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JPS63259517A - Method for manufacturing electrochromic display elements - Google Patents

Method for manufacturing electrochromic display elements

Info

Publication number
JPS63259517A
JPS63259517A JP11473786A JP11473786A JPS63259517A JP S63259517 A JPS63259517 A JP S63259517A JP 11473786 A JP11473786 A JP 11473786A JP 11473786 A JP11473786 A JP 11473786A JP S63259517 A JPS63259517 A JP S63259517A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
film
counter electrode
transparent conductive
conductive film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11473786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiro Sakuta
伸廣 作田
Hiroshi Kato
寛 加藤
Yoshiya Iida
飯田 喜哉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokuyama Corp filed Critical Tokuyama Corp
Priority to JP11473786A priority Critical patent/JPS63259517A/en
Publication of JPS63259517A publication Critical patent/JPS63259517A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電圧印加により可逆的な発消色を示すエレク
トロクロミックディスプレイ素子(以下ECDと略称す
る)の製造方法に関する。更に詳しくは、ドツトマトリ
ックス表示するECDの電解質層を、着消色する部分と
しない部分に分離し、ECD各セル間のイオン導電性の
ないECD素子を製造する方法に関する。  ′ (従来技術及び発明の解決しようとする問題点)した表
示素子であり、液晶と比べ視野角依存性がなく見易さの
点ですぐれ、また、メモリー機能を有し、低電圧駆動が
できるなどの特徴を有している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for manufacturing an electrochromic display element (hereinafter abbreviated as ECD) that exhibits reversible color development and fading upon application of voltage. More specifically, the present invention relates to a method of manufacturing an ECD element having no ionic conductivity between cells of the ECD by separating the electrolyte layer of an ECD displaying a dot matrix into a portion to be colored and decolored and a portion not to be colored. ' (Prior art and problems to be solved by the invention) It is a display element that has no viewing angle dependence and is easier to see than liquid crystal, has a memory function, and can be driven at low voltage. It has the following characteristics.

近年、多数のセルから構成されるECU)素子のドツト
マトリックス表示の研究が行なわれている。
In recent years, research has been carried out on dot matrix display of ECU (ECU) elements consisting of a large number of cells.

この場合、電極の設置方法によって次の様に2つの方式
にわけることができる。
In this case, there are two methods as follows depending on the method of installing the electrodes.

(11各セルから個別に電極を取り出し、発消色させた
いセルに接続された電極に電流を流す方法。
(11) A method in which electrodes are taken out individually from each cell and a current is passed through the electrodes connected to the cells that are to be colored or erased.

(2)陽極又は陰極の一方をECD素子の表面に横方向
に線状で配置させ、他方の′rFL極をECD素子の裏
面に縦方向に線状で配置させ、互いの電極が交差する点
上にセルを配置させ、電流を流す電極を縦及び横方向に
配置させた電極の中から選択することによって発消色さ
せるセルを決める方法。
(2) One of the anode or cathode is arranged in a line in the horizontal direction on the surface of the ECD element, and the other 'rFL pole is arranged in a line in the vertical direction on the back surface of the ECD element, and the point where the two electrodes intersect A method in which cells are placed on top and electrodes for passing current are selected from among the electrodes arranged vertically and horizontally to determine which cells will be colored and faded.

上記(1)の方法は1つ1つのセルの大きさを小さくで
きないという欠点があるため、上記(2)の方法を採用
する研究が進められている。しかし、このような(2)
の方法に於いては、電解質を通して隣接するセルに電流
が流れるため、発消色させようとするセルに隣接するセ
ルまでもが発消色するというクロス・トーク現象が見ら
れる。
Since method (1) above has the disadvantage that it is not possible to reduce the size of each cell, research is underway to adopt method (2) above. But something like this (2)
In this method, since current flows to adjacent cells through the electrolyte, a cross-talk phenomenon occurs in which even cells adjacent to the cell to be colored or bleached are colored or bleached.

このようなりロス・トーク現象を防止するために次のよ
うな方法が採用されている。即ち、基板上に透明導電膜
を形成したのち、セラミクス製の絶縁層をセル部分を除
いて又クリーン印刷し、その後、セル部分にエレクトロ
クコミック膜(以下ECIIIという)、電解質層及び
対向電極を形成するという方法である。しかし、このよ
うな方法は、比較的大型のドツトマトリックス表示0E
CD素子には適するが、小型のECD素子では、位置精
度などが問題となり、製造が困難であるという欠点があ
った。
In order to prevent such a loss talk phenomenon, the following method is adopted. That is, after forming a transparent conductive film on a substrate, an insulating layer made of ceramics is clean-printed except for the cell part, and then an electrocomic film (hereinafter referred to as ECIII), an electrolyte layer, and a counter electrode are formed on the cell part. The method is to form. However, such a method cannot be applied to a relatively large dot matrix display 0E.
Although suitable for CD devices, small ECD devices have problems with positional accuracy and are difficult to manufacture.

(問題を解決するための手段) 本発明者らは、上記の問題点に鑑み、比較的小さいドツ
トマトリックス表示0ECD素子に於いても、隣接する
セルの電解質層を分離し、イオン導伝性をなくする方法
について研究を重ねてきた。
(Means for Solving the Problem) In view of the above problems, the present inventors separated the electrolyte layers of adjacent cells to improve ionic conductivity even in a relatively small dot matrix display 0ECD element. I've been researching ways to get rid of it.

その結果、電解質層として、光重合性物質と電解質との
混合物を用い、その後、光照射を行ない、各セルの間隙
部分に存在する光重合性物質を重合させることにより、
上記の目的が達成されることを見い出し、本発明を完成
させるに至った。
As a result, by using a mixture of a photopolymerizable substance and an electrolyte as the electrolyte layer, and then irradiating with light to polymerize the photopolymerizable substance present in the gap between each cell,
The inventors have found that the above object can be achieved and have completed the present invention.

即ち、本発明は光透過性基板、透明導電膜、エレクトロ
クロミック膜、電解質層、対向電極及び光透過性基板が
この順序に積層構造をなすセルからなるエレクトロクロ
ミックディスプレイ素子を製造するに於いて、一方の光
透過性基板上に透明導電膜とエレクトロクロミック膜と
を祁乃し、他方の光透過性基板上に対向電極を形成し、
次いで、上記の2つの光透過性基板の少な゛くとも一方
の光透過性基板の透明導電膜とエレクトロクロミック膜
又は対向電極を形成した側に、光重合性物質と電解質と
の混合物を塗布した後、両光透過性基板の透明導電膜と
エレクトロクロミック膜又は対向電極を形成した側が、
互いに内側となるように、両光透過性基板をはり合わせ
、その後、光照射して各セル間の間隙部分の光重合性物
質を重合させることを特徴とするエレクトロクロミック
ディスプレイ素子の製造方法である。
That is, in manufacturing an electrochromic display element of the present invention, which includes a cell in which a light-transmitting substrate, a transparent conductive film, an electrochromic film, an electrolyte layer, a counter electrode, and a light-transmitting substrate are laminated in this order, A transparent conductive film and an electrochromic film are formed on one optically transparent substrate, and a counter electrode is formed on the other optically transparent substrate,
Next, a mixture of a photopolymerizable substance and an electrolyte was applied to at least one of the two light-transparent substrates on the side on which the transparent conductive film and the electrochromic film or the counter electrode were formed. After that, the side on which the transparent conductive film and the electrochromic film or the counter electrode of both the light-transmitting substrates were formed,
A method for producing an electrochromic display element, which comprises gluing both light-transmitting substrates together so that they are on the inside of each other, and then irradiating the substrate with light to polymerize the photopolymerizable material in the gap between each cell. .

また、本発明は、光透過性基板、透明導電膜、エレクト
ロクロミック膜、電解質層、対向電極及び光透過性基板
がこの順序に積層構造をなすセルからなるエレクトロク
ロミックディスプレイ素子を製造するに於いて、−万の
光透過性基板−ヒに透明導電膜とエレクトロクロミック
膜とを膣屑し、他方の光透過性基板上に対向電極を形成
し、次いで、上記の2つの光透過性基板の少なくとも一
方の光透過性基板の透明導電膜とエレクトロクロミック
膜又は対向電極を形成した側に、光重合性物質と電解質
との混合物を塗布した後、光照射して各セル間の間隙部
分に存在する光重合性物質を重合させ、その後、両光透
過性基板の透明導電膜とエレクトロクロミック膜又は対
向電極を形成した側が、互いに内側となるように、両光
透過性基板をはり合わせることを特徴とするエレクトロ
クロミックディスプレイ素子の製造方法をも提供するも
のである。
Further, the present invention provides a method for manufacturing an electrochromic display element consisting of a cell in which a light-transmitting substrate, a transparent conductive film, an electrochromic film, an electrolyte layer, a counter electrode, and a light-transmitting substrate form a laminated structure in this order. , - a transparent conductive film and an electrochromic film are deposited on one optically transparent substrate, a counter electrode is formed on the other optically transparent substrate, and then at least one of the two optically transparent substrates is formed. A mixture of a photopolymerizable substance and an electrolyte is applied to the side of one of the light-transmitting substrates on which the transparent conductive film and electrochromic film or counter electrode are formed, and then light is irradiated to form a mixture that exists in the gaps between each cell. It is characterized by polymerizing a photopolymerizable substance, and then gluing both optically transparent substrates together so that the sides of both optically transparent substrates on which the transparent conductive film and the electrochromic film or the counter electrode are formed are on the inside of each other. The present invention also provides a method for manufacturing an electrochromic display element.

本発明に於けるECD素子のセルは、前記光透過性基板
、透明導電膜、EC膜、電解質層、対向電極及び光透過
性基板がこの順序で積層構造をなしている。
The cell of the ECD element according to the present invention has a laminated structure in which the light-transmitting substrate, transparent conductive film, EC film, electrolyte layer, counter electrode, and light-transmitting substrate are arranged in this order.

本発明で用いる光透過性基板、透明導電膜、EC膜、対
向電極及び電解質については従来公知のものが任意に採
用される。例えば、光透過性基板としては後述する光1
合恒物質を重合させる光を透過させるものであれば、特
に制限されないが、一般には、ガラス板、アクリル樹脂
板等が使用される。また、透明導電膜については、公知
のものが使用出来、例えば酸化インジウム−酸化すず(
ITO)、酸化すず、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化カド
ミウム、すず酸化カドミウム等の酸化物半導体薄膜、あ
るいは厚さ50オングストローム以下の金、銀等の薄膜
が好適に使用される。EC膜については、公知のものが
使用出来、例えば無定形酸化タングステンが最も代表的
であるがその他最近EC物質として研究されている有機
色素、金属錯体、遷移金属化合物、有機物の高分子体な
どが適宜採用される。更にまた対向電極については、公
知のものが使用出来、例えば酸化インジウム、酸化イン
ジウム−酸化すず膜(ITO膜)、金属、無定形酸化タ
ングステン、鉄錯体、遷移金属化合物−カーボン焼結体
及び酸化マンガンその他が挙げられる。
As for the light-transmitting substrate, transparent conductive film, EC film, counter electrode, and electrolyte used in the present invention, conventionally known ones can be arbitrarily employed. For example, as a light transmitting substrate, the light 1
There are no particular restrictions on the material as long as it transmits light that polymerizes the polymerizing substance, but generally a glass plate, an acrylic resin plate, or the like is used. In addition, as for the transparent conductive film, known ones can be used, such as indium oxide-tin oxide (
Oxide semiconductor thin films such as ITO), tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, cadmium oxide, and cadmium tin oxide, or thin films of gold, silver, etc. having a thickness of 50 angstroms or less are preferably used. As for the EC film, any known material can be used; for example, amorphous tungsten oxide is the most typical, but other materials that have recently been studied as EC materials, such as organic dyes, metal complexes, transition metal compounds, and organic polymers, can be used. Adopted as appropriate. Furthermore, for the counter electrode, known ones can be used, such as indium oxide, indium oxide-tin oxide film (ITO film), metal, amorphous tungsten oxide, iron complex, transition metal compound-carbon sintered body, and manganese oxide. Other examples include:

尚、本発明に於ける対向電極とは、上記で説明した公知
のものの他、EC膜と透明導電膜との2層からなり、電
極として機能するものをも含む。
Note that the counter electrode in the present invention includes not only the well-known ones described above but also those made of two layers of an EC film and a transparent conductive film and functioning as an electrode.

本発明に於ける電解質としては、公知のものが何ら制限
なく使用できる0例えば、プロピレンカーボネート又は
ブチルラクトンと過塩素酸リチウムの系;グリセリン、
尿素及びパラトルエンスルホン酸の系等の電解質を挙げ
ることができる。また、本発明に於いては、イオン交換
基を有する重合体、例えば、イオン交換率を電解質とし
て用いることが、得られるECD素子の応答速度及びコ
ントラスト比が向上するために好ましい。
As the electrolyte in the present invention, any known electrolyte can be used without any restriction. For example, a system of propylene carbonate or butyllactone and lithium perchlorate; glycerin;
Mention may be made of electrolytes such as the urea and para-toluenesulfonic acid systems. Further, in the present invention, it is preferable to use a polymer having an ion exchange group, for example, an ion exchange rate, as an electrolyte because the response speed and contrast ratio of the resulting ECD device are improved.

以下に、本発明によるECD素子の製造方法の中で、代
表的な方法を添付図面に従って具体的に説明するが、本
発明は、勿論、以下に述べる方法に限定されるものでは
ない。
Hereinafter, a typical method of manufacturing an ECD element according to the present invention will be specifically explained with reference to the accompanying drawings, but the present invention is of course not limited to the method described below.

まず、二つの光透過性基板l及び1゛のうち、一方の光
透過性基板lの表面に公知の方法、例えばスパッタリン
グ等の方法によって透明導電膜2を形成させる0次いで
、さらにその上に、公知の方法、例えば、真空蒸着、ス
パッタリング等の方法によってEC膜3を形成させる0
次に、セルをドントマトリクス配列とするために透明導
電膜2及びEC膜3を横方向又は縦方向に互いに平行な
線又は帯状となるように不必要部分の除去を行なう、こ
こで除去される不必要部分は、ECD素子の各セル間の
間隙部分となる箇所である。不必要部分の除去方法とし
ては、フォトレジストを用いる公知の方法を採用するこ
とができる。即ち、・EC膜の表面にフォトレジストを
塗布し、フォトマスクをのせたのち露光を行なう、その
後、未硬化のフォトレジストを除去して、エツチング液
により透明導電膜とEC膜とをエツチングする。そして
、硬化したフォトレジストを剥離し、互いに平行な線又
は帯状の透明導電膜2及びEC膜3を得る。
First, a transparent conductive film 2 is formed on the surface of one of the two light-transmissive substrates 1 and 1 by a known method such as sputtering. The EC film 3 is formed by a known method such as vacuum evaporation or sputtering.
Next, in order to arrange the cells in a donmatrix arrangement, unnecessary portions of the transparent conductive film 2 and the EC film 3 are removed so that they form lines or strips parallel to each other in the horizontal or vertical direction. The unnecessary portion is a portion that becomes a gap between each cell of the ECD element. As a method for removing unnecessary portions, a known method using a photoresist can be adopted. That is, - A photoresist is applied to the surface of the EC film, a photomask is placed on it, and then exposed to light.Then, the uncured photoresist is removed and the transparent conductive film and the EC film are etched with an etching solution. Then, the hardened photoresist is peeled off to obtain a transparent conductive film 2 and an EC film 3 in the form of lines or bands parallel to each other.

他方の光透過性基板l°の表面には、前記と同様の方法
によって対向電極4を形成させる。そして、対向電極側
にもドツトマトリックス配列とするために、前記の透明
導電膜及びEC膜の線又は帯状とは直交する方向に互い
に平行な線状を形成させる。その方法は、前記のフォト
レジストを用いる方法と同様に行なうことができる。
A counter electrode 4 is formed on the surface of the other light-transmissive substrate l° by the same method as described above. Then, in order to obtain a dot matrix arrangement on the counter electrode side, lines parallel to each other are formed in a direction orthogonal to the lines or strips of the transparent conductive film and the EC film. The method can be carried out in the same manner as the method using the photoresist described above.

このようにして、一方の光透過性基板1上には透明導電
膜2とECC20が横方向に互いに平行な線又は帯状と
して形成され、他方の光透過性基板1′上には、対向電
極4が縦方向に互いに平行な線又は帯状として形成され
る。
In this way, the transparent conductive film 2 and the ECC 20 are formed as lines or strips parallel to each other in the lateral direction on one light-transmitting substrate 1, and the counter electrode 4 is formed on the other light-transmitting substrate 1'. are formed as lines or strips parallel to each other in the longitudinal direction.

次に、電解質と光重合性物質の混合物5を、上記で得ら
れた光透過性基板1の透明導電膜2とECC20が形成
された側にスクリーン印刷等の方法により、塗布する0
本発明に於いては、後にセル間に存在する光重合性物質
を重合させる。一方セルの位置に存在する光重合性物質
は未重合のまま残されてECDの作動に何らの影響を及
ぼさない、従って、光重合性物質と電解質の混合物の塗
布は、セル及びセル間の区別なく、全面に塗布すること
ができる。電解質と光重合性物質の混合物5は、上記の
ように光透過性基板1の方に塗布してもよく、光透過性
基板1゛の方に塗布しても良い、勿論、両方の光透過性
基板に塗布することも何ら支障ない。
Next, a mixture 5 of an electrolyte and a photopolymerizable substance is applied to the side of the light-transmitting substrate 1 obtained above on which the transparent conductive film 2 and the ECC 20 are formed by a method such as screen printing.
In the present invention, the photopolymerizable substance present between the cells is later polymerized. On the other hand, the photopolymerizable material present at the cell location remains unpolymerized and has no effect on the operation of the ECD; therefore, the application of a mixture of photopolymerizable material and electrolyte is effective in discriminating between the cells and the cells. It can be applied to the entire surface. The mixture 5 of electrolyte and photopolymerizable substance may be applied to the light-transmitting substrate 1 as described above, or it may be applied to the light-transmitting substrate 1''. There is no problem in applying it to a sexual substrate.

本発明で用いられる光重合性物質としては、可視光、紫
外線或いは赤外線等で重合する公知の物質が何ら制限な
く使用し得る。本発明では、重合可能なビニルモノマー
、光増感剤及び光重合促進剤からなる光重合性物質が好
適に用いられる。本発明で用いられる光重合性物質は、
重合後にECD素子を構成する2枚の光透過性基板同士
を相互に接着させることのできるものが好ましい。
As the photopolymerizable substance used in the present invention, known substances that polymerize under visible light, ultraviolet rays, infrared rays, etc. can be used without any limitations. In the present invention, a photopolymerizable substance consisting of a polymerizable vinyl monomer, a photosensitizer, and a photopolymerization accelerator is preferably used. The photopolymerizable substance used in the present invention is
It is preferable that the two light-transmitting substrates constituting the ECD element be bonded to each other after polymerization.

このような接着剤としての作用を有する光重合性物質と
するためには、重合可能なビニルモノマーとして、アク
リロイル基又はメタクリロイル基を存するものを選ぶこ
とが好ましい。
In order to obtain a photopolymerizable substance that functions as such an adhesive, it is preferable to select a polymerizable vinyl monomer containing an acryloyl group or a methacryloyl group.

本発明に於いて好適に用いることのできる重合可能なビ
ニルモノマーを具体的に例示すると次のとおりである。
Specific examples of polymerizable vinyl monomers that can be suitably used in the present invention are as follows.

例えば、メチルメタクリレート;エチルメタクリレート
;イソプロピルメタクリレート;ヒドロキシエチルメタ
クリレート;テトラヒドロフルフリルメタクリレート;
グリシジルメタクリレート;およびこれらのアクリレー
ト等の単官能性ビニルモノマー; 2.2−ビス(メタクリロキシフェニル)プロパン;2
,2−ビス(4−(3−メタクリロキシ)−2−ヒドロ
キシプロポキシフェニル〕プロパン;2.2−ビス(4
−メタクリロキシエトキシフェニル)プロパン;および
これらのアクリレート等の芳香族二官能性ビニルモノマ
ー: エチレングリコールジメタクリレート;ジエチレングリ
コールジメタクリレート;トリエチレングリコールジメ
タクリレート;およびこれらのアクリレート等の脂肪族
二官能性ビニルモノマー:トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリ
メチロールメタントリメタクリレートおよびこれらのア
クリレート等の三官能性ビニルモノマー:ペンタエリス
リトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート等の四官能性ビニルモノマー等を挙
げることができる。
For example, methyl methacrylate; ethyl methacrylate; isopropyl methacrylate; hydroxyethyl methacrylate; tetrahydrofurfuryl methacrylate;
Glycidyl methacrylate; and monofunctional vinyl monomers such as these acrylates; 2.2-bis(methacryloxyphenyl)propane; 2
,2-bis(4-(3-methacryloxy)-2-hydroxypropoxyphenyl)propane; 2,2-bis(4
aliphatic difunctional vinyl monomers such as ethylene glycol dimethacrylate; diethylene glycol dimethacrylate; triethylene glycol dimethacrylate; and acrylates thereof; : Trifunctional vinyl monomers such as trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, trimethylolmethane trimethacrylate and their acrylates: Tetrafunctional vinyls such as pentaerythritol tetramethacrylate and pentaerythritol tetraacrylate Monomers and the like can be mentioned.

また、光増感剤として好適に用いられるものを具体的に
例示すれば、ベンジル、カンファーキノン、α−ナフチ
ル、アセトナフセン、P、P’  −ジメトキシベンジ
ル、P、P” −ジクロロベンジルジアセチル、ペンタ
ンジオン、l、2−フェナントレンキノン、1.4−フ
ェナントレンキノン、3.4−フェナントレンキノン、
9.10−フェナントレンキノン、ナフトキノン等のα
−ジケトン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル
、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン類;アセト
インベンゾフェノン、P−クロロベンゾフェノン、P−
メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類が挙げら
れる。
Specific examples of photosensitizers suitably used include benzyl, camphorquinone, α-naphthyl, acetonaphcene, P,P'-dimethoxybenzyl, P,P"-dichlorobenzyldiacetyl, and pentanedione. , l, 2-phenanthrenequinone, 1,4-phenanthrenequinone, 3,4-phenanthrenequinone,
9. α of 10-phenanthrenequinone, naphthoquinone, etc.
-Diketones; Benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether; acetoin benzophenone, P-chlorobenzophenone, P-
Examples include benzophenones such as methoxybenzophenone.

さらにまた光重合促進剤としては、N、N−ジメチルア
ニリン、N、N−ジエチルアニリン、N。
Furthermore, examples of the photopolymerization accelerator include N,N-dimethylaniline, N,N-diethylaniline, and N.

N−ジ−n−ブチルアニリン、N、 N−ジベンジルア
ニリン、N、N−ジメチル−p−)ルイジン、N、 N
−ジエチル−p−)ルイジン、N、 N−ジメチル−m
−)ルイジン等の第3級アミンを挙げることができる。
N-di-n-butylaniline, N,N-dibenzylaniline, N,N-dimethyl-p-)luidine, N,N
-diethyl-p-)luidine, N, N-dimethyl-m
-) Tertiary amines such as luidine can be mentioned.

これらの光増感剤及び光重合促進剤は、それぞれ重合可
能なビニルモノマーに対してO,OO1〜5重量%の範
囲で用いれば良い、また、このような光重合性物質と前
記した電解質との混合割合は20 : 80〜70 :
 30さらには30ニア0〜60:40の範囲であるこ
とが、光重合性物質が未重合の場合にはイオン導伝性を
示し、重合後にはイオンの移動を良好に遮断することが
できるために好ましい。
These photosensitizers and photopolymerization accelerators may be used in an amount of 1 to 5% by weight of O, OO based on the polymerizable vinyl monomer. The mixing ratio is 20:80-70:
Furthermore, the range of 0 to 60:40 is preferable because the photopolymerizable substance exhibits ion conductivity when unpolymerized, and can effectively block ion movement after polymerization. preferred.

この後、本発明に於いては2通りの方法が採用される。After this, two methods are adopted in the present invention.

一方の方法は、電解質と光重合性物質の混合物5を塗布
後、セルとセルとの間隙部分の重合を行なうためにフォ
トマスクを用いて光照射し、次いで光透過性基板1と1
°とをEC膜及び対向電極が内側になるように張り合わ
せる方法である。
In one method, after applying a mixture 5 of an electrolyte and a photopolymerizable substance, light is irradiated using a photomask to polymerize the gaps between the cells, and then the light-transmitting substrates 1 and 1 are
This is a method in which the EC film and the counter electrode are attached on the inside.

もう一方の方法は、電解質と光重合性物質の混合物5を
塗布後、直ちに光透過性基板1と1°とを張り合わせ、
次いで光照射してセルとセルとの間隙部分の光重合性物
質の重合を行なう方法である。
In the other method, immediately after applying the mixture 5 of an electrolyte and a photopolymerizable substance, the light-transmitting substrate 1 and the 1° are bonded together.
In this method, the photopolymerizable material in the gap between the cells is then polymerized by irradiation with light.

以下に、二つ目の方法についてさらに詳細に説明する。The second method will be explained in more detail below.

電解質と光重合性物質の混合物5が塗布された光透過性
基板1と対向電極が形成された光透過性基板l゛ とは
、塗布面及び対向電極5が内側になるように張り合わさ
れる。そして、光透過性基板1、透明導電膜2、EC膜
3、電解質と光重合性物質の混合物5、対向電極4及び
光透過性基板1′の積層構造が形成される。
A light-transmissive substrate 1 coated with a mixture 5 of an electrolyte and a photopolymerizable substance and a light-transmissive substrate l' on which a counter electrode is formed are pasted together so that the coated surface and the counter electrode 5 are on the inside. Then, a laminated structure of the light-transmitting substrate 1, the transparent conductive film 2, the EC film 3, the mixture 5 of electrolyte and a photopolymerizable substance, the counter electrode 4, and the light-transmitting substrate 1' is formed.

本発明に於いては、さらに、光透過性基板l及び1°の
両側から光を照射し、透明感電gi2、EC膜3及び対
向電極4を除去した部分、即ち、各セルの間隙部分に存
在する光重合性物質5゛の重合を行なう、この際、EC
膜及び対向電極として光不透過性の材料を用いた場合に
は、これらEC膜や対向電極がフォトマスクの働きをし
、線又は帯状のEC膜とそれと交差する線又は帯状の対
向電極との交点部分5”では光重合性物質の重合は生起
しない、即ち、この交点部分はドツトマトリックス配列
のセルとなる。
In the present invention, furthermore, light is irradiated from both sides of the transparent substrate l and 1° to remove the transparent electric shock gi2, the EC film 3, and the counter electrode 4, which exist in the gap between each cell. At this time, EC
When a light-opaque material is used as the film and the counter electrode, the EC film and the counter electrode function as a photomask, and the line or band-shaped EC film and the line or band-shaped counter electrode that intersects with it. Polymerization of the photopolymerizable substance does not occur at the intersection 5'', that is, this intersection becomes a dot matrix array cell.

上記の光不透過性の材料としては、例えば、紫外線不透
過性のものに酸化タングステン、酸化イリジウム、酸化
バナジウム等が挙げられ、紫外線及び可視光線のいずれ
にも不透過性の材料として、金属、二酸化マンガン、鉄
錯体、遷移金属酸化物−カーボン焼結体等が挙げられる
。EC膜及び対向電極が光不透過性でない場合には、フ
ォトマスクを使用して各セルの間隙部分のみ重合を行な
うようにすれば良い。
Examples of the above-mentioned light-opaque materials include tungsten oxide, iridium oxide, vanadium oxide, etc. that are opaque to ultraviolet rays, and metals, Examples include manganese dioxide, iron complexes, transition metal oxide-carbon sintered bodies, and the like. If the EC film and the counter electrode are not light-opaque, a photomask may be used to polymerize only the gap between each cell.

(効  果) 本発明の方法によれば、ドツトマトリックス配列のEC
D素子に於ける各セル間のイオン導伝性をなくすること
ができる。即ち、各セルの間隙部分に存在する光重合性
物質のみ重合させ、セル間のイオンの移動を遮断するこ
とができる。しかも、セルの部分は、光重合性物質が未
重合であるためにECD素子の性能に何ら支障になるよ
うなことはない。
(Effect) According to the method of the present invention, the EC of a dot matrix array
Ion conductivity between each cell in the D element can be eliminated. That is, it is possible to polymerize only the photopolymerizable substance present in the gap between each cell, thereby blocking the movement of ions between the cells. Moreover, since the photopolymerizable substance is not polymerized in the cell portion, the performance of the ECD element will not be affected in any way.

従って、本発明の方法によれば、予めセル間の絶縁層を
形成しておいた後に、電解質層を形成するという方法に
比べ、セル間の絶縁層と電解質層を同時に形成すること
が可能である。その上、クロストークの防止されたEC
D素子の製造が可能である。
Therefore, according to the method of the present invention, it is possible to form an insulating layer between cells and an electrolyte layer at the same time, compared to a method in which an insulating layer between cells is formed in advance and then an electrolyte layer is formed. be. Moreover, crosstalk is prevented from EC.
It is possible to manufacture D elements.

さらに、光透過性基板同士を張り合わせた後に光照射す
る方法によれば、光重合性物質が光透過性基板同士を接
着するために、機械的強度の高いECD素子を製造する
ことができる。さらにまた、上記の方法に於いてEC膜
及び対向電極に光不透過性のものを使用した場合には、
フォトマスクの使用なしにセルの間隙部分に存在する光
重合性物質の重合を行なうことができる。従うて、フォ
トマスクを使用する方法に比べて、簡単でしかも重合さ
せたい部分にずれがなく、重合部分の位置精度を向上さ
せることができる。
Furthermore, according to a method in which light is irradiated after attaching light-transmitting substrates to each other, an ECD element with high mechanical strength can be manufactured because the photopolymerizable substance bonds the light-transmitting substrates together. Furthermore, in the above method, if a light-opaque material is used for the EC film and the counter electrode,
It is possible to polymerize the photopolymerizable substance present in the gap between cells without using a photomask. Therefore, compared to the method using a photomask, this method is simpler, and there is no shift in the portion to be polymerized, and the positional accuracy of the polymerized portion can be improved.

以上のように、本発明の方法によれば、極めて簡単な方
法で、各セル間のイオンの移動が防止でき、クロストー
ク現象の発生を防ぐことができる。
As described above, according to the method of the present invention, the movement of ions between cells can be prevented in an extremely simple manner, and the occurrence of crosstalk phenomenon can be prevented.

尚、本発明の方法は、ドツトマトリックス配列のECD
素子を製造する場合は勿論、その他、単−又はドツトマ
トリックス配列以外の複数個のセルを製造する場合にも
応用することができる。
Incidentally, the method of the present invention is based on a dot matrix array ECD.
It can be applied not only to manufacturing elements but also to manufacturing a plurality of cells other than single or dot matrix arrays.

以下に、本発明を実施例に従って説明するが、本発明は
これら実施例に限定されるものではない。
The present invention will be explained below according to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例1 次の工程に従って、ECDを制作した。ガラス製の光透
過性基板に透明導電膜(5%のSnugを含むInzO
’z )をスパッタリングにより3000人の膜を作成
した。
Example 1 An ECD was produced according to the following steps. A transparent conductive film (InzO containing 5% Snug) was placed on a light-transmissive glass substrate.
3000 films were created by sputtering.'z).

次に真空蒸着により、WO3を透明導電膜を付けた光透
過性基板上に2000人蒸着し、EC膜とした。
Next, WO3 was deposited by 2000 people on a light-transmitting substrate provided with a transparent conductive film by vacuum deposition to form an EC film.

次にドツトマトリックス配列の電極を作成するため、フ
ォトエツチングにより、透明導電膜とEC膜の付いた光
透過性基板上に、フォトレジストをスピンナーにより1
0μm塗布し、乾燥した。
Next, in order to create electrodes in a dot matrix array, a photoresist was applied using a spinner onto a light-transmitting substrate with a transparent conductive film and an EC film by photoetching.
It was applied to a thickness of 0 μm and dried.

その後、電極を作成するためのフォトマスクをのせ、紫
外線露光法により、焼き付けた後、レジストを剥離した
。次に酸性エツチング液により、透明導電膜とEC膜を
エツチングしレジストを除去し、電極を作成した。
Thereafter, a photomask for forming electrodes was placed on it, and after baking by ultraviolet exposure, the resist was peeled off. Next, the transparent conductive film and the EC film were etched using an acidic etching solution, the resist was removed, and electrodes were created.

又対向電極は酸化イリジウムを1000人スパッタし、
同様のフォトエツチングにより作成した。
In addition, the counter electrode was sputtered with 1000 iridium oxide.
It was created using the same photo-etching process.

次に、スクリーン印刷により、光重合性物質と電解質と
の混合物を、EC膜を作成した側に塗布し、対向電極側
をはり合わせた。
Next, by screen printing, a mixture of a photopolymerizable substance and an electrolyte was applied to the side on which the EC film had been formed, and the opposing electrode sides were bonded together.

光重合性物質としてポリエステルアクリレート40重量
部、1,3−ブタンジオールジアクリレート50ffi
ff1部、ベンゾイン5重量部及びN、 N−ジメチル
アニリン5重量部を用い、電解質として分子量5万のポ
リスチレンスルホン酸を用いた。光重合性物質と電解質
との混合割合は、重量比で40:50であった。
40 parts by weight of polyester acrylate, 50ffi of 1,3-butanediol diacrylate as photopolymerizable substances
ff, 5 parts by weight of benzoin, and 5 parts by weight of N,N-dimethylaniline, and polystyrene sulfonic acid having a molecular weight of 50,000 was used as the electrolyte. The mixing ratio of the photopolymerizable substance and the electrolyte was 40:50 by weight.

次にはり合わせたものに、メタルハライドランプの波長
280nm付近の紫外線を利用し、100W/a!lの
パワーで、10秒照射し、イオン交換機能を失活させる
と同時に、表示部以外を接着した。
Next, we applied ultraviolet light with a wavelength of around 280nm from a metal halide lamp to the glued together, and applied it to 100W/a! It was irradiated for 10 seconds at a power of 1 liter to deactivate the ion exchange function and at the same time adhere the parts other than the display part.

次に封止剤により、ECD素子の周囲を固定した。Next, the periphery of the ECD element was fixed with a sealant.

両光透過性基板の雨上面に、紫外線吸収剤を含んだ、1
00μmの光透過性フィルムをラミネートし、耐候性の
向上をはかる様にした。
1 containing an ultraviolet absorber on the rain upper surface of both optically transparent substrates.
A 00 μm transparent film was laminated to improve weather resistance.

得られたECD素子は、クロストーク現象の見られない
良好なものであった。
The obtained ECD element was in good condition with no crosstalk phenomenon observed.

実施例2 光重合性物質と電解質の混合物をEC膜を積層した側に
塗布するところまでは、実施例1と同様に行った。その
後、光重合性物質と電解質の混合物を塗布した側に、セ
ル部分は露光されているがセル間隙部分は未露光の写真
用ネガフィルムをフォトマスクとして固定し、メタルハ
ライドランプの波長28Onm付近の紫外線を使用し、
セル間に位置する光重合性物質の重合を行った。
Example 2 The same procedure as in Example 1 was performed up to the point where the mixture of photopolymerizable substance and electrolyte was applied to the side on which the EC membrane was laminated. After that, a photographic negative film with exposed cell parts but unexposed cell gap parts was fixed as a photomask on the side to which the photopolymerizable substance and electrolyte mixture was applied, and ultraviolet rays of a metal halide lamp having a wavelength of around 28 Onm were fixed. using
The photopolymerizable material located between the cells was polymerized.

一方、実施例1と同様にして対向電極を光透過性基板に
形成したものを、上記で得られた基板とはりあわせ、封
止剤によりECD素子の周囲を固定した。
On the other hand, a light-transmissive substrate on which a counter electrode was formed in the same manner as in Example 1 was laminated to the substrate obtained above, and the periphery of the ECD element was fixed with a sealant.

両光透過性基板の雨上面に、紫外線吸収外1を含んだ1
00 tt mの光透過性フィルムをラミネートし、耐
候性の向上をはかるようにした。
1 containing ultraviolet absorption outside 1 on the upper surface of the both light-transmissive substrates
A light transmitting film of 0.00 ttm was laminated to improve weather resistance.

得られたECD素子は、クロストーク現象の見られない
良好なものであった。
The obtained ECD element was in good condition with no crosstalk phenomenon observed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の方法により得られたECD素子の構造
を示す部分破断斜視図である。 図中、1及び1゛は光透過性基板、2は透明導電膜、3
はEC膜、4は対向電極、5は光重合性物質と電解質の
混合物、5゛は光照射により重合させる部分、5”は光
照射時に重合させない部分を夫々示す。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing the structure of an ECD element obtained by the method of the present invention. In the figure, 1 and 1'' are light-transmissive substrates, 2 is a transparent conductive film, and 3
4 is an EC film, 4 is a counter electrode, 5 is a mixture of a photopolymerizable substance and an electrolyte, 5'' is a portion that is polymerized by light irradiation, and 5'' is a portion that is not polymerized by light irradiation.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)光透過性基板、透明導電膜、エレクトロクロミッ
ク膜、電解質層、対向電極及び光透過性基板がこの順序
に積層構造をなすセルからなるエレクトロクロミックデ
ィスプレイ素子を製造するに於いて、一方の光透過性基
板上に透明導電膜とエレクトロクロミック膜とを積層し
、他方の光透過性基板上に対向電極を形成し、次いで、
上記の2つの光透過性基板の少なくとも一方の光透過性
基板の透明導電膜とエレクトロクロミック膜又は対向電
極を形成した側に、光重合性物質と電解質との混合物を
塗布した後、両光透過性基板の透明導電膜とエレクトロ
クロミック膜又は対向電極を形成した側が、互いに内側
となるように、両光透過性基板をはり合わせ、その後、
光照射して各セル間の間隙部分の光重合性物質を重合さ
せることを特徴とするエレクトロクロミックディスプレ
イ素子の製造方法。
(1) In manufacturing an electrochromic display element consisting of a cell in which a light-transmitting substrate, a transparent conductive film, an electrochromic film, an electrolyte layer, a counter electrode, and a light-transmitting substrate are laminated in this order, one of the A transparent conductive film and an electrochromic film are laminated on a light-transparent substrate, a counter electrode is formed on the other light-transparent substrate, and then,
After applying a mixture of a photopolymerizable substance and an electrolyte to the side on which the transparent conductive film and the electrochromic film or the counter electrode of at least one of the above two light-transmissive substrates are formed, both light-transmissive substrates are coated. The transparent conductive film and the side on which the electrochromic film or counter electrode of the transparent substrate are formed are on the inside of each other, and then,
A method for producing an electrochromic display element, which comprises irradiating light to polymerize a photopolymerizable substance in the gap between each cell.
(2)光透過性基板、透明導電膜、エレクトロクロミッ
ク膜、電解質層、対向電極及び光透過性基板がこの順序
に積層構造をなすセルからなるエレクトロクロミックデ
ィスプレイ素子を製造するに於いて、一方の光透過性基
板上に透明導電膜とエレクトロクロミック膜とを積層し
、他方の光透過性基板上に対向電極を形成し、次いで、
上記の2つの光透過性基板の少なくとも一方の光透過性
基板の透明導電膜とエレクトロクロミック膜又は対向電
極を形成した側に、光重合性物質と電解質との混合物を
塗布した後、光照射して各セル間の間隙部分に存在する
光重合性物質を重合させ、その後、両光透過性基板の透
明導電膜とエレクトロクロミック膜又は対向電極を形成
した側が、互いに内側となるように、両光透過性基板を
はり合わせることを特徴とするエレクトロクロミックデ
ィスプレイ素子の製造方法。
(2) In manufacturing an electrochromic display element consisting of a cell in which a light-transmitting substrate, a transparent conductive film, an electrochromic film, an electrolyte layer, a counter electrode, and a light-transmitting substrate are laminated in this order, one of the A transparent conductive film and an electrochromic film are laminated on a light-transparent substrate, a counter electrode is formed on the other light-transparent substrate, and then,
A mixture of a photopolymerizable substance and an electrolyte is applied to the side on which the transparent conductive film and the electrochromic film or the counter electrode are formed on at least one of the above two light-transmissive substrates, and then light is irradiated. The photopolymerizable substance existing in the gap between each cell is polymerized, and then both light-transmitting substrates are heated so that the sides on which the transparent conductive film and the electrochromic film or counter electrode are formed are on the inside of each other. A method for manufacturing an electrochromic display element, characterized by laminating transparent substrates together.
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