のように樹脂の前駆体を使用することにより、その硬化
中にフォトクロミック物質が樹脂と化学的に結合しなが
ら一体化するので製造が容易であり、また前駆体は低分
子量であるので粘度の低い塗布液が得られ、従って塗布
が容易であるという利点がある。
塗布液の調製には溶剤を使用することが好ましく、これ
によって塗布液の粘度を容易に低下させることができる
。この溶剤としては、例えばメチルエチルケトン、酢酸
エチル、酢酸ブチル、イソブチルケトン、キシレンおよ
びそれらの混合物、その他が用いられる。また樹脂とし
てエポキシ樹脂を用いる場合には、反応性稀釈剤を用い
ることも可能である。また塗布液には、必要に応じて硬
化触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤等種々の添加剤を加
えることもできる。塗布液を基体に塗布した後、加熱等
によって反応および硬化を行なわせることにより、本発
明のフォトクロミック性材料が形成される。この反応お
よび硬化は、フォトクロミック物質のヒドロキシ基の反
応および前駆体の高分子量化(樹脂化)を行なわせるの
に充分な条件で行えばよいが、通常20℃〜100℃の
温度範囲において10分間〜20時間加熱すればよい。
によって塗布液の粘度を容易に低下させることができる
。この溶剤としては、例えばメチルエチルケトン、酢酸
エチル、酢酸ブチル、イソブチルケトン、キシレンおよ
びそれらの混合物、その他が用いられる。また樹脂とし
てエポキシ樹脂を用いる場合には、反応性稀釈剤を用い
ることも可能である。また塗布液には、必要に応じて硬
化触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤等種々の添加剤を加
えることもできる。塗布液を基体に塗布した後、加熱等
によって反応および硬化を行なわせることにより、本発
明のフォトクロミック性材料が形成される。この反応お
よび硬化は、フォトクロミック物質のヒドロキシ基の反
応および前駆体の高分子量化(樹脂化)を行なわせるの
に充分な条件で行えばよいが、通常20℃〜100℃の
温度範囲において10分間〜20時間加熱すればよい。
塗布液の塗布膜の厚みは1〜100 μが好ましい。
このようにして形成された本発明のフォトクロミック性
材料は、溶剤等が接触したときにも、マトリックス中に
含有されたフォトクロミック物質が溶出することのない
きわめて優れた耐溶出性を有する。従ってこのフォトク
ロミック性材料の表面上に更に他のコーティングを施す
場合等において種々の溶剤を自由に用いることができ、
溶剤の面から制約を受けることなしに、種々のコーティ
ングを施すことが可能である。例えば、本発明のフォト
クロミック性材料の表面保護のためにいわゆるハードコ
ート層を形成する場合にも、当該ハードコート剤の溶剤
によってフォトクロミック物質の特性が劣化することが
ない。
材料は、溶剤等が接触したときにも、マトリックス中に
含有されたフォトクロミック物質が溶出することのない
きわめて優れた耐溶出性を有する。従ってこのフォトク
ロミック性材料の表面上に更に他のコーティングを施す
場合等において種々の溶剤を自由に用いることができ、
溶剤の面から制約を受けることなしに、種々のコーティ
ングを施すことが可能である。例えば、本発明のフォト
クロミック性材料の表面保護のためにいわゆるハードコ
ート層を形成する場合にも、当該ハードコート剤の溶剤
によってフォトクロミック物質の特性が劣化することが
ない。
以下、本発明の詳細な説明するが、本発明がこれらに限
定されるものではない。
定されるものではない。
実施例1
(N 2,7−ナフトジオールのニトロソヒ8gの2,
7−ナフトジオールを100dの酢酸と50t/のアセ
トンとの混合溶剤に溶解し、水浴により0℃以下に冷却
した0次いでこの溶液に、13.8gの亜硝酸ナトリウ
ムを50献の水に溶解したものを2時間をかけて滴下し
、ニトロソ化を行った。
7−ナフトジオールを100dの酢酸と50t/のアセ
トンとの混合溶剤に溶解し、水浴により0℃以下に冷却
した0次いでこの溶液に、13.8gの亜硝酸ナトリウ
ムを50献の水に溶解したものを2時間をかけて滴下し
、ニトロソ化を行った。
反応後湾液を一晩攪拌し、生じた沈澱を濾別してアセト
ンおよび水で洗浄し、真空乾燥機により十分に乾燥させ
、生成物7.6gを得た。
ンおよび水で洗浄し、真空乾燥機により十分に乾燥させ
、生成物7.6gを得た。
この生成物は、TLCおよび元素分析の結果、原料の2
.7−ナフトジオール3フ重量%と、そのモノニトロソ
化物63重量%との混合物であると認められた。なお、
この生成物は精製することなしに以下の合成に供した。
.7−ナフトジオール3フ重量%と、そのモノニトロソ
化物63重量%との混合物であると認められた。なお、
この生成物は精製することなしに以下の合成に供した。
(I)で得られた2、7−ナフトジオールのニトロソ化
生成物4.36gと、1,3.3−トリメチル−2=メ
チレンインドリン10.35gとを5Qmlの無水エタ
ノールに溶解し、窒素を30分間バブルした後昇温し、
沸点還流により3時間反応を行った。
生成物4.36gと、1,3.3−トリメチル−2=メ
チレンインドリン10.35gとを5Qmlの無水エタ
ノールに溶解し、窒素を30分間バブルした後昇温し、
沸点還流により3時間反応を行った。
反応終了後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムによりク
ロロホルムを展開溶媒としてカラム分離を行った。溶媒
を留去した後、得られた固体をクロロホルム−ヘキサン
混合溶剤から再結晶して淡黄色の粉末1.8gを得た。
ロロホルムを展開溶媒としてカラム分離を行った。溶媒
を留去した後、得られた固体をクロロホルム−ヘキサン
混合溶剤から再結晶して淡黄色の粉末1.8gを得た。
この生成物は、核磁気共鳴分析および赤外分光析により
9゛−ヒドロキシ−1,3,3−トリメチルスピロ〔イ
ンドリン−2,3’−(3H)−ナフト 〔2,1−b
)(I,4)オキサジン〕と同定された。
9゛−ヒドロキシ−1,3,3−トリメチルスピロ〔イ
ンドリン−2,3’−(3H)−ナフト 〔2,1−b
)(I,4)オキサジン〕と同定された。
−ロし」1里
以上のようにして得たスピロナフ)・オキサジン化合物
4重量部と、エポキシ樹脂の前駆体「エボニフクス11
100クリヤー」(大日本塗料■社製)48重量部と、
「イルガノックス245J (チバガイギー社製)1
重量部とをメチルエチルケトン100重量部に溶解し、
塗布液を得た。
4重量部と、エポキシ樹脂の前駆体「エボニフクス11
100クリヤー」(大日本塗料■社製)48重量部と、
「イルガノックス245J (チバガイギー社製)1
重量部とをメチルエチルケトン100重量部に溶解し、
塗布液を得た。
この塗布液をスライドガラス上に浸漬法により塗布し、
80℃で16時間加熱硬化させることによって本発明の
フォトクロミック性材料よりなる調光層を形成した。こ
の調光層の厚さは35μであり、若干緑色を帯びた透明
なものであった。
80℃で16時間加熱硬化させることによって本発明の
フォトクロミック性材料よりなる調光層を形成した。こ
の調光層の厚さは35μであり、若干緑色を帯びた透明
なものであった。
このガラス部材に波長365nmの紫外線を照射すると
濃青色となり、また紫外線を除いて暗所に放置すると元
の無色の状態に戻った。
濃青色となり、また紫外線を除いて暗所に放置すると元
の無色の状態に戻った。
また調光層におけるフォトクロミック物質の耐溶出性を
調べるため、上記スライドガラスを室温でメチルエチル
ケトンに5分間浸漬し、その後取り出してメチルエチル
ケトンを良(切り、80℃にて10分間乾燥させ、同様
にして波長365+vの紫外線を照射したところ、若干
の色落ちは見られるものの、はぼ同様の発色を示し、非
着色種の吸収ピーク(340r+m)における吸光度は
、メチルエチルケトン浸漬処理前のものの約60%を示
した。このことより、調光層においてフォトクロミック
物質は安定に存在し、溶剤に溶出しにくいことが明らか
である。
調べるため、上記スライドガラスを室温でメチルエチル
ケトンに5分間浸漬し、その後取り出してメチルエチル
ケトンを良(切り、80℃にて10分間乾燥させ、同様
にして波長365+vの紫外線を照射したところ、若干
の色落ちは見られるものの、はぼ同様の発色を示し、非
着色種の吸収ピーク(340r+m)における吸光度は
、メチルエチルケトン浸漬処理前のものの約60%を示
した。このことより、調光層においてフォトクロミック
物質は安定に存在し、溶剤に溶出しにくいことが明らか
である。
比較例1
9゛−ヒドロキシ−1,3,3−)リメチルスピロ〔イ
ンドリン−2,3’−(3H)−ナフト (2+1
b)(I,4)オキサジン〕の代わりに、ヒドロキシ基
を有しない1,3.3−トリノチルスビロ〔インドリン
−2,3°−(3H)ナフト(2,1−b) (I,4
)オキサジン〕を使用したほかはすべて実施例1のCD
I)と同様にして塗布液を調製し、この塗布液をスライ
ドガラス上に塗布し、80℃で16時間の加熱硬化を行
って調光層を形成した。
ンドリン−2,3’−(3H)−ナフト (2+1
b)(I,4)オキサジン〕の代わりに、ヒドロキシ基
を有しない1,3.3−トリノチルスビロ〔インドリン
−2,3°−(3H)ナフト(2,1−b) (I,4
)オキサジン〕を使用したほかはすべて実施例1のCD
I)と同様にして塗布液を調製し、この塗布液をスライ
ドガラス上に塗布し、80℃で16時間の加熱硬化を行
って調光層を形成した。
得られたガラス部材は、波長365nmの紫外線を照射
すると実施例1のガラス部材と同色で殆ど同濃度の呈色
を示し、光照射の除去と共に元の無色の状態に戻った。
すると実施例1のガラス部材と同色で殆ど同濃度の呈色
を示し、光照射の除去と共に元の無色の状態に戻った。
このスライドガラスの一部を室温でメチルエチルケトン
に5分間浸漬して取り出し、メチルエチルケトンを良く
切り、80℃にて10分間乾燥した後同様にして波長3
65nmの紫外線を照射したところ、浸漬した部分は全
く発色せず、完全に色落ちしていた。なおメチルエチル
ケトンに浸漬しなかった部分は、元のものと同様に青色
に発色した。
に5分間浸漬して取り出し、メチルエチルケトンを良く
切り、80℃にて10分間乾燥した後同様にして波長3
65nmの紫外線を照射したところ、浸漬した部分は全
く発色せず、完全に色落ちしていた。なおメチルエチル
ケトンに浸漬しなかった部分は、元のものと同様に青色
に発色した。
実施例2
(I)2.6−ナフトジオールのニトロソヒ8gの2.
6−ナフトジオールを1OO−の酢酸と100dのエタ
ノールとの混合溶剤に溶解し、水浴により0℃以下に冷
却した6次いでこの溶液に、13.8gの亜硝酸ナトリ
ウムを50−の水に溶解したものを2時間をかけて滴下
し、更に4時間の攪拌を行って反応を完結させた。これ
を−晩成型し、析出した沈澱を濾別して水とエタノール
で洗浄し、50℃で真空乾燥させて5.7gの生成物を
得た。
6−ナフトジオールを1OO−の酢酸と100dのエタ
ノールとの混合溶剤に溶解し、水浴により0℃以下に冷
却した6次いでこの溶液に、13.8gの亜硝酸ナトリ
ウムを50−の水に溶解したものを2時間をかけて滴下
し、更に4時間の攪拌を行って反応を完結させた。これ
を−晩成型し、析出した沈澱を濾別して水とエタノール
で洗浄し、50℃で真空乾燥させて5.7gの生成物を
得た。
この生成物は、薄層クロマトグラフィーおよびCHN元
素分析の結果、原料の2.6−ナフトジオールと、モノ
ニトロソ化物と、ジニトロソ化物との混合物であると認
められた。なお、この生成物は精製することなしに以下
の合成に供した。
素分析の結果、原料の2.6−ナフトジオールと、モノ
ニトロソ化物と、ジニトロソ化物との混合物であると認
められた。なお、この生成物は精製することなしに以下
の合成に供した。
(I)で得られた2、6−ナフトジオールのニトロソ化
生成物4.36gと、1,3.3− )ツメチル−2=
メチレンインドリン6.9gとを70−の無水エタノー
ルに溶解し、窒素ガス下において2時間還流させて反応
を行った。
生成物4.36gと、1,3.3− )ツメチル−2=
メチレンインドリン6.9gとを70−の無水エタノー
ルに溶解し、窒素ガス下において2時間還流させて反応
を行った。
反応終了後、溶媒を濃縮し、シリカゲルカラムによりク
ロロホルムを展開溶媒としてカラム分離を行った。溶媒
を留去した後、得られた固体をクロロホルム−ヘキサン
混合溶剤から再結晶して淡黄色の粉末0.7gを得た。
ロロホルムを展開溶媒としてカラム分離を行った。溶媒
を留去した後、得られた固体をクロロホルム−ヘキサン
混合溶剤から再結晶して淡黄色の粉末0.7gを得た。
この生成物は、核磁気共鳴分析および赤外分光析により
8°−ヒドロキシ−1,3,3−)リメチルスピロ〔イ
ンドリン−2,3’−(3H)−ナフト〔2,1−b)
(I,4)オキサジン〕と同定された。
8°−ヒドロキシ−1,3,3−)リメチルスピロ〔イ
ンドリン−2,3’−(3H)−ナフト〔2,1−b)
(I,4)オキサジン〕と同定された。
CIII)適里
以上のようにして得たスピロナフトオキサジン化合物を
用いた他は実施例1と同様にして塗布液を得、この塗布
液を用いてスライドガラス上に調光層を形成した。この
調光層は若干緑色を帯びた透明なものであった。
用いた他は実施例1と同様にして塗布液を得、この塗布
液を用いてスライドガラス上に調光層を形成した。この
調光層は若干緑色を帯びた透明なものであった。
このガラス部材に波長365nmの紫外線を照射すると
濃青色となり、また紫外線を除いて暗所に放置すると元
の無色の状態に戻った。
濃青色となり、また紫外線を除いて暗所に放置すると元
の無色の状態に戻った。
また調光層におけるフォトクロミック物質の耐溶出性を
調べるために実施例1と同様の浸漬処理および乾燥を行
い、同様にして波長!365nmの紫外線を照射したと
ころ、メチルエチルケトン浸漬処理前のものとほぼ同様
の発色を示し、非着色種の吸収ピーク(340部m)に
おける吸光度は、メチルエチルケトン浸漬処理前のもの
の約60%を示した。
調べるために実施例1と同様の浸漬処理および乾燥を行
い、同様にして波長!365nmの紫外線を照射したと
ころ、メチルエチルケトン浸漬処理前のものとほぼ同様
の発色を示し、非着色種の吸収ピーク(340部m)に
おける吸光度は、メチルエチルケトン浸漬処理前のもの
の約60%を示した。
このことより、調光層のフォトクロミック物質は安定に
存在し、溶剤に溶出しにくいことが明らかである。
存在し、溶剤に溶出しにくいことが明らかである。
実施例3
2.3.3−トリメチルインドレニン5.3gを401
7のエタノールに溶解し、窒素バブルを30分間行った
後にベンジルブロマイド5.7gを加え、2時間沸点還
流を行った。室温まで冷却した後3.4gのトリエチル
アミン及び50−のエタノールを加え、PR拌後後実施
例1N)で合成した2、7−ナフトジオールのニトロソ
化生成物6.8gを加えて溶解させ、室温で30分間窒
素バブルしながら攪拌した後、2時間沸点還流を行った
。
7のエタノールに溶解し、窒素バブルを30分間行った
後にベンジルブロマイド5.7gを加え、2時間沸点還
流を行った。室温まで冷却した後3.4gのトリエチル
アミン及び50−のエタノールを加え、PR拌後後実施
例1N)で合成した2、7−ナフトジオールのニトロソ
化生成物6.8gを加えて溶解させ、室温で30分間窒
素バブルしながら攪拌した後、2時間沸点還流を行った
。
反応終了後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムによりク
ロロホルムを展開溶媒としてカラム分離を行った。溶媒
を留去した後、得られた固体をクロロホルム−ヘキサン
混合溶剤より再結晶して淡黄色の粉末2.1gを得た。
ロロホルムを展開溶媒としてカラム分離を行った。溶媒
を留去した後、得られた固体をクロロホルム−ヘキサン
混合溶剤より再結晶して淡黄色の粉末2.1gを得た。
この生成物は核磁気共鳴分析および赤外分光折により9
′−ヒドロキシ−1−ベンジル−3,3−ジメチルスピ
ロ〔インドリン−2,3’−(3H)−ナフ) (2,
1−b) (I,4)オキサジンと同定された。
′−ヒドロキシ−1−ベンジル−3,3−ジメチルスピ
ロ〔インドリン−2,3’−(3H)−ナフ) (2,
1−b) (I,4)オキサジンと同定された。
ユ↓L通里
以上のようにして得たスピロナフトオキサジン化合物8
重量部と、ウレタン樹脂の前駆体「オレスターNP 2
000J (三井東圧化学n製)22重量部と、「オ
レスターQ−602J (三井東圧化学■製)11重量
部とを、酢酸エチル40重量部とメチルイソブチルケト
ン341部とドルオール30重量部との混合溶剤に溶解
して塗布液を得た。
重量部と、ウレタン樹脂の前駆体「オレスターNP 2
000J (三井東圧化学n製)22重量部と、「オ
レスターQ−602J (三井東圧化学■製)11重量
部とを、酢酸エチル40重量部とメチルイソブチルケト
ン341部とドルオール30重量部との混合溶剤に溶解
して塗布液を得た。
この塗布液を、ジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネートrCR−39Jよりなるレンズ体(度数−2,0
0、直径78mm)の表面に浸漬法によって塗布し、4
0℃で24時間、更に60℃で24時間加熱硬化させて
調光層を形成した。
ネートrCR−39Jよりなるレンズ体(度数−2,0
0、直径78mm)の表面に浸漬法によって塗布し、4
0℃で24時間、更に60℃で24時間加熱硬化させて
調光層を形成した。
この調光層の厚さは16μであり、若干緑色を帯びた透
明なものであった。このレンズを太陽光下に置くと調光
層が呈色して濃青色となり、太陽光を除いて暗所に放置
すると元の無色の状態に戻った。
明なものであった。このレンズを太陽光下に置くと調光
層が呈色して濃青色となり、太陽光を除いて暗所に放置
すると元の無色の状態に戻った。
次いでこのレンズの調光層上に、シリコーン系ハードコ
ート液rX−12−1100J (信越化学工業側製
)を浸漬法によって塗布し、30分間室温で放置した後
、80℃で2時間加熱硬化させてハードコート層を形成
した。
ート液rX−12−1100J (信越化学工業側製
)を浸漬法によって塗布し、30分間室温で放置した後
、80℃で2時間加熱硬化させてハードコート層を形成
した。
斯くして得られたレンズは、ハードコート層の形成工程
のための浸漬においても何ら悪影響を受けず、無色透明
のきれいなものであった。このレンズを太陽光下に放置
すると濃青色となり、暗所に放置する元の無色透明の状
態に戻った。
のための浸漬においても何ら悪影響を受けず、無色透明
のきれいなものであった。このレンズを太陽光下に放置
すると濃青色となり、暗所に放置する元の無色透明の状
態に戻った。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)下記一般式( I )示されるフォトクロミック物質
を、エポキシ樹脂の前駆体またはウレタン樹脂の前駆体
と反応硬化させることによって得られることを特徴とす
るフォトクロミック性材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、aおよびbは各々0または1でありかつa+b
=1であり、R_1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基を示し、R_2
は低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基、各種置
換アリールアルキル基、−(CH_2)−_nCOOR
を示す。但しRは低級アルキル基、nは1〜6の整数を
示す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19527086A JPH0765035B2 (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | フオトクロミツク性材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19527086A JPH0765035B2 (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | フオトクロミツク性材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6351492A true JPS6351492A (ja) | 1988-03-04 |
JPH0765035B2 JPH0765035B2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=16338362
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19527086A Expired - Lifetime JPH0765035B2 (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | フオトクロミツク性材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0765035B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04107545A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-04-09 | Sharp Corp | 光メモリー素子の製造方法 |
JP2005215640A (ja) * | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フォトクロミックレンズおよびその製造方法 |
WO2021075383A1 (ja) * | 2019-10-17 | 2021-04-22 | 株式会社トクヤマ | フォトクロミック性ヒドロキシウレタン化合物 |
-
1986
- 1986-08-22 JP JP19527086A patent/JPH0765035B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04107545A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-04-09 | Sharp Corp | 光メモリー素子の製造方法 |
JP2005215640A (ja) * | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フォトクロミックレンズおよびその製造方法 |
WO2021075383A1 (ja) * | 2019-10-17 | 2021-04-22 | 株式会社トクヤマ | フォトクロミック性ヒドロキシウレタン化合物 |
CN114402008A (zh) * | 2019-10-17 | 2022-04-26 | 株式会社德山 | 光致变色性羟基氨基甲酸酯化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0765035B2 (ja) | 1995-07-12 |
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