JPS6326603A - 合成樹脂部材の反射鏡 - Google Patents
合成樹脂部材の反射鏡Info
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Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザビームプリンター、特にレーザ光学系な
どの45@ ミラーおよびポリゴンミラー等に用いうる
、合成樹脂部材の反射鏡に関するものである。
どの45@ ミラーおよびポリゴンミラー等に用いうる
、合成樹脂部材の反射鏡に関するものである。
従来、光学系部材としての反射鏡、特に45° ミラー
、ポリゴンミラーは、ガラス部材の表面に第1層として
クロムを第2層として銅を蒸着したものが用いられてお
り、蒸着させた銅の#腐食性向上のために、高温に加熱
し、銅の上層部に増反性を兼ねた保護膜を形成していた
。
、ポリゴンミラーは、ガラス部材の表面に第1層として
クロムを第2層として銅を蒸着したものが用いられてお
り、蒸着させた銅の#腐食性向上のために、高温に加熱
し、銅の上層部に増反性を兼ねた保護膜を形成していた
。
反射鏡の製作コストダウンのために、カラスにかえて合
成樹脂部材を基板としてその表面に銅を真空蒸着したも
のを使用することが試みられたが、この場合は基板を高
温に加熱しておいて基若することが出来ず、低温で真空
基若する必要があり、成膜された銅の耐腐食性が充分で
なく、これが実用化をさまたげるネックとなっていた。
成樹脂部材を基板としてその表面に銅を真空蒸着したも
のを使用することが試みられたが、この場合は基板を高
温に加熱しておいて基若することが出来ず、低温で真空
基若する必要があり、成膜された銅の耐腐食性が充分で
なく、これが実用化をさまたげるネックとなっていた。
また、合成樹脂基板の表面を精密仕上げしておいても、
その表面に直接銅を真空基若した場合。
その表面に直接銅を真空基若した場合。
銅の密着性が充分ではなく、耐久性に問題があった。
さらに、銅の上層部に増反射を兼ねて積層する保護膜も
、従来の構成のものは表面擦傷性においても充分とはい
えなかった。
、従来の構成のものは表面擦傷性においても充分とはい
えなかった。
本発明は上記問題点を解決して、合成樹脂部材を用いな
がら密着性、耐腐食性および耐表面擦傷性の充分な反射
鏡を提供することにより、反射鏡の製作コストダウンを
可能とすることを目的とするものである。
がら密着性、耐腐食性および耐表面擦傷性の充分な反射
鏡を提供することにより、反射鏡の製作コストダウンを
可能とすることを目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は合成樹脂部材よりなる基板面上に、SiO、
CrおよびAlの各層がこの順序に形成されており、そ
の上に低屈折率材料、高屈折率材料、低屈折率材料、高
屈折率材料の繰返し順序で少くとも6の偶数層が積層さ
れており、かつその最上層の高屈折率材料層の上に、更
に表面層として、その膜厚が既に積層されている上記偶
数層の各層の膜厚より薄い低屈折率材料層が形成されて
いることを特徴とする合成樹脂部材の反射鏡である。
CrおよびAlの各層がこの順序に形成されており、そ
の上に低屈折率材料、高屈折率材料、低屈折率材料、高
屈折率材料の繰返し順序で少くとも6の偶数層が積層さ
れており、かつその最上層の高屈折率材料層の上に、更
に表面層として、その膜厚が既に積層されている上記偶
数層の各層の膜厚より薄い低屈折率材料層が形成されて
いることを特徴とする合成樹脂部材の反射鏡である。
本発明の反射鏡はレーザ光学系の45° ミラー、ポリ
ゴンミラー等の近赤外反射ミラーなどに特に適している
。
ゴンミラー等の近赤外反射ミラーなどに特に適している
。
本発明で用いる合成樹脂部材は、キャスティング精密成
形またはインジェクション精密成形されたポリスチレン
、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリメチルメ
タクリレート、ポリカーボネートなどが好ましく、更に
通常その基板面は超研削してから積層に供する。
形またはインジェクション精密成形されたポリスチレン
、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリメチルメ
タクリレート、ポリカーボネートなどが好ましく、更に
通常その基板面は超研削してから積層に供する。
積層される第1層はSi0層、第2層はCr層であり、
これらは第3層として積層するA1の基板面への密着性
を向上するためのものであり、Si0層は光学的膜厚的
0.5人程度のものを真空蒸着法により積層するのが好
ましい。また、Cr層は機械的膜厚300〜500人程
度のものを真空蒸着法により積層するのが好ましい、ま
た、第3層としてのA1層は、機械的膜厚600乃至8
00A程度のものを真空基若法により形成するのが好ま
しい。
これらは第3層として積層するA1の基板面への密着性
を向上するためのものであり、Si0層は光学的膜厚的
0.5人程度のものを真空蒸着法により積層するのが好
ましい。また、Cr層は機械的膜厚300〜500人程
度のものを真空蒸着法により積層するのが好ましい、ま
た、第3層としてのA1層は、機械的膜厚600乃至8
00A程度のものを真空基若法により形成するのが好ま
しい。
本発明の反射鏡は、と記の如く形成した第3層のA1層
の上に、更に増反射の目的で、低屈折率材料、高屈折率
材料、低屈折率材料、高屈折率材料の繰返し順序で少く
とも6の偶数層が積層されている。これら偶数層の各層
の膜厚は、設計波長を入 入としてそれぞれ百が好ましく、低屈折率材料としては
SiO□が、−実高屈折率材料としてはTiO□。
の上に、更に増反射の目的で、低屈折率材料、高屈折率
材料、低屈折率材料、高屈折率材料の繰返し順序で少く
とも6の偶数層が積層されている。これら偶数層の各層
の膜厚は、設計波長を入 入としてそれぞれ百が好ましく、低屈折率材料としては
SiO□が、−実高屈折率材料としてはTiO□。
CeO2、Ta2O,またはZrO2とTiO□との混
合物が好ましい。これらの酸化物被膜の形成手段(ま1
×10″〜3X1(1’の酸素環境の高周波プラズマ雰
囲気において、それぞれ対応する金属もしくは低次酸化
物の活性化反応性蒸着により行うのが好ましい。
合物が好ましい。これらの酸化物被膜の形成手段(ま1
×10″〜3X1(1’の酸素環境の高周波プラズマ雰
囲気において、それぞれ対応する金属もしくは低次酸化
物の活性化反応性蒸着により行うのが好ましい。
本発明の反射鏡は、更に最上層すなわち表面層として、
表面硬化の目的で、その膜厚が既に積層されている上記
偶数層の各層の膜厚より薄い低屈折率材料層が形成され
ている。この表面層の膜厚は、設計波長を入□として光
学的膜厚が0.05人乃至0.08人であることが好ま
しく、その材料は5102が好ましく、またその被膜形
成手段は1×10″4〜3×10′4の酸素環境の高周
波プラズマ雰囲気においてSiまたはS10の活性化反
応性蒸着により行うのが好ましい。
表面硬化の目的で、その膜厚が既に積層されている上記
偶数層の各層の膜厚より薄い低屈折率材料層が形成され
ている。この表面層の膜厚は、設計波長を入□として光
学的膜厚が0.05人乃至0.08人であることが好ま
しく、その材料は5102が好ましく、またその被膜形
成手段は1×10″4〜3×10′4の酸素環境の高周
波プラズマ雰囲気においてSiまたはS10の活性化反
応性蒸着により行うのが好ましい。
本発明は元来合成樹脂部材の反射鏡であるが。
これを製造するために採用する成膜手段は1部材がガラ
スまたはアルミニウムなどの軽金属である場合にも適用
可能であり、成膜手段がすべて低温で行われるので、合
成樹脂以外の部材を用いた反射鏡の製造に適用した場合
、成膜後すぐに成膜装置よりとり出すことが出来るので
、その製造コストの低減が可能である。
スまたはアルミニウムなどの軽金属である場合にも適用
可能であり、成膜手段がすべて低温で行われるので、合
成樹脂以外の部材を用いた反射鏡の製造に適用した場合
、成膜後すぐに成膜装置よりとり出すことが出来るので
、その製造コストの低減が可能である。
本発明の反射鏡は耐腐食性に秀れ、反射面の密着性に秀
れている上に、合成樹脂部材上に形成されているので低
コストで製造可能である。また。
れている上に、合成樹脂部材上に形成されているので低
コストで製造可能である。また。
A1層の上に更に増反剤層および表面硬化層を設けであ
るので、耐摩耗性、耐溶剤性にすぐれ、且特に近赤外領
域にすぐれた反射特性を有する。
るので、耐摩耗性、耐溶剤性にすぐれ、且特に近赤外領
域にすぐれた反射特性を有する。
以下に図面を参照しながら実施例をあげて更に本発明を
説明する。
説明する。
実施例1
第1図にその構造断面図を示すポリゴンミラーを、下記
の成膜手段で作製した。
の成膜手段で作製した。
キャスティング精密成形して得られたポリカーボネート
のポリゴンミラー用部材1.1の表面を超研削したのち
、真空度2 X 10’ TorrにおいてSinを光
学的膜厚が0.5人(設計波長入=’480na+ )
になるまで蒸着してSi0層2.1を成膜した。次いで
同じ真空度において機械的膜厚が40OAに達するまで
Crを蒸着してCr層3.1を成膜した0次いで同じ真
空度において機械的膜厚が70OAに達するまでAlを
蒸着してAl層4.1を成膜した。
のポリゴンミラー用部材1.1の表面を超研削したのち
、真空度2 X 10’ TorrにおいてSinを光
学的膜厚が0.5人(設計波長入=’480na+ )
になるまで蒸着してSi0層2.1を成膜した。次いで
同じ真空度において機械的膜厚が40OAに達するまで
Crを蒸着してCr層3.1を成膜した0次いで同じ真
空度において機械的膜厚が70OAに達するまでAlを
蒸着してAl層4.1を成膜した。
次に酸素を蒸着装置内に導入することにより真空度を
1.5X 10’ Tarrとし、酸素環境の高周波プ
ラズマ(印加高周波13.58 MHz、 100W)
雰囲気にて低次のSlOの活性化反応性蒸着を光学的膜
厚金(設計波長入=450nm)に達するまで行い、S
iO2層5.1を成膜し、引続き3×10→Torrの
酸素環境の高周波プラズマ(印加高周波13.58 M
Hz、 100W)雰囲気にて低次のTiOの活性化反
応性蒸着を光学的膜厚金(設計波長入= 450r+m
)に達するまで行い、高次のTiO□層6.1を成膜
し、以下、SiO2層?、1 、 TiO2層8.1
、 SiO2層9.1 、 TiO2層10.1を、層
7.1および9.1 については層5.1 と、層8.
1および10.1については層6.1 と、それぞれ全
く同じように次々と積層を繰返し、最後に光学的膜厚0
.05人(設計波長入= 400r+m )の8102
層11.1を、層5.1のときと同じ成膜方法でSiO
から形成して本発明のポリゴンミラーを得た。
1.5X 10’ Tarrとし、酸素環境の高周波プ
ラズマ(印加高周波13.58 MHz、 100W)
雰囲気にて低次のSlOの活性化反応性蒸着を光学的膜
厚金(設計波長入=450nm)に達するまで行い、S
iO2層5.1を成膜し、引続き3×10→Torrの
酸素環境の高周波プラズマ(印加高周波13.58 M
Hz、 100W)雰囲気にて低次のTiOの活性化反
応性蒸着を光学的膜厚金(設計波長入= 450r+m
)に達するまで行い、高次のTiO□層6.1を成膜
し、以下、SiO2層?、1 、 TiO2層8.1
、 SiO2層9.1 、 TiO2層10.1を、層
7.1および9.1 については層5.1 と、層8.
1および10.1については層6.1 と、それぞれ全
く同じように次々と積層を繰返し、最後に光学的膜厚0
.05人(設計波長入= 400r+m )の8102
層11.1を、層5.1のときと同じ成膜方法でSiO
から形成して本発明のポリゴンミラーを得た。
実施例2
実施例1において、TlO2層B、1.8.1およびl
Q、1の代りに、CeO2、ZrO2、Ta205また
はZrO2とTiO2との混合物よりなる層6.1.8
.1および10.1を、真空度1×lO″〜3 X 1
(1′ITorrの酸素環境の高周波プラズマ(印加高
周波13.58 MHz、 100W)雰囲気にて、そ
れぞれの金属または低次酸化物の活性化入 反応性蒸着を光学的膜厚7(設計波長入= 450nm
)に達するまでそれぞれ行うことにより成膜した以外は
、実施例1と同様に積層膜を形成することにより、本発
明のポリゴンミラーを得た。
Q、1の代りに、CeO2、ZrO2、Ta205また
はZrO2とTiO2との混合物よりなる層6.1.8
.1および10.1を、真空度1×lO″〜3 X 1
(1′ITorrの酸素環境の高周波プラズマ(印加高
周波13.58 MHz、 100W)雰囲気にて、そ
れぞれの金属または低次酸化物の活性化入 反応性蒸着を光学的膜厚7(設計波長入= 450nm
)に達するまでそれぞれ行うことにより成膜した以外は
、実施例1と同様に積層膜を形成することにより、本発
明のポリゴンミラーを得た。
第2図は実施例1〜2のこうして得られた樹脂部材の反
射鏡の分光反射率特性(S偏光およびP偏光:入射角4
5°)を示したもので、図を見てわかるように該反射鏡
は近赤外波長域において高反射率を有している。又従来
の近赤外反射鏡の増反射膜が光学部材を250℃前後に
加熱し、その後成膜し、数時間除冷後蒸着装置より取り
出しているのに対し、本発明の反射鏡は低温で成膜処理
が行われるため成膜後即時蒸着装置より取り出すことが
出来るため、コストの大幅な低減が出来ると同時に従来
の光学部材(ガラス材、軽金属研削部材)に対しても本
発明が適用できる。
射鏡の分光反射率特性(S偏光およびP偏光:入射角4
5°)を示したもので、図を見てわかるように該反射鏡
は近赤外波長域において高反射率を有している。又従来
の近赤外反射鏡の増反射膜が光学部材を250℃前後に
加熱し、その後成膜し、数時間除冷後蒸着装置より取り
出しているのに対し、本発明の反射鏡は低温で成膜処理
が行われるため成膜後即時蒸着装置より取り出すことが
出来るため、コストの大幅な低減が出来ると同時に従来
の光学部材(ガラス材、軽金属研削部材)に対しても本
発明が適用できる。
本発明の実施例1および2の合成樹脂部材の反射鏡の強
度を調べるために、密着性テスト、耐摩耗テスト、耐溶
剤性テスト、耐環境性テストの4つのテストを行った。
度を調べるために、密着性テスト、耐摩耗テスト、耐溶
剤性テスト、耐環境性テストの4つのテストを行った。
各テストの内容は、以下に示すとおりである=
1)密着性テスト:上記反射鏡の表面にセロハンテーフ
にチバン)を接着させた後この表面にほぼ垂直な角度で
、すばやくとりのぞくテストを15回繰返し、蒸着膜の
剥離が生ずるかを調べる。
にチバン)を接着させた後この表面にほぼ垂直な角度で
、すばやくとりのぞくテストを15回繰返し、蒸着膜の
剥離が生ずるかを調べる。
2)#摩耗テスト:上記反射鏡の表面をレンズ拭き紙(
シルポン紙)で包んだ測定子で耐摩耗往復動試験機を用
い3 kg/crn’の圧で50往復こすり、異状が生
ずるか調べる。
シルポン紙)で包んだ測定子で耐摩耗往復動試験機を用
い3 kg/crn’の圧で50往復こすり、異状が生
ずるか調べる。
3)耐溶剤テスト:上記反射鏡の表面をエーテル、アル
コール(7: 3)W合液をふくんだレンズ拭き紙(シ
ルポン紙)で500g/am’圧で50往復こすり、異
状が生ずるが調べる。
コール(7: 3)W合液をふくんだレンズ拭き紙(シ
ルポン紙)で500g/am’圧で50往復こすり、異
状が生ずるが調べる。
4)耐環境テスト:上記反射鏡を温度45°C1相対湿
度95%の恒温恒湿槽中に1000蒔間放置し、異状が
生ずるか調へる。
度95%の恒温恒湿槽中に1000蒔間放置し、異状が
生ずるか調へる。
この4テストの結果はどのテストにおいても異状がみら
れず、従来のガラス部材及軽金属(主としてアルミ)に
対する高温成膜法で作られた膜に比べて、実施例1およ
び2で得た反射鏡の膜は、極めて強い膜であることが判
明した。
れず、従来のガラス部材及軽金属(主としてアルミ)に
対する高温成膜法で作られた膜に比べて、実施例1およ
び2で得た反射鏡の膜は、極めて強い膜であることが判
明した。
第1図は本発明の反射鏡の構造断面図であり、第2図は
本発明の実施例1および2で得られた反射鏡の分光反射
率特性を示すグラフで、横軸は波長、たて軸は反射率を
表わす。 1、に合成樹脂部材の基板 2.1 :SiO 3,1:Cr 4.1 + At 5.1.?、1.9.1.11.1 ・低屈折率の金属
酸化物6、l、 8.1.10.1 :高屈折率
の金属耐化物特許出願人 キャノン株式会社 代 理 人 若 林 忠第1図 第2図
本発明の実施例1および2で得られた反射鏡の分光反射
率特性を示すグラフで、横軸は波長、たて軸は反射率を
表わす。 1、に合成樹脂部材の基板 2.1 :SiO 3,1:Cr 4.1 + At 5.1.?、1.9.1.11.1 ・低屈折率の金属
酸化物6、l、 8.1.10.1 :高屈折率
の金属耐化物特許出願人 キャノン株式会社 代 理 人 若 林 忠第1図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、合成樹脂部材よりなる基板面上に、SiO、Crお
よびAlの各層がこの順序に形成されており、その上に
低屈折率材料、高屈折率材料、低屈折率材料、高屈折率
材料の繰返し順序で少くとも6の偶数層が積層されてお
り、かつその最上層の高屈折率材料層の上に、更に表面
層として、その膜厚が既に積層されている上記偶数層の
各層の膜厚より薄い低屈折率材料層が形成されているこ
とを特徴とする合成樹脂部材の反射鏡。 2、上記表面層が、設計波長をλとして光学的膜厚が0
.05λ乃至0.08λのSiO_2膜である特許請求
の範囲第1項記載の反射鏡。 3、上記偶数層の光学的膜厚が、設計波長をλとしてそ
れぞれλ/2である特許請求の範囲第1項または第2項
記載の反射鏡。 4、上記偶数層の低屈折率材料がSiO_2であり、高
屈折率材料がTiO_2、CeO_2、Ta_2O_5
またはZrO_2とTiO_2との混合物である特許請
求の範囲第1項乃至第3項のいずれか1項に記載された
反射鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16978786A JPS6326603A (ja) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | 合成樹脂部材の反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16978786A JPS6326603A (ja) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | 合成樹脂部材の反射鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6326603A true JPS6326603A (ja) | 1988-02-04 |
Family
ID=15892867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16978786A Pending JPS6326603A (ja) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | 合成樹脂部材の反射鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6326603A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5216551A (en) * | 1990-02-16 | 1993-06-01 | Asahi Kogaku Kogyo K.K. | Surface reflector |
EP1320772A4 (en) * | 2000-08-23 | 2004-10-20 | Vtec Technologies Llc | MIRROR DEVICE MADE OF TRANSPARENT PLASTIC OR POLYMER AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION |
JP2021149007A (ja) * | 2020-03-19 | 2021-09-27 | 株式会社リコー | 光反射素子、光偏向装置、画像投影装置、光書込装置、物体認識装置、移動体、及び、ヘッドマウントディスプレイ |
EP4092456A1 (en) * | 2021-05-21 | 2022-11-23 | Hand Held Products, Inc. | Methods, apparatuses and systems providing optical coatings for optical components |
-
1986
- 1986-07-21 JP JP16978786A patent/JPS6326603A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5216551A (en) * | 1990-02-16 | 1993-06-01 | Asahi Kogaku Kogyo K.K. | Surface reflector |
GB2241709B (en) * | 1990-02-16 | 1994-07-13 | Asahi Optical Co Ltd | Surface reflector |
EP1320772A4 (en) * | 2000-08-23 | 2004-10-20 | Vtec Technologies Llc | MIRROR DEVICE MADE OF TRANSPARENT PLASTIC OR POLYMER AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION |
JP2021149007A (ja) * | 2020-03-19 | 2021-09-27 | 株式会社リコー | 光反射素子、光偏向装置、画像投影装置、光書込装置、物体認識装置、移動体、及び、ヘッドマウントディスプレイ |
EP4092456A1 (en) * | 2021-05-21 | 2022-11-23 | Hand Held Products, Inc. | Methods, apparatuses and systems providing optical coatings for optical components |
JP2022179405A (ja) * | 2021-05-21 | 2022-12-02 | ハンド ヘルド プロダクツ インコーポレーティッド | 光学部品用の光学コーティングを提供する方法、装置、及びシステム |
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