JPS63255288A - 含フッ素有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
含フッ素有機ケイ素化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPS63255288A JPS63255288A JP62088359A JP8835987A JPS63255288A JP S63255288 A JPS63255288 A JP S63255288A JP 62088359 A JP62088359 A JP 62088359A JP 8835987 A JP8835987 A JP 8835987A JP S63255288 A JPS63255288 A JP S63255288A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- fluorine
- give
- integer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 17
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims abstract description 10
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 8
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- -1 allyl halide Chemical class 0.000 abstract description 32
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 27
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical class C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 13
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 abstract description 4
- PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene oxide Chemical compound FC(F)(F)C1(F)OC1(F)F PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 abstract description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 10
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910001515 alkali metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical compound COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 4
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N dichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)Cl UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- HFEHLDPGIKPNKL-UHFFFAOYSA-N allyl iodide Chemical compound ICC=C HFEHLDPGIKPNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910010084 LiAlH4 Inorganic materials 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002550 fecal effect Effects 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M rubidium fluoride Chemical class [F-].[Rb+] AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な含フツ素有機ケイ素化合物に関する。
フルオロアルキルエーテル基を有する有機ケイ素化合物
は、界面活性、潤滑性、t8水損油性等を有するので、
界面活性剤、潤滑剤、各種の表面処理剤等として有用で
あるものが多い。また、前記の緒特性等を有する変性シ
リコーン樹脂の原料としても使用される。
は、界面活性、潤滑性、t8水損油性等を有するので、
界面活性剤、潤滑剤、各種の表面処理剤等として有用で
あるものが多い。また、前記の緒特性等を有する変性シ
リコーン樹脂の原料としても使用される。
従来、このようなフルオロアルキルエーテル基を有する
有機ケイ素化合物としては、例えば、式(i): 〔式中、Rfは、式: F−(CFCF、O)、−CF
−(ここCF 3 CF x で、nは1以上の整数)で示されるフルオロアルキルエ
ーテル基であり、Rはアルキル基であり、aはO〜3の
整数である〕 で表わされる化合物(特開昭58−147483号公報
);式(ii): (ここで、mは0以上の整数)で示されるフルオロアル
キル基又はフルオロアルキルエーテル基であり、R1及
びR2は、原子又は−価の基であり、R″、 R4及び
R5は、水素でない原子又は−価の基である〕 で表わされる化合物(特開昭57−93988号公報)
;式(iii): Rf−C−OCH1CH2CH2−3iC13(iii
)〔式中、Rfは式(i)と同じである〕で表わされ
る化合物(特開昭57−129827号公報)等が知ら
れている。
有機ケイ素化合物としては、例えば、式(i): 〔式中、Rfは、式: F−(CFCF、O)、−CF
−(ここCF 3 CF x で、nは1以上の整数)で示されるフルオロアルキルエ
ーテル基であり、Rはアルキル基であり、aはO〜3の
整数である〕 で表わされる化合物(特開昭58−147483号公報
);式(ii): (ここで、mは0以上の整数)で示されるフルオロアル
キル基又はフルオロアルキルエーテル基であり、R1及
びR2は、原子又は−価の基であり、R″、 R4及び
R5は、水素でない原子又は−価の基である〕 で表わされる化合物(特開昭57−93988号公報)
;式(iii): Rf−C−OCH1CH2CH2−3iC13(iii
)〔式中、Rfは式(i)と同じである〕で表わされ
る化合物(特開昭57−129827号公報)等が知ら
れている。
しかし、前記式(i)で表わされる化合物は、アミド結
合のα−位炭素原子にフッ素が結合しているため加水分
解を受は易く、不安定であるという問題を有する。
合のα−位炭素原子にフッ素が結合しているため加水分
解を受は易く、不安定であるという問題を有する。
前記式(ii )で表わされる化合物は、ケイ素原子の
β−位炭素原子にフッ素が結合しているが、この構造は
ケイ素原子とフッ素原子との親和力が強いために不安定
であるという問題がある。また、この式(ii)の化合
物として、ケイ素原子に結合したR3−R5の少な(と
も1つが塩素原子であるものは、具体的には知られてい
ない。さらに、該化合物の製造は、オートクレーブ中に
おいて140℃で行なう必要があり、多量のエネルギー
と高価な設備を必要とする欠点がある。
β−位炭素原子にフッ素が結合しているが、この構造は
ケイ素原子とフッ素原子との親和力が強いために不安定
であるという問題がある。また、この式(ii)の化合
物として、ケイ素原子に結合したR3−R5の少な(と
も1つが塩素原子であるものは、具体的には知られてい
ない。さらに、該化合物の製造は、オートクレーブ中に
おいて140℃で行なう必要があり、多量のエネルギー
と高価な設備を必要とする欠点がある。
前記式(iii )で表わされる化合物は、エステル結
合のα−位炭素原子にフッ素原子が結合しているために
、該エステル結合が加水分解され易く、安定性が低いと
いう問題を有する。
合のα−位炭素原子にフッ素原子が結合しているために
、該エステル結合が加水分解され易く、安定性が低いと
いう問題を有する。
そこで、本発明の目的は、安定な構造を有し、しかも簡
便な方法で製造可能である新規なフルオロアルキルエー
テル基を有する有機ケイ素化合物を提供することにある
。
便な方法で製造可能である新規なフルオロアルキルエー
テル基を有する有機ケイ素化合物を提供することにある
。
本発明は、前記問題点を解決するものとして、一般式(
■): 〔式中、Rは低級アルキル基であり、Xはフッ素原子ま
たは水素原子であり、nは1〜4の整数であり、aは1
〜3の整数である〕で表わされる含フツ素有機ケイ素化
合物を提供するものである。
■): 〔式中、Rは低級アルキル基であり、Xはフッ素原子ま
たは水素原子であり、nは1〜4の整数であり、aは1
〜3の整数である〕で表わされる含フツ素有機ケイ素化
合物を提供するものである。
本発明に係る含フツ素有機ケイ素化合物(以下、本発明
の有機ケイ素化合物と称する)は、フルオロアルキルエ
ーテル基を有する有機ケイ素化合物であり、例えば、以
下の合成経路に従って製造することができる。
の有機ケイ素化合物と称する)は、フルオロアルキルエ
ーテル基を有する有機ケイ素化合物であり、例えば、以
下の合成経路に従って製造することができる。
〔式中、Rはメチル基、エチル基、プロピル基等の低級
アルキル基、好ましくはメチル基であり、Xはフッ素原
子または水素原子、Mはアルカリ金属であり、nは1〜
4の整数、aは1〜3の整数である〕 以下、上記の製造方法を順を追って説明する。
アルキル基、好ましくはメチル基であり、Xはフッ素原
子または水素原子、Mはアルカリ金属であり、nは1〜
4の整数、aは1〜3の整数である〕 以下、上記の製造方法を順を追って説明する。
まず、中間体として得られる式(■):〔式中、X及び
nは前記のとおり〕 で表わされるフッ素化アリルエーテルは、次のA、Bの
2方法により合成される。
nは前記のとおり〕 で表わされるフッ素化アリルエーテルは、次のA、Bの
2方法により合成される。
ヘキサフルオロプロピレンオキサイド(HFPO)を公
知の方法(特公昭36−20599)により重合するこ
とにより得られる式(■): しl′+3 しP3 〔式中、nは、前記のとおり〕 で表わされる末端酸フルオライド化合物を、アルカリ金
属フン化物(MP、ただしMはアルカリ金属)と反応さ
せて、式(■): 〔式中、n及びMは前記のとおり〕 で表わされるフルオロアルコラードを生成させ、次に該
フルオロアルコラードをハロゲン化アリル(CHz=C
HCHJSXはハロゲン原子)と反応させることにより
、式(I[al 〔式中、nは前記のとおり〕 で表わされるフッ素化アリルエーテルが生成する。
知の方法(特公昭36−20599)により重合するこ
とにより得られる式(■): しl′+3 しP3 〔式中、nは、前記のとおり〕 で表わされる末端酸フルオライド化合物を、アルカリ金
属フン化物(MP、ただしMはアルカリ金属)と反応さ
せて、式(■): 〔式中、n及びMは前記のとおり〕 で表わされるフルオロアルコラードを生成させ、次に該
フルオロアルコラードをハロゲン化アリル(CHz=C
HCHJSXはハロゲン原子)と反応させることにより
、式(I[al 〔式中、nは前記のとおり〕 で表わされるフッ素化アリルエーテルが生成する。
この合成法Aにおいて、式(II[)−の末端酸フルオ
ライド化合物とアルカリ金属フッ化物との反応は、溶媒
として、例えば、テトラエチレングリコールジメチルエ
ーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテル等のグライム類、1,4−ジオキ
サン、T)IF。
ライド化合物とアルカリ金属フッ化物との反応は、溶媒
として、例えば、テトラエチレングリコールジメチルエ
ーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテル等のグライム類、1,4−ジオキ
サン、T)IF。
アセトニトリル等を用い、実質的に無水の条件下で行な
うことが必要で、例えば、乾燥窒素雰囲気中で行ない、
反応物、溶媒は十分に乾燥したものを用いる。反応にお
ける再反応成分の濃度は、式(III)の末端酸フルオ
ライド化合物/アルカリ金属フッ化物のモル比は1/1
〜1/2程度、又アルカリ金属フッ化物/溶媒のモル比
は1/2〜115程度が好ましく、0〜50℃において
1〜20時間程時間力させる。通常、アルカリ金属フッ
化物を溶媒に懸濁させておいて、弐(III)の末端酸
フルオライド化合物を、必要ならば溶媒とともに、滴下
させればよい。この段階で用いられるアルカリ金属フッ
化物としては、例えば、セシウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウムのフッ化物があげられる。
うことが必要で、例えば、乾燥窒素雰囲気中で行ない、
反応物、溶媒は十分に乾燥したものを用いる。反応にお
ける再反応成分の濃度は、式(III)の末端酸フルオ
ライド化合物/アルカリ金属フッ化物のモル比は1/1
〜1/2程度、又アルカリ金属フッ化物/溶媒のモル比
は1/2〜115程度が好ましく、0〜50℃において
1〜20時間程時間力させる。通常、アルカリ金属フッ
化物を溶媒に懸濁させておいて、弐(III)の末端酸
フルオライド化合物を、必要ならば溶媒とともに、滴下
させればよい。この段階で用いられるアルカリ金属フッ
化物としては、例えば、セシウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウムのフッ化物があげられる。
上記の反応により、反応混合物中に式(■)のフルオロ
アルコラードが生成するが、次段階はこうして得られた
反応混合物に臭化アリル、塩化アリル、ヨウ化アリル等
のハロゲン化アリルを添加すればよい。この反応も実質
的に無水の条件で行なうことが必要で、20〜100℃
において1〜20時間程時間力させる。この結果、一般
式(If)のフルオロアリルエーテルの一種である前記
式(na)の化合物が生成する。ハロゲン化アリルの便
用量は酸フルオライドに対して1〜2倍モル程度でよい
。
アルコラードが生成するが、次段階はこうして得られた
反応混合物に臭化アリル、塩化アリル、ヨウ化アリル等
のハロゲン化アリルを添加すればよい。この反応も実質
的に無水の条件で行なうことが必要で、20〜100℃
において1〜20時間程時間力させる。この結果、一般
式(If)のフルオロアリルエーテルの一種である前記
式(na)の化合物が生成する。ハロゲン化アリルの便
用量は酸フルオライドに対して1〜2倍モル程度でよい
。
得られた反応混合物から式(IIa)の化合物を分離す
るには、例えば、反応混合物に過剰のメタノールを添加
して未反応の式(I[I)で表わされる末端酸フルオラ
イド化合物の末端をメチルエステル化した後水洗し、蒸
留により式(II a)のフッ素化アリルエーテルを得
ることができる。
るには、例えば、反応混合物に過剰のメタノールを添加
して未反応の式(I[I)で表わされる末端酸フルオラ
イド化合物の末端をメチルエステル化した後水洗し、蒸
留により式(II a)のフッ素化アリルエーテルを得
ることができる。
合成法B:
前記式(I[)で表わされる末端酸フルオライド化合物
を還元剤を用いて還元して式(■):〔式中、nは前記
のとおり〕 で表わされる末端メチロール化合物を生成させ、次に該
末端メチロール化合物を、K % Na5Li等のアル
カリ金属、KOI(、NaOH,LiOH等のアルカリ
金属水酸化物と反応させて式(■): ′〔式中、n、Mは前記のとおり〕 で表わされる末端メチラート化合物を生成させ、次にこ
の末端メチラート化合物を、臭化アリル、塩化アリル、
ヨウ化アリル等のハロゲン化アリルCHz・CHCH,
Xと反応させ、式(Ilb):C式中、nは前記のとお
り〕 で表わされるフッ素化アリルエーテルを生成させる。
を還元剤を用いて還元して式(■):〔式中、nは前記
のとおり〕 で表わされる末端メチロール化合物を生成させ、次に該
末端メチロール化合物を、K % Na5Li等のアル
カリ金属、KOI(、NaOH,LiOH等のアルカリ
金属水酸化物と反応させて式(■): ′〔式中、n、Mは前記のとおり〕 で表わされる末端メチラート化合物を生成させ、次にこ
の末端メチラート化合物を、臭化アリル、塩化アリル、
ヨウ化アリル等のハロゲン化アリルCHz・CHCH,
Xと反応させ、式(Ilb):C式中、nは前記のとお
り〕 で表わされるフッ素化アリルエーテルを生成させる。
この合成法において、式(II[)の末端フルオライド
化合物の還元に用いられる還元剤としては、例えば、L
iH% Man −、LiAlH4、NaBHn等の金
属水素化物などがあげられる。この還元反応は、公知の
方法である米国特許3,293,306に記載の方法(
fli媒ニジオキサン、THF、グライム類等;雰囲気
:例えば乾燥窒素等の無水雰囲気下)において行なわれ
る。
化合物の還元に用いられる還元剤としては、例えば、L
iH% Man −、LiAlH4、NaBHn等の金
属水素化物などがあげられる。この還元反応は、公知の
方法である米国特許3,293,306に記載の方法(
fli媒ニジオキサン、THF、グライム類等;雰囲気
:例えば乾燥窒素等の無水雰囲気下)において行なわれ
る。
式(V)の末端メチロール化合物とアルカリ金属又はア
ルカリ金属水酸化物との反応は、溶媒として、例えば、
水、メタノール、エタノール、プロパツール及びエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、テトラエチレングリコールならびにこれらの
アルキルエーテル類1THF、ジオキサン等を用い、2
0〜100℃で1〜20時間程時間窓させればよい。こ
うして、式(VI)の末端メチラート化合物が生成する
。このとき、アルカリ金属又はアルカリ金属水酸化物を
末端メチロール化合物に対して1.5〜2倍モル程度用
いるのがよい。
ルカリ金属水酸化物との反応は、溶媒として、例えば、
水、メタノール、エタノール、プロパツール及びエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、テトラエチレングリコールならびにこれらの
アルキルエーテル類1THF、ジオキサン等を用い、2
0〜100℃で1〜20時間程時間窓させればよい。こ
うして、式(VI)の末端メチラート化合物が生成する
。このとき、アルカリ金属又はアルカリ金属水酸化物を
末端メチロール化合物に対して1.5〜2倍モル程度用
いるのがよい。
次段階の末端メチラート化合物とハロゲン化アリルとの
反応は、こうして得られた式(VI)の末端メチラート
化合物を含む反応混合物に、ハロゲン化アリルを必要に
より溶媒に溶かして添加し、30〜100℃で1〜20
時間程時間窓させればよい。
反応は、こうして得られた式(VI)の末端メチラート
化合物を含む反応混合物に、ハロゲン化アリルを必要に
より溶媒に溶かして添加し、30〜100℃で1〜20
時間程時間窓させればよい。
こうして得られる反応混合物から口約とする式(]Ib
)のフッ素化アリルエーテルを分離するには、反応混合
物を水洗後、蒸留して分別すればよい。
)のフッ素化アリルエーテルを分離するには、反応混合
物を水洗後、蒸留して分別すればよい。
次に、本発明の有機ケイ素化合物は、前記合成法A、B
で得られた弐(n)で表わされるフッ素化アリルエーテ
ルと、式: HSi (R) z−−C1,(ここでR及びaは前記
のとおり) で表わされるシラン化合物を反応させることにより得ら
れる。
で得られた弐(n)で表わされるフッ素化アリルエーテ
ルと、式: HSi (R) z−−C1,(ここでR及びaは前記
のとおり) で表わされるシラン化合物を反応させることにより得ら
れる。
反応であり、用いるフッ素化アリルエーテルとシランと
の仕込み比は、1.0〜1.2(モル比)程度でよく、
触媒として白金系触媒、例えば、塩化白金〜10−4モ
ル程度添加する。反応条件は、常圧、60〜120℃で
1〜4時間程度でよい。
の仕込み比は、1.0〜1.2(モル比)程度でよく、
触媒として白金系触媒、例えば、塩化白金〜10−4モ
ル程度添加する。反応条件は、常圧、60〜120℃で
1〜4時間程度でよい。
以下、本発明を実施例により詳しく説明する。
攪拌機、温度計及び冷却管を備え、かつ乾燥窒素で飽和
したフラスコ内に十分乾燥したフッ化セシウム502g
とテトラエチレングリコールジメチルエーテル1470
gを仕込み、室温で攪拌し懸濁させた。得られた懸濁
液に式C3F ?0CFCOFで表わされるCFz 末端酸フルオライド化合物1000 gを滴下し、40
℃で20時間加熱、攪拌した後、臭化了りルア28gを
滴下し、50℃で20時間加熱、攪拌した。得られた反
応液に過剰のメタノールを加えて未反応の末端酸フルオ
ライド化合物をメチルエステル化した後、水で数回洗浄
し、蒸留により沸点:126〜127℃、n: 1.
293、dzs 1.50の無色透明の液体863gを
得た。この液体は、下記の分析結果から式C3FffO
CFCFzOCHICH−CH!の構造を有する化合物
と同CF。
したフラスコ内に十分乾燥したフッ化セシウム502g
とテトラエチレングリコールジメチルエーテル1470
gを仕込み、室温で攪拌し懸濁させた。得られた懸濁
液に式C3F ?0CFCOFで表わされるCFz 末端酸フルオライド化合物1000 gを滴下し、40
℃で20時間加熱、攪拌した後、臭化了りルア28gを
滴下し、50℃で20時間加熱、攪拌した。得られた反
応液に過剰のメタノールを加えて未反応の末端酸フルオ
ライド化合物をメチルエステル化した後、水で数回洗浄
し、蒸留により沸点:126〜127℃、n: 1.
293、dzs 1.50の無色透明の液体863gを
得た。この液体は、下記の分析結果から式C3FffO
CFCFzOCHICH−CH!の構造を有する化合物
と同CF。
定された。該化合物を、以下「フッ素化アリルエーテル
(1)」と称する。
(1)」と称する。
01Rスペクトル:
特性吸収 1660cm −’ (−Cl(=CHz
)1100〜1200cm−’ (−CFz−)OGC
−MSスペクトル: 分子量 392(M+) 0元素分析: 計算値” : C:27.57. H:1.29. F
:62.99.0:8.15実測値 : C:27.0
3. H:1.31. F:62.05.0:9.61
(* C9H5F 1satとして)金底拠叢 合成例1と同様の方法で、フッ化セシウム334gをテ
トラエチレングリコールジメチルエーテル980gに懸
濁させて得られた懸濁液に式C,F?0CFCOFの末
端酸フルオライド化合物1000 gをCF+ 滴下し、40℃で20時間加熱、攪拌した後、臭化アリ
ル490gを加えて、50℃で20時間加熱、攪拌した
。
)1100〜1200cm−’ (−CFz−)OGC
−MSスペクトル: 分子量 392(M+) 0元素分析: 計算値” : C:27.57. H:1.29. F
:62.99.0:8.15実測値 : C:27.0
3. H:1.31. F:62.05.0:9.61
(* C9H5F 1satとして)金底拠叢 合成例1と同様の方法で、フッ化セシウム334gをテ
トラエチレングリコールジメチルエーテル980gに懸
濁させて得られた懸濁液に式C,F?0CFCOFの末
端酸フルオライド化合物1000 gをCF+ 滴下し、40℃で20時間加熱、攪拌した後、臭化アリ
ル490gを加えて、50℃で20時間加熱、攪拌した
。
得られた反応混合物に過剰のメタノールを加えて未反応
の末端酸フルオライド化合物をメチルエステル化した後
、水で数回洗浄し、蒸留により、沸点171〜172℃
、n: 1,295、dzs 1.60の無色透明の液
体818gを得た。この液体は、下記の分析結果から、
式 CJ 70CFCF ZOCFCF JCHzCH”C
Hzの構造を有する化合CF3 Ch 物と同定された。該化合物を、以下、「フッ素化アリル
エーテル(2)」と称する。
の末端酸フルオライド化合物をメチルエステル化した後
、水で数回洗浄し、蒸留により、沸点171〜172℃
、n: 1,295、dzs 1.60の無色透明の液
体818gを得た。この液体は、下記の分析結果から、
式 CJ 70CFCF ZOCFCF JCHzCH”C
Hzの構造を有する化合CF3 Ch 物と同定された。該化合物を、以下、「フッ素化アリル
エーテル(2)」と称する。
OTRスペクトル:
特性吸収 1660ロー’ (−CH=CH2)11
00〜1200ロー’ (−CF、−)OGC−MSス
ペクトル: 分子量 558 (M”) 0元素分析: (%) 計算値“: C:25.82. H:0.90. F:
64.67、0:8.61実凄1(直 : C:2
5.40. )l:1.21. F:63.9B、
O:9.41(*C1□HsF++O+として) 金底炎主 攪拌機、温度針及び冷却管を備え、かつ乾燥窒素で飽和
したフラスコ内に十分乾燥した水素化ホウ素ナトリウム
341gと1,4−ジオキサン2.5kgを仕込み室温
で攪拌し懸濁させた。得られた懸濁液を水浴で冷却しな
がらCJtOCFCOF 2.0kgを徐々cP。
00〜1200ロー’ (−CF、−)OGC−MSス
ペクトル: 分子量 558 (M”) 0元素分析: (%) 計算値“: C:25.82. H:0.90. F:
64.67、0:8.61実凄1(直 : C:2
5.40. )l:1.21. F:63.9B、
O:9.41(*C1□HsF++O+として) 金底炎主 攪拌機、温度針及び冷却管を備え、かつ乾燥窒素で飽和
したフラスコ内に十分乾燥した水素化ホウ素ナトリウム
341gと1,4−ジオキサン2.5kgを仕込み室温
で攪拌し懸濁させた。得られた懸濁液を水浴で冷却しな
がらCJtOCFCOF 2.0kgを徐々cP。
に滴下した。滴下速度は反応熱により反応液の温度が約
80℃になる様に制御し、滴下終了後更に約80℃で2
時間加熱、攪拌した。得られた反応液を過剰の水に徐々
に滴下して過剰の水素化ホウ素ナトリウムを分解した後
、2層分離した有機層(下層)を5%メタノール水溶液
で数回洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水した後、蒸留によ
って沸点116〜118℃、n T :1.289、d
zs:1.66の液体の末端メチロール化合物: C:
1F70CFCHzOH1662gを得た。
80℃になる様に制御し、滴下終了後更に約80℃で2
時間加熱、攪拌した。得られた反応液を過剰の水に徐々
に滴下して過剰の水素化ホウ素ナトリウムを分解した後
、2層分離した有機層(下層)を5%メタノール水溶液
で数回洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水した後、蒸留によ
って沸点116〜118℃、n T :1.289、d
zs:1.66の液体の末端メチロール化合物: C:
1F70CFCHzOH1662gを得た。
CF3
攪拌機、温度計及び冷却管を備えたフラスコ内に、水6
50g、水酸化カリウム365g、メタノール500g
を仕込み、室温で攪拌して均一な溶液とした。この均一
溶液に、前記の末端メチロール化合物攪拌した後、臭化
アリル780gを滴下し、50℃で20時間加熱、攪拌
した。得られた反応混合物を水で数回洗浄した後、蒸留
により、沸点130〜131℃、n H” 1.30
76 、d zs 1.43の無色透明の液体735g
を得た。この液体は下記の分析結果から弐定された。該
化合物を、以下、「フッ素化アリルエーテル(3)」と
称する。
50g、水酸化カリウム365g、メタノール500g
を仕込み、室温で攪拌して均一な溶液とした。この均一
溶液に、前記の末端メチロール化合物攪拌した後、臭化
アリル780gを滴下し、50℃で20時間加熱、攪拌
した。得られた反応混合物を水で数回洗浄した後、蒸留
により、沸点130〜131℃、n H” 1.30
76 、d zs 1.43の無色透明の液体735g
を得た。この液体は下記の分析結果から弐定された。該
化合物を、以下、「フッ素化アリルエーテル(3)」と
称する。
OIRスペクトル:
特性吸収 1650cm−’ (−CH=C)It)
1100〜1200cm−’ (−CFt−)OGC−
MSスペクトル: 分子量 356(M+) 0元素分析: 計算値” : C:30.35. H:1.98. F
:58.6B、 O:8.99実測値 : C:29.
95. H:2.05. F:5B、04. O:9.
96(”CJJl+0□として) 査底勇生 合成例3と同様の方法で水素化ホウ素ナトリウム145
gを1.4−ジオキサン2.0kgに懸濁させてに滴下
した後、約80℃で2時間加熱、撹拌した。
1100〜1200cm−’ (−CFt−)OGC−
MSスペクトル: 分子量 356(M+) 0元素分析: 計算値” : C:30.35. H:1.98. F
:58.6B、 O:8.99実測値 : C:29.
95. H:2.05. F:5B、04. O:9.
96(”CJJl+0□として) 査底勇生 合成例3と同様の方法で水素化ホウ素ナトリウム145
gを1.4−ジオキサン2.0kgに懸濁させてに滴下
した後、約80℃で2時間加熱、撹拌した。
得られた反応液を過剰の水に滴下して未反応の水素化ホ
ウ素ナトリウムを分解した後、5%メタノール水溶液で
数回洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水した後、蒸留によっ
て、沸点155〜156℃、nr:1.292 、d
zs:1.73の液体の末端メチロール化合合成例3と
同様の方法で、水230g、水酸化カリウム130g、
メタノール200gの均一溶液に、前記のを滴下し、8
0℃で20時間加熱、攪拌した後、臭化アリル188g
を滴下し50℃で20時間加熱、攪拌した。
ウ素ナトリウムを分解した後、5%メタノール水溶液で
数回洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水した後、蒸留によっ
て、沸点155〜156℃、nr:1.292 、d
zs:1.73の液体の末端メチロール化合合成例3と
同様の方法で、水230g、水酸化カリウム130g、
メタノール200gの均一溶液に、前記のを滴下し、8
0℃で20時間加熱、攪拌した後、臭化アリル188g
を滴下し50℃で20時間加熱、攪拌した。
得られた反応混合物を水で数回洗浄した後、蒸留により
、沸点172℃、n、 1.3044 、dzs 1
.54の無色透明の液体268gを得た。該化合物を、
以下、「フッ素化アリルエーテル(4)」と称する。こ
の液体は、下記の分析結果から式 C3F tOcFcF zOcFcHJCI(zcH−
Ctl tの構造を有する化合CF:l CF3 物と同定された。
、沸点172℃、n、 1.3044 、dzs 1
.54の無色透明の液体268gを得た。該化合物を、
以下、「フッ素化アリルエーテル(4)」と称する。こ
の液体は、下記の分析結果から式 C3F tOcFcF zOcFcHJCI(zcH−
Ctl tの構造を有する化合CF:l CF3 物と同定された。
OIRスペクトル:
特性吸収 1650■−’ (−CH=CHz)11
00〜1200cm−’ (−CFz−)OGC−MS
スペクトル: 分子量 522 (M”) 0元素分析: 計算値” : C:27.60. H:1.35. F
:61.85. O:9.20実測値 : C:26.
95. H:1.41. F二61.20.0:10.
44(* C+tHtF+703として)Hの ケ
イ素化合 の製゛告 実施例1 攪拌機、温度計、還流冷却管及び滴下ロートを備えた2
1のフラスコ内に、前記フッ素化子りルエーテル(1)
392g及び塩化白金酸0.02 gを仕込み、70℃
に加熱し、攪拌下、ジクロロメチルシラン(HSi(C
lh)C1z ) 140gを滴下した。滴下速度は、
反応熱により反応液の温度が約100°Cになるように
制御した。滴下及び反応の終了後、70℃でさらに30
分間攪拌を行った後、蒸留により沸点63〜64”C/
1 wHgの無色透明な液体生成物448gを得た。
00〜1200cm−’ (−CFz−)OGC−MS
スペクトル: 分子量 522 (M”) 0元素分析: 計算値” : C:27.60. H:1.35. F
:61.85. O:9.20実測値 : C:26.
95. H:1.41. F二61.20.0:10.
44(* C+tHtF+703として)Hの ケ
イ素化合 の製゛告 実施例1 攪拌機、温度計、還流冷却管及び滴下ロートを備えた2
1のフラスコ内に、前記フッ素化子りルエーテル(1)
392g及び塩化白金酸0.02 gを仕込み、70℃
に加熱し、攪拌下、ジクロロメチルシラン(HSi(C
lh)C1z ) 140gを滴下した。滴下速度は、
反応熱により反応液の温度が約100°Cになるように
制御した。滴下及び反応の終了後、70℃でさらに30
分間攪拌を行った後、蒸留により沸点63〜64”C/
1 wHgの無色透明な液体生成物448gを得た。
該生成物は、沸点213℃/大気圧、n : 1.3
432、dzs 1.49であり、下記の分析結果から
、弐:CJtOCFCFzO(C)Iz) zsic1
□CF 3 Cl 3 の構造を有する化合物と同定された。
432、dzs 1.49であり、下記の分析結果から
、弐:CJtOCFCFzO(C)Iz) zsic1
□CF 3 Cl 3 の構造を有する化合物と同定された。
“H−NMR:δ (ppm)
4.09(t、 2H,(1))、 1.99(m、
2H,(21)。
2H,(21)。
1.25(m、 2H,(3))、 0.85(s、
3)(、(4))ただし、(1)〜(4)は、それぞ
れ下記式に示した各プロトンを意味する。
3)(、(4))ただし、(1)〜(4)は、それぞ
れ下記式に示した各プロトンを意味する。
元素分析(%)
CHF OCI Si
計算値:23.68 1.79 48.70 6.31
13.98 5.54実測値:23.15 1.84
47.95 7.00 14.25 5.81実施例
2 実施例1において、フッ素化アリルエーテル(1)の代
りに前記フッ素化アリルエーテル(3)589gを用い
、ジクロロメチルシラン140gを230gに変えて合
成を行った。蒸留により沸点90〜91℃/ 5 mH
gの無色透明な液体生成物662gを得た。該生成物は
、沸点221〜b l、44であり、下記の分析結果から、式:の構造を有
する化合物と同定された。
13.98 5.54実測値:23.15 1.84
47.95 7.00 14.25 5.81実施例
2 実施例1において、フッ素化アリルエーテル(1)の代
りに前記フッ素化アリルエーテル(3)589gを用い
、ジクロロメチルシラン140gを230gに変えて合
成を行った。蒸留により沸点90〜91℃/ 5 mH
gの無色透明な液体生成物662gを得た。該生成物は
、沸点221〜b l、44であり、下記の分析結果から、式:の構造を有
する化合物と同定された。
’H−NMR:δ(ppm)
4.02(d、 2H,(11)、 3.63(t、
2H,+2)Ll、89(m、 2H,(3))、
1.25(m、 2H,(41)0.86(s、 3
8. <5)) ただし、(1)〜(5)は、それぞれ下記式に示した各
プロトンを意味する。
2H,+2)Ll、89(m、 2H,(3))、
1.25(m、 2H,(41)0.86(s、 3
8. <5)) ただし、(1)〜(5)は、それぞれ下記式に示した各
プロトンを意味する。
’−(5)
元素分析(%)
CHF OCI Si計算値:25
.49 2.36 44.35 6.79 15.05
5.96実測値:24.92 2.42 43.89
7.19 15.36 6.22実施例3〜10 実施例1において、フッ素化アリルエーテル(1)、ジ
クロロメチルシランの代りに、それぞれ表−1に示す化
合物を用いて合成を行った。また、得られた有機ケイ素
化合物、並びに分析値および特性値を表−2に示す。
.49 2.36 44.35 6.79 15.05
5.96実測値:24.92 2.42 43.89
7.19 15.36 6.22実施例3〜10 実施例1において、フッ素化アリルエーテル(1)、ジ
クロロメチルシランの代りに、それぞれ表−1に示す化
合物を用いて合成を行った。また、得られた有機ケイ素
化合物、並びに分析値および特性値を表−2に示す。
表−1
〔発明の効果〕
本発明の有機ケイ素化合物は、フルオロアルキルエーテ
ル基とケイ素原子との結合が安定であるため、主骨格は
加水分解されにくいなど非常に安定である。
ル基とケイ素原子との結合が安定であるため、主骨格は
加水分解されにくいなど非常に安定である。
本発明の有機ケイ素化合物は、各種化合物や樹脂の製造
に用いる中間体として有用である。例えば、 本発明の有機ケイ素化合物は、加水分解、縮合、その他
公知の技術によって、新規の含フツ素シリコーン樹脂を
誘導することができる。この新規含フツ素シリコーン樹
脂は、耐熱性、耐薬品性、耐候性、表面特性に優れた特
長を発揮し得るものである。また、本発明の有機ケイ素
化合物は、各種のアルコール、アミンと反応させること
により、アルコキシ基、アミノ基を有するケイ素化合物
を誘導することができる。該化合物は、フルオロアルキ
ルエーテル基のもつ潤滑性、撥水↑0油性、界面特性と
、ケイ素原子上のアルコキシ基、アミノ基のもつ加水分
解性、接着性の両者の特性を発揮して磁気記録媒体の潤
滑剤や各種の表面処理剤として有用である。
に用いる中間体として有用である。例えば、 本発明の有機ケイ素化合物は、加水分解、縮合、その他
公知の技術によって、新規の含フツ素シリコーン樹脂を
誘導することができる。この新規含フツ素シリコーン樹
脂は、耐熱性、耐薬品性、耐候性、表面特性に優れた特
長を発揮し得るものである。また、本発明の有機ケイ素
化合物は、各種のアルコール、アミンと反応させること
により、アルコキシ基、アミノ基を有するケイ素化合物
を誘導することができる。該化合物は、フルオロアルキ
ルエーテル基のもつ潤滑性、撥水↑0油性、界面特性と
、ケイ素原子上のアルコキシ基、アミノ基のもつ加水分
解性、接着性の両者の特性を発揮して磁気記録媒体の潤
滑剤や各種の表面処理剤として有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは低級アルキル基であり、Xはフッ素原子ま
たは水素原子であり、nは1〜4の整数であり、aは1
〜3の整数である〕 で表わされる含フッ素有機ケイ素化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62088359A JPS63255288A (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 含フッ素有機ケイ素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62088359A JPS63255288A (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 含フッ素有機ケイ素化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63255288A true JPS63255288A (ja) | 1988-10-21 |
JPH0428273B2 JPH0428273B2 (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=13940615
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62088359A Granted JPS63255288A (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 含フッ素有機ケイ素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63255288A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5214177A (en) * | 1989-08-21 | 1993-05-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Fluorinated organic silicon compounds and method for making |
US5374760A (en) * | 1993-03-31 | 1994-12-20 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Fluorine-containing organosilicon compounds and method for the preparation thereof |
US5446115A (en) * | 1993-08-26 | 1995-08-29 | Dow Corning Toray Silicon Co., Ltd. | Surface-treatment composition |
WO2013042732A1 (ja) * | 2011-09-21 | 2013-03-28 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、コーティング液、および表面処理層を有する基材の製造方法 |
US12037525B2 (en) | 2018-12-27 | 2024-07-16 | Dow Toray Co., Ltd. | Curable silicone composition, release coating agent comprising said composition, release film obtained using said release coating agent, and layered product including said release film |
US12129379B2 (en) | 2018-12-27 | 2024-10-29 | Dow Toray Co., Ltd. | Curable silicone composition, release coating agent comprising said composition, release film obtained using said release coating agent, and layered product including said release film |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5793988A (en) * | 1980-10-08 | 1982-06-11 | Du Pont | Fluorine-containing organosilicon compound |
JPS5877887A (ja) * | 1981-09-25 | 1983-05-11 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | ヘキサフルオルプロピル−オキシ−アルキルシラン、その製造方法及び疎水化及び疎油化方法 |
JPS58147483A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス表面の撥水撥油剤 |
-
1987
- 1987-04-10 JP JP62088359A patent/JPS63255288A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5793988A (en) * | 1980-10-08 | 1982-06-11 | Du Pont | Fluorine-containing organosilicon compound |
JPS5877887A (ja) * | 1981-09-25 | 1983-05-11 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | ヘキサフルオルプロピル−オキシ−アルキルシラン、その製造方法及び疎水化及び疎油化方法 |
JPS58147483A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス表面の撥水撥油剤 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5214177A (en) * | 1989-08-21 | 1993-05-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Fluorinated organic silicon compounds and method for making |
US5374760A (en) * | 1993-03-31 | 1994-12-20 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Fluorine-containing organosilicon compounds and method for the preparation thereof |
US5446115A (en) * | 1993-08-26 | 1995-08-29 | Dow Corning Toray Silicon Co., Ltd. | Surface-treatment composition |
WO2013042732A1 (ja) * | 2011-09-21 | 2013-03-28 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、コーティング液、および表面処理層を有する基材の製造方法 |
JPWO2013042732A1 (ja) * | 2011-09-21 | 2015-03-26 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、コーティング液、および表面処理層を有する基材の製造方法 |
US12037525B2 (en) | 2018-12-27 | 2024-07-16 | Dow Toray Co., Ltd. | Curable silicone composition, release coating agent comprising said composition, release film obtained using said release coating agent, and layered product including said release film |
US12129379B2 (en) | 2018-12-27 | 2024-10-29 | Dow Toray Co., Ltd. | Curable silicone composition, release coating agent comprising said composition, release film obtained using said release coating agent, and layered product including said release film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0428273B2 (ja) | 1992-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5149885B2 (ja) | ヘキサフルオロイソブチレンおよびそのより高い同族体およびそれらの誘導体のフルオロスルファート | |
US5262557A (en) | Fluorine-containing organosilicon compound and process for producing the same | |
JPH01226844A (ja) | 含フッ素エーテル化合物及びその製造方法 | |
JPS6178794A (ja) | オルガノシクロシロキサン | |
JPS63255288A (ja) | 含フッ素有機ケイ素化合物の製造方法 | |
WO2018203491A2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 | |
US3529003A (en) | Fluorine containing silicones | |
JPH02311485A (ja) | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
JPH0377892A (ja) | 含フッ素有機けい素化合物及びその製造方法 | |
US4151200A (en) | Process for producing polyfluorodiacyl fluoride | |
JPH0225439A (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 | |
JP2505519B2 (ja) | 含フッ素シリル化合物及びその製造方法 | |
JP2772846B2 (ja) | 含フッ素アリルエーテルおよびその製造法 | |
US5580992A (en) | Olefinic monomers containing pendant perfluorinated cyclic ether moieties | |
JP2813025B2 (ja) | 含フッ素アリルエーテルおよびその製造法 | |
US4089869A (en) | Process for producing perfluorolactone | |
JPS63253044A (ja) | フツ素化アリルエ−テル | |
US5214177A (en) | Fluorinated organic silicon compounds and method for making | |
JPH0211589A (ja) | 含フッ素有機ケイ素化合物 | |
JPH02167242A (ja) | 含フッ素ジビニルエーテル及びその製造方法 | |
JPH07121904B2 (ja) | 新規な含窒素ペルフルオロアルカノイルペルオキシド及びその製造方法 | |
JPS63265920A (ja) | ポリフルオロポリエ−テル | |
US3808247A (en) | Method of producing fluorocyclopropyl derivatives of silanes and novel fluorocyclopropyl derivatives of silanes | |
JPH01104061A (ja) | ペルフルオルアルキルを含有するエポキシドの製法及びペルフルオルアルキルを含有する新規なエポキシド | |
JPH03284687A (ja) | 含フッ素有機けい素化合物およびその製造法 |