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JPS63271346A - 感光性組成物及び感光性複写材料 - Google Patents

感光性組成物及び感光性複写材料

Info

Publication number
JPS63271346A
JPS63271346A JP63081461A JP8146188A JPS63271346A JP S63271346 A JPS63271346 A JP S63271346A JP 63081461 A JP63081461 A JP 63081461A JP 8146188 A JP8146188 A JP 8146188A JP S63271346 A JPS63271346 A JP S63271346A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive
thermally crosslinkable
composition
crosslinkable compound
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63081461A
Other languages
English (en)
Inventor
パウル・シユタールホーフエン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of JPS63271346A publication Critical patent/JPS63271346A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/107—Polyamide or polyurethane

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は実質的には、水に不溶性でろ夛アルカリ水溶液
に可溶性である結合剤、感光性１，２−キノンジアジド
又は露光に際して酸を脱離する化合物及び少なくとも１
個の酸開裂可能なＣ−０−Ｃ基を含有する化合物から成
る感光性混合物及び熱架橋性化合物から成る感光性組成
物に関する。本発明は、この組成物から製造した複写材
料にも関する。
〔従来の技術〕
その画像露光部が現像溶液に可溶性になシ、非露光部が
不溶性のままである感光性組成物は既に以前から公知で
ある。この種の材料を製造するために、感光性化合物と
して０−キノンジアジドを含有し、付加的にアルカリ溶
解性を付与する基を有する樹脂、例えばフェノール樹脂
を含有する層が先ず実際に使用される。
酸開裂可能（ａｃｉｄ−ｅｌｅａｖａｂｌｅ　）な化合
物を基礎とする感光性組成物も公知である。これらは酸
開裂可能な化合物としてオルトカルボン酸誘導体、−１
１１ｉ又ハ多価アセタール、エノールエーテル又はアシ
ルイミノカルボネートを含有する。
これらの組成物中に含有される酸を脱離する放射感応性
化合物は主として有機ハロゲン化合物、特にハロダン化
メチル基によって置換されたＳ−トリアジンから成る。
使用される結合剤もアルカリ溶解性を付与する基を有す
る樹脂から成る。
０−キノンジアジドを基礎とする普通のホゾ型複写材料
を適切な添加剤の存在で、特別な処理によシネガチプ法
（ｎ＠ｇａｔｌｖ＊　ｐｒｏｃｅｓｓｌｎｇ　）用に使
用することができることも公知である。
英国特許出願第２０８２３１号明細書にはこの種の反転
法（ｒ・マ・ｒｓａｌ　ｐｒｏＣ・■）が記載されてお
シ、その際０−キノンジアジド及び少なくとも１種類の
レゾールから成る感光性混合物をネガ型記録材料として
使用することができる。西ドイツ特許公開公報第２５２
９０５４号（米国特許第４１０４０７０号に相応する）
明細書には、反転法で使用するための１，２−キノンジ
アジドを基礎とするレジスト層が記載されている。これ
らの層は添加剤としてヒドロキシアルキルイミダシリン
を含有する。第二又は第三アミンを含有する。第二又は
第三アミンを含有する同様の材料が米国特許第４１９６
００３号明細書に記載されている。、欧州特許出願第０
１３３２１６号（米国特許第４５８１３２１号に相応す
る）明細書には、０−キノンジアジドを含有する複写層
が有利には重合体反応で架橋剤として使用されるヘキサ
メチロールメラミンから成る添加物を含有する反転法が
記載されておシ、他方欧州特許出願第０１３１２３８号
（米国特許第４５７１０１号に相応する）明Ｍ＠には感
光性材料が前記した塩基性又は酸性添加剤のどちらも必
要としない反転法が記載されている。
先行技術は、例えば欧州特許出願第００８２４６３号（
米国特許第４５０６００６号に相応する）明細書に記載
されているように、１，２−キノンジアジドの代シに酸
開裂可能な化合物を基礎としたＩジーネガ反転法も開示
している。
前記反転法は本質的には、画像露光後印刷版を加熱し、
冷却した版を面画を用いずに再露光し、次いで水性アル
カリ現像液を用いて現像することが包含される同じ順序
の処理工程から成る。
先行技術の反転法は、生じた光分解生成物が加熱される
場合に不溶性の反応生成物を形成するという事実に基づ
く。この熱硬化（架橋）は有利には複写層中の特別な塩
基性又は酸性の添加物の存在でか又は多官能性反応基を
含有する特別な架橋剤の存在で行われる。
しかしこの種の添加物は一般に複写層の貯蔵寿命及び複
写技術に関する特別な特性、例えば感光性及び露光後の
画像コントラストに対する不利な影響を有する。更に、
多くの適用のために画像反転用に所望される温度が高す
ぎるか又は比較的低い温度では加熱時間が長すぎるか或
いは反転処理を行うことができる温度範囲が狭すぎる。
欧州特許出願第０１３３２１６号明細書に記載されてい
る反転法では、複写層は前記のように主成分として、１
．２−キノンジアジドの他にヘキサメチロールメラミン
を含有する。この種のメラミンエーテルは普通のポジ型
感光性材料の画像反転を露光画像部で熱硬化の間に有利
に助成するが、それＫもかかわらずヘキナメチロールメ
ラミンエーテルは反転範囲の温度耐性が比較的狭く、そ
れによって複写結果に変化を生じることになシうるとい
う欠点を有する。又、ヘギテメチロールメラミンエーテ
ルの反応基のために印刷版が特に高められた温度で劣悪
な貯蔵寿命を有し、そのため、架橋が不十分となシ、従
って印刷版を使用不能にするという著しい欠点を有する
。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的は、その複写材料が前記の欠点を有さす、
特に製造された印刷版の良好な貯蔵寿命が高めた温度で
も損われず、更に比較的大きな反転範囲を有する、例え
ば１，２−キノンジアジドを基礎とする普通のポジ型感
光性複写材料を用いてネガチゾコピー（ｎｅｇａｔｉｖ
ｅ　ｃｏｐｙ　）の製造忙使用するための感光性組成物
及びその組成物から製造した複写材料を提供することで
ある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明、は実質的に、水に水溶性であジアルカリ水溶液
に可溶性である結合剤、感光性１，２−キノンジアジド
又は露光に際して酸を脱離する化合物及び少なくとも１
個の酸開裂可能なＣ−０−Ｃ基を含有する化合物から成
る感光性混合物及び熱架橋性化合物から成る感光性組成
物に基づく。
本発明の組成物は、使用される熱架橋性化合物が尿素又
はウレタン／ホルムアルデヒド縮合生成物から成ること
を特徴とする。一般式Ｉ：ＮＨ−ＣＨ２−０−Ｒ の縮合生成物又は一般式■： Ｃｏ　−０−Ｒ の縮合生成物〔式中Ｒは水素又はアルキル基を表す〕が
有利である。
非可塑化尿素／ホルムアルデヒド樹脂又はブチルウレタ
ン／ホルムアルデヒド樹脂のような化合物が特に有利で
あると判明した。
Ｗ、レングス７エルド（Ｌ＠ｎｇｓｆ＠ｌｄ　）著′７
アルペン・ラント拳うツケ（Ｆａｒｂｅｎ　ｕｎｄ　Ｌ
ａｅｋｅ）　’（″Ｄｙｅｓ　ａｎｄ　Ｖａｒｎｌｓｈ
ｅｓ　’　）　７５．１９６９．１０６３頁によれば、
請求の尿素樹脂は主に一般式■に相応する３個の尿素基
本分子でできている環式へ中サヒドロトリアジン構造を
有する。
本発明によ）使用することのできるウレタン樹脂（カル
バミン酸エステル樹脂）は式■に相応し、大体は又ヘキ
サヒドロトリアジン誘導体の形で存在する。
エーテル化された尿素樹脂は一般に二段階の工程で製造
される。反応混合物を弱アルカリ性状態下に前縮合し、
次いで酸性範囲のｐＨＫ調整し、相応するアルコールの
不在下に完全に縮合させ、水を共沸蒸溜によって連続的
に除去する。
ブタノール又はイソブタノールでエーテル化された尿素
／ホルムアルデヒド樹脂の合成の例は、ホウベン−ペイ
ル（Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ　）著“メトーデン・デル
・オルガニツシエン・ヒエミー（Ｍ＠ｔｈｏｄ＠ｎ　ｄ
ｅｒ　ｏｒｇａｎｉａｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ　）　’
（Ｍｅｔｈｏｄｓ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ　’　）　１４／２．３５０／３５１頁、例１
０．１１及び１４に記載されている。ウレタン樹脂は酸
性媒体中でカルバミン酸エステルをホルムアルデヒドと
縮合させることによって製造される。合成の例は、ホウ
ベン−ペイル著の“メソツズ拳オン・オーガニック・ケ
ミストリー１１４／２，３７９頁、例１ｏに記載されて
いる。
本発明による感光性組成物は、縮合生成物をその非揮発
性成分の重量に関して０．１〜５．０重１に％、有利に
は０．５〜３．０重量％の量で含有する。
例、ｔば１，２−キノンジアジドを基礎とした普通のポ
ジ型感光性材料を用いてネガチプコピーを製造するため
の先行例の反転法に比べて、本発明の材料は、本発明に
よシ使用されるホルムアルデヒド縮合生成物の存在で反
転工程の間にかなシの温度変化がある場合でも、色調付
与に不利な影響を与えないように実際の反転範囲の温度
許容度が比較的大きいという重要な利点を有する。
本発明で使用するために好適な光増感剤は１．２−キノ
ンジアジド−スルホン酸エステル、特ニ、１，２−キノ
ンジアシド−スルホン酸−４−エステル、１，２−キノ
ンジアジド−スルホン酸−養一アミド、１．２−キノン
ジアジド−カル＊ｙ酸−＋−エステル及びアミドのいず
れかから成シ、これらによシ化学線にさらされることに
よってアルカリ水溶液に可溶性となる。
１．２−キノンジアジド訴導体の好適なエステルには酸
又はそのハロダン化物とフェノール、側光ば２，３．４
−　トリヒドロ中シーベンゾフェノン、２．４−ジヒド
ロキシ−ベンゾフェノン、養−テカッイルーレゾルシノ
ール、養−（２−７二二ルプロビー２−イル）−フェノ
ールとの公知反応生成物、没食子酸オクチルエステル又
は４．４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−４草酸
ブチルエステルが包含される。アミドは公知方法で長鎖
脂肪族アミン又は有利には芳香族アミンから誘導するこ
とができる。
０−”？ノンジアジド化合物の量は、組成物の非揮発性
成分の重量に関して一般に３〜５０重量％、有利には７
〜３５重ｔチである。
感光性組成物は有利には、本発明の組成物用に使用され
る溶剤に溶解し、アルカリ溶液に可溶性であるか又は少
なくとも膨潤性である重合体の水に不溶性の樹脂結合剤
を含有する。
ナフトキノンジアジドを基礎とする多くのデー）複写材
料で広く使用されるノボラック縮合樹脂も本発明で結合
剤として使用するために有利であると判明した。ノ？ラ
ックは公知方法で、それらのとドロキシ基の部分を例え
ばクロル酢酸、インシアネート、エポキシド又はカルメ
ン酸無水物と反応させることによって変性することもで
きる。アルカリに可溶性であるか又は膨潤性であるその
他の有利な結合剤には、フェノールとアルデヒド又はケ
トンとの縮合によシ製造されたポリヒドロキシフェノー
ル樹脂、スチレンと無水マレイン酸の共重合体、ポリビ
ニルフェノール又はアクリル酸又はメタクリル酸と特に
アクリル酸−又はメタクリル酸フェノールエステルとの
共重合体が包含される。使用されるアルカリに可溶性の
樹脂の種類及び量は意図される用途によシ変化しうる；
固体物質に関して９０〜３０重量％、特に８５〜５５重
量％の量が有利である。
付加的にその他の多数の樹脂、有利には工Ｉキシ樹脂及
びビニル重合体、例えばポリビニルピロリドン及びこれ
らの樹脂の基礎となる単量体の共重合体及び水素添加さ
れた又は部分的に水素添加されたコロホニル銹導体も使
用することができる。
これらの樹脂の最も有利な比は要求される適用及び現像
状態へのそれらの影響に左右されるが、一般にアルカリ
可溶性樹脂５０：ｉ！−％を越えず、有利には約２〜３
５重量％である。特別な要求、例えば可撓性、粘着性、
光沢及び色調を満すために感光性組成物は、ポリグリコ
ール、セルロース紡導体、例えばエチルセルロース、湿
潤剤、染料、接着促進剤及び細分状顔料及び所望により
ＵＶ吸着剤のような物質を含有することもできる。
露光後の色調変化をもたらすために、感光性組成物は、
有利には露光に際して強酸を生成するか又は脱離し、次
の好適な染料との反応で色変化を生じる少量の放射感光
性化合物と混合することもできる。この種の放射感応性
化合物には、例えば１，２−ナフトキノン−ジアジド−
養−スルホン酸クロリド、発色置換分を有するビスー又
ハトリハログンメチルーｓ−）リアジン又はそれらの塩
の鉛酸例えばテトラフルオ硼酸又はヘキサフルオ燐酸の
塩の形のジアゾニウム化合物が包含される。
本発明は、層支持体及び実質的に水に不溶性で６Ｃ水性
アルカリ溶剤に可溶性の結合剤、感光性１，２−キノン
ジアジン又は露光に際して酸を脱離する化合物及び少な
くとも１個の酸開裂可能なＣ−０−Ｃ基を有する化合物
から成る感光性混合物及び熱架橋性化合物から成る感光
性層から成る感光性複写材料をも提供する。この複写材
料は、使用される熱架橋性化合物が尿素又はウレタン／
ホルムアルデヒド縮合生成物から成ることを特徴とする
。
好適な層支持体を被覆するために、組成物を一般に溶剤
に溶解する。溶剤の選択は意図される被覆方法、層厚及
び乾燥条件に左右される。
本発明の組成物に好適な溶剤は、ケトン、例えばメチル
エチルケトン、塩素化炭化水垢、例えハトリクロルエチ
レン及び１，１．１−トリクロルエタン；アルコール、
ｆｌＬｔハｎ　−ｆロバノール；エーテル、例えばテト
ラヒドロフラン；アルコールニー、チル、例、ｔばエチ
レン又はフロピレングリコールモノアルキルエーテル；
及びエステル、例えば酢酸ブチルが包含される。特別な
目高のために付加的に溶剤、例えばアセトニトリル、ジ
オキサン又はジメチルホルムアミドを含有してもよい混
合物を使用することもできる。
原則として不可逆的に層成分と反応しない任意の溶剤を
使用することができる。グリコールの部分エーテル、特
にエチレングリコールモノメチＡ／エーテル及ヒプロピ
レングリコールメチルエーテルが特に有利である。
多くの場合に、約１０μｍよシ小さい厚さの要用に使用
される支持体は金属である。次のものをオフセット印刷
版に使用することができる：ミル仕上げしく　ｍ１ｌｌ
−ｆｉｎｉｓｈ＠ｄ　）　、機械的Ｋか又は電気化学的
に砂目立てし、かつ場合によシ陽極酸化したアルミニウ
ム（これは付加的に例えばポリビニルホスホン酸、珪酸
塩、燐酸塩、へ牛すフルオルジルコネート又は加水分解
されたテトラエチルオルトシリフートで化学的に前処理
しておいてもよい）。
層支持体の被覆は公知方法で回転塗布、噴錫、浸漬、ロ
ーラー塗布、スロットダイを用いる塗布、ナイフ塗布又
はフローコーター塗布によシ実施される。
漸変アルカリ度（ｇｒａｄｕａｔ＠ｄ　ａｌｋｍｌｌｎ
ｌｔｙ）を有するアルカリ水溶液を現像用に使用する：
この溶液は有利には１０〜１４の範囲の−を有し、少量
の有機溶剤又は表面活性剤を含有してもよい。
反転処理用に画像照射し又は露光した複写材料を、更に
中間処理せずに加熱する。加熱は照射、対流、加熱した
表面との接触、例えばロールによってか又は不活性液体
例えば水から成る加熱浴中に浸漬することによって行う
ことができる。温度は８００〜１５０℃、有利には１０
０゜〜１３０℃の間であってよい。これらの温度に本発
明の組成物は非露光部、例えば被覆部の特性の何らかの
著しい変化なしに、耐える。加熱時間は熱を適用するた
めに選択される方法により広範に変えることができる。
熱媒体を使用する場合には、加熱時間は１０秒〜１０分
、特に１〜３分の間である。
加熱及び冷却に続いて、なお感光性の層の部分を完全に
光分解生成物に変えるために印刷版を全体的に露光する
。再露光用に、有利には画像露光で使用した光源を再び
使用することができる。
再露光の次に常用の現像剤を用いて現像する。
この工程で最初の画像露光で光のあたらなかった層部分
が洗浄除去される。好適な現像剤は有利には漸変アルカ
リ度を有するアルカリ性物質の水溶液、例えばアルカリ
金属燐酸塩、珪酸塩、炭酸塩又は水酸化物の水溶液（こ
れは付加的に表面活性剤又は少量の有機溶剤を含有する
ことができる）から成る。特別な場合に好適な現像剤は
有機溶剤又は有機溶剤と水との混合物から成る。材料を
加熱し冷却した直後又は例えば数時間の後に現像するこ
とができ、その際硬化した層部分は何も攻撃され逢い。
本発明で特許請求されている複写層は、普通はポジ型の
複写層からネガチプコビーを製造するために使用するこ
とができ、更に有利には線及びスクリーンフィルムを同
じ版上で一緒に露光すること釦よって結合させる種々の
可能性を実現するために使用することができる（写真植
字）。ネガ原画下に最初の画像露光した後直ちに、例え
ばまだ光にあたっていない層部分（すなわち最初の露光
の間マスクによっておおわれていた部分）を、次いでそ
の他の線又はスクリーン画像下Ｋ、ポジ原画を用いて露
光することができる。このようにして露光し喪印刷版を
次に更に他の中間工程なしく現像する。マスキングに依
′りポジ又はネｆ！ｉ画下に露光することによって付加
的な情報を提供しうる最終的な印刷版が得られる。
本発明の複写層は高めた温度でさえも良好な貯蔵寿命を
有すること及び熱の作用下に画像露光した層部分の比較
的迅速な硬化を兼備するという利点を有する。
特に複写層に本発明によシ使用されるホルムアルデヒド
縮合生成物の存在で反転範囲の温度許容度が比教的大き
く、その結果色調付与が反転工程の間Ｋかなシ温度が変
化する場合でも不利な影響を受けないことは有利である
。
液体が使用される付加的な処理工程及び感光性材料の特
別な組成は必要でない。唯一の付加的な処理工程、すな
わち加熱は一般に存在する乾燥装置を用いて容易に実施
することができる。
原画を用いない最後の露光は画像露光用に使用される光
源を用いて極めて簡単に行われる。
本発明の被写材料は例えば活版印刷、グツピア印刷及び
平版印刷用の印刷版の製造、グリント回路板のサブトラ
フティｆ　（５ｕｂｔｒａｃｔｉマｅ）及びアディティ
ブ（ａｄｃｉｔｔｔマ・）法製造用のフォトレジストス
テンシルの製造、電気めっき法により製造されるニッケ
ルスクリーン印刷シリンダーの製造及びマイクロエレク
トロニクスのマスク製造でリフト−オフ（１ｉｆｔ−ｏ
ｆｆ　）法によシ使用することができる。
次に本発明を本発明の有利な態様である実施例につき詳
説する。他に記載のない限Ｊ％は重量％であり、量比は
重量比である。
例１ 電気化学的に砂目立てし陽極酸化したアルミニウム支持
体を下記溶液で被覆したニ ー６−ｐ−スチルベニル−３− トリアゾン　　　　　　　　　　　　　０．０８８重量
及びナト２耽ドロ７ラン　　　　７０．００　ｉｆｆｆ
ｆ光感光性複写層布する前に、陽極酸化したアルミニウ
ム支持体をＩリピニル燐酸０．１重量−を含有する水溶
液で処理しておいた。
このようにして製造した感光性層が層重量約２、３９−
７ｍ”を有するｐｓ材料をｌ　Ｏ３ｃ！ｒＬの距離に置
いた５００ワツトの金属ノーログン化物ラングを用いて
透明なポジ原画下に６０露光単位の時間画像露光し、次
いで珪酸ナトリウムの５チ濃度水溶液を用いて現像した
。現像する中に、露光された複写層の部分は除去され、
非露光画像部は層支持体上に残シ、原画に相応する印刷
ステンシルが得られた。グリース印刷インキでインキ付
けすると印刷準備のできたポジ印刷版が得られた。
同じｐｓ材料のその他の試料を加工してネガ印刷版にし
た。この目的のために試料をネガ原画下に６０露光単位
の時間露光し、その後１２０℃で２分間加熱し、次いで
原画なしで３０露光単位の間再露光した。前記で使用し
たと同じ現像液で同じ時間現像すると、原画の反転画像
が得られた。
写真植字法（ｐｈｏｔｏｃｏｍｐｏｓｌｎｇ　ｍｅｔｈ
ｏｄ　）によシ、すなわち既に画像露光した印刷版に更
に線又はスクリーン原画下に露光することＫよって材料
を処理することもできる。このためには製造されるｐｓ
材料を先ずネガ原画下に画像露光し、その後１２０℃で
２分間加熱し、次いで再びまだ露光されてない層部分で
透明陽画（ｄｉａｐｏｓｉｔｉマ・）下に再び露光する
。このようにして繰返して露光した印刷版を更に中間工
程を行なわないで現像し、その結果最終的な印刷版が得
られる。
このために公知の反転板及び方法に比して、本発明は熱
処理工程の間処理範囲が比較的大きいというすばらしい
利点を有する。これは製造された普通はデジ型の感光性
印刷版を、オフセット印刷版の画像露光で常用されるよ
うな試験くさび、例えばＵＧＲＡ−オフセット−テスト
・ウェッジ（ＵＧＲＡ−Ｏｆｆｓｅｔ　−Ｔｅｓｔ　Ｗ
ｅｄｇｅ　）　１９８２の存在でネガ原画下に露光し、
その後画像反転に所望される加熱工程を行う場合に顕著
となる。
画像露光した印刷版を例えば冷間熱処理する場合Ｋ、次
の全般的な再露光及び現像後に得られる試験画像で明ら
かな変化を何も惹起するととなしに、温度を１１５℃〜
１４０℃の間で変化させることができる。これは特に、
複写層の化学的又は物理的変化に非常に敏感である連続
階調段階くさびの複写で観察される。処理する間の実際
の反転工程の大きな温度許容度は実際に非常に望ましｂ
ことである。それは複写技術に関する特性、例えば色調
付与が実際に使用される加熱炉又は自動変換装置中で起
ルうる比較的大きな温度変化においてさえも不利な影響
を受けないからである。
本発明によシ使用されるメチル−エーテル化ホルムアル
デヒド縮合生成物が例えば欧州特許出願第０１３３２１
６号明細書による回置のへ中サメチロールメラミンへキ
サメチルエーテルで代用されておシ、同じ試験原画下に
画像露光した後、熱処理工程を同様に冷間行う場合に、
生じる温度変化は約１５℃にすぎない。
次の実施例で例１に記載した結果と同じ結果を生じるそ
の他の被覆溶液を詳説する。特に記載のない限シこれら
の被覆溶液を用いて得られる印刷版の製造及び加工は例
１に記載の条件下に実施する。露光した印刷版は各々メ
タ珪酸ナトリウムの５チ濃度水溶液を用いて現像する。
例２ 被覆溶液は下記のものから成る： 例１に記載のノゲラツク　　　　　７．６０ｉ！、置部
クリスタルバイオレット　　　　　０．０８重量部例３ 被覆溶液は下記のものから成る： 例１に記載のノゲラック　　　　　７．６０３ｉ量部ク
リスタルバイオレット　　　　　０．０８重量部エチレ
ングリコールモノメチル エーテル　　　　　　　　　　　　　　５５．００重量
部及びテトラヒドロフラン　　　　７０．００　重量ｉ
例手 電気分解によシ砂目立てし、陽極酸化したアルミニウム
シートを下記の溶液で被覆した：例１による樹脂　　　
　　　　　　０．１８重量部例１に記載のノゲラック　
　　　　４．７０ｉ量部クリスタルバイオレットペース
　　０．０４　Ｍ縫部こうして製造したｐｓ複写材料（
感光性層は層重量約２．ｏｙ−／？ＦＬ２を有する）を
、１０３ＣＩｒＬの距離に置いた５００ワツトの金属ノ
・ログン化物ランプを用いて１０露光単位の間透明なポ
ジ原画下に画像露光し、次いで珪酸ナトリウムの４チ濃
度水溶液で現像した。現像する間に、露光されなかった
複写層部分は除去され、非露光画像部分は層支持体上に
残るので、原画に相応する印刷ステンシルが得られた。
グリース印刷インキでイン中付けすると印刷準備ができ
たポジ印刷版が得られた。
同じｐｓ材料のその他の試料を処理してネガ印刷版にし
た。この目的のために試料を１０露光単位の間ネガ原画
下に露光し、その後１３０℃で冷間加熱し、次いで原画
を用いずに１０露光単位の間再露光した。前記したと同
じ現像液で同じ時間現像する際に、原画の反転画像が得
られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、実質的に、水に不溶性であり、アルカリ水溶液に可
    溶性である結合剤、感光性１，２−キノンジアジド又は
    露光に際して酸を脱離する化合物及び少なくとも１個の
    酸開裂可能なＣ−Ｏ−Ｃ基を有する化合物から成る感光
    性混合物及び熱架橋性化合物から成る感光性組成物にお
    いて、使用される熱架橋性化合物が尿素又はウレタン／
    ホルムアミド縮合生成物から成ることを特徴とする感光
    性組成物。 ２、使用される熱架橋性化合物が一般式 I ：▲数式、
    化学式、表等があります▼ I 〔式中Ｒは水素又はアルキル基を表す〕による縮合生成
    物から成る、請求項１に記載の組成物。 ３、使用される熱架橋性化合物が一般式II：▲数式、化
    学式、表等があります▼II 〔式中Ｒは水素又はアルキル基を表す〕による縮合生成
    物から成る、請求項１に記載の組成物。 ４、使用される熱架橋性化合物が非可塑化尿素−ホルム
    アルデヒド樹脂から成る、請求項１及び２のいずれか１
    項に記載の組成物。 ５、使用される熱架橋性化合物がブチルウレタン／ホル
    ムアルデヒド樹脂から成る、請求項１又は３のいずれか
    １項に記載の組成物。 ６、熱架橋性化合物が組成物の非揮発性成分の重量に関
    して０．１〜５重量％の量で存在する請求項１から５ま
    でのいずれか１項に記載の組成物。 ７、層支持体及び実質的に、水に不溶性であり、アルカ
    リ水溶液に可溶性の結合剤、感光性１，２−キノンジア
    ジン又は露光に際して酸を脱離する化合物及び少なくと
    も１個の酸開裂可能なＣ−Ｏ−Ｃ基を有する化合物から
    成る感光性混合物及び熱架橋性化合物から成る感光性層
    から成る感光性複写材料において、使用される熱架橋性
    化合物が尿素又はウレタン／ホルムアルデヒド縮合生成
    物から成ることを特徴とする感光性複写材料。
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